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["F04218","기계","DE","Micro compressor",null,"원문이미지","EP2011170579","2011.06.20","EP02410178B1","2013.08.21","A compressor (100) is provided. The compressor includes a housing (110), a valve plate (120), a cylinder block (130), piston units (140), a cam element (150), a driving shaft (160) and a motor (170). The valve plate is fixed to one end of the housing. The cylinder block is rotatable relative to the valve plate and has cylinder bores (132, 133, 134, 135) disposed in a circumferential direction. A portion of the cylinder block is received in the valve plate. The piston units are disposed the cylinder bores. The cam element is fixed to the housing and is in contact with one end of the piston unit. The cam element has an inclined cam surface. One end of the driving shaft is coupled to the cylinder block. The motor is fixed to an opposite end of the housing, while a rotating shaft is coupled to an opposite end of the driving shaft.","1. A compressor (200), comprising: a housing (210);a valve plate (220) fixed to one end of the housing;a cylinder block (230) being rotatable relative to the valve plate and having a plurality of cylinder bores (232) disposed in a circumferential direction,a plurality of piston units (240) disposed within the plurality of cylinder bores, respectively;a cam element (250) fixed to the housing and being in contact with one end of the piston unit, the cam element having an inclined cam surface;a driving shaft (260) coupled to the cylinder block at one end thereof; anda motor (270) fixed to an opposite end of the housing, a rotating shaft (271) of the motor being coupled to an opposite end of the driving shaft,characterized by a portion of the cylinder block being received within the valve plate; wherein the valve plate includes an inlet port (221) and an outlet port (222) communicating with an outside, and a plurality of through-holes (221a and 221b, 222a and 222b) formed in an inner surface along a lengthwise direction of the valve plate and communicating with the inlet and outlet ports, and wherein the cylinder block includes a plurality of rows of slots (233, 234) communicating with the plurality of cylinder bores.","Lee, Yong Kwun, Lee, Soo Jun, Lee, Hyeon Min","F04B-001/20,F04B-001/24,F04B-027/08,F04B-039/10","EP02410178A1","2012.01.25","2010.07.20 (KR 20100070195)",null,"1. A compressor (200), comprising: a housing (210);a valve plate (220) fixed to one end of the housing;a cylinder block (230) being rotatable relative to the valve plate and having a plurality of cylinder bores (232) disposed in a circumferential direction,a plurality of piston units (240) disposed within the plurality of cylinder bores, respectively;a cam element (250) fixed to the housing and being in contact with one end of the piston unit, the cam element having an inclined cam surface;a driving shaft (260) coupled to the cylinder block at one end thereof; anda motor (270) fixed to an opposite end of the housing, a rotating shaft (271) of the motor being coupled to an opposite end of the driving shaft,characterized by a portion of the cylinder block being received within the valve plate; wherein the valve plate includes an inlet port (221) and an outlet port (222) communicating with an outside, and a plurality of through-holes (221a and 221b, 222a and 222b) formed in an inner surface along a lengthwise direction of the valve plate and communicating with the inlet and outlet ports, and wherein the cylinder block includes a plurality of rows of slots (233, 234) communicating with the plurality of cylinder bores. 2. The compressor of Claim 1, wherein the number of rows of the slot is the same as the number of the through-holes along the lengthwise direction of the valve plate. 3. The compressor of Claim 2, wherein the number of rows of the slot is half of the number of the cylinder bores. 4. The compressor of one of Claims 1 to 3, wherein the slot includes a trapping region serving as a turning point between an intake stroke and a discharge stroke. 5. The compressor of Claim 4, wherein rows of the slots have phase differences between respective trapping regions. 6. The compressor of Claim 4 or 5, wherein the slots are formed symmetrically with each other about the trapping region. 7. The compressor of one of Claims 1 to 6, wherein the cam element further includes stop portions located on a top dead center and a bottom dead center of the cam surface. 8. The compressor of one of Claims 1 to 7, wherein the piston unit (240) includes: a socket (142) formed on one end of the piston unit; anda ball (143) disposed within the socket.","EP2410178A1, EP2410178B1, JP2012026437A, JP5398786B2, KR101187598B1, KR20120010610A, US2012020813A1, US8727742B2","A",2]
["F04142","기계","FR","Micro compressor",null,"원문이미지","EP2011170579","2011.06.20","EP02410178B1","2013.08.21","A compressor (100) is provided. The compressor includes a housing (110), a valve plate (120), a cylinder block (130), piston units (140), a cam element (150), a driving shaft (160) and a motor (170). The valve plate is fixed to one end of the housing. The cylinder block is rotatable relative to the valve plate and has cylinder bores (132, 133, 134, 135) disposed in a circumferential direction. A portion of the cylinder block is received in the valve plate. The piston units are disposed the cylinder bores. The cam element is fixed to the housing and is in contact with one end of the piston unit. The cam element has an inclined cam surface. One end of the driving shaft is coupled to the cylinder block. The motor is fixed to an opposite end of the housing, while a rotating shaft is coupled to an opposite end of the driving shaft.","1. A compressor (200), comprising: a housing (210);a valve plate (220) fixed to one end of the housing;a cylinder block (230) being rotatable relative to the valve plate and having a plurality of cylinder bores (232) disposed in a circumferential direction,a plurality of piston units (240) disposed within the plurality of cylinder bores, respectively;a cam element (250) fixed to the housing and being in contact with one end of the piston unit, the cam element having an inclined cam surface;a driving shaft (260) coupled to the cylinder block at one end thereof; anda motor (270) fixed to an opposite end of the housing, a rotating shaft (271) of the motor being coupled to an opposite end of the driving shaft,characterized by a portion of the cylinder block being received within the valve plate; wherein the valve plate includes an inlet port (221) and an outlet port (222) communicating with an outside, and a plurality of through-holes (221a and 221b, 222a and 222b) formed in an inner surface along a lengthwise direction of the valve plate and communicating with the inlet and outlet ports, and wherein the cylinder block includes a plurality of rows of slots (233, 234) communicating with the plurality of cylinder bores.","Lee, Yong Kwun, Lee, Soo Jun, Lee, Hyeon Min","F04B-001/20,F04B-001/24,F04B-027/08,F04B-039/10","EP02410178A1","2012.01.25","2010.07.20 (KR 20100070195)",null,"1. A compressor (200), comprising: a housing (210);a valve plate (220) fixed to one end of the housing;a cylinder block (230) being rotatable relative to the valve plate and having a plurality of cylinder bores (232) disposed in a circumferential direction,a plurality of piston units (240) disposed within the plurality of cylinder bores, respectively;a cam element (250) fixed to the housing and being in contact with one end of the piston unit, the cam element having an inclined cam surface;a driving shaft (260) coupled to the cylinder block at one end thereof; anda motor (270) fixed to an opposite end of the housing, a rotating shaft (271) of the motor being coupled to an opposite end of the driving shaft,characterized by a portion of the cylinder block being received within the valve plate; wherein the valve plate includes an inlet port (221) and an outlet port (222) communicating with an outside, and a plurality of through-holes (221a and 221b, 222a and 222b) formed in an inner surface along a lengthwise direction of the valve plate and communicating with the inlet and outlet ports, and wherein the cylinder block includes a plurality of rows of slots (233, 234) communicating with the plurality of cylinder bores. 2. The compressor of Claim 1, wherein the number of rows of the slot is the same as the number of the through-holes along the lengthwise direction of the valve plate. 3. The compressor of Claim 2, wherein the number of rows of the slot is half of the number of the cylinder bores. 4. The compressor of one of Claims 1 to 3, wherein the slot includes a trapping region serving as a turning point between an intake stroke and a discharge stroke. 5. The compressor of Claim 4, wherein rows of the slots have phase differences between respective trapping regions. 6. The compressor of Claim 4 or 5, wherein the slots are formed symmetrically with each other about the trapping region. 7. The compressor of one of Claims 1 to 6, wherein the cam element further includes stop portions located on a top dead center and a bottom dead center of the cam surface. 8. The compressor of one of Claims 1 to 7, wherein the piston unit (240) includes: a socket (142) formed on one end of the piston unit; anda ball (143) disposed within the socket.","EP2410178A1, EP2410178B1, JP2012026437A, JP5398786B2, KR101187598B1, KR20120010610A, US2012020813A1, US8727742B2","A",2]
["F02973","의료","JP","암 표적성에 우수한 담 박성질 복합체 및 그 제조 방법",null,"원문이미지","JP2009102647A","2009.04.21","JP4920056B9","2012.02.10","(57)【요약】 【과제】 암 표적성에 우수한 담 박성질 복합체 및 그 제조 방법을 제공한다.【해결 수단】 본 발명은, 수계에서 자기 집합체를 형성하고, 30∼400nm의 크기의 나노 입자를 형성하는 알부민-담즙산 복합체 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명의 알부민-담즙산 복합체는, 암 표적성이 우수하고, 소수성 항암제 봉입이 가능하고, 근적외선 형광체가 결합하게 되는 형태로 제조할 수 있기 때문에, 암진단 또는 치료를 위한 신규나노 입자 조영제 및 나노 입자 약물전들 시스템에 유용한다.【선택도】그림 1","【청구항 1】 친수성 알부민과 소수성 담즙산으로 구성되어 지고, 수용액으로 자기 집합체를 형성한다, 약물전들용 알부민-담즙산 복합체.","イク  チャン·クウォン, クイウォン·チョイ, クワン  メユン·キム","C07K-014/76,A61K-047/42,A61K-045/00,A61P-035/00,A61K-049/00,A61K-051/00","JP2010189373A","2010.09.02","2009-02-19 (KR 10-2009-0013745)","2029.04.21","【특허청구의 범위】 【청구항 1】 친수성 알부민과 소수성 담즙산으로 구성되어 지고, 수용액으로 자기 집합체를 형성한다, 약물전들용 알부민-담즙산 복합체. 【청구항 2】 알부민의 리진기의 망의 근본(-NH2)과 담즙산의 카르복실기(-COOH)이라고가 펩티드 결합하는 것을 특징으로 한다, 청구항 1에 기재의 알부민-담즙산 복합체. 【청구항 3】 알부민이, 사람 알부민, 그 단편 또는 그 변이체 있는 것을 특징으로 한다, 청구항 1에 기재의 약물전들용 알부민-담즙산 복합체. 【청구항 4】 담즙산이, 5β-코란 산 인 것을 특징으로 한다, 청구항 1에 기재의 알부민-담즙산 복합체. 【청구항 5】 알부민-담즙산 복합체가, 담즙산의 중량부에 비례하고 입자 사이즈가 증가하고, 직경이 30∼400nm의 범위의 입자 사이즈를 가지는 것을 특징으로 한다, 청구항 1에 기재의 알부민-담즙산 복합체. 【청구항 6】 약물이, 소수성 항암제 인 것을 특징으로 한다, 청구항 1에 기재의 알부민-담즙산 복합체. 【청구항 7】 소수성 항암제가, 도세타키셀, cisplatin, 칸푸토테신, 파쿠리타키셀, 타모키시펜, 아나스토로졸, 구리벡, 5-플루오르우라실(5-FU), 후로쿠스우리진, 류푸로리도, 훌타미도, 조레도로네토, 도키솔비신, 빈크라스틴, 겜시타빈, 스토레푸토조신, 칼보푸라친, 토포테칸, 베로테칸, 이리노테칸, 비노렐빈, 히도로키시우레아, 발루비신, 레치노인 산 계열, 메소토레키세토, 메쿠로레타민, 쿠로람부실, 부슬판, 도키시훌리진, 인부라스친, 다이너마이트 마이신, 푸레도니손, 테스토스테론, 미토키산토론, 아스피린, 살리실산, 이부프로펜, 나푸로키센, 페노푸로펜, 인도메타신, 페닐타존, 시쿠로호스파미도, 덱사메타손, 푸레도니조론, 세레코키시부, 발데코키시부, 니메스리도, 콜티존 및 콜치코스테로이도로 되는 무리로부터 선택하게 되는 1 또는 2 이상 인 것을 특징으로 한다, 청구항 6에 기재의 알부민-담즙산 복합체. 【청구항 8】 알부민-담즙산 복합체에 또한 근적외선 형광체가 결합하게 됐다, 청구항 1에 기재의 알부민-담즙산 복합체. 【청구항 9】 근적외선 형광체가, 시아닌(Cy), 플루오레세인, 테트라 메틸 로다민, 보데피 및 아레쿠사로 되는 무리로부터 선택하게 되는 1 또는 2 이상 인 것을 특징으로 한다, 청구항 8에 기재의 약물전들용 알부민-담즙산 복합체. 【청구항 10】 근적외선 형광체가, Cy5.5 있는 것을 특징으로 한다, 청구항 8에 기재의 알부민-담즙산 복합체. 【청구항 11】 알부민-담즙산 복합체의 내부에 또한 소수성 항암제가 봉입하게 되는 것을 특징으로 한다, 청구항 1에 기재의 알부민-담즙산 복합체. 【청구항 12】 1)친수성 알부민을 수용성 용매에 용해한 뒤, 유기 용매를 더하고 알부민 용액을 제조하는 공정, 2)소수성 담즙산을 유기 용매에 용해하고 담즙산 용액을 제조하는 공정, 3)상기 공정 1)의 알부민 용액에 공정 2)의 담즙산 용액을 더한 뒤, 교반하고 반응액을 제조하는 공정, 및 4)상기 공정 3)의 반응액을 투석하고 미반응 담즙산을 제거한 뒤, 동결건조 하는 공정 을 포함한다, 청구항 1에 기재의 알부민-담즙산 복합체의 제조 방법. 【청구항 13】 공정 1)의 알부민이, 사람 알부민, 그 단편 또는 그 변이체 있는 것을 특징으로 한다, 청구항 12에 기재의 제조 방법. 【청구항 14】 공정 1)의 수용성 용매가, 물 인 것을 특징으로 한다, 청구항 12에 기재의 제조 방법. 【청구항 15】 공정 2)의 담즙산이, 5β-코란 산 인 것을 특징으로 한다, 청구항 12에 기재의 제조 방법. 【청구항 16】 공정 1)및 공정 2)의 유기 용매가, 메탄올 인 것을 특징으로 한다, 청구항 12에 기재의 제조 방법. 【청구항 17】 청구항 1에 기재의 알부민-담즙산 복합체의 약물 전달체의 제조에 있어서 사용. 【청구항 18】 청구항 1에 기재의 알부민-담즙산 복합체에 항암제를 봉입하게 하고 있다, 암 치료를 위한 약물전들 시스템. 【청구항 19】 청구항 1에 기재의 알부민-담즙산 복합체에 근적외선 형광체가 결합하게 되는 알부민-담즙산-근적외선 형광체 복합체를 포함하는 암진단용 조영제. 【청구항 20】 근적외선 형광체가, 시아닌(Cy), 플루오레세인, 테트라 메틸 로다민, 보데피 및 아레쿠사로 되는 무리로부터 선택하게 되는 1 또는 2 이상 인 것을 특징으로 한다, 청구항 19에 기재의 조영제. 【청구항 21】 근적외선 형광체가, Cy5.5 있는 것을 특징으로 한다, 청구항 19에 기재의 조영제. 【청구항 22】 방사선 동위 원소, 양자 도트 또는 MRI 조영제를 더욱 포함하는 것을 특징으로 한다, 청구항 19에 기재의 조영제. 【청구항 23】 청구항 19에 기재의 조영제를 투여한 개체에 조사한 근적외선에 의하여 암 조직을 영상화하는 공정을 포함하는 암 검출 방법. 【청구항 24】 청구항 8에 기재의 알부민-담즙산 복합체의 암진단용 조영제의 제조에 있어서 사용.","EP2228074A1, JP2010189373A, JP4920056B2, KR101043407B1, KR20100094664A, US2010209353A1",null,1]
["K04631","화학","KR","5-ＨＴ7 수용체에 길항작용을 갖는 신규한 화합물{NEW COMPOUNDS OF 5-HT7 RECEPTOR ANTAGONIST}",null,"원문이미지","KR20070074889A","2007.07.26","KR0917041B1","2009.09.04","본 발명은 5-HT7 수용체에 길항작용을 갖는 화학식(I)의 화합물, 이의 제조방법 및 이를 유효성분으로 포함한 약학 조성물을 제공한다. 본 발명의 화합물은 5-HT7 수용체에 길항작용을 가지므로, 5-HT7에 매개된 질병 또는 증상의 완화 및 치료에 유용하게 사용될 수 있다.","1 하기 화학식(I)의 화합물: (I) 상기식에서, R1은 벤질, 3-트리플루오로메탄페닐, 2-메톡시페닐, 3,4-디클로로페닐, 또는 4-플루오로페닐이고, R2는 아니솔(anisole), 나프탈렌, 또는 퀴놀린이며, R3는 H, 또는 C1~C4의알킬이고, R4는 H 이거나, 또는 사이클로 C5~C7의 알킬로 치환된 C1~C3의알킬이다.","박혜영, 배애님, 임혜원, 윤주희","C07D-295/145,C07D-241/04,A61K-031/4965","KR20090011376A","2009.02.02",null,"2027.07.26","1 하기 화학식(I)의 화합물: (I) 상기식에서, R1은 벤질, 3-트리플루오로메탄페닐, 2-메톡시페닐, 3,4-디클로로페닐, 또는 4-플루오로페닐이고, R2는 아니솔(anisole), 나프탈렌, 또는 퀴놀린이며, R3는 H, 또는 C1~C4의알킬이고, R4는 H 이거나, 또는 사이클로 C5~C7의 알킬로 치환된 C1~C3의알킬이다. 2 제1항에 있어서, R1이 3-트리플루오로메탄페닐, 2-메톡시페닐 또는 4-플루오로페닐인 화합물. 3 제1항에 있어서, R3가 H, 또는 메틸인 화합물. 4 제1항에 있어서, R4가 H, 또는 사이클로헥실메틸인 화합물. 5 하기 화학식(III) 및 화학식(IV)의 화합물을 결합 반응시켜 제1항의 화학식(I)의 화합물을 제조하는 방법; 상기식에서, R1은 할로겐(F, Cl, Br, I), 니트로, C1~C4의 알콕시 및, 할로겐 또는 니트로로 치환되거나 미치환된 C1~C4의 알칸으로 구성된 그룹으로부터 선택된 치환기로 하나 이상 치환되거나, 치환되지 않은 페닐 또는 벤질이고, R2는 아니솔(anisole), 나프탈렌 또는 퀴놀린이며, R3 및 R4는 H이다. 6 제5항에 있어서, 반응이 강염기 존재하에서 진행되는 방법. 7 하기 화학식(V)의 히드록시기를 히드록시기 보호기로 보호시키고 (protecting), 화학식(IV)의 화합물과 결합반응시켜 제1항의 화학식(I)의 화합물을 제조하는 방법; (V), (IV) 및 (I) 상기식에서, R1은 할로겐(F, Cl, Br, I), 니트로, C1~C4의 알콕시 및, 할로겐 또는 니트로로 치환되거나 미치환된 C1~C4의 알칸으로 구성된 그룹으로부터 선택된 치환기로 하나 이상 치환되거나, 치환되지 않은 페닐 또는 벤질이고, R2는 아니솔(anisole), 나프탈렌 또는 퀴놀린이며, R3는 C1~C4 알킬, 할로겐 또는 C1~C4 알콕시이고, R4는 H이다. 8 제7항에 있어서, 결합 반응이 강염기 존재하에서 진행되는 방법. 9<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 10<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 11 제1항 내지 제4항 중에서 선택된 어느 한 항의 화합물 또는 그의 약제학적으로 허용되는 염을 유효성분으로 함유하는 것을 특징으로 하는 수면장애, 교대제 근무자 증후군(shift worker syndrome), 시차증, 우울증, 계절성 우울증, 편두통, 불안, 정신병, 정신분열증, 통증, 인지 및 기억 장애들, 허혈로 인한 신경 변성, 고혈압과 같은 심혈관 질환, 과민성 대장 증후군, 염증성 대장질환, 경련성 대장 질환 및 요실금 중에서 선택된 질병 또는 증상 완화 및 치료용 약제조성물. 12<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100917041B1, KR20090011376A",null,1]
["K04554","화학","KR","형태 안정성 및 내열성이 우수한 전자파 흡수 및 노이즈 차단용 열가소성 탄성 복합체 조성물 및 그의 용도{THERMOPLASTIC ELASTOMER COMPOSITE COMPOSITION WITH HIGH DIMENSIONAL STABILITY FOR NOISE AND EMI SHIELDING AND USE THEREOF}",null,"원문이미지","KR20080100687A","2008.10.14","KR0963434B1","2010.06.07","본 발명은 형태 안정성 및 내열성이 우수한 열가소성 탄성 복합체 조성물 및 이를 이용한 전자파 흡수 및 노이즈 차단용 복합 박막에 관한 것으로, 구체적으로 가공성과 유연성이 뛰어난 열가소성 탄성체 또는 그의 유도체 단독, 또는 이와 함께 내열성 향상을 위한 고결정성 저분자량의 폴리올레핀계 고분자를 포함하는 고분자 수지; 편상(flake)의 연자성 금속합금 분말; 및 가교제를 포함하는 형태 안정성 및 내열성이 우수한 열가소성 탄성 복합체 조성물 및 이를 이용한 전자파 흡수 및 노이즈 차단용 복합 박막에 관한 것이다. 본 발명에 따른 열가소성 탄성 복합체 조성물은 열가소성 탄성체 단독 또는 고결정성 저분자량의 폴리올레핀계 고분자와의 병용 사용과 금속합금 분말의 첨가로 인해 박막 단소화의 경우에도 형태 및 치수 안정성, 내열성, 유연성, 가공성 등의 물성이 우수하고 향상된 전자파 흡수 효율을 나타내기 때문에 전자기기에서 전자파 흡수 및 노이즈 차단용 복합 박막으로 유용하게 사용될 수 있다.","1 70 내지 100 중량% 미만의 열가소성 탄성체 또는 그의 유도체 및 0 초과 내지 30 중량%의 고결정성 저분자량의 폴리올레핀계 고분자를 포함하는 고분자 수지 100 중량부에 대해, 400 내지 1000 중량부의 편상의 연자성 금속합금 분말 및 0.1 내지 5 중량부의 가교제를 포함하는, 형태 안정성 및 내열성이 향상된 열가소성 탄성 복합체 조성물.","홍순만, 황승상, 구종민, 조항규, 서용석, 오경환","C08K-007/00,C08K-003/10,C08L-023/00,C08K-005/14","KR20100041478A","2010.04.22",null,"2028.10.14","1 70 내지 100 중량% 미만의 열가소성 탄성체 또는 그의 유도체 및 0 초과 내지 30 중량%의 고결정성 저분자량의 폴리올레핀계 고분자를 포함하는 고분자 수지 100 중량부에 대해, 400 내지 1000 중량부의 편상의 연자성 금속합금 분말 및 0.1 내지 5 중량부의 가교제를 포함하는, 형태 안정성 및 내열성이 향상된 열가소성 탄성 복합체 조성물. 2 제1항에 있어서, 상기 열가소성 탄성체가 105,000 내지 110,000 g/㏖의 중량평균분자량(Mw)을 갖고 10 내지 30 중량%의 고무상 함량을 갖는 것을 특징으로 하는 열가소성 탄성 복합체 조성물. 3 제2항에 있어서, 상기 열가소성 탄성체 또는 그의 유도체가 에틸렌프로필렌 다이엔모노머, 에틸렌 비닐아세테이트, 선형 저밀도 폴리에틸렌 수지, 저밀도 폴리에틸렌 수지, 메탈로센 촉매를 이용한 에틸렌, 폴리스티렌-폴리에틸렌부틸렌-폴리스티렌 공중합체, 무수말레인산 그라프트된 에틸렌 비닐아세테이트, 무수말레인산 그라프트된 폴리에틸렌 공중합체, 무수말레인산 그라프트된 폴리프로필렌 공중합체, 수소화된 폴리스티렌-폴리부타디엔 공중합체, 주쇄에 무수말레인산이 결합된 수소화된 폴리스티렌-폴리부타디엔 공중합체, 무수말레인산 그라프트된 수소화된 폴리스티렌-폴리에틸렌부틸렌-폴리스티렌 공중합체 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 열가소성 탄성 복합체 조성물. 4 제3항에 있어서, 상기 무수말레인산 그라프트된 열가소성 탄성체가 1 내지 3 중량%의 무수말레인산 함량을 갖는 것을 특징으로 하는 열가소성 탄성 복합체 조성물. 5 제1항에 있어서, 상기 고결정성 저분자량의 폴리올레핀계 고분자가 650,000 내지 750,000 g/㏖의 중량평균분자량(Mw)을 갖는 고결정성 프로필렌계 수지와 60,000 g/㏖의 중량평균분자량(Mw)을 갖는 저분자량 프로필렌계 수지의 혼합물 형태인 것을 특징으로 하는 열가소성 탄성 복합체 조성물. 6 제5항에 있어서, 상기 고결정성 저분자량의 폴리올레핀계 고분자가 폴리프로필렌, 이들의 공중합체, 무수말레인산 그라프트된 유도체 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 열가소성 탄성 복합체 조성물. 7 제6항에 있어서, 상기 무수말레인산 그라프트된 유도체가 무수말레인산 그라프트된 폴리에틸렌계 수지 또는 무수말레인산 그라프트된 폴리프로필렌계 수지인 것을 특징으로 하는 열가소성 탄성 복합체 조성물. 8 제1항에 있어서, 상기 가교제가 퍼옥사이드계 가교제인 것을 특징으로 하는 열가소성 탄성 복합체 조성물. 9 제8항에 있어서, 상기 퍼옥사이드계 가교제가 디큐밀퍼옥사이드(DCP), 퍼부틸퍼옥사이드(PBP), 벤조일퍼옥사이드(BP), 메틸에틸케톤퍼옥사이드(MEKP) 및 하이드로젠 퍼옥사이드(HP)로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 열가소성 탄성 복합체 조성물. 10 제1항에 있어서, 상기 연자성 금속합금 분말이 페라이트(Fe), 퍼멀로이(Fe-Ni) 및 센더스트(Fe-Si-Al) 중의 어느 하나의 구상 또는 편상 분말인 것을 특징으로 하는 열가소성 탄성 복합체 조성물. 11 제10항에 있어서, 상기 연자성 금속합금 분말이 편상 분말로서 박막 방향으로 배향, 분산되는 것을 특징으로 하는 열가소성 탄성 복합체 조성물. 12 제1항에 있어서, 상기 조성물이 첨가제로서 산화방지제, 가교조제, 윤활제 및 상용화제 중의 어느 하나 이상을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 열가소성 탄성 복합체 조성물. 13 제12항에 있어서, 상기 첨가제가 조성물 100 중량부에 대하여 0.1 내지 5 중량부의 양으로 첨가되는 것을 특징으로 하는 열가소성 탄성 복합체 조성물. 14 제1항 내지 제13항 중의 어느 한 항에 따른 열가소성 탄성 복합체 조성물로 제조된 형태 안정성 및 내열성이 우수한 전자파 흡수 및 노이즈 차단용 복합 박막. 15 제14항에 있어서, 상기 복합 박막이 0.05 내지 1 ㎜ 범위의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 전자파 흡수 및 노이즈 차단용 복합 박막. 16 제14항에 있어서, 상기 복합 박막이 120 내지 500 ㎛/m℃ 범위의 열팽창계수를 갖는 것을 특징으로 하는 전자파 흡수 및 노이즈 차단용 복합 박막. 17 제14항에 있어서, 상기 복합 박막이 열가소성 탄성체 또는 그의 유도체 단독 또는 고결정성 저분자량의 폴리올레핀계 고분자와의 혼합물을 포함하는 펠렛(pellet) 또는 분말(powder) 형태의 고분자 수지에 믹서(internal mixer) 또는 사출기(extruder)를 이용하여 금속합금 분말 및 가교제를 혼합한 후 프레스(hot press)를 이용하여 제조되는 것을 특징으로 하는 전자파 흡수 및 노이즈 차단용 복합 박막. 18 제14항에 있어서, 상기 복합 박막이 니더(kneader), 반버리(banbury) 믹서 및 롤(roll) 중의 어느 하나를 이용하여 열가소성 탄성체 또는 그의 유도체 단독 또는 고결정성 저분자량의 폴리올레핀계 고분자와의 혼합물을 포함하는 고분자 수지를 박막 형태로 가공한 후 금속합금 분말 및 가교제를 투입하여 컴파운딩을 통해 제조되는 것을 특징으로 하는 전자파 흡수 및 노이즈 차단용 복합 박막. 19 제14항에 있어서, 상기 복합 박막이 믹서에 열가소성 탄성체 또는 그의 유도체 단독 또는 고결정성 저분자량의 폴리올레핀계 고분자와의 혼합물을 포함하는 고분자 수지, 금속합금 분말 및 가교제 모두를 동시에 혼입한 후 롤 공정을 이용하여 제조되는 것을 특징으로 하는 전자파 흡수 및 노이즈 차단용 복합 박막.","KR100963434B1, KR20100041478A",null,1]
["K04513","기계","KR","나선형 구조를 가지는 고효율 압전 에너지 하베스터{HIGH EFFICIENCY PIEZOELECTRIC ENERGY HARVESTER WHICH HAVING SPIRAL STRUCTURE}",null,"원문이미지","KR20080097375A","2008.10.02","KR0956076B1","2010.04.27","본 발명은 고에너지 변환효율을 가지며, 200Hz 이하의 낮은 고유 진동수를 가지는 압전 에너지 하베스터(harvester)에 관한 것이다. 본 발명의 압전 에너지 하베스터는, 탄성체 역할을 하는 기판; 전기적인 에너지 인출을 위하여 상기 기판에 증착되는 제1 전극; 상기 제1 전극에 증착되며 기계적인 에너지를 상기 전기적인 에너지로 변환하되, 나선형 구조를 포함하여 외부진동원과 공진 가능한 고유진동수를 갖는 압전소자; 및 상기 전기적인 에너지 인출을 위하여 상기 압전소자에 증착되는 제2 전극을 포함한다.","1 압전 에너지 하베스터에 있어서, 탄성체 역할을 하는 기판; 전기적인 에너지 인출을 위하여 상기 기판에 증착되는 제1 전극; 상기 제1 전극에 증착되며 기계적인 에너지를 상기 전기적인 에너지로 변환하되, 나선형 구조를 포함하여 외부진동원과 공진 가능한 고유진동수를 갖는 압전소자; 및 상기 전기적인 에너지 인출을 위하여 상기 압전소자에 증착되는 제2 전극을 포함하는 압전 에너지 하베스터.","윤석진, 송현철, 강종윤, 김진상","H03H-009/24,H03H-003/08","KR20100037992A","2010.04.12",null,"2028.10.02","1 압전 에너지 하베스터에 있어서, 탄성체 역할을 하는 기판; 전기적인 에너지 인출을 위하여 상기 기판에 증착되는 제1 전극; 상기 제1 전극에 증착되며 기계적인 에너지를 상기 전기적인 에너지로 변환하되, 나선형 구조를 포함하여 외부진동원과 공진 가능한 고유진동수를 갖는 압전소자; 및 상기 전기적인 에너지 인출을 위하여 상기 압전소자에 증착되는 제2 전극을 포함하는 압전 에너지 하베스터. 2 제1항에 있어서, 상기 고유진동수 조절을 위한 표준질량을 더 포함하는, 압전 에너지 하베스터. 3 제2항에 있어서, 상기 표준질량은, 상기 압전소자의 끝단에 부착되는 것을 특징으로 하는, 압전 에너지 하베스터. 4 제2항에 있어서, 상기 압전소자는, 상기 제1 및 제2 전극과 수직 방향으로 분극된 것을 특징으로 하는, 압전 에너지 하베스터. 5 제4항에 있어서, 상기 압전소자는, 원형 또는 다각형 중 어느 한 형태의 나선 구조를 갖는 것을 특징으로 하는, 압전 에너지 하베스터. 6 제1항에 있어서, 상기 기판은 스프링강, 구리, 황동, 청동, 글래스 파이버 강화 플라스틱(FRP) 중 어느 하나인, 압전 에너지 하베스터. 7 제1항에 있어서, 상기 기판은 실리콘 웨이퍼 또는 질화 규소가 더 증착된 실리콘 웨이퍼 중 어느 하나를 포함하고, 상기 압전소자는 상기 기판에 후막 또는 박막 형태로 증착되며, 상기 제1, 2 전극은 은(Ag) 및 백금(Pt)을 포함하는, 압전 에너지 하베스터. 8 제1항에 있어서, 상기 압전 에너지 하베스터는, MEMS(Microelectromechanical Systems) 공정을 이용하여 나선형 스프링 구조체로 제작되는 것을 특징으로 하는, 압전 에너지 하베스터. 9 제1항에 있어서, 상기 압전 에너지 하베스터는, 전단 응력이 작용하는 비틀림 모드의 압전 상수를 사용하는 것을 특징으로 하는, 압전 에너지 하베스터.","KR100956076B1, KR20100037992A, US2010084947A1",null,1]
["F04046","의료","DE","Ionic complex nanoparticles for detecting heparanase activities and method for preparing the same",null,"원문이미지","EP2009161991","2009.06.05","EP02228075B1","2013.08.07","Disclosed are Ionic complex nanoparticles for detecting heparanase activities and a method for preparing the same. More specifically, disclosed are Ionic complex nanoparticles for detecting heparanase activities, wherein negative-ion substrate polymers specifically degraded by heparanase and positive-ion biocompatible polymers ionically bind to each other, and fluorophores or quenchers bind to each of the polymers. The ionic complex nanoparticles for detecting heparanase activities may be applied to a method for screening novel drugs such as inhibitors that prevent over-expression of heparanase. Various cells and tissues where over-expression of heparanase occurs may be non-invasively imaged in cancer cells, cancer tissues, and tissues of various inflammatory diseases. Accordingly, the ionic complex nanoparticles for detecting heparanase activities may be effectively used to early diagnose various diseases and incurable diseases including autoimmune diseases such as cancers, osteoarthritis, rheumatoid arthritis, and dementia.,","1. Use of an ionic complex nanoparticle for imaging heparanase activities, wherein a negative-ion substrate polymer specifically degraded by heparanase and a positive-ion biocompatible polymer ionically bind to each other, and a fluorophore or a quencher bind to each of the polymers, wherein the negative-ion substrate polymer specifically degraded by heparanase is selected from a group consisting of heparan sulfate (HS), heparan sulfate proteoglycans (HSPG), heparin, chondroitin-4-sulfate (C4S), chondroitin-6-sulfate (C6S), dermatan sulfate (DS), keratan sulfate (KS) and hyaluronic acid (HA) and wherein the positive-ion biocompatible polymer is selected from a group consisting of glycol chitosan, chitosan, poly-L-lysine (PLL), poly beta-amino ester polymer, polyethyleneimine (PEI), poly(amidoamine) (PAMAM) dendrimer and derivatives thereof.","Kwon, Ick-Chan, Kim, Kwang-Meyung, Choi, Kui-Won, Park, Kyeong-Soon, Lee, Seul-Ki","A61K-049/00,C07K-014/00,C07K-009/00,G01N-033/543","EP02228075A1","2010.09.15","2009.03.10 (KR 20090020303)",null,"1. Use of an ionic complex nanoparticle for imaging heparanase activities, wherein a negative-ion substrate polymer specifically degraded by heparanase and a positive-ion biocompatible polymer ionically bind to each other, and a fluorophore or a quencher bind to each of the polymers, wherein the negative-ion substrate polymer specifically degraded by heparanase is selected from a group consisting of heparan sulfate (HS), heparan sulfate proteoglycans (HSPG), heparin, chondroitin-4-sulfate (C4S), chondroitin-6-sulfate (C6S), dermatan sulfate (DS), keratan sulfate (KS) and hyaluronic acid (HA) and wherein the positive-ion biocompatible polymer is selected from a group consisting of glycol chitosan, chitosan, poly-L-lysine (PLL), poly beta-amino ester polymer, polyethyleneimine (PEI), poly(amidoamine) (PAMAM) dendrimer and derivatives thereof. 2. The use according to claim 1, wherein the nanoparticle is represented by the following chemical formula 1, wherein 'A' indicates the fluorophore, 'B' indicates the negative-ion substrate polymer specifically degraded by heparanase, 'C' indicates the quencher to implement a quenching effect by absorbing fluorescence emitted from the fluorophore, and 'D' indicates the positive-ion biocompatible polymer that can be specifically accumulated on tissues of cancers and inflammatory disease, and wherein positions of 'A' and 'C' are interchangeable with each other, positions of 'B' and 'D' are interchangeable with each other, the 'B' and 'D' ionically bind to each other, the solid line indicates a chemical binding such as a covalent binding, and the dotted line indicates an ionic-binding. 3. The use according to claim 1, wherein the fluorophore is selected from a group consisting of fluorescein, BODIPY, Tetramethylrhodamine, Alexa, Cyanine, allopicocyanine fluorophores and derivatives thereof. 4. The use according to any one of claims 1-3, wherein the quencher is selected from a group consisting of blackhole quenchers (BHQ), blackberry quenchers (BBQ), and derivatives thereof. 5. The use according to claim 1, wherein the negative-ion substrate polymer is heparan sulfate (HS), the positive-ion biocompatible polymer is glycol chitosan (GC), the fluorophore is Cyanine fluorophores Cy5.5, and the quencher is blackhole quenchers BHQ-3. 6. The use according to claim 1, wherein the negative-ion substrate polymer or the positive-ion biocompatible polymer have molecular weight of 2,000-500,000 Da. 7. The use according to claim 1, wherein the fluorophore bind to the negative-ion substrate polymer, and the quencher bind to the positive-ion biocompatible polymer. 8. The use according to claim 7, wherein the fluorophores-bound negative-ion substrate polymer and the quenchers-bound positive-ion biocompatible polymer bind to each other with a ratio within the range of 1:0.1-1:10. 9. The use according to claim 7, wherein the ionic-complex nanoparticle has sizes of 50-800nm. 10. The use according to claim 7, wherein a distance between the fluorophores and the quenchers in the ionic complex nanoparticles is within 20nm. 11. Use of a contrast agent composition for imaging heparanase expressed in cells and tissues, the composition comprising the ionic complex nanoparticle as defined in any one of claims 1 to 10. 12. An in vitro method for imaging heparanase for providing information necessary to diagnose cancers, osteoarthritis, rheumatoid arthritis, progressive systemic sclerosis, chronic thyroiditis, ulcerative colitis, or multiple sclerosis by using the ionic complex nanoparticle as defined in any one of claims 1 to 10. 13. The method for imaging heparanase of claim 12, wherein the cancers are selected from a group consisting of squamous cell carcinoma, uterine carcinoma, uterine cervical cancer, prostatic carcinoma, head and neck cancer, pancreatic carcinoma, brain tumor, breast cancer, liver cancer, skin cancer, esophageal cancer, testicular carcinoma, kidney cancer, large intestine cancer, rectal cancer, stomach cancer, bladder cancer, ovarian cancer, cholangio carcinoma, and gallbladder carcinoma.","EP2228075A1, EP2228075B1, KR101135449B1, KR20100101882A, US2010233085A1, US8323622B2","B",2]
["F04045","의료","GB","Ionic complex nanoparticles for detecting heparanase activities and method for preparing the same",null,"원문이미지","EP2009161991","2009.06.05","EP02228075B1","2013.08.07","Disclosed are Ionic complex nanoparticles for detecting heparanase activities and a method for preparing the same. More specifically, disclosed are Ionic complex nanoparticles for detecting heparanase activities, wherein negative-ion substrate polymers specifically degraded by heparanase and positive-ion biocompatible polymers ionically bind to each other, and fluorophores or quenchers bind to each of the polymers. The ionic complex nanoparticles for detecting heparanase activities may be applied to a method for screening novel drugs such as inhibitors that prevent over-expression of heparanase. Various cells and tissues where over-expression of heparanase occurs may be non-invasively imaged in cancer cells, cancer tissues, and tissues of various inflammatory diseases. Accordingly, the ionic complex nanoparticles for detecting heparanase activities may be effectively used to early diagnose various diseases and incurable diseases including autoimmune diseases such as cancers, osteoarthritis, rheumatoid arthritis, and dementia.,","1. Use of an ionic complex nanoparticle for imaging heparanase activities, wherein a negative-ion substrate polymer specifically degraded by heparanase and a positive-ion biocompatible polymer ionically bind to each other, and a fluorophore or a quencher bind to each of the polymers, wherein the negative-ion substrate polymer specifically degraded by heparanase is selected from a group consisting of heparan sulfate (HS), heparan sulfate proteoglycans (HSPG), heparin, chondroitin-4-sulfate (C4S), chondroitin-6-sulfate (C6S), dermatan sulfate (DS), keratan sulfate (KS) and hyaluronic acid (HA) and wherein the positive-ion biocompatible polymer is selected from a group consisting of glycol chitosan, chitosan, poly-L-lysine (PLL), poly beta-amino ester polymer, polyethyleneimine (PEI), poly(amidoamine) (PAMAM) dendrimer and derivatives thereof.","Kwon, Ick-Chan, Kim, Kwang-Meyung, Choi, Kui-Won, Park, Kyeong-Soon, Lee, Seul-Ki","A61K-049/00,C07K-014/00,C07K-009/00,G01N-033/543","EP02228075A1","2010.09.15","2009.03.10 (KR 20090020303)",null,"1. Use of an ionic complex nanoparticle for imaging heparanase activities, wherein a negative-ion substrate polymer specifically degraded by heparanase and a positive-ion biocompatible polymer ionically bind to each other, and a fluorophore or a quencher bind to each of the polymers, wherein the negative-ion substrate polymer specifically degraded by heparanase is selected from a group consisting of heparan sulfate (HS), heparan sulfate proteoglycans (HSPG), heparin, chondroitin-4-sulfate (C4S), chondroitin-6-sulfate (C6S), dermatan sulfate (DS), keratan sulfate (KS) and hyaluronic acid (HA) and wherein the positive-ion biocompatible polymer is selected from a group consisting of glycol chitosan, chitosan, poly-L-lysine (PLL), poly beta-amino ester polymer, polyethyleneimine (PEI), poly(amidoamine) (PAMAM) dendrimer and derivatives thereof. 2. The use according to claim 1, wherein the nanoparticle is represented by the following chemical formula 1, wherein 'A' indicates the fluorophore, 'B' indicates the negative-ion substrate polymer specifically degraded by heparanase, 'C' indicates the quencher to implement a quenching effect by absorbing fluorescence emitted from the fluorophore, and 'D' indicates the positive-ion biocompatible polymer that can be specifically accumulated on tissues of cancers and inflammatory disease, and wherein positions of 'A' and 'C' are interchangeable with each other, positions of 'B' and 'D' are interchangeable with each other, the 'B' and 'D' ionically bind to each other, the solid line indicates a chemical binding such as a covalent binding, and the dotted line indicates an ionic-binding. 3. The use according to claim 1, wherein the fluorophore is selected from a group consisting of fluorescein, BODIPY, Tetramethylrhodamine, Alexa, Cyanine, allopicocyanine fluorophores and derivatives thereof. 4. The use according to any one of claims 1-3, wherein the quencher is selected from a group consisting of blackhole quenchers (BHQ), blackberry quenchers (BBQ), and derivatives thereof. 5. The use according to claim 1, wherein the negative-ion substrate polymer is heparan sulfate (HS), the positive-ion biocompatible polymer is glycol chitosan (GC), the fluorophore is Cyanine fluorophores Cy5.5, and the quencher is blackhole quenchers BHQ-3. 6. The use according to claim 1, wherein the negative-ion substrate polymer or the positive-ion biocompatible polymer have molecular weight of 2,000-500,000 Da. 7. The use according to claim 1, wherein the fluorophore bind to the negative-ion substrate polymer, and the quencher bind to the positive-ion biocompatible polymer. 8. The use according to claim 7, wherein the fluorophores-bound negative-ion substrate polymer and the quenchers-bound positive-ion biocompatible polymer bind to each other with a ratio within the range of 1:0.1-1:10. 9. The use according to claim 7, wherein the ionic-complex nanoparticle has sizes of 50-800nm. 10. The use according to claim 7, wherein a distance between the fluorophores and the quenchers in the ionic complex nanoparticles is within 20nm. 11. Use of a contrast agent composition for imaging heparanase expressed in cells and tissues, the composition comprising the ionic complex nanoparticle as defined in any one of claims 1 to 10. 12. An in vitro method for imaging heparanase for providing information necessary to diagnose cancers, osteoarthritis, rheumatoid arthritis, progressive systemic sclerosis, chronic thyroiditis, ulcerative colitis, or multiple sclerosis by using the ionic complex nanoparticle as defined in any one of claims 1 to 10. 13. The method for imaging heparanase of claim 12, wherein the cancers are selected from a group consisting of squamous cell carcinoma, uterine carcinoma, uterine cervical cancer, prostatic carcinoma, head and neck cancer, pancreatic carcinoma, brain tumor, breast cancer, liver cancer, skin cancer, esophageal cancer, testicular carcinoma, kidney cancer, large intestine cancer, rectal cancer, stomach cancer, bladder cancer, ovarian cancer, cholangio carcinoma, and gallbladder carcinoma.","EP2228075A1, EP2228075B1, KR101135449B1, KR20100101882A, US2010233085A1, US8323622B2","B",2]
["F02897","화학","JP","신규 페닐 아세테이트 유도체 또는 그 약학적에 허용 가능한 소금, 그 제조 방법 및 그것을 유효 성분이라고 하고 포함하는 T-형 칼슘 이온 채널의 활성에 따라서 유발하게 되는 질환의 예방 또는 치료용 조성물",null,"원문이미지","JP2008316342A","2008.12.12","JP4950170B9","2012.03.16","(57)【요약】 【과제】T-형 칼슘 이온 채널 활성을 효과적에 억제할 수 있는 페닐 아세테이트 유도체, 또는 그 약학적에 허용 가능한 소금을 제공한다.【해결 수단】하기 화학식 1으로 표현되는 신규 페닐 아세테이트 유도체 또는 그 약학적에 허용 가능한 소금, 그 제조 방법, 및 이것을 유효 성분이라고 하고 포함하는 T-형 칼슘 이온 채널의 활성에 따라서 유발하게 되는 질환의 예방 또는 치료용 조성물에 관하는 것으로, 본 발명에 의한 페닐 아세테이트 유도체를 포함하는 조성물은, T-형 칼슘 이온 채널 활성을 효과적에 억제하기 때문에, T-형 칼슘 이온 채널의 활성에 따라서 유발하게 되는 고혈압, 암, 간질, 신경 원인성 동통 등의 질병의 예방 또는 치료제로서 유효히 사용할 수 있다. 화학식 1(식중, X,R1 및 R2은, 본 명세서로 정의한 것이라고 같이이다 .)【선택도】낳고","【청구항 1】 하기 화학식 1으로 표현되는 페닐 아세테이트 유도체 또는 그 약학적에 허용 가능한 소금: 화학식 1 (상기 화학식 1중, X은 수소, 할로겐 및 C1∼4 알콕시로 되는 무리로부터 선택하게 되는 1 이상의 치환기 이고, R1은, C1∼4 직쇄 또는 분지쇄 알킬 이고, R2은, 또 파 이고, 여기에서, R3 및 R4은, 서로 독립하고, H,C1∼4 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 또는 C1∼4 알콕시 이고, Y은, C 또는 N 있고, R5은, 1 이상의 C5-6 아릴으로 치환하게 되는 C1∼4 직쇄 또는 분지쇄 알킬;비치환 또는 1 이상의 할로겐, C1∼4 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 1 이상의 할로겐으로 치환하게 되는 직쇄 또는 분지쇄 알킬 또는 C1∼4 알콕시로 치환하게 되는 페닐;비치환 또는 1 이상의 할로겐, C1∼4 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 1 이상의 할로겐으로 치환하게 되는 C1∼4 직쇄 또는 분지쇄 알킬 또는 C1∼4 알콕시로 치환하게 되는 벤질;또는 비치환 또는 1 이상의 할로겐, C1∼4 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 1 이상의 할로겐으로 치환하게 되는 C1∼4 직쇄 또는 분지쇄 알킬 또는 C1∼4 알콕시로 치환하게 되는 벤질리덴 이다.)","キェ  ジュン·シン, ヒュン  ク­ク·リ­, エウン  ジュ­·ロ­, エ­  ニム·ペ­, セオン  ヒ­·セオ, イ­  イェオン·ペ­ク, ユ­ン  ジ­·キム, ヒ­  スップ·シン, トン  ジン·キム, キュン  イル·チョイ, ヒェフォン·リム, ヒェ  ジン·チュン, ギルス­·ナム, ヨン  セオ·チョ­, ヒュナ­·チュ­, ホ­  ギュ·ハ­ン, ス­ン  パン·カン, トンギュン·シン, チャン  セオン·チョン, エウン-キョン·キム, ヘッソン-チュン, キ­-スン·キム, キョ  チャン·ケウム, チェオリュ­·リ­, スン  ジュ­ン·ミン, キ­  ダル·ナム, ジェ  キュン·リ­, ヨン  ク­·カン, ウ­ン  セオ·パ­ク, ユンス­·キム, キ­  ヒュン·チョイ, チ­  マン·ソン","C07D-211/14,C07D-235/14,C07D-295/14,C07D-211/70,C07D-211/18,C07D-211/22,A61K-031/4184,A61K-031/495,A61K-031/445,A61P-009/12,A61P-035/00,A61P-025/08,A61P-025/02,A61P-043/00,C07C-069/65,C07C-069/614,C07C-069/734","JP2010053115A","2010.03.11","2008-08-28 (KR 10-2008-0084563)","2028.12.12","【특허청구의 범위】 【청구항 1】 하기 화학식 1으로 표현되는 페닐 아세테이트 유도체 또는 그 약학적에 허용 가능한 소금: 화학식 1 (상기 화학식 1중, X은 수소, 할로겐 및 C1∼4 알콕시로 되는 무리로부터 선택하게 되는 1 이상의 치환기 이고, R1은, C1∼4 직쇄 또는 분지쇄 알킬 이고, R2은, 또 파 이고, 여기에서, R3 및 R4은, 서로 독립하고, H,C1∼4 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 또는 C1∼4 알콕시 이고, Y은, C 또는 N 있고, R5은, 1 이상의 C5-6 아릴으로 치환하게 되는 C1∼4 직쇄 또는 분지쇄 알킬;비치환 또는 1 이상의 할로겐, C1∼4 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 1 이상의 할로겐으로 치환하게 되는 직쇄 또는 분지쇄 알킬 또는 C1∼4 알콕시로 치환하게 되는 페닐;비치환 또는 1 이상의 할로겐, C1∼4 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 1 이상의 할로겐으로 치환하게 되는 C1∼4 직쇄 또는 분지쇄 알킬 또는 C1∼4 알콕시로 치환하게 되는 벤질;또는 비치환 또는 1 이상의 할로겐, C1∼4 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 1 이상의 할로겐으로 치환하게 되는 C1∼4 직쇄 또는 분지쇄 알킬 또는 C1∼4 알콕시로 치환하게 되는 벤질리덴 이다.) 【청구항 2】 X이, 수소, 불소, 염소, 브롬, 메톡시 및 에톡시로 되는 무리로부터 선택하게 되는 1 이상의 치환기 이고, R1이, 메틸, 에틸, 프로필 또는 이소프로필 이고, R2이, 또 파 이고, 여기에서, R3 및 R4은, 서로 독립하고, H, 메틸, 에틸, 메톡시 또는 에톡시 이고, Y이, C 또는 N 있고, R5이, 벤주히도릴;비치환 또는 1 이상의 불소, 염소, 브롬, 메틸, 에틸, 1 이상의 불소로 치환하게 되는 메틸, 메톡시 또는 에톡시로 치환하게 되는 페닐;비치환 또는 1 이상의 불소, 염소, 브롬, 메틸, 에틸, 1 이상의 불소로 치환하게 되는 메틸, 메톡시 또는 에톡시로 치환하게 되는 벤질;또는 비치환 또는 1 이상의 불소, 염소, 브롬, 메틸, 에틸, 메톡시 또는 에톡시로 치환하게 되는 벤질리덴 인 것을 특징으로 한다, 청구항 1에 기재의 페닐 아세테이트 유도체 또는 그 약학적에 허용 가능한 소금. 【청구항 3】 X이, 수소, 불소, 브롬 및 메톡시로 되는 무리로부터 선택하게 되는 1 이상의 치환기 이고, R1은 메틸 또는 에틸 이고, R2이, 또 파 이고, 여기에서, R3 및 R4은 독립하고, H, 메틸, 또는 메톡시 이고, Y은 C 또는 N 있고, R5은 벤주히도릴, 페닐, 플루오르 페닐, 클로로 페닐, 메톡시 페닐, 훌오로벤질, 토리훌오로메칠벤질, 쿠로로벤질, 지쿠로로벤질, 2-클로로-6-훌오로벤질, 메칠벤질, t-부칠벤질, 메토키시벤질, 토리메토키시벤질, 플루오르 벤질리덴, 클로로 벤질리덴, 메틸 벤질리덴 또는 메톡시 벤질리덴 인 것을 특징으로 한다, 청구항 1에 기재의 페닐 아세테이트 유도체 또는 그 약학적에 허용 가능한 소금. 【청구항 4】 페닐 아세테이트 유도체가, (1)5-{[3-(1H-벤주이미다졸-2-일)프로필 ] 메틸 망의 것}-2-(4-브로모 페닐)-2-이소프로필 pentane 산 메틸 에스테르, (2)2-(4-브로모 페닐)-2-이소프로필-5-(4-페닐 피페라진-1-일)pentane 산 메틸 에스테르, (3)2-(4-브로모 페닐)-2-이소프로필-5-[4-(4-메톡시 벤질리덴)피페리딘-1-일 ] pentane 산 메틸 에스테르, (4)메틸 5-((3-(1H-벤조 [d] 이미다졸-2-일)프로필)(메틸))망의 것)-2-이소프로필-2-(4-메톡시 페닐)펜타노에토, (5)메틸 2-이소프로필-5-((3-(5-메톡시-1H-벤조 [d] 이미다졸-2-일)프로필)(메틸))망의 것)-2-(4-메톡시 페닐)펜타노에토, (6)메틸 5-((3-(5,6-디메틸-1H-벤조 [d] 이미다졸-2-일)프로필)(메틸))망의 것)-2-이소프로필-2-(4-메톡시 페닐)펜타노에토, (7)메틸 5-((3-(1H-벤조 [d] 이미다졸-2-일)프로필)(메틸))망의 것)-2-(3,4-디메톡시 페닐)-2-이소푸로필펜타노에토, (8)메틸 2-(3,4-디메톡시 페닐)-2-이소프로필-5-((3-(5-메톡시-1H-벤조 [d] 이미다졸-2-일)프로필)(메틸))망의 것)펜타노에토, (9)메틸 2-(3,4-디메톡시 페닐)-5-((3-(5,6-디메틸-1H-벤조 [d] 이미다졸-2-일)프로필)(메틸))망의 것)-2-이소푸로필펜타노에토, (10)에틸 5-((3-(1H-벤조 [d] 이미다졸-2-일)프로필)(메틸))망의 것)-2-이소프로필-2-페닐펜타노에토, (11)에틸 5-((3-(5,6-디메틸-1H-벤조 [d] 이미다졸-2-일)프로필)(메틸))망의 것)-2-이소프로필-2-페닐펜타노에토, (12)메틸 2-(4-브로모 페닐)-5-((3-(5,6-디메틸-1H-벤조 [d] 이미다졸-2-일)프로필)(메틸))망의 것)-2-이소푸로필펜타노에토, (13)메틸 2-(4-브로모 페닐)-2-이소프로필-5-((3-(5-메톡시-1H-벤조 [d] 이미다졸-2-일)프로필)(메틸))망의 것)펜타노에토, (14)메틸 5-((3-(1H-벤조 [d] 이미다졸-2-일)프로필)(메틸))망의 것)-2-(3-브로모 페닐)-2-이소푸로필펜타노에토, (15)메틸 2-(3-브로모 페닐)-2-이소프로필-5-((3-(5-메톡시-1H-벤조 [d] 이미다졸-2-일)프로필)(메틸))망의 것)펜타노에토, (16)메틸 2-(3-브로모 페닐)-5-((3-(5,6-디메틸-1H-벤조 [d] 이미다졸-2-일)프로필)(메틸))망의 것)-2-이소푸로필펜타노에토, (17)메틸 5-((3-(1H-벤조 [d] 이미다졸-2-일)프로필)(메틸))망의 것)-2-(4-플루오르 페닐)-2-이소푸로필펜타노에토, (18)메틸 2-(4-플루오르 페닐)-2-이소프로필-5-((3-(5-메톡시-1H-벤조 [d] 이미다졸-2-일)프로필)(메틸))망의 것)펜타노에토, (19)메틸 5-((3-(5,6-디메틸-1H-벤조 [d] 이미다졸-2-일)프로필)(메틸))망의 것)-2-(4-플루오르 페닐)-2-이소푸로필펜타노에토, (20)에틸 2-이소프로필-5-(4-(2-메톡시 페닐)피페라진-1-일)-2-페닐펜타노에토, (21)에틸 2-이소프로필-5-(4-(3-메톡시 페닐)피페라진-1-일)-2-페닐펜타노에토, (22)에틸 2-이소프로필-5-(4-(4-메톡시 페닐)피페라진-1-일)-2-페닐펜타노에토, (23)에틸 2-이소프로필-5-(4-(4-메토키시벤질)피페라진-1-일)-2-페닐펜타노에토, (24)에틸 5-(4-(2-플루오르 페닐)피페라진-1-일)-2-이소프로필-2-페닐펜타노에토, (25)에틸 5-(4-(4-플루오르 페닐)피페라진-1-일)-2-이소프로필-2-페닐펜타노에토, (26)에틸 5-(4-(4-훌오로벤질)피페라진-1-일)-2-이소프로필-2-페닐펜타노에토, (27)메틸 5-(4-벤주히도릴피페라진-1-일)-2-(4-브로모 페닐)-2-이소푸로필펜타노에토, (28)메틸 2-(4-브로모 페닐)-5-(4-(2-플루오르 페닐)피페라진-1-일)-2-이소푸로필펜타노에토, (29)메틸 2-(4-브로모 페닐)-5-(4-(4-플루오르 페닐)피페라진-1-일)-2-이소푸로필펜타노에토, (30)메틸 2-(4-브로모 페닐)-5-(4-(2-훌오로벤질)피페라진-1-일)-2-이소푸로필펜타노에토, (31)메틸 2-(4-브로모 페닐)-5-(4-(3-훌오로벤질)피페라진-1-일)-2-이소푸로필펜타노에토, (32)메틸 2-(4-브로모 페닐)-5-(4-(4-훌오로벤질)피페라진-1-일)-2-이소푸로필펜타노에토, (33)메틸 2-(4-브로모 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(3-(트리 플루오르 메틸)벤질)피페라진-1-일)펜타노에토, (34)메틸 2-(4-브로모 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(4-(트리 플루오르 메틸)벤질)피페라진-1-일)펜타노에토, (35)메틸 2-(4-브로모 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(2-메톡시 페닐)피페라진-1-일)펜타노에토, (36)메틸 2-(4-브로모 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(3-메톡시 페닐)피페라진-1-일)펜타노에토, (37)메틸 2-(4-브로모 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(4-메톡시 페닐)피페라진-1-일)펜타노에토, (38)메틸 2-(4-브로모 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(4-메토키시벤질)피페라진-1-일)펜타노에토, (39)메틸 2-(4-브로모 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(2,3,4-토리메토키시벤질)피페라진-1-일)펜타노에토, (40)메틸 2-(4-브로모 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(3-메칠벤질)피페라진-1-일)펜타노에토, (41)메틸 2-(4-브로모 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(4-메칠벤질)피페라진-1-일)펜타노에토, (42)메틸 2-(4-브로모 페닐)-5-(4-(4-t-부칠벤질)피페라진-1-일)-2-이소푸로필펜타노에토, (43)메틸 2-(4-브로모 페닐)-5-(4-(3-클로로 페닐)피페라진-1-일)-2-이소푸로필펜타노에토, (44)메틸 2-(4-브로모 페닐)-5-(4-(3-쿠로로벤질)피페라진-1-일)-2-이소푸로필펜타노에토, (45)메틸 2-(4-브로모 페닐)-5-(4-(4-쿠로로벤질)피페라진-1-일)-2-이소푸로필펜타노에토, (46)메틸 2-(4-브로모 페닐)-5-(4-(3,4-지쿠로로벤질)피페라진-1-일)-2-이소푸로필펜타노에토, (47)메틸 2-(4-브로모 페닐)-5-(4-(2-클로로-6-훌오로벤질)피페라진-1-일)-2-이소푸로필펜타노에토, (48)메틸 2-(3-브로모 페닐)-5-(4-(2-훌오로벤질)피페라진-1-일)-2-이소푸로필펜타노에토, (49)메틸 2-(3-브로모 페닐)-5-(4-(3-훌오로벤질)피페라진-1-일)-2-이소푸로필펜타노에토, (50)메틸 2-(3-브로모 페닐)-5-(4-(4-훌오로벤질)피페라진-1-일)-2-이소푸로필펜타노에토, (51)메틸 2-(3-브로모 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(3-(트리 플루오르 메틸)벤질)피페라진-1-일)펜타노에토, (52)메틸 2-(3-브로모 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(4-(트리 플루오르 메틸)벤질)피페라진-1-일)펜타노에토, (53)메틸 2-(3-브로모 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(4-메토키시벤질)피페라진-1-일)펜타노에토, (54)메틸 2-(3-브로모 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(3,4,5-토리메토키시벤질)피페라진-1-일)펜타노에토, (55)메틸 2-(3-브로모 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(3-메칠벤질)피페라진-1-일)펜타노에토, (56)메틸 2-(3-브로모 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(4-메칠벤질)피페라진-1-일)펜타노에토, (57)메틸 2-(3-브로모 페닐)-5-(4-(4-t-부칠벤질)피페라진-1-일)-2-이소푸로필펜타노에토, (58)메틸 2-(3-브로모 페닐)-5-(4-(3-쿠로로벤질)피페라진-1-일)-2-이소푸로필펜타노에토, (59)메틸 2-(3-브로모 페닐)-5-(4-(4-쿠로로벤질)피페라진-1-일)-2-이소푸로필펜타노에토, (60)메틸 2-(3-브로모 페닐)-5-(4-(3,4-지쿠로로벤질)피페라진-1-일)-2-이소푸로필펜타노에토, (61)메틸 2-(4-플루오르 페닐)-2-이소프로필-5-(4-페닐 피페라진-1-일)펜타노에토, (62)메틸 5-(4-벤주히도릴피페라진-1-일)-2-(4-플루오르 페닐)-2-이소푸로필펜타노에토, (63)메틸 2-(4-플루오르 페닐)-5-(4-(2-플루오르 페닐)피페라진-1-일)-2-이소푸로필펜타노에토, (64)메틸 2-(4-플루오르 페닐)-5-(4-(4-플루오르 페닐)피페라진-1-일)-2-이소푸로필펜타노에토, (65)메틸 5-(4-(2-훌오로벤질)피페라진-1-일)-2-(4-플루오르 페닐)-2-이소푸로필펜타노에토, (66)메틸 5-(4-(3-훌오로벤질)피페라진-1-일)-2-(4-플루오르 페닐)-2-이소푸로필펜타노에토, (67)메틸 5-(4-(4-훌오로벤질)피페라진-1-일)-2-(4-플루오르 페닐)-2-이소푸로필펜타노에토, (68)메틸 2-(4-플루오르 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(3-(트리 플루오르 메틸)벤질)피페라진-1-일)펜타노에토, (69)메틸 2-(4-플루오르 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(4-(트리 플루오르 메틸)벤질)피페라진-1-일)펜타노에토, (70)메틸 2-(4-플루오르 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(2-메톡시 페닐)피페라진-1-일)펜타노에토, (71)메틸 2-(4-플루오르 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(3-메톡시 페닐)피페라진-1-일)펜타노에토, (72)메틸 2-(4-플루오르 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(4-메톡시 페닐)피페라진-1-일)펜타노에토, (73)메틸 2-(4-플루오르 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(4-메토키시벤질)피페라진-1-일)펜타노에토, (74)메틸 2-(4-플루오르 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(2,3,4-토리메토키시벤질)피페라진-1-일)펜타노에토, (75)메틸 2-(4-플루오르 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(3-메칠벤질)피페라진-1-일)펜타노에토, (76)메틸 2-(4-플루오르 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(4-메칠벤질)피페라진-1-일)펜타노에토, (77)메틸 5-(4-(4-t-부칠벤질)피페라진-1-일)-2-(4-플루오르 페닐)-2-이소푸로필펜타노에토, (78)메틸 5-(4-(3-클로로 페닐)피페라진-1-일)-2-(4-플루오르 페닐)-2-이소푸로필펜타노에토, (79)메틸 5-(4-(3-쿠로로벤질)피페라진-1-일)-2-(4-플루오르 페닐)-2-이소푸로필펜타노에토, (80)메틸 5-(4-(4-쿠로로벤질)피페라진-1-일)-2-(4-플루오르 페닐)-2-이소푸로필펜타노에토, (81)메틸 5-(4-(3,4-지쿠로로벤질)피페라진-1-일)-2-(4-플루오르 페닐)-2-이소푸로필펜타노에토, (82)메틸 2-(4-브로모 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(4-메토키시벤질)피페리딘-1-일)펜타노에토, (83)메틸 2-(4-브로모 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(3-메톡시 벤질리덴)피페리딘-1-일)펜타노에토, (84)메틸 2-(4-브로모 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(3-메토키시벤질)피페리딘-1-일)펜타노에토, (85)메틸 2-(4-브로모 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(4-메틸 벤질리덴)피페리딘-1-일)펜타노에토, (86)메틸 2-(4-브로모 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(4-메칠벤질)피페리딘-1-일)펜타노에토, (87)메틸 2-(4-브로모 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(3-메틸 벤질리덴)피페리딘-1-일)펜타노에토, (88)메틸 2-(4-브로모 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(3-메칠벤질)피페리딘-1-일)펜타노에토, (89)메틸 2-(4-브로모 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(2-메틸 벤질리덴)피페리딘-1-일)펜타노에토, (90)메틸 2-(4-브로모 페닐)-2-이소프로필-5-(4-(2-메칠벤질)피페리딘-1-일)펜타노에토, (91)메틸 2-(4-브로모 페닐)-5-(4-(4-클로로 벤질리덴)피페리딘-1-일)-2-이소푸로필펜타노에토, (92)메틸 2-(4-브로모 페닐)-5-(4-(4-쿠로로벤질)피페리딘-1-일)-2-이소푸로필펜타노에토, (93)메틸 2-(4-브로모 페닐)-5-(4-(3-클로로 벤질리덴)피페리딘-1-일)-2-이소푸로필펜타노에토, (94)메틸 2-(4-브로모 페닐)-5-(4-(3-쿠로로벤질)피페리딘-1-일)-2-이소푸로필펜타노에토, (95)메틸 2-(4-브로모 페닐)-5-(4-(4-플루오르 벤질리덴)피페리딘-1-일)-2-이소푸로필펜타노에토, (96)메틸 2-(4-브로모 페닐)-5-(4-(4-훌오로벤질)피페리딘-1-일)-2-이소푸로필펜타노에토, (97)메틸 2-이소프로필-5-(4-(4-메톡시 벤질리덴)피페리딘-1-일)-2-(4-메톡시 페닐)펜타노에토, (98)메틸 2-이소프로필-5-(4-(4-메토키시벤질)피페리딘-1-일)-2-(4-메톡시 페닐)펜타노에토, (99)메틸 2-이소프로필-5-(4-(3-메톡시 벤질리덴)피페리딘-1-일)-2-(4-메톡시 페닐)펜타노에토, (100)메틸 2-이소프로필-5-(4-(3-메토키시벤질)피페리딘-1-일)-2-(4-메톡시 페닐)펜타노에토, (101)메틸 2-이소프로필-2-(4-메톡시 페닐)-5-(4-(4-메틸 벤질리덴)피페리딘-1-일)펜타노에토, (102)메틸 2-이소프로필-2-(4-메톡시 페닐)-5-(4-(4-메칠벤질)피페리딘-1-일)펜타노에토, (103)메틸 2-이소프로필-2-(4-메톡시 페닐)-5-(4-(3-메틸 벤질리덴)피페리딘-1-일)펜타노에토, (104)메틸 2-이소프로필-2-(4-메톡시 페닐)-5-(4-(3-메칠벤질)피페리딘-1-일)펜타노에토, (105)메틸 2-이소프로필-2-(4-메톡시 페닐)-5-(4-(2-메틸 벤질리덴)피페리딘-1-일)펜타노에토, (106)메틸 2-이소프로필-2-(4-메톡시 페닐)-5-(4-(2-메칠벤질)피페리딘-1-일)펜타노에토, (107)메틸 5-(4-(4-클로로 벤질리덴)피페리딘-1-일)-2-이소프로필-2-(4-메톡시 페닐)펜타노에토, (108)메틸 5-(4-(4-쿠로로벤질)피페리딘-1-일)-2-이소프로필-2-(4-메톡시 페닐)펜타노에토, (109)메틸 5-(4-(3-클로로 벤질리덴)피페리딘-1-일)-2-이소프로필-2-(4-메톡시 페닐)펜타노에토, (110)메틸 5-(4-(3-쿠로로벤질)피페리딘-1-일)-2-이소프로필-2-(4-메톡시 페닐)펜타노에토, (111)메틸 5-(4-(4-플루오르 벤질리덴)피페리딘-1-일)-2-이소프로필-2-(4-메톡시 페닐)펜타노에토, 및 (112)메틸 5-(4-(4-훌오로벤질)피페리딘-1-일)-2-이소프로필-2-(4-메톡시 페닐)펜타노에토로 되는 무리로부터 선택하게 되는 것을 특징으로 한다, 청구항 1에 기재의 페닐 아세테이트 유도체 또는 그 약학적에 허용 가능한 소금. 【청구항 5】 하기 scheme 1으로 표현되도록, 출발 물질 인 화학식 2의 카르본산 화합물을 산촉매하에서 에스테르화 반응하게 하고 화학식 3의 에스테르 화합물을 제조하는 공정(공정 1), 상기 공정 1으로 제조하게 되는 화학식 3의 화합물을 t-부토키시도 및 이소푸로필부로미도라고 반응하게 하고 화학식 4의 화합물을 제조하는 공정(공정 2), 상기 공정 2으로 제조하게 되는 화학식 4의 화합물을 1,3-지부로모푸로판이라고 반응하게 하고 화학식 5의 화합물을 제조하는 공정(공정 3)및, 상기 공정 3으로 제조하게 되는 화학식 5의 화합물을 화학식 6 또는 화학식 7의 화합물이라고 반응하게 하고 화학식 1의 화합물을 제조하는 공정(공정 4) 을 포함하는 페닐 아세테이트 유도체의 제조 방법: scheme 1 (식중, R1,R2,R3,R4,R5,X 및 Y은, 청구항 1에 기재의 화학식 1에 있어서 정의하게 되는 것이라고 같이이다 .) 【청구항 6】 상기 공정 1이, 화학식 2의 카르본산 화합물을 메탄올에 용해하게 한 뒤, 85∼95℃로 황산의 존재하에서 2∼4시간 가열 환류하게 하고 화학식 3의 화합물을 얻는 것을 특징으로 한다, 청구항 5에 기재의 페닐 아세테이트 유도체의 제조 방법. 【청구항 7】 상기 공정 2이, 화학식 3의 화합물과 t-부토키시도를 0℃로 반응 용매 인 무물 디메틸 포름아미드에 용해하게 한 뒤, 이소푸로필부로미도를 첨가하고 상온으로 2∼4 시간 교반하고 화학식 4의 화합물을 얻는 것을 특징으로 한다, 청구항 5에 기재의 페닐 아세테이트 유도체의 제조 방법. 【청구항 8】 상기 공정 3이,-75℃∼-80℃로 무수테트라하이드로푸란에 디이소프로필 아민과 헥산에 n-브틸 리튬을 용해하게 한 용액을 순서에 첨가하고 용해하게 한 뒤, 화학식 4의 화합물을 넣고 교반하고, 그 뒤, 1,3-지부로모푸로판을 무수테트라하이드로푸란에 더한 용액에 적하하고 상온으로 하룻밤 내내 교반하게 한 것에 따라 화학식 5의 화합물을 얻는 것을 특징으로 한다, 청구항 5에 기재의 페닐 아세테이트 유도체의 제조 방법. 【청구항 9】 상기 공정 4에 있어서 화학식 5의 화합물을 화학식 6의 화합물이라고 반응하게 하는 경우, 화학식 5의 화합물을 메탄올에 용해하게 한 뒤, 화학식 6의 화합물과 탄산칼륨과를 첨가하고 85∼95℃로 2∼4시간 가열 환류하게 한 것에 따라 화학식 1의 화합물을 얻는 것을 특징으로 한다, 청구항 5에 기재의 페닐 아세테이트 유도체의 제조 방법. 【청구항 10】 상기 공정 4에 있어서 화학식 5의 화합물을 화학식 7의 화합물이라고 반응하게 하는 경우, 화학식 5의 화합물을 아세토니트릴에 용해하게 한 뒤, 화학식 7의 화합물, 토리에칠아민, 및 요오드 산 나트륨을 순서에 첨가하고 85∼95℃로 2∼4시간 가열 환류하게 한 것에 따라 화학식 1의 화합물을 얻는 것을 특징으로 한다, 청구항 5에 기재의 페닐 아세테이트 유도체의 제조 방법. 【청구항 11】 하기 화학식 3, 화학식 4 또는 화학식 5으로 표현되는 페닐 아세테이트 유도체의 중간체: 화학식 3 화학식 4 화학식 5 (상기 화학식 3∼5에 있어서, X 및 R1은 청구항 1에 기재의 화학식 1에 있어서 정의한 것이라고 같이이다 .) 【청구항 12】 청구항 1에 기재의 페닐 아세테이트 유도체 또는 그 약학적에 허용 가능한 소금을 유효 성분으로서 포함한다, T-형 칼슘 이온 채널의 활성에 따라서 유발하게 되는 질환의 예방 또는 치료용 조성물. 【청구항 13】 상기 질환이, 고혈압, 암, 간질 또는 신경 원인성 동통 인 것을 특징으로 한다, 청구항 12에 기재의 T-형 칼슘 이온 채널의 활성에 따라서 유발하게 되는 질환의 예방 또는 치료용 조성물.","JP2010053115A, JP4950170B2, KR101052620B1, KR20100042671A, US2010056545A1, US7939672B2",null,1]
["F02869","화학","DE","Dielectric thin film composition showing linear dielectric properties",null,"원문이미지","EP2009010308","2009.08.10","EP02151831B1","2011.11.30","The present invention relates to a dielectric thin film composition showing linear dielectric properties, in which tin oxides (SnO2) are introduced into a (Ba,Sr)TiO3 (BSTO) dielectric thin film in a continuous diffusion gradient manner in composition. Since the non-linear dielectric properties of BSTO are converted to linear dielectric properties by the addition of SnO2 according to the present invention, the dielectric thin film composition of the present invention is characterized in that: there is little change in the capacitance according to the applied electric field; it has a high dielectric constant capable of showing a desired capacitance even at a thickness suitable for preventing the occurrence of electron tunneling; and it exhibits paraelectric properties similar to the conventional dielectric substances such as SiO2 while having a very low dielectric loss.,","1. A dielectric thin film composition showing linear dielectric properties, which is represented by the following formula (I): Ba(1-x)SrxTi(1-y)SnyO3 (BSTSO) (I) characterized in that a mole fraction x is 0.06=x=0.82 and a mole fraction y is 0.15=y=0.18.","Choi, Ji-Won, Choi, Won Kook., Yoon, Seok-Jin","H01B-003/12,C04B-035/47","EP02151831A2","2010.02.10","2008.08.08 (KR 20080077784)",null,"1. A dielectric thin film composition showing linear dielectric properties, which is represented by the following formula (I): Ba(1-x)SrxTi(1-y)SnyO3 (BSTSO) (I) characterized in that a mole fraction x is 0.06=x=0.82 and a mole fraction y is 0.15=y=0.18. 2. The dielectric thin film composition according to Claim 1, which is prepared by adding tin oxides (SnO2) to a (Ba,Sr)TiO3(BSTO) thin film in a molar ratio of 15 to 18 mol% in a continuous diffusion gradient manner in composition. 3. The dielectric thin film composition according to Claim 1 or 2, which has paraelectric properties. 4. The dielectric thin film composition according to one of Claims 1 to 3, which has a dielectric loss of 0.005 to 0.014. 5. The dielectric thin film composition according to one of Claims 1 to 4, which has a tunability of 3 to 4. 6. The dielectric thin film composition according to one of Claims 1 to 5, which has a dielectric constant of 200 to 230. 7. A method of manufacturing a dielectric thin film having the composition according to claim 1, comprising adding tin oxide (SnO2) to a (Ba,Sr)TiO3 thin film in a molar ratio of 15 to 18 mol%. 8. The method according to claim 7, wherein the tin oxide is added in a continuous diffusion gradient manner in composition. 9. Use of the dielectric thin film composition according to Claim 1, or of the dielectric thin film manufactured according to claim 7, for providing a semiconductor element. 10. The use according to claim 9, comprising providing a semiconductor circuit having plural such semiconductor elements. 11. The use according to claim 9 or 10, comprising providing a functional dielectric thin film for DRAM capacitors or TFT transistors. 12. A semiconductor element comprising the dielectric thin film composition according to Claim 1, or the dielectric thin film manufactured according to claim 7. 13. The semiconductor element according to claim 12, comprising a thin film transistor. 14. The semiconductor element according to claim 12, further comprising at least one other semiconductor element according to claim 12, together forming a semi-conductor circuit. 15. The semiconductor circuit according to claim 14, being a memory circuit or a DRAM.","AT535918T, EP2151831A2, EP2151831A3, EP2151831B1, JP2010045350A, JP5401199B2, KR100997379B1, KR20100018990A, US2010035749A1, US8030237B2","C",2]
["F02869","화학","FR","Dielectric thin film composition showing linear dielectric properties",null,"원문이미지","EP2009010308","2009.08.10","EP02151831B1","2011.11.30","The present invention relates to a dielectric thin film composition showing linear dielectric properties, in which tin oxides (SnO2) are introduced into a (Ba,Sr)TiO3 (BSTO) dielectric thin film in a continuous diffusion gradient manner in composition. Since the non-linear dielectric properties of BSTO are converted to linear dielectric properties by the addition of SnO2 according to the present invention, the dielectric thin film composition of the present invention is characterized in that: there is little change in the capacitance according to the applied electric field; it has a high dielectric constant capable of showing a desired capacitance even at a thickness suitable for preventing the occurrence of electron tunneling; and it exhibits paraelectric properties similar to the conventional dielectric substances such as SiO2 while having a very low dielectric loss.,","1. A dielectric thin film composition showing linear dielectric properties, which is represented by the following formula (I): Ba(1-x)SrxTi(1-y)SnyO3 (BSTSO) (I) characterized in that a mole fraction x is 0.06=x=0.82 and a mole fraction y is 0.15=y=0.18.","Choi, Ji-Won, Choi, Won Kook., Yoon, Seok-Jin","H01B-003/12,C04B-035/47","EP02151831A2","2010.02.10","2008.08.08 (KR 20080077784)",null,"1. A dielectric thin film composition showing linear dielectric properties, which is represented by the following formula (I): Ba(1-x)SrxTi(1-y)SnyO3 (BSTSO) (I) characterized in that a mole fraction x is 0.06=x=0.82 and a mole fraction y is 0.15=y=0.18. 2. The dielectric thin film composition according to Claim 1, which is prepared by adding tin oxides (SnO2) to a (Ba,Sr)TiO3(BSTO) thin film in a molar ratio of 15 to 18 mol% in a continuous diffusion gradient manner in composition. 3. The dielectric thin film composition according to Claim 1 or 2, which has paraelectric properties. 4. The dielectric thin film composition according to one of Claims 1 to 3, which has a dielectric loss of 0.005 to 0.014. 5. The dielectric thin film composition according to one of Claims 1 to 4, which has a tunability of 3 to 4. 6. The dielectric thin film composition according to one of Claims 1 to 5, which has a dielectric constant of 200 to 230. 7. A method of manufacturing a dielectric thin film having the composition according to claim 1, comprising adding tin oxide (SnO2) to a (Ba,Sr)TiO3 thin film in a molar ratio of 15 to 18 mol%. 8. The method according to claim 7, wherein the tin oxide is added in a continuous diffusion gradient manner in composition. 9. Use of the dielectric thin film composition according to Claim 1, or of the dielectric thin film manufactured according to claim 7, for providing a semiconductor element. 10. The use according to claim 9, comprising providing a semiconductor circuit having plural such semiconductor elements. 11. The use according to claim 9 or 10, comprising providing a functional dielectric thin film for DRAM capacitors or TFT transistors. 12. A semiconductor element comprising the dielectric thin film composition according to Claim 1, or the dielectric thin film manufactured according to claim 7. 13. The semiconductor element according to claim 12, comprising a thin film transistor. 14. The semiconductor element according to claim 12, further comprising at least one other semiconductor element according to claim 12, together forming a semi-conductor circuit. 15. The semiconductor circuit according to claim 14, being a memory circuit or a DRAM.","AT535918T, EP2151831A2, EP2151831A3, EP2151831B1, JP2010045350A, JP5401199B2, KR100997379B1, KR20100018990A, US2010035749A1, US8030237B2","C",2]
["K04468","광학","KR","ＲＦ 신호를 이용한 구부림 센서 및 이를 이용한 구부림측정 방법{BENDING SENSOR USING RF SIGNALS AND BEND SENSING METHOD USING THE SAME}",null,"원문이미지","KR20080067021A","2008.07.10","KR0963169B1","2010.06.04","RF 변조된 광신호를 생성하는 광원부; 서로 이격되며 상기 광원부의 광신호를 반사하는 기준 광섬유격자 및 센싱 광섬유격자를 구비하고, 양 방향으로 구부려지는 변형부; 상기 기준 광섬유격자에 의해 반사된 광신호 및 상기 센싱 광섬유격자에 의해 반사된 광신호에 파장에 따른 분산을 제공하는 광섬유 스풀; 및 상기 광섬유 스풀로부터 상기 기준 광섬유격자에 의해 반사된 광신호 및 상기 센싱 광섬유격자에 의해 반사된 광신호를 수신하고, 수신된 광신호들을 전기신호로 변환하는 광 검출부를 포함하되, 상기 광 검출부에 의해 변환된 전기신호의 세기는 상기 변형부의 곡률에 대응되는 구부림 센서 및 이를 이용한 구부림 측정 방법이 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 구부림 센서는 저손실의 광섬유를 이용하여 장거리 전송이 가능하므로 분포형 센서에 유용하게 사용될 수 있으며, 변조하는 RF 신호의 주파수를 바꿈으로서 측정감도와 측정범위를 자유로이 조절할 수 있는 이점이 있다.","1 RF 변조된 광신호를 생성하는 광원부; 서로 이격되며 상기 광원부의 광신호를 반사하는 기준 광섬유격자 및 센싱 광섬유격자를 구비하고, 양 방향으로 구부려지는 변형부; 상기 기준 광섬유격자에 의해 반사된 광신호 및 상기 센싱 광섬유격자에 의해 반사된 광신호에 파장에 따른 분산을 제공하는 광섬유 스풀; 및 상기 광섬유 스풀로부터 상기 기준 광섬유격자에 의해 반사된 광신호 및 상기 센싱 광섬유격자에 의해 반사된 광신호를 수신하고, 수신된 광신호들을 전기신호로 변환하는 광 검출부를 포함하되, 상기 광 검출부에 의해 변환된 전기신호의 세기는 상기 변형부의 곡률에 대응되는 것을 특징으로 하는 구부림 센서.","이관일, 이상배, 이주한","G02B-006/00,G01J-001/28","KR20100006704A","2010.01.21",null,"2028.07.10","1 RF 변조된 광신호를 생성하는 광원부; 서로 이격되며 상기 광원부의 광신호를 반사하는 기준 광섬유격자 및 센싱 광섬유격자를 구비하고, 양 방향으로 구부려지는 변형부; 상기 기준 광섬유격자에 의해 반사된 광신호 및 상기 센싱 광섬유격자에 의해 반사된 광신호에 파장에 따른 분산을 제공하는 광섬유 스풀; 및 상기 광섬유 스풀로부터 상기 기준 광섬유격자에 의해 반사된 광신호 및 상기 센싱 광섬유격자에 의해 반사된 광신호를 수신하고, 수신된 광신호들을 전기신호로 변환하는 광 검출부를 포함하되, 상기 광 검출부에 의해 변환된 전기신호의 세기는 상기 변형부의 곡률에 대응되는 것을 특징으로 하는 구부림 센서. 2 제 1항에 있어서, 상기 기준 광섬유격자 및 상기 센싱 광섬유격자는 상기 광원부의 광신호 중 서로 상이한 파장의 광신호를 반사하는 것을 특징으로 하는 구부림 센서. 3 제 1항에 있어서, 상기 변형부는, 한쪽 끝이 고정되며, 다른 쪽 끝이 양 방향으로 구부려지는 금속판; 상기 금속판의 상기 한쪽 끝에 인접하여 위치하는 기준 광섬유격자; 및 상기 금속판의 상기 한쪽 끝으로부터 이격되어 위치하는 센싱 광섬유격자를 포함하는 것을 특징으로 하는 구부림 센서. 4 제 1항에 있어서, 상기 변형부는, 한쪽 끝이 고정되며, 다른 쪽 끝이 양 방향으로 구부려지는 금속판; 상기 금속판의 상기 한쪽 끝으로부터 이격되어 위치하며, 상기 금속판의 한쪽 면에 형성된 기준 광섬유격자; 및 상기 금속판의 상기 한쪽 끝으로부터 이격되어 위치하며, 상기 금속판의 다른쪽 면에 형성된 센싱 광섬유격자를 포함하는 것을 특징으로 하는 구부림 센서. 5 제 1항에 있어서, 상기 광섬유 스풀은, 상기 기준 광섬유격자에 의해 반사된 광신호 및 상기 센싱 광섬유격자에 의해 반사된 광신호에 서로 상이한 분산값을 제공하는 것을 특징으로 하는 구부림 센서. 6 제 1항에 있어서, 상기 광원부는, 반도체 광 증폭기(Semiconductor Optical Amplifier), 반사형 반도체 광 증폭기(Reflective Semiconductor Optical Amplifier) 또는 광신호가 출력되는 면이 무반사 코팅된 패브리-패롯 레이저(Fabry-Perot laser)를 포함하는 것을 특징으로 하는 구부림 센서. 7 제 1항에 있어서, 상기 광원부는, 광신호를 생성하는 광대역광원을 포함하며, 상기 광대역 광원의 공급전류를 변조하여 RF 변조된 광신호를 생성하는 것을 특징으로 하는 구부림 센서. 8 제 7항에 있어서, 상기 광원부는, 상기 광대역 광원에 RF 신호를 제공하는 전압 제어 오실레이터(Voltage Controlled Oscillator; VCO) 또는 RF 발생기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 구부림 센서. 9 제 1항에 있어서, 상기 광원부는, 광신호를 생성하는 광대역 광원; 및 상기 광대역 광원의 광신호를 RF 변조하는 외부 광변조기를 포함하는 것을 특징으로 하는 구부림 센서. 10 RF 변조된 광신호를, 서로 이격된 기준 광섬유격자 및 센싱 광섬유격자를 구비하며 양 방향으로 구부려지는 변형부에 전송하는 단계; 상기 기준 광섬유격자에 의해 반사된 광신호 및 상기 센싱 광섬유격자에 의해 반사된 광신호 각각에 파장에 따른 분산을 제공하는 단계; 상기 기준 광섬유격자에 의해 반사된 광신호 및 상기 센싱 광섬유격자에 의해 반사된 광신호를 전기신호로 변환하는 단계; 및 변환된 전기신호로부터 상기 변형부의 곡률을 산출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 구부림 측정 방법. 11 제 10항에 있어서, 상기 파장에 따른 분산을 제공하는 단계는, 상기 기준 광섬유격자에 의해 반사된 광신호 및 상기 센싱 광섬유격자에 의해 반사된 광신호에 서로 상이한 분산값을 제공하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 구부림 측정 방법. 12 제 10항에 있어서, 상기 변형부의 곡률을 산출하는 단계는, 변환된 전기신호의 세기로부터, 상기 기준 광섬유격자에 의해 반사된 광신호와 상기 센싱 광섬유격자에 의해 반사된 광신호 사이의 파장 간격을 산출하는 단계; 상기 단계에서 산출된 파장 간격으로부터 상기 센싱 광섬유격자에 인가된 스트레인 값을 산출하는 단계; 및 상기 센싱 광섬유격자에 인가된 스트레인 값으로부터 상기 변형부의 곡률을 산출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 구부림 측정 방법.","KR100963169B1, KR20100006704A",null,1]
["K04449","연료전지","KR","평면 밴드 구조의 고체 산화물 연료전지{SOLID OXIDE FUEL CELLS WITH A PLANAR BANDED ARRAY OF UNIT CELLS}",null,"원문이미지","KR20080094595A","2008.09.26","KR0964294B1","2010.06.09","본 발명은 가스 채널 및 임베딩 구역을 가지는 제1 분리판(12); 상기 제1 분리판(12)의 임베딩 구역에 삽입되는 복수의 제1 전극(33); 상기 복수의 제1 전극(33) 위에 위치하며, 상기 제1 분리판(12)의 임베딩 구역에 삽입되는 복수의 전해질(32); 상기 복수의 전해질(32) 위에 위치하는 복수의 제2 전극(31); 상기 복수의 제2 전극(31)을 덮는 제2 분리판(10); 상기 제1 및 제2 분리판(12, 10) 사이에 위치하며, 상호 접촉하는 제1 및 제2 직렬 접속 단자(71, 70); 상기 제1 및 제2 분리판(12, 10) 사이에 위치하며, 제1 및 제2 분리판(12, 10)과 접촉하는 밀봉재(20); 및 상기 제1 및 제2 분리판(12, 10)이 각각 삽입되어 밀봉재(20)를 압착하는 제1 및 제2 하우징(13, 11)을 포함하는, 평면밴드 구조 고체 산화물 연료전지에 관한 것이다.","1 가스 채널 및 임베딩 구역을 가지는 제1 분리판(12); 상기 제1 분리판(12)의 임베딩 구역에 삽입되는 복수의 제1 전극(33); 상기 복수의 제1 전극(33) 위에 위치하며, 상기 제1 분리판(12)의 임베딩 구역에 삽입되는 복수의 전해질(32); 상기 복수의 전해질(32) 위에 위치하는 복수의 제2 전극(31); 상기 복수의 제2 전극(31)을 덮는 제2 분리판(10); 상기 제1 및 제2 분리판(12, 10) 사이에 위치하며, 상호 접촉하는 제1 및 제2 직렬 접속 단자(71, 70); 상기 제1 및 제2 분리판(12, 10) 사이에 위치하며, 제1 및 제2 분리판(12, 10)과 접촉하는 밀봉재(20); 및 상기 제1 및 제2 분리판(12, 10)이 각각 삽입되어 밀봉재(20)를 압착하는 제1 및 제2 하우징(13, 11) 을 포함하는, 평면밴드 구조 고체 산화물 연료전지.","김형철, 이해원, 송휴섭, 이종호, 정훈기, 정화영","H01M-008/10,H01M-008/02","KR20100035300A","2010.04.05",null,"2028.09.26","1 가스 채널 및 임베딩 구역을 가지는 제1 분리판(12); 상기 제1 분리판(12)의 임베딩 구역에 삽입되는 복수의 제1 전극(33); 상기 복수의 제1 전극(33) 위에 위치하며, 상기 제1 분리판(12)의 임베딩 구역에 삽입되는 복수의 전해질(32); 상기 복수의 전해질(32) 위에 위치하는 복수의 제2 전극(31); 상기 복수의 제2 전극(31)을 덮는 제2 분리판(10); 상기 제1 및 제2 분리판(12, 10) 사이에 위치하며, 상호 접촉하는 제1 및 제2 직렬 접속 단자(71, 70); 상기 제1 및 제2 분리판(12, 10) 사이에 위치하며, 제1 및 제2 분리판(12, 10)과 접촉하는 밀봉재(20); 및 상기 제1 및 제2 분리판(12, 10)이 각각 삽입되어 밀봉재(20)를 압착하는 제1 및 제2 하우징(13, 11) 을 포함하는, 평면밴드 구조 고체 산화물 연료전지. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3 제 1 항에 있어서, 상기 제1 분리판(12)의 임베딩 구역이 격자로 형성되어, 상기 복수의 제1 전극(33)이 격자로 배열되는 것을 특징으로 하는 평면밴드 구조 고체 산화물 연료전지. 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5 제 1 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 직렬 접속 단자(71, 70)가 백금(Pt), 금(Au), 은(Ag)으로 이루어진 군으로부터 하나 이상 선택되는 금속, 세라믹 소재 또는 이들의 혼합물로 코팅된 코팅부를 가지는 것을 특징으로 하는 평면밴드 구조 고체 산화물 연료전지. 6 제 1 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 직렬 접속 단자(71, 70)가 망(mesh), 다공체(foam), 와이어(wire), 울(wool)로 이루어진 군으로부터 선택되는 형태로 독립 또는 복합 적층하여 형성된 변형부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평면밴드 구조 고체 산화물 연료전지. 7 제 1 항에 있어서, 상기 밀봉재(20)가 상기 복수의 제2 전극(31)과 동일한 크기와 모양을 가지는 복수의 전극 창(21)을 포함하는 것을 특징으로 하는 평면밴드 구조 고체 산화물 연료전지. 8 제 1 항에 있어서, 상기 밀봉재(20)가 유리 기지 상 및 보강재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평면밴드 구조 고체 산화물 연료 전지. 9 제 8 항에 있어서, 상기 유리 기지 상이 B2O3-SiO2, Al2O3-B2O3-SiO2, 및 CaO-B2O3-SiO2로 이루어진 군으로부터 하나 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 평면밴드 구조 고체 산화물 연료 전지. 10 제 8 항에 있어서, 상기 보강재가 밀봉재의 총 중량을 기준으로 5 내지 50중량%인 것을 특징으로 하는 평면밴드 구조 고체 산화물 연료전지. 11<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 12 제 1 항에 있어서, 상기 제1 하우징(13) 및 제2 하우징(11)의 압착으로 상기 밀봉재(20)의 압축 체결압이 0.001 내지 100 kgf/cm2인 것을 특징으로 하는 평면밴드 구조 고체 산화물 연료전지. 13 제 1 항에 있어서, 상기 제1 분리판(12)과 제1 하우징(13) 및 상기 제2 분리판(10)과 제2 하우징(11)이 일체로 형성되는 평면밴드 구조 고체 산화물 연료전지. 14 제 1 항에 있어서, 상기 제1 분리판(12)과 제1 전극(33) 사이에 위치하는 제1 집전체, 및 제2 분리판(10)과 제2 전극(31) 사이에 위치하는 제2 집전체를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평면밴드 구조 고체 산화물 연료전지. 15<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 16 제 14 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 집전체가 니켈, 백금, 금, 은으로 이루어진 군으로부터 하나 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 평면밴드 구조 고체 산화물 연료전지.","KR100964294B1, KR20100035300A",null,1]
["K04418","재료","KR","탄화규소 소결체 제조용 세라믹 조성물, 소결체 및 그제조방법{Ceramic compositions for sintered silicon carbide body, sintered body and its preparing method}",null,"원문이미지","KR20080035753A","2008.04.17","KR0917038B1","2009.09.04","본 발명은 탄화규소 소결체 제조용 세라믹 조성물, 소결체 및 그 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 β-SiC 서브마이크론 분말과 β-SiC 나노 분말을 혼합사용하여 탄화규소의 소결성을 현저하게 향상시킬 수 있고, 질화알루미늄과 특정의 금속산화물을 함유하는 소결조제의 함량은 소량으로 줄일 수 있게 되어, 체적비저항 감소와 고온강도의 증가를 동시에 달성할 수 있는 탄화규소 소결체 제조용 세라믹 조성물에 관한 것이고, 상기 조성물을 포함하여 내열성과 전기전도성이 매우 향상됨으로써 고온 구조, 반도체 제조 장치용 부품, 진공장치용 부품 및 반도체 공정용 히터 등의 소재로 유용하게 사용할 수 있는 탄화규소 소결체 및 그 제조 방법에 관한 것이다.","1 (a) 0.1 μm 이상 1.0 μm 미만 범위의 평균 입경을 갖는 β-SiC 서브마이크론 분말 78 ~ 98.9 중량%; (b) 10 nm 이상 100 nm 미만 범위의 평균 입경을 갖는 β-SiC 나노 분말 1 ~ 20 중량%; 및 (c) 질화알루미늄과, CeO2, Nd2O3, Sm2O3, Eu2O3, Gd2O3, Dy2O3, Ho2O3, Er2O3, Yb2O3, Lu2O3, Sc2O3, Y2O3 및 La2O3 중에서 선택된 1종 이상의 금속산화물을 함유하는 소결조제 0.1 ~ 2 중량%; 를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 탄화규소 소결체 제조용 세라믹 조성물.","박상환, 김영욱, 노명훈","C04B-035/56,C04B-035/565,C04B-035/581",null,null,null,"2028.04.17","1 (a) 0.1 μm 이상 1.0 μm 미만 범위의 평균 입경을 갖는 β-SiC 서브마이크론 분말 78 ~ 98.9 중량%; (b) 10 nm 이상 100 nm 미만 범위의 평균 입경을 갖는 β-SiC 나노 분말 1 ~ 20 중량%; 및 (c) 질화알루미늄과, CeO2, Nd2O3, Sm2O3, Eu2O3, Gd2O3, Dy2O3, Ho2O3, Er2O3, Yb2O3, Lu2O3, Sc2O3, Y2O3 및 La2O3 중에서 선택된 1종 이상의 금속산화물을 함유하는 소결조제 0.1 ~ 2 중량%; 를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 탄화규소 소결체 제조용 세라믹 조성물. 2 제 1 항에 있어서, 상기 소결조제(c)는 전체 세라믹 조성물에 대하여, 질화알루미늄 0.05 ~ 1 중량%와, 금속산화물 0.05 ~ 1 중량%를 함유하는 것을 특징으로 하는 탄화규소 소결체 제조용 세라믹 조성물. 3 (a) 0.1 μm 이상 1.0 μm 미만 범위의 평균 입경을 갖는 β-SiC 서브마이크론 분말 78 ~ 98.9 중량%; (b) 10 nm 이상 100 nm 미만 범위의 평균 입경을 갖는 β-SiC 나노 분말 1 ~ 20 중량%; 및 (c) 질화알루미늄과, CeO2, Nd2O3, Sm2O3, Eu2O3, Gd2O3, Dy2O3, Ho2O3, Er2O3, Yb2O3, Lu2O3, Sc2O3, Y2O3 및 La2O3 중에서 선택된 1종 이상의 금속산화물을 함유하는 소결조제를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 탄화규소 소결체 제조용 세라믹 조성물 100 중량부와, 용매 30 ~ 100 중량부를 혼합하여 원료분말 혼합체를 얻는 단계; 상기 원료분말 혼합체를 아르곤(Ar) 또는 질소(N2) 가스 분위기, 1800 ~ 2500 ℃의 온도 및 18 ~ 40 MPa의 압력 조건에서 가압소결 하는 단계; 를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 탄화규소 소결체의 제조방법. 4 제 3 항에 있어서, 상기 소결조제(c)는 전체 세라믹 조성물에 대하여, 질화알루미늄 0.05 ~ 1 중량%와, 금속산화물 0.05 ~ 1 중량%를 함유하는 것을 특징으로 하는 탄화규소 소결체의 제조방법. 5 청구항 1 또는 청구항 2의 조성물을 포함하는 것으로, 소결밀도가 3.05 ~ 3.50 g/cm3 이고, 체적 비저항이 9 × 10-3 ~ 5.0 × 10-1 Ω·cm 이며, 1400 ℃에서 강도가 600 ~ 1000 MPa인 것을 특징으로 하는 탄화규소 소결체. 6 청구항 3 또는 청구항 4의 방법으로 제조된 것으로, 소결밀도가 3.05 ~ 3.50 g/cm3 이고, 체적 비저항이 9 × 10-3 ~ 5.0 × 10-1 Ω·cm 이며, 1400 ℃에서 강도가 600 ~ 1000 MPa인 것을 특징으로 하는 탄화규소 소결체.","KR100917038B1",null,1]
["K04413","연료전지","KR","벌집형 고체산화물연료전지의 단전지, 이를 이용한 스택 및이들의 제조방법{Unit cell of honeycomb-type solid oxide fuel cell, stack using the unit cell and method for manufacturing the unit cell and stack}",null,"원문이미지","KR20080090965A","2008.09.17","KR0960870B1","2010.05.25","본 발명에서는, 복수의 채널을 구비하는 벌집형 SOFC의 단전지로서, 상기 단전지는 공기극이 형성된 공기극 채널과 연료극이 형성된 연료극 채널이 교대로 형성되는 채널들을 구비하고, 상기 공기극 채널 및 연료극 채널의 각각의 내부에는 집전체가 설치되어 있고, 상기 집전체가 설치된 상기 채널들에는 충전 재료가 충전되는 벌집형 SOFC의 단전지, 이를 이용한 스택 및 이들의 제조방법을 제공한다. 본 발명에 따르면, 고성능의 특히 휴대용 또는 소형 벌집형 SOFC에 있어서, 효과적이고 용이한 전기 집전이 가능할 뿐만 아니라, 적층과 밀봉이 용이하며, 연료를 채널 내부에서 직접 개질 하는 것이 가능하다.","1 복수의 채널을 구비하는 벌집형 SOFC의 단전지로서, 상기 단전지는 공기극이 형성된 공기극 채널과 연료극이 형성된 연료극 채널이 교대로 형성되는 채널들을 구비하고, 상기 공기극 채널 및 연료극 채널의 각각의 내부에는 집전체가 설치되어 있고, 상기 집전체가 설치된 상기 채널들에는 충전 재료가 충전되며, 상기 공기극 채널의 전단부 또는 후단부; 및 상기 연료극 채널의 후단부 또는 전단부;에는 전극이 형성되지 않는 공간이 형성되는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC의 단전지.","윤성필, 임태훈, 홍성안, 오인환, 남석우, 한종희, 정종필, 이광수, 김영천, 김형준, 조은애, 김수길, 이상엽","H01M-008/10,H01M-008/24","KR20100032023A","2010.03.25",null,"2028.09.17","1 복수의 채널을 구비하는 벌집형 SOFC의 단전지로서, 상기 단전지는 공기극이 형성된 공기극 채널과 연료극이 형성된 연료극 채널이 교대로 형성되는 채널들을 구비하고, 상기 공기극 채널 및 연료극 채널의 각각의 내부에는 집전체가 설치되어 있고, 상기 집전체가 설치된 상기 채널들에는 충전 재료가 충전되며, 상기 공기극 채널의 전단부 또는 후단부; 및 상기 연료극 채널의 후단부 또는 전단부;에는 전극이 형성되지 않는 공간이 형성되는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC의 단전지. 2 제 1 항에 있어서, 상기 충전 재료에는 개질 촉매가 코팅되어 있는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC의 단전지. 3 제 1 항에 있어서, 상기 충전 재료는 구형 또는 타원형의 비드, 체인(chain) 또는 휘스커(whisker) 형상을 가지는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC의 단전지. 4 제 1 항에 있어서, 상기 충전 재료는 벌집형 SOFC 단전지의 골격 재료와 열팽창 계수가 유사하거나 같은 알루미나, 지르코니아, YSZ, SDC, 유리로 구성된 그룹으로부터 선택되는 하나 이상인 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC의 단전지. 5 제 1 항에 있어서, 상기 채널들 내부에는 상기 충전 재료에 더하여 기공 형성제가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC의 단전지. 6<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 7 제 1 항에 있어서, 상기 집전체는 금속 망인 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC의 단전지. 8 제 7 항에 있어서, 상기 금속은 Pt, Ag, Au, Ni 또는 Cu이거나 또는 이들 금속의 합금인 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC의 단전지. 9 제 1 항에 있어서, 상기 단전지의 골격 재료는 YSZ(yitria-stabilized zirconia), SDC(samria doped ceria), GDC(gadolinia doped ceria), LSG(lanthanum strontium doped gallate), LSGM(lanthanum strontium doped gallate magnesite)로 구성된 그룹으로부터 선택되는 하나 이상; Ni/YSZ, Ni/SDC, Ni/GDC, Cu/YSZ, CuO/SDC, Cu/GDC로 구성된 그룹으로부터 선택되는 하나 이상의 서멧(cermet); 또는 x가 0.5 이하인 (La1-XSrX)MnO3 /YSZ, x가 0.5 이하인 (La1-XCarX)MnO3/ YSZ, x가 0.6 이하인 (La1-XSrX)CoO3/ SDC, x가 0.4 이하 그리고 y가 0.8 이하인 (La1-XSrX)(Co1-yFey)O3/ SDC로 구성된 그룹으로부터 선택되는 하나 이상의 복합체 산화물인 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC의 단전지. 10 제 1 항에 있어서, 상기 연료극 재료로는 Ni/YSZ, Ni/SDC, Ni/GDC, Cu/YSZ, Cu/SDC, Cu/GDC으로 구성된 그룹으로부터 선택되는 하나 이상의 서멧(cermet)을 사용하는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC의 단전지. 11 제 1 항에 있어서, 상기 공기극 재료로는 Pt; Ag; Au; Rh; Ir; Pd; Ru; x가 0.5 이하인 (La1-XSrX)MnO3; x가 0.5 이하인 (La1-XCarX)MnO3; x가 0.6 이하인 (La1-XSrX)CoO3; x가 0.4 이하 그리고 y가 0.8 이하인 (La1-XSrX)(Co1-yFey)O3;으로 구성된 그룹으로부터 선택되는 하나 이상의 금속 또는 산화물을 사용하는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC의 단전지. 12 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항 또는 제 7 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 의한 단전지로 이루어진 벌집형 SOFC 스택. 13 제 12 항에 있어서, 상기 단전지 간에는 연결재가 개재되는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC 스택. 14 제 13 항에 있어서, 상기 연결재로서 금속 연결재가 사용되거나, 또는 상기 금속 연결재와 함께 유리가 사용되는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC 스택. 15 제 12 항에 있어서, 상기 스택은 복수의 단전지의 공기극 채널 및 연료극 채널이 일치하도록 적층된 스택이고, 상기 스택은 상기 공기극 채널 및 연료극 채널 내부에 들어가는 공기 주입부 및 연료 주입부를 포함하는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC 스택. 16 제 15 항에 있어서, 상기 연료 주입부가 들어가는 부분의 반대측의 스택 단부 및 상기 공기 주입부가 들어가는 부분의 반대측의 스택 단부에서 각각 채널을 막아주는 블록이 형성되는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC 스택. 17 제 16 항에 있어서, 상기 블록 재료로는 벌집형 SOFC 단위 전지의 골격 재료와 열팽창 계수가 유사하거나 같은 알루미나, 지르코니아, YSZ 또는 SDC인 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC 스택. 18 복수의 채널을 구비하는 벌집형 SOFC의 단전지의 제조 방법으로서, 상기 단전지가 공기극이 형성된 공기극 채널과 연료극이 형성된 연료극 채널이 교대로 형성되는 채널들을 구비하도록 하되, 상기 채널들 내부에 집전체를 설치하고, 상기 집전체가 설치된 상기 채널들에는 충전 재료를 충전하며, 상기 채널들 내에 공기극 또는 연료극 형성시 상기 공기극 채널의 전단부 또는 후단부 및 상기 연료극 채널의 후단부 또는 전단부를 매스킹 함으로써 매스킹 부위에 전극이 형성되지 않도록 하는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC의 단전지의 제조 방법. 19<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 20 복수의 채널을 구비하는 벌집형 SOFC 스택의 제조 방법으로서, 상기 스택의 단전지가 공기극이 형성된 공기극 채널과 연료극이 형성된 연료극 채널이 교대로 형성되는 채널들을 구비하도록 하되, 상기 채널들 내부에 집전체를 설치하고, 상기 집전체가 설치된 상기 채널들에는 충전 재료를 충전하도록 하며, 상기 채널들 내에 공기극 또는 연료극 형성시 상기 공기극 채널의 전단부 또는 후단부 및 상기 연료극 채널의 후단부 또는 전단부를 매스킹 함으로써 매스킹 부위에 전극이 형성되지 않도록 하는 제 1 단계; 및 상기 단전지를 복수개 적층하여 스택화하는 제 2 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC 스택의 제조 방법. 21<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 22 제 20 항에 있어서, 상기 단전지 들 사이에 연결재를 개재하여 스택화하는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC 스택의 제조 방법. 23 제 22 항에 있어서, 상기 연결재로서 금속 연결재를 사용하거나, 또는 상기 금속 연결재와 함께 유리를 사용하는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC 스택의 제조 방법. 24 제 20 항에 있어서, 상기 공기극 및 연료극 채널에 각각 공기극 및 연료극 주입부를 삽입한 후, 상기 주입부가 삽입된 채널에 충전 재료를 넣는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC 스택의 제조 방법. 25 제 24 항에 있어서, 상기 적층된 스택에서, 공기극 및 연료극 주입부의 반대측 스택 부분을 막음하는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC 스택의 제조 방법.","KR100960870B1, KR20100032023A, US2010203415A1",null,1]
["K04398","광학","KR","공진형 광도파로를 이용한 광소자 및 그 작동 방법{OPTICAL DEVICE USING RESONANT WAVEGUIDE AND METHOD FOR OPERATING THE SAME}",null,"원문이미지","KR20080028816A","2008.03.28","KR0956750B1","2010.04.30","신호빔이 전파되는 광 전달부; 및 상기 광 전달부에 광학적으로 연결되어 상기 광 전달부로부터 도파모드 각도로 전파된 상기 신호빔이 입사되며, 상기 신호빔이 입사된 지점과 동일한 지점에 펌프빔이 입사되는 광도파로를 포함하되, 상기 신호빔의 파장과 상기 펌프빔의 파장은 서로 상이하며, 상기 펌프빔에 의하여 상기 광도파로의 도파모드 각도가 결정되는 광소자가 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 광소자 및 그 작동 방법을 사용하면, 비선형 광학재료의 굴절율 변화 자체에 의존하는 광 스위칭 동작 방식을 적용하므로 공진형 나노복합체의 우수한 비선형 광학특성은 최대로 이용하면서 이에 수반되는 흡수 손실을 감소시켜 소자응답특성을 향상시킬 수 있는 이점이 있다.","1 신호빔이 전파되는 광 전달부; 및 상기 광 전달부에 광학적으로 연결되어 상기 광 전달부로부터 도파모드 각도로 전파된 상기 신호빔이 입사되며, 상기 신호빔이 입사된 지점과 동일한 지점에 펌프빔이 입사되는 광도파로를 포함하되, 상기 신호빔의 파장과 상기 펌프빔의 파장은 서로 상이하며, 상기 펌프빔에 의하여 상기 광도파로의 도파모드 각도가 결정되는 것을 특징으로 하는 광소자.","이경석, 김원목, 이택성, 조성훈, 정병기","G02B-006/00,G02F-001/065","KR20090103299A","2009.10.01",null,"2028.03.28","1 신호빔이 전파되는 광 전달부; 및 상기 광 전달부에 광학적으로 연결되어 상기 광 전달부로부터 도파모드 각도로 전파된 상기 신호빔이 입사되며, 상기 신호빔이 입사된 지점과 동일한 지점에 펌프빔이 입사되는 광도파로를 포함하되, 상기 신호빔의 파장과 상기 펌프빔의 파장은 서로 상이하며, 상기 펌프빔에 의하여 상기 광도파로의 도파모드 각도가 결정되는 것을 특징으로 하는 광소자. 2 제 1항에 있어서, 상기 광 전달부는, 상기 신호빔이 입사되어 전파되는 프리즘; 및 상기 프리즘에 광학적으로 연결되어, 도파모드 각도로 전파된 상기 신호빔을 상기 광도파로에 커플링하는 커플링층을 포함하는 것을 특징으로 하는 광소자. 3 제 2항에 있어서, 상기 프리즘 및 상기 커플링층 사이에 위치하며 광학적으로 투명한 기판; 및 상기 기판 및 상기 프리즘 사이에 위치하며 상기 기판과 상기 프리즘을 접합하는 인덱스 매칭 오일층을 포함하는 것을 특징으로 하는 광소자. 4 제 2항에 있어서, 상기 신호빔 및 상기 펌프빔을 포함하는 평면 방향을 따른 상기 프리즘의 단면은 반구 형상인 것을 특징으로 하는 광소자. 5 신호빔 및 펌프빔이 전파되는 광 전달부; 및 상기 광 전달부에 광학적으로 연결되며, 상기 펌프빔 및 상기 광 전달부로부터 도파모드 각도로 전파된 상기 신호빔이 동일한 위치에 입사되는 광도파로를 포함하되, 상기 신호빔의 파장 및 상기 펌프빔의 파장은 서로 상이하며, 상기 펌프빔에 의하여 상기 광도파로의 도파모드 각도가 결정되는 것을 특징으로 하는 광소자. 6 제 5항에 있어서, 상기 광 전달부는, 상기 펌프빔이 입사되는 제1 면 및 상기 제1 면과 평행하며 상기 제1 면과 이격하여 위치하는 제2 면을 포함하는 프리즘; 및 상기 프리즘의 상기 제2 면에 광학적으로 연결되며, 상기 펌프빔 및 상기 프리즘으로부터 도파모드 각도로 전파된 상기 신호빔을 상기 광도파로에 커플링하는 커플링층을 포함하는 것을 특징으로 하는 광소자. 7 제 6항에 있어서, 상기 광 전달부는, 상기 프리즘의 상기 제1 면에 광학적으로 연결된 접합층; 및 상기 접합층에 광학적으로 연결되어, 상기 펌프빔을 상기 프리즘에 입사하는 광원부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광소자. 8 제 7항에 있어서, 상기 광원부는, 어레이(array) 형태로 배열된 복수 개의 광원을 포함하는 것을 특징으로 하는 광소자. 9 제 1항 또는 제 5항에 있어서, 상기 광 전달부는, 상기 광도파로에 광학적으로 연결된 표면 격자를 포함하는 것을 특징으로 하는 광소자. 10 제 1항 또는 제 5항에 있어서, 상기 광 전달부는 상기 광도파로의 한쪽 면에 연결되며, 상기 광도파로의 다른쪽 면에 광학적으로 연결되어, 상기 광도파로에 입사된 상기 신호빔을 출사시키는 표면 격자를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광소자. 11 제 1항 또는 제 5항에 있어서, 상기 광도파로는, 금속 나노입자 또는 반도체 나노입자가 광학적으로 투명한 기지상 재료내에 분산되어 형성된 나노복합체를 포함하는 것을 특징으로 하는 광소자. 12 제 11항에 있어서, 상기 금속 나노입자는, Au, Ag, Cu, Al, In, Sn, Pb, Sb, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Zr, Nb, Mo, Ru, Rh, Pd, Ta, W, Pt 및 상기 물질의 합금으로 이루어진 군 중에서 선택된 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 광소자. 13 제 11항에 있어서, 상기 반도체 나노입자는, Si, Ge, CdS, CdSe, CdTe, CuBr, AgBr, CuCl, InP, GaP, GaAs, InAs 및 상기 물질들 사이의 고용체 및 화합물로 이루어진 군 중에서 선택된 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 광소자. 14 제 11항에 있어서, 상기 투명 기지상 재료는, SiO2, TiO2, ZrO2, HfO2, Al2O3, CdO, ZnO, In2O3, SnO2, Ga2O3, Y2O3, BeO, MgO, WO3, V2O3, BaTiO3 및 PbTiO3 를 포함하는 산화물; Si3N4및 Al3N4 를 포함하는 질화물; InP 및 GaP 를 포함하는 인화물; ZnS 및 As2S3 를 포함하는 황화물; MgF2, CaF2, NaF, BaF2, PbF2, LiF 및 LaF 를 포함하는 불화물; ZnSe 를 포함하는 셀레나이드; 상기 산화물, 질화물, 인화물, 황화물, 불화물 및 셀레나이드 중 하나 이상의 혼합물을 포함하는 무기재료; 폴리카보네이트(Polycarbonate) 및 폴리메틸 메타크릴레이트(Polymethyl methacrylate;PMMA)를 포함하는 유기재료; 상기 유기재료의 혼합물; 및 상기 유기재료의 복합물로 이루어진 군 중에서 선택된 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 광소자. 15 제 2항 또는 제 6항에 있어서, 상기 커플링층의 복소 굴절율의 실수항이 상기 프리즘의 굴절율 및 상기 광도파로의 굴절율보다 작은 것을 특징으로 하는 광소자. 16 제 2항 또는 제 6항에 있어서, 상기 커플링층은 MgF2 를 포함하는 것을 특징으로 하는 광소자. 17 제 2항 또는 제 6항에 있어서, 상기 커플링층은 Au, Ag 및 Cu 를 포함하는 금속 및 상기 금속을 포함하는 합금을 포함하는 것을 특징으로 하는 광소자. 18 제 1항 또는 제 5항에 따른 광소자의 작동 방법에 있어서, 상기 광도파로에 도파모드 각도로 입사되기 위한 상기 신호빔을 상기 광 전달부에 입사시키는 단계; 및 상기 광도파로에 상기 신호빔이 입사된 지점과 동일한 지점에 상기 광도파로의 도파모드 각도를 결정하는 상기 펌프빔을 입사시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광소자의 작동 방법.","KR100956750B1, KR20090103299A",null,1]
["K04399","태양전지","KR","탄소나노튜브 전극을 이용한 염료감응 태양전지 및 그 제조방법{DYE-SENSITIZED SOLAR CELL USING CARBON NANOTUBE BASED FILMS AND THE FABRICATION METHOD THEREOF}",null,"원문이미지","KR20080033349A","2008.04.10","KR0967090B1","2010.06.23","본 발명은 탄소나노튜브 전극을 이용하여 전류밀도를 향상시킨 염료감응 태양전지 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 탄소나노튜브를 전도성 투명 전극으로 활용함과 동시에, 탄소나노튜브 표면에 반도체 산화물을 코팅시킴으로써 광 전극으로도 활용한 태양전지 및 그 제조 방법을 제공한다.본 발명에 의하면, 전도성 투명 전극과 광 전극이 일체형으로 이루어져 있어 전기 전도성이 우수하다. 또한, 반도체 산화물이 코팅된 탄소나노튜브 전극의 다공성 구조는, 반응 면적을 증대시키고, 점도가 높은 준 고체 또는 고체 전해질의 높은 이동 경로를 제공함으로써, 염료감응 태양전지의 전류밀도 및 장기 안정성을 동시에 향상시킬 수 있다.","1 투명 기판의 내측 면상에, 탄소나노튜브를 포함하여 이루어진 전도성 투명 전극이 형성된 투명 전도성 기판과; 상기 전도성 투명 전극 상에 형성된 탄소나노튜브를 포함하여 이루어진 다공층과, 이 다공층의 탄소나노튜브에 코팅된 제1 반도체 산화물과, 이 제1 반도체 산화물에 흡착된 염료 분자를 포함하여 이루어진 광 전극과; 상기 투명 전도성 기판과 대향하는 대전극 기판과; 상기 두 기판 사이에 충전된 전해질을 포함하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지.","양수철, 박혜진, 김준경, 이현정","H01L-031/042","KR20090107851A","2009.10.14",null,"2028.04.10","1 투명 기판의 내측 면상에, 탄소나노튜브를 포함하여 이루어진 전도성 투명 전극이 형성된 투명 전도성 기판과; 상기 전도성 투명 전극 상에 형성된 탄소나노튜브를 포함하여 이루어진 다공층과, 이 다공층의 탄소나노튜브에 코팅된 제1 반도체 산화물과, 이 제1 반도체 산화물에 흡착된 염료 분자를 포함하여 이루어진 광 전극과; 상기 투명 전도성 기판과 대향하는 대전극 기판과; 상기 두 기판 사이에 충전된 전해질을 포함하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지. 2 제1항에 있어서, 상기 다공층은 상기 전도성 투명 전극보다 기공도가 크고, 상기 전도성 투명 전극과 상기 다공층은 일체형으로 연결된 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지. 3 제1항에 있어서, 상기 투명 기판과 상기 전도성 투명 전극 사이에 제2 반도체 산화물을 포함하여 이루어진 차단층 (blocking layer)이 형성된 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지. 4 제3항에 있어서, 상기 제1 반도체 산화물과 상기 제2 반도체 산화물은 동종 물질인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지. 5 제1항에 있어서, 상기 다공층의 평균 두께는 1∼20 ㎛인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지. 6 제1항에 있어서, 상기 광 전극의 기공도는 20∼50 %인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지. 7 제1항에 있어서, 상기 탄소나노튜브는 단일 벽 (single wall), 이중 벽 (double wall), 얇은 다중 벽 (thin multiwall), 또는 다중 벽 (multi wall)을 갖는 탄소나노튜브인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지. 8 제1항에 있어서, 상기 제1 반도체 산화물은 Ti산화물, Zr산화물, Sr산화물, Zn산화물, In산화물, Yr산화물, La산화물, V산화물, Mo산화물, W산화물, Sn산화물, Nb산화물, Mg산화물, Al산화물, Y산화물, Sc산화물, Sm산화물, Ga산화물, In산화물 및 SrTi산화물로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 둘 이상의 복합물인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지. 9 제1항에 있어서, 상기 전해질은 액체, 준 고체 또는 고체인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지. 10 제1항에 있어서, 상기 투명 기판은 유리 기판 또는 유연성 (flexible) 고분자 기판인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지. 11 투명 기판 위에, 탄소나노튜브를 포함하여 이루어진 전도성 투명 전극을 형성하여 투명 전도성 기판을 제조하는 단계와; 상기 전도성 투명 전극 위에, 탄소나노튜브를 포함하여 이루어진 다공층을 형성하고, 이 다공층의 탄소나노튜브에 제1 반도체 산화물을 코팅한 다음, 이 제1 반도체 산화물에 염료 분자를 흡착시켜 광 전극을 형성하는 단계와; 상기 투명 전도성 기판과 대향하도록 대전극 기판을 위치시키고, 상기 두 기판 사이에 전해질을 충전하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지의 제조 방법. 12 제11항에 있어서, 상기 전도성 투명 전극 및 상기 다공층은 각각 스프레이 코팅 (spray coating), 스핀 코팅 (spin coating), 담금 코팅 (dip-coating), 전기영동 침전 (electrophoretic deposition), 진공 여과 (vacuum filtration), 에어브뤄싱 (airbrushing) 및 닥터 블레이드 (doctor blade)법 중의 어느 한 방법에 의해 형성하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지의 제조 방법. 13 제11항에 있어서, 상기 제1 반도체 산화물은 화학 기상 증착, 전기 화학 증착, 스핀 코팅, 스퍼터링 및 딥핑법 중의 어느 한 방법에 의해 형성하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지의 제조 방법. 14 제11항에 있어서, 상기 전도성 투명 전극의 형성 전에, 상기 투명 기판 위에 제2 반도체 산화물을 포함하여 이루어진 차단층을 형성하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지의 제조 방법. 15 제11항에 있어서, 상기 전도성 투명 전극 및 상기 다공층은 동일 공정을 통해 기공도만 달리하여 형성하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지의 제조 방법.","KR100967090B1, KR20090107851A",null,1]
["K04384","유전공학","KR","말라카이트그린 노출 여부 확인용 바이오마커 및 이를이용한 확인 방법{Biomarker for identification of exposure to malachite green and the method of identification using thereof}",null,"원문이미지","KR20080022450A","2008.03.11","KR0962209B1","2010.06.01","본 발명은 말라카이트그린(malachite green)에 노출 여부 확인용 바이오마커 및 이를 이용한 확인 방법에 관한 것으로, 구체적으로 말라카이트그린에 의해 특이적으로 유전자 발현이 증가 또는 감소하는 바이오마커 및 이를 이용한 말라카이트그린에 대한 노출 여부를 확인하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 바이오마커는 진피싱을 통하여 선별된 반응 유전자들을 바이오마커로 이용하여 환경 시료에서 말라카이트그린의 오염을 모니터링 및 판정하는데 유용하게 사용될 수 있으며, 말라카이트그린에 의해 유발되는 독성 작용 기작을 규명하는 도구로 이용될 수 있다.","1 유전자등록번호(GeneBank) AB000584(Growth differentiation factor 15) 유전자의 핵산서열의 전부 또는 그의 상보가닥 분자가 집적된 말라카이트그린(malachite green)에 대한 노출 여부 확인용 DNA 마이크로어레이 칩.","류재천, 김연정, 송미","C12N-015/10,C12N-015/09,C12Q-001/68","KR20090097364A","2009.09.16",null,"2028.03.11","1 유전자등록번호(GeneBank) AB000584(Growth differentiation factor 15) 유전자의 핵산서열의 전부 또는 그의 상보가닥 분자가 집적된 말라카이트그린(malachite green)에 대한 노출 여부 확인용 DNA 마이크로어레이 칩. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5 말라카이트그린에 대한 노출이 의심되는 개체(실험군) 및 대조군으로부터 분리된 RNA 시료로부터 1) cDNA로 합성하면서 실험군과 대조군을 각기 다른 형광물질로 표지하는 단계; 2) 단계 1)의 각기 다른 형광물질로 표지된 cDNA를 제 1항의 DNA 마이크로어레이칩과 혼성화시키는 단계; 3) 단계 2)의 반응한 DNA 마이크로어레이칩을 분석하는 단계; 및, 4) 단계 3)의 분석한 데이터에서 제 1항의 DNA 마이크로어레이 칩에 집적된 유전자의 발현 정도를 대조군과 비교하여 말라카이트그린에 대한 노출 여부를 측정하는 단계를 포함하는 말라카이트그린에 대한 노출 여부를 확인을 위한 유전자 검출 방법. 6<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 7<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 8 제 5항에 있어서, 단계 2)의 형광물질은 Cy3, Cy5, FITC(poly L-lysine-fluorescein isothiocyanate), RITC(rhodamine-B-isothiocyanate) 및 로다민(rhodamine)으로 이루어진 군으로부터 선택하여 사용하는 것을 특징으로 하는 유전자 검출 방법. 9 말라카이트그린에 대한 노출이 의심되는 개체(실험군) 및 대조군으로부터 분리된 RNA 시료로부터 1) 상기 RNA를, 제 1항의 DNA 마이크로어레이 칩에 집적된 유전자에 상보적이고, 상기 유전자를 증폭할 수 있는, 18 내지 30머 길이의 프라이머 쌍을 사용하여 실시간 RT-PCR(Real-time reverse transcription polymerase chain reaction)을 수행하는 단계; 및, 2) 단계 1)의 유전자 산물을 대조군과 비교하여 말라카이트그린에 대한 노출 여부를 측정하는 단계를 포함하는 말라카이트그린에 대한 노출 여부를 확인을 위한 유전자 검출 방법. 10 제 5항 또는 제 9항에 있어서, RNA 시료는 인간의 간 또는 간암의 세포 및 조직에서 유래한 세포인 것을 특징으로 하는 유전자 검출 방법. 11 제 10항에 있어서, 상기 인간 간암 세포는 HepG2인 것을 특징으로 하는 유전자 검출 방법. 12 제 1항의 DNA 마이크로어레이 칩 또는 상기 DNA 마이크로어레이 칩에 집적된 유전자에 상보적이고, 상기 유전자를 증폭할 수 있는, 18 내지 30머 길이의 프라이머 쌍을 포함하는 것을 특징으로 하는 말라카이트그린에 대한 노출 여부 확인용 키트. 13 제 12항에 있어서, 대조군으로 정상 인간 간 세포 또는 간암 세포를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 키트. 14<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 15 제 12항에 있어서, 상기 프라이머 쌍은 서열번호 12로 기재되는 정방향 프라이머 및 서열번호 13으로 기재되는 역방향 프라이머로 구성된 것을 특징으로 하는 말라카이트그린에 대한 노출 여부 확인용 키트.","KR100962209B1, KR20090097364A",null,1]
["K04382","건강식품",{"$error":"#N/A"},"초고압 처리를 통해 브로콜리의 설포라판 함량을 증폭하는방법{Post-harvest Amplification of Sulforaphane in Broccoli using High Hydrostatic Pressure}",null,"원문이미지","KR20080025000A","2008.03.18","KR0946727B1","2010.03.03","초고압 처리를 통해 브로콜리 내의 설포라판 함량을 증폭시키는 방법이 개시된다. 상기 초고압 처리를 이용한 증폭 방법은, 브로콜리로부터 설포라판의 효과적인 증폭이 가능하고 비열처리 방식을 통해 제품 생산 분야에서 에너지 절감이 가능하다.","1 초고압 처리를 통해 브로콜리 내의 설포라판 함량을 증폭시키는 것을 특징으로 하는 설포라판 함량 증폭 방법.","구송이, 이동언, 차광현, 김철영","A23B-007/01,A23B-007/00","KR20090099805A","2009.09.23",null,"2028.03.18","1 초고압 처리를 통해 브로콜리 내의 설포라판 함량을 증폭시키는 것을 특징으로 하는 설포라판 함량 증폭 방법. 2 제 1항에 있어서, 상기 초고압 처리는 200내지 600 Mpa의 압력에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 설포라판 함량 증폭 방법. 3 제 2 항에 있어서, 상기 초고압 처리는 450내지 550 Mpa의 압력에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 설포라판 함량 증폭 방법. 4 제 2항에 있어서, 상기 초고압 처리는 5 내지 30 분 동안 이루어지는 것을 특징으로 하는 설포라판 함량 증폭 방법. 5 제 1 항에 있어서, 상기 설포라판은 브로콜리 내의 글루코시놀레이트가 효소 작용을 통해 형성되는 것을 특징으로 하는 설포라판 함량 증폭 방법. 6 제 5 항에 있어서, 상기 효소는 미로시나제인 것을 특징으로 하는 설포라판 함량 증폭 방법. 7 제 1항에 있어서, 상기 초고압 처리 이후에, 상온에서 30 분 내지 2 시간 동안 방치하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 설포라판 함량 증폭 방법.","KR100946727B1, KR20090099805A",null,1]
["K04380","디스플레이","KR","어드레스 부여 방법 및 이미지를 메모리에 읽고 쓰는 방법{METHOD FOR ALLOCATING ADDRESS AND METHOD FOR WRITING/READING IMAGE TO/FROM MEMORY}",null,"원문이미지","KR20080019331A","2008.02.29","KR0924710B1","2009.10.27","본 발명은 이미지의 픽셀들을 라인(Line) 별로 판독하는 단계와; 상기 판독된 이미지의 각 라인의 픽셀들을 입력받는 단계와; 상기 이미지의 픽셀들을 컬럼(column) 단위로 순차 어드레스들을 부여하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 이미지에 대한 어드레스 부여 방법을 제공한다.","2 이미지의 각 라인의 픽셀들을 입력받는 단계와; 상기 이미지의 픽셀들을 컬럼(column) 단위로 순차 어드레스를 부여하는 단계와; 상기 어드레스에 따라 상기 입력받은 픽셀들을 세로 방향으로 저장하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 이미지를 메모리에 쓰기하는 방법.","정문호, 우성훈, 유범재, 정제교","H04N-013/00","KR20090093668A","2009.09.02",null,"2028.02.29","1<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 2 이미지의 각 라인의 픽셀들을 입력받는 단계와; 상기 이미지의 픽셀들을 컬럼(column) 단위로 순차 어드레스를 부여하는 단계와; 상기 어드레스에 따라 상기 입력받은 픽셀들을 세로 방향으로 저장하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 이미지를 메모리에 쓰기하는 방법. 3 제 2항에 있어서, 상기 순차 부여된 어드레스 중 임의의 어드레스를 통해 상기 저장된 픽셀을 읽음과 동시에, 상기 픽셀과 라인 방향으로 이웃한 픽셀을 저장하는 것을 특징으로 하는 이미지를 메모리에 쓰기하는 방법. 4 이미지의 픽셀들에 대해 컬럼(column) 단위로 순차 어드레스들을 부여하는 단계와; 상기 이미지의 제 1 라인의 픽셀들을 상기 순차적인 어드레스들에 따라 저장하는 단계와; 상기 어드레스들 중 제 1 어드레스를 이용하여, 상기 제 1 라인의 첫 번째 픽셀을 읽으면서, 상기 제 2 라인의 첫 번째 픽셀을 저장하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 메모리 읽기 쓰기 방법. 5 이미지의 픽셀들에 대해 컬럼(column) 단위로 순차 어드레스들을 부여한 후, 상기 이미지의 제 1 라인의 픽셀들을 상기 순차적인 어드레스들에 따라 메모리에 쓰기 동작을 수행하고, 상기 어드레스들 중 제 1 어드레스를 이용하여 상기 제 1 라인의 첫 번째 픽셀을 읽기 동작을 수행하면서, 상기 제 2 라인의 첫 번째 픽셀을 쓰기 동작을 수행하는 메모리 제어기. 6 이미지의 픽셀들에 대해 컬럼(column) 단위로 순차 어드레스들을 부여한 후, 상기 이미지의 제 1 라인의 픽셀들을 상기 순차적인 어드레스들에 따라 메모리에 쓰기 동작을 수행하고, 상기 어드레스들 중 제 1 어드레스를 이용하여 상기 제 1 라인의 첫 번째 픽셀을 읽기 동작을 수행하면서, 상기 제 2 라인의 첫 번째 픽셀을 쓰기 동작을 수행하는 메모리 제어기를 포함하는 메모리.","KR100924710B1, KR20090093668A",null,1]
["K04381","유전공학","KR","메탄 생성 미생물 활성 억제제 및 가스 퍼징을 이용한유기성 폐기물로부터의 바이오 수소 가스 생산 장치 및방법{Method and apparatus for Bio-hydrogen gas production from organic waste by using inhibitor for methane producing microorganisms and gas purging}",null,"원문이미지","KR20080025209A","2008.03.19","KR0960596B1","2010.05.24","본 발명은 혐기성 발효 미생물을 이용하여 유기성 폐기물 내 존재하는 유기물로부터 수소를 생산하는 장치 및 방법을 개시한다. 구체적으로는, 메탄 생성 미생물의 활성 억제제를 주입하여 메탄 생성 미생물에 의한 수소의 소모를 최소화하고, 간헐적인 가스 퍼징에 의해 수소 분압을 낮추어, 수소 생성 미생물의 활성을 증대시켜 높은 수율로 수소를 생산하는 장치 및 방법을 개시한다. 본 발명의 일실시예에 따른 바이오 수소 가스 생산 방법을 이용하면, 기존의 유기성 폐기물로부터 바이오 수소 가스를 생산하는 방법에 비하여 경제적이고 안정적이면서도 고효율로 수소를 생산할 수 있고, 특히 연속적인 가스 퍼징 과정이 없이 간헐적인 가스 퍼징을 통해서도 고효율의 안정적인 바이오 수소 가스 생산이 가능하다. 또한 이러한 바이오 수소 가스 생산 방법을 단위 공정으로 조합하여 시스템화하여 상용화하는 것이 용이하다.","1 유기성 폐기물을 발효시키는 혐기성 수소 생성 미생물 및 수소 이용 메탄 생성 미생물(hydrogen-utilizing methanogens)이 존재하는 바이오 수소 가스 생산 반응조(1); 상기 반응조(1)에 공급되는 유기성 폐기물의 저장조(2); 상기 수소 이용 메탄 생성 미생물에 의한 수소 소모를 방지하기 위해 주입되는 메탄 생성 미생물 활성 억제제의 저장조(3); 상기 반응조(1) 내의 수소 분압을 낮추기 위해 공급되는 불활성 기체가 저장된 가스 탱크(11); 및 상기 반응조(1) 상부와 연결된 수소 가스 분리장치(8)를 포함하는 바이오 수소 생산 장치.","이영행, 이상협, 상병인","C12P-003/00,C02F-003/28,C01B-003/00","KR20090099915A","2009.09.23",null,"2028.03.19","1 유기성 폐기물을 발효시키는 혐기성 수소 생성 미생물 및 수소 이용 메탄 생성 미생물(hydrogen-utilizing methanogens)이 존재하는 바이오 수소 가스 생산 반응조(1); 상기 반응조(1)에 공급되는 유기성 폐기물의 저장조(2); 상기 수소 이용 메탄 생성 미생물에 의한 수소 소모를 방지하기 위해 주입되는 메탄 생성 미생물 활성 억제제의 저장조(3); 상기 반응조(1) 내의 수소 분압을 낮추기 위해 공급되는 불활성 기체가 저장된 가스 탱크(11); 및 상기 반응조(1) 상부와 연결된 수소 가스 분리장치(8)를 포함하는 바이오 수소 생산 장치. 2 제1항에 있어서, 상기 장치는, 상기 수소 가스 분리 장치와 상기 바이오 수소 가스 생산 반응조 하부를 연결하는 가스 반송 라인(10)을 더 포함하는 바이오 수소 생산 장치. 3 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 장치는, 상기 가스 탱크(11) 또는 상기 가스 반송 라인(10)이 상기 바이오 수소 가스 생산 반응조 하부와 연결된 부분에 가스 확산 장치(14)를 더 포함하는 바이오 수소 생산 장치. 4 제3항에 있어서, 상기 가스 확산 장치는 다공성 산기석, 멤브레인, 튜빙 또는 산기관인 바이오 수소 생산 장치. 5 제1항에 있어서, 상기 수소 가스 분리 장치는 수소 가스를 분리할 수 있는 가스 분리막을 포함하는 바이오 수소 생산 장치. 6 유기성 폐기물로부터 바이오 수소 가스를 생산하는 방법으로서, 반응조에 유기성 폐기물을 주입하는 단계; 상기 유기성 폐기물을 혐기성 수소 생성 미생물을 통해 발효시키는 단계; 상기 반응조 중 혐기성 수소 생성 미생물과 함께 포함된 수소 이용 메탄 생성 미생물(hydrogen-utilizing methanogens)에 의해 수소가 소모되는 것을 방지하기 위해반응조에 메탄 생성 미생물 활성 억제제를 주입하는 단계; 반응조 내 수소 분압을 낮추기 위하여, 상기 반응조에 불활성 기체를 주입하는 단계; 및 생성된 가스 중 수소 가스를 분리 회수하는 단계를 포함하는 바이오 수소 가스 생산 방법. 7 제6항에 있어서, 상기 유기성 폐기물은 하· 폐수 처리장 발생 슬러지, 소화조 상등액 및 탈리액, 축산 폐수 및 폐기물, 농림업 폐수 및 폐기물, 또는 수산업 폐수 및 폐기물인 바이오 수소 가스 생산 방법. 8 제6항에 있어서, 상기 메탄 생성 미생물 활성 억제제는 2-브로모에탄설폰산(2-bromoethanesulfonic acid, BESA), 몰리브데이트(molybdate), 아자이드(azide), 아미노벤조산(aminobenzoic acid) 또는 안트라퀴논(anthraquinone)인 바이오 수소 가스 생산 방법. 9 제8항에 있어서, 상기 BESA를 주입할 경우 0.2 ~ 30 g/L 농도로 주입하는 바이오 수소 가스 생산 방법. 10 제6항에 있어서, 상기 수소 분압을 낮추기 위하여 주입하는 가스는 산소가 부피기준으로 0 ~ 5% 포함된 불활성 기체인 바이오 수소 가스 생산 방법. 11 제10항에 있어서, 상기 불활성 기체는 헬륨, 질소, 아르곤, 이산화탄소 또는 메탄인 바이오 수소 가스 생산 방법. 12 제6항에 있어서, 상기 수소 분압을 낮추기 위하여 주입하는 가스는 100 ~ 10,000 mL/분의 유량으로 주입되는 바이오 수소 가스 생산 방법. 13 제6항에 있어서, 상기 반응조에서 생성된 가스 중 수소 가스가 분리되고 남은 가스는, 반응조 내 수소 분압을 낮추기 위하여 반응조에 반송 주입되는 단계를 더 포함하는 바이오 수소 가스 생산 방법.","KR100960596B1, KR20090099915A",null,1]
["F02840","화학","JP","T 형 칼슘 채널에 활성을 가지는 신규 이소인돌리논 유도체 및 그 제조 방법",null,"원문이미지","JP2008267348A","2008.10.16","JP4950157B9","2012.03.16","(57)【요약】 【과제】본 발명은, 신규 이소인돌리논 유도체 또는 그 약제학적에 허용 가능한 소금 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 과제로 한다.【해결 수단】본 발명은, T 형 칼슘 채널 대항제로서 유효한 아래와 같은 화학식 1으로 표 되는 이소인돌리논 유도체 또는 그 약제학적에 허용 가능한 소금을 제공하고, 이기는 벤질 치환체를 가지는 이소인도리논카보키실산 유도체라고 다양한 치환기를 가지는 피페리지닐푸로필아민 유도체를 아미도화 반응하게 하는 공정을 포함한다, 전기록 이소인돌리논 유도체의 제조 방법, 및 그것들 화합물을 유효 성분으로서 포함하는 약제 조성물을 제공한다.【화 1】식중, R1∼R6은, 본 명세서로 정의한 것이라고 같이이다 .【선택도】낳고","【청구항 1】 아래와 같은 화학식 1으로 표 되는 이소인돌리논 유도체 또는 약제적에 허용 가능한 그 소금: 식중, R1∼R5은 각각 독립하고, 수소 원자, 할로겐 원자, C1∼C6 알콕시기, C1∼C6 알킬기, C1∼C6 은 로 알킬기, 니트로기, 시아노기, 및 히드록시기를 나타내고, R6은 수소 원자, C1∼C6 알킬기, 또는 아릴기 이다.","チョ  ヨン  ソ, ペ  エ  ニム, チョ  ヒュンア, リ  ジェ  キュン, オ  ユ  ナ, シン  ヒ  スップ, キム  ドン  ジン, ハン  ホ  キュ, チェ  キュン  イル, ナム  ギルソ, シン  ケ  ジュン, カン  スン  バン, ロ  ユン  ジュ, シン  ドン  ユン, ソ  ソン  ヒ, リム  へウォン, クム  ギョ  チャン, キム  キ-スン, チェオン  チャン  ソン, キム  ユニス  ユン-キョン, リ  チョルジュ, キム  ユンソ, チェ  キ  ヒュン, ナム  キ  ダル, パク  ウン  ソ, カン  ヨン  ク, チュン  ヘ  ジン","C07D-209/46,A61K-031/454,C07D-401/12,A61P-009/12,A61P-025/04,A61P-025/08,A61P-035/00,A61P-043/00","JP2010013434A","2010.01.21","2008-07-07 (KR 10-2008-0065522)","2028.10.16","【특허청구의 범위】 【청구항 1】 아래와 같은 화학식 1으로 표 되는 이소인돌리논 유도체 또는 약제적에 허용 가능한 그 소금: 식중, R1∼R5은 각각 독립하고, 수소 원자, 할로겐 원자, C1∼C6 알콕시기, C1∼C6 알킬기, C1∼C6 은 로 알킬기, 니트로기, 시아노기, 및 히드록시기를 나타내고, R6은 수소 원자, C1∼C6 알킬기, 또는 아릴기 이다. 【청구항 2】 상기 R1∼R5이, 수소 원자, 또는 불소, 염소, 브롬, 옥소의 중으로부터 선택하게 되는 할로겐 원자 이고, 상기 R6이, 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 노말푸로필기, 이소프로필기, 노말부칠기, 이소부틸기, tert-브틸기, 또는 페닐기 인 것을 특징으로 한다, 청구항 1에 기재의 이소인돌리논 유도체 또는 약제적에 허용 가능한 그 소금. 【청구항 3】 전기록 이소인돌리논 유도체가, (1)2-벤질-3-옥소-N-(3-(피페리딘-1-일)프로필)갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (2)2-(3-훌오로벤질)-3-옥소-N-(3-(피페리딘-1-일)프로필)갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (3)2-(4-훌오로벤질)-3-옥소-N-(3-(피페리딘-1-일)프로필)갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (4)2-(3-쿠로로벤질)-3-옥소-N-(3-(피페리딘-1-일)프로필)갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (5)2-(4-쿠로로벤질)-3-옥소-N-(3-(피페리딘-1-일)프로필)갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (6)2-(3-부로모벤질)-3-옥소-N-(3-(피페리딘-1-일)프로필)갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (7)2-(4-부로모벤질)-3-옥소-N-(3-(피페리딘-1-일)프로필)갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (8)2-(3-아이오도벤질)-3-옥소-N-(3-(피페리딘-1-일)프로필)갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (9)2-(4-아이오도벤질)-3-옥소-N-(3-(피페리딘-1-일)프로필)갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (10)2-벤질-N-(3-(2-메틸 피페리딘-1-일)프로필)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (11)2-(3-훌오로벤질)-N-(3-(2-메틸 피페리딘-1-일)프로필)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (12)2-(4-훌오로벤질)-N-(3-(2-메틸 피페리딘-1-일)프로필)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (13)2-(3-쿠로로벤질)-N-(3-(2-메틸 피페리딘-1-일)프로필)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (14)2-(4-쿠로로벤질)-N-(3-(2-메틸 피페리딘-1-일)프로필)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (15)2-(3-부로모벤질)-N-(3-(2-메틸 피페리딘-1-일)프로필)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (16)2-(4-부로모벤질)-N-(3-(2-메틸 피페리딘-1-일)프로필)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (17)2 (3-아이오도벤질)-N-(3-(2-메틸 피페리딘-1-일)프로필)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (18)2-(4-아이오도벤질)-N-(3-(2-메틸 피페리딘-1-일)프로필)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (19)2-벤질-N-(3-(2-에틸 피페리딘-1-일)프로필)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (20)N-(3-(2-에틸 피페리딘-1-일)프로필)-2-(3-훌오로벤질)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (21)N-(3-(2-에틸 피페리딘-1-일)프로필)-2-(4-훌오로벤질)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (22)2-(3-쿠로로벤질)-N-(3-(2-에틸 피페리딘-1-일)프로필)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (23)2-(4-쿠로로벤질)-N-(3-(2-에틸 피페리딘-1-일)프로필)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (24)2-(3-부로모벤질)-N-(3-(2-에틸 피페리딘-1-일)프로필)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (25)2-(4-부로모벤질)-N-(3-(2-에틸 피페리딘-1-일)프로필)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (26)N-(3-(2-에틸 피페리딘-1-일)프로필)-2-(3-아이오도벤질)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (27)N-(3-(2-에틸 피페리딘-1-일)프로필)-2-(4-아이오도벤질)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (28)2-벤질-3-옥소-N-(3-(2-프로필 피페리딘-1-일)프로필)갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (29)2-(3-훌오로벤질)-3-옥소-N-(3-(2-프로필 피페리딘-1-일)프로필)갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (30)2-(4-훌오로벤질)-3-옥소-N-(3-(2-프로필 피페리딘-1-일)프로필)갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (31)2-(3-쿠로로벤질)-3-옥소-N-(3-(2-프로필 피페리딘-1-일)프로필)갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (32)2-(4-쿠로로벤질)-3-옥소-N-(3-(2-프로필 피페리딘-1-일)프로필)갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (33)2-(3-부로모벤질)-3-옥소-N-(3-(2-프로필 피페리딘-1-일)프로필)갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (34)2-(4-부로모벤질)-3-옥소-N-(3-(2-프로필 피페리딘-1-일)프로필)갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (35)2-(3-아이오도벤질)-3-옥소-N-(3-(2-프로필 피페리딘-1-일)프로필)갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (36)2-(4-아이오도벤질)-3-옥소-N-(3-(2-프로필 피페리딘-1-일)프로필)갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (37)2-벤질-N-(3-(2-이소프로필 피페리딘-1-일)프로필)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (38)2-(3-훌오로벤질)-N-(3-(2-이소프로필 피페리딘-1-일)프로필)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (39)2-(4-훌오로벤질)-N-(3-(2-이소프로필 피페리딘-1-일)프로필)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (40)2-(3-쿠로로벤질)-N-(3-(2-이소프로필 피페리딘-1-일)프로필)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (41)2-(4-쿠로로벤질)-N-(3-(2-이소프로필 피페리딘-1-일)프로필)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (42)2-(3-부로모벤질)-N-(3-(2-이소프로필 피페리딘-1-일)프로필)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (43)2-(4-부로모벤질)-N-(3-(2-이소프로필 피페리딘-1-일)프로필)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (44)2-(3-아이오도벤질)-N-(3-(2-이소프로필 피페리딘-1-일)프로필)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (45)2-(4-아이오도벤질)-N-(3-(2-이소프로필 피페리딘-1-일)프로필)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (46)2-벤질-N-(3-(2-부칠피페리진-1-일)프로필)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (47)N-(3-(2-부칠피페리진-1-일)프로필)-2-(3-훌오로벤질)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (48)N-(3-(2-부칠피페리진-1-일)프로필)-2-(4-훌오로벤질)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (49)N-(3-(2-부칠피페리진-1-일)프로필)-2-(3-쿠로로벤질)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (50)N-(3-(2-부칠피페리진-1-일)프로필)-2-(4-쿠로로벤질)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (51)2-(3-부로모벤질)-N-(3-(2-부칠피페리진-1-일)프로필)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (52)2-(4-부로모벤질)-N-(3-(2-부칠피페리진-1-일)프로필)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (53)N-(3-(2-부칠피페리진-1-일)프로필)-2-(3-아이오도벤질)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (54)N-(3-(2-부칠피페리진-1-일)프로필)-2-(4-아이오도벤질)-3-옥소 갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (55)2-벤질-3-옥소-N-(3-(2-페닐 피페리딘-1-일)프로필)갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (56)2-(3-훌오로벤질)-3-옥소-N-(3-(2-페닐 피페리딘-1-일)프로필)갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (57)2-(4-훌오로벤질)-3-옥소-N-(3-(2-페닐 피페리딘-1-일)프로필)갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (58)2-(3-쿠로로벤질)-3-옥소-N-(3-(2-페닐 피페리딘-1-일)프로필)갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (59)2-(4-쿠로로벤질)-3-옥소-N-(3-(2-페닐 피페리딘-1-일)프로필)갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (60)2-(3-부로모벤질)-3-옥소-N-(3-(2-페닐 피페리딘-1-일)프로필)갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (61)2-(4-부로모벤질)-3-옥소-N-(3-(2-페닐 피페리딘-1-일)프로필)갯바위 인도 인-5-카르복사미드, (62)2-(3-아이오도벤질)-3-옥소-N-(3-(2-페닐 피페리딘-1-일)프로필)갯바위 인도 인-5-카르복사미드, 및 (63)2-(4-아이오도벤질)-3-옥소-N-(3-(2-페닐 피페리딘-1-일)프로필)갯바위 인도 인-5-카르복사미드 으로 되는 무리로부터 선택하게 되는 것을 특징으로 한다, 청구항 1에 기재의 이소인돌리논 유도체 또는 약제적에 허용 가능한 그 소금. 【청구항 4】 하기 scheme 1으로 표시되도록, 질소하부터 화학식 2으로 표시된다, 3-브로모-4-메틸 안식향산을 취화 메틸 마그네슘(CH3MgBr)과 n-브틸 리튬을 사용하고 아릴 리튬에 전환하게 한 뒤, 이산화탄소로 카르복실화(carboxylation)하고 화학식 3으로 표 되는 지칼보키실 산 화합물을 얻는 공정(공정 1), 상기 화학식 3으로 표 되는 지칼보키실 산 화합물을 알킬 에스테르화 반응하게 하고 화학식 4으로 표 되는 디에스테르 화합물을 얻는 공정(공정 2), 상기 화학식 4으로 표 되는 디에스테르 화합물을 브롬화(bromination)을 수행하고 화학식 5으로 표 되는 브롬 화합물을 얻는 공정(공정 3), 상기 화학식 5으로 표 되는 브롬 화합물을 상기 화학식 6으로 표 되는 벤질아민 화합물을 사용하고 SN2타입 알킬화(alkylation)과 환화(cyclization)을 수행하고 화학식 7으로 표 되는 이소인돌리논 어머니 핵 구조 화합물을 얻는 공정(공정 4), 상기 화학식 7으로 표 되는 화합물에 가수분해 반응을 수행하고 화학식 8으로 표 되는 이소인도리논칼보키실산 유도체를 얻는 공정(공정 5), 이르고 상기 화학식 8으로 표 되는 이소인도리논칼보키실산 유도체와 화학식 9으로 표 되는 피페리지닐푸로필아민 유도체를 아미도화 반응을 수행하고 화학식 1으로 표 되는 이소인돌리논 유도체를 얻는 공정(공정 6) 을 포함한다, 이소인돌리논 유도체의 제조 방법: 상기 scheme 1으로, R1∼R6은 각각 상기 화학식 1으로 정의한 것이라고 같이이다 . 【청구항 5】 청구항 1에 기재의 이소인돌리논 유도체 또는 그 약학적에 허용 가능한 소금을 유효 성분으로서 포함한다, T 형 칼슘 이온 채널의 활성에 따라서 유발하게 되는 질환의 예방 볼일 또는 치료용 조성물. 【청구항 6】 상기 T 형 칼슘 이온 채널의 활성에 따라서 유발하게 되는 질환이, 고혈압, 암, 하늘 권 또는 신경성통증 있는 것을 특징으로 한다, 청구항 5에 기재의 조성물.","JP2010013434A, JP4950157B2, KR20100005476A, US2010004286A1, US8148402B2, WO2010005148A2, WO2010005148A3",null,1]
["K04367","화학","KR","미세 채널을 이용한 선형 희석 장치 및 방법{Apparatus and method for linear dilution using micro-fluidic technology}",null,"원문이미지","KR20080021648A","2008.03.07","KR0915900B1","2009.08.31","본 발명은 선형적으로 희석되는 특성을 갖는 다양한 농도의 희석 용액을 용이하게 만들 수 있는 미세 채널을 이용한 선형 희석 장치 및 방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 미세 채널을 이용한 선형 희석 장치는 화학 용액과 완충액의 유동 공간을 제공하는 메인 채널 및 상기 메인 채널의 길이 방향을 따라 일정 간격을 두고 상기 메인 채널로부터 분기된 복수개의 분기 채널을 포함하여 이루어지며, 상기 메인 채널로부터 상기 각각의 분기 채널로 배출되는 유량이 동일하도록 상기 각각의 분기 채널의 길이가 설정되는 것을 특징으로 하며, 상기 각각의 분기 채널의 길이는 아래의 수학식에 의해 결정되며, 상기 미세 채널을 이용한 선형 희석 장치에 상응하는 전기 회로를 구성하고, 해당 전기 회로에 있어서의 상기 각각의 분기 채널에 상응하는 부분의 전기 저항이 상기 각각의 분기 채널의 관 저항(Rh)이다. (L은 각 분기 채널의 길이, Rh는 각 분기 채널의 관 저항, Dr은 분기 채널의 직경, w는 분기 채널의 폭, d는 분기 채널의 높이)","1 화학 용액과 완충액의 유동 공간을 제공하는 메인 채널; 및 상기 메인 채널의 길이 방향을 따라 일정 간격을 두고 상기 메인 채널로부터 분기된 복수개의 분기 채널을 포함하여 이루어지며, 상기 메인 채널로부터 상기 각각의 분기 채널로 배출되는 유량이 동일하도록 상기 각각의 분기 채널의 길이가 설정되는 것을 특징으로 하는 미세 채널을 이용한 선형 희석 장치.","김충, 강지윤, 김태송","G01N-035/00",null,null,null,"2028.03.07","1 화학 용액과 완충액의 유동 공간을 제공하는 메인 채널; 및 상기 메인 채널의 길이 방향을 따라 일정 간격을 두고 상기 메인 채널로부터 분기된 복수개의 분기 채널을 포함하여 이루어지며, 상기 메인 채널로부터 상기 각각의 분기 채널로 배출되는 유량이 동일하도록 상기 각각의 분기 채널의 길이가 설정되는 것을 특징으로 하는 미세 채널을 이용한 선형 희석 장치. 2 제 1 항에 있어서, 상기 각각의 분기 채널의 길이는 아래의 수학식에 의해 결정되는 것을 특징으로 하는 미세 채널을 이용한 선형 희석 장치. (L은 각 분기 채널의 길이, Rh는 각 분기 채널의 관 저항, Dr은 분기 채널의 직경, w는 분기 채널의 폭, d는 분기 채널의 높이) 3 제 2 항에 있어서, 상기 미세 채널을 이용한 선형 희석 장치에 상응하는 전기 회로를 구성하고, 해당 전기 회로에 있어서의 상기 각각의 분기 채널에 상응하는 부분의 전기 저항이 상기 각각의 분기 채널의 관 저항(Rh)인 것을 특징으로 하는 미세 채널을 이용한 선형 희석 장치. 4 제 1 항에 있어서, 상기 각각의 분기 채널의 길이 관계는 아래의 수학식과 같은 관계를 갖는 것을 특징으로 하는 미세 채널을 이용한 선형 희석 장치. (n은 자연수, xo은 상수이며, xn 내지 x0은 상기 메인 채널의 길이 방향을 따라 분기된 각각의 분기 채널의 상대적 길이값) 5 제 1 항에 있어서, 상기 메인 채널의 일단은 화학 용액 공급유로와 완충액 공급유로와 연결되며, 상기 화학 용액 공급유로와 완충액 공급유로는 상기 메인 채널의 입구와 연결되는 것을 특징으로 하는 미세 채널을 이용한 선형 희석 장치. 6 제 1 항에 있어서, 상기 복수개의 분기 채널은 상기 메인 채널의 길이 방향을 따라 일정 간격을 두고 구비되고, 상기 메인 채널의 양측에 모두 구비되는 것을 특징으로 하는 미세 채널을 이용한 선형 희석 장치. 7 제 6 항에 있어서, 상기 메인 채널의 길이 방향을 따라 동일 위치에 구비되는 메인 채널 양측의 분기 채널은 그 길이가 서로 동일한 것을 특징으로 하는 미세 채널을 이용한 선형 희석 장치. 8 제 1 항에 있어서, 상기 각각의 분기 채널은 그 길이를 제외한 직경, 폭, 높이가 동일한 것을 특징으로 하는 미세 채널을 이용한 선형 희석 장치. 9 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 따른 미세 채널을 이용한 선형 희석 장치를 사용한 선형 희석 방법에 있어서, 화학 용액 및 완충액이 상기 메인 채널에 공급되어 층류를 형성하는 단계 (a); 및 상기 화학 용액 및 완충액이 상기 메인 채널을 따라 유동하며, 상기 메인 채널의 길이에 비례하여 상기 화학 용액과 완충액의 희석 비율이 선형적으로 증가하는 단계 (b)를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세 채널을 이용한 선형 희석 방법. 10 제 9 항에 있어서, 상기 복수개의 분기 채널은 상기 메인 채널의 길이 방향을 따라 일정 간격을 두고 구비되고, 상기 메인 채널의 양측에 모두 구비되며, 상기 단계 (b)에 있어서, 상기 층류의 완충액에 가까운 분기 채널로 배출되는 희석 용액들은 메인 채널의 길이 방향을 기준으로 완충액의 농도가 선형적으로 감소하고, 상기 층류의 화학 용액에 가까운 분기 채널로 배출되는 희석 용액들은 메인 채널의 길이 방향을 기준으로 화학 용액의 농도가 선형적으로 감소하는 것을 특징으로 하는 미세 채널을 이용한 선형 희석 방법.","KR100915900B1",null,1]
["K04354","유전공학","KR","에틸벤젠 노출 여부 확인용 바이오마커 및 이를 이용한확인 방법{Biomarker for identification of exposure to Ethylbenzene and the method of identification using thereof}",null,"원문이미지","KR20080007205A","2008.01.23","KR0962211B1","2010.06.01","본 발명은 휘발성 유기 화합물류 중의 하나인 에틸벤젠(Ethylbenzene)에 대한 노출 여부 확인용 바이오마커 및 이를 이용한 확인 방법에 관한 것으로, 구체적으로 에틸벤젠에 의해 특이적으로 유전자 발현이 증가 또는 감소하는 바이오마커 및 이를 이용한 에틸벤젠에 대한 노출 여부를 확인하는 방법에 관한 것이며, 본 발명의 바이오마커는 DNA 마이크로어레이 칩을 통하여 선별된 반응 유전자들을 바이오마커로 이용하여 환경 시료에서 에틸벤젠의 오염을 모니터링 및 판정하는데 유용하게 사용될 수 있으며, 에틸벤젠에 의해 유발되는 독성 작용 기작을 규명하는 도구로 이용될 수 있다.","1 유전자 등록번호(Genebank) NM_012420(IFIT5, interferon-induced protein with tetratricopeptide repeats 5) 유전자의 핵산서열의 전부 또는 18 내지 30개의 핵산 서열로 구성되는 상기 유전자의 단편인 올리고뉴클레오티드 또는 그의 상보가닥 분자가 집적된 에틸벤젠에 대한 노출 여부 확인용 DNA 마이크로어레이 칩.","류재천, 김연정, 송미경, 샤르마 사이렌드라 나쓰","C12N-015/12,C12N-015/10,C12N-015/09,C12Q-001/68","KR20090081234A","2009.07.28",null,"2028.01.23","1 유전자 등록번호(Genebank) NM_012420(IFIT5, interferon-induced protein with tetratricopeptide repeats 5) 유전자의 핵산서열의 전부 또는 18 내지 30개의 핵산 서열로 구성되는 상기 유전자의 단편인 올리고뉴클레오티드 또는 그의 상보가닥 분자가 집적된 에틸벤젠에 대한 노출 여부 확인용 DNA 마이크로어레이 칩. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5 1) 실험군으로서 피검체 유래 인간 체세포와 대조군 체세포에서 RNA를 분리하는 단계; 2) 단계 1)의 실험군 및 대조군의 RNA를 cDNA로 합성하면서 실험군과 대조군을 각기 다른 형광물질로 표지하는 단계; 3) 단계 2)의 각기 다른 형광물질로 표지된 cDNA를 제 1항의 DNA 마이크로어레이칩과 혼성화시키는 단계; 4) 반응한 DNA 마이크로어레이칩을 분석하는 단계; 및 5) 분석한 데이터에서 제 1항의 DNA 마이크로어레이칩에 집적된 유전자의 발현 정도를 대조군과 비교하여 확인하는 단계를 포함하는 에틸벤젠에 대한 노출여부를 확인하는 방법. 6 제 5항에 있어서, 단계 1)의 인간 체세포는 인간 골수 세포 또는 인간 백혈병 세포인 것을 특징으로 하는 에틸벤젠에 대한 노출여부를 확인하는 방법. 7 제 6항에 있어서, 상기 인간 백혈병 세포는 HL-60인 것을 특징으로 하는 에틸벤젠에 대한 노출 여부를 확인하는 방법. 8 제 5항에 있어서, 단계 2)의 형광물질은 Cy3, Cy5, FITC(poly L-lysine-fluorescein isothiocyanate), RITC(rhodamine-B-isothiocyanate) 및 로다민(rhodamine)으로 이루어진 군으로부터 선택하여 사용하는 것을 에틸벤젠에 대한 노출 여부를 확인하는 방법. 9<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 10<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 11<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 12 제 1항의 DNA 마이크로어레이 칩을 포함하는 에틸벤젠에 대한 노출 여부 확인용 키트. 13 제 12항에 있어서, 인간 골수 세포 또는 백혈병 세포를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 에틸벤젠에 대한 노출 여부 확인용 키트. 14<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100962211B1, KR20090081234A",null,1]
["K04355","유전공학","KR","트리클로로에틸렌 노출 여부 확인용 바이오마커 및 이를이용한 확인 방법{Biomarker for identification of exposure to Trichloroethylene and the method of identification using thereof}",null,"원문이미지","KR20080006573A","2008.01.22","KR0957055B1","2010.05.03","본 발명은 휘발성 유기 화합물 중의 하나인 트리클로로에틸렌(Trichloroethylene)에 대한 노출 여부 확인용 바이오마커 및 이를 이용한 확인 방법에 관한 것으로, 구체적으로 트리클로로에틸렌에 의해 특이적으로 유전자 발현이 증가 또는 감소하는 바이오마커 및 이를 이용한 트리클로로에틸렌에 대한 노출 여부를 확인하는 방법에 관한 것이며, 본 발명의 바이오마커는 DNA 마이크로어레이 칩을 통하여 선별된 반응 유전자들을 바이오마커로 이용하여 환경 시료에서 트리클로로에틸렌의 오염을 모니터링 및 판정하는데 유용하게 사용될 수 있으며, 트리클로로에틸렌에 의해 유발되는 독성 작용 기작을 규명하는 도구로 이용될 수 있다.","1 세포사멸 관련 기능을 갖는, 하기의 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상의 유전자의 핵산서열의 전부 또는 18 내지 30개의 핵산 서열로 구성되는 상기 유전자의 단편인 올리고뉴클레오티드 또는 그의 상보가닥 분자가 집적된 트리클로로에틸렌 노출에 의한 상기 유전자의 발현량 증가 여부 확인용 DNA 마이크로어레이 칩: 유전자 등록번호 (Genebank) NM_022168(IFIH1, interferon induced with helicase C domain 1), 유전자 등록번호 (Genebank) NM_004049(BCL2A1, BCL2-related protein A1), 유전자 등록번호 (Genebank) NM_001165(BIRC3, baculoviral IAP repeat-containing 3), 유전자 등록번호 (Genebank) BC012609(SERPINB2, serpin peptidase inhibitor, clade B(ovalbumin), member 2).","류재천, 김연정, 송미경, 샤르마 사이렌드라 나쓰","C12N-015/12,C12N-015/09,C12Q-001/68","KR20090080679A","2009.07.27",null,"2028.01.22","1 세포사멸 관련 기능을 갖는, 하기의 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상의 유전자의 핵산서열의 전부 또는 18 내지 30개의 핵산 서열로 구성되는 상기 유전자의 단편인 올리고뉴클레오티드 또는 그의 상보가닥 분자가 집적된 트리클로로에틸렌 노출에 의한 상기 유전자의 발현량 증가 여부 확인용 DNA 마이크로어레이 칩: 유전자 등록번호 (Genebank) NM_022168(IFIH1, interferon induced with helicase C domain 1), 유전자 등록번호 (Genebank) NM_004049(BCL2A1, BCL2-related protein A1), 유전자 등록번호 (Genebank) NM_001165(BIRC3, baculoviral IAP repeat-containing 3), 유전자 등록번호 (Genebank) BC012609(SERPINB2, serpin peptidase inhibitor, clade B(ovalbumin), member 2). 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5 실험군으로서 트리클로로에틸렌에 대한 노출이 의심되는 환자 유래 인간 골수 세포 또는 인간 백혈병 세포, 및 대조군으로서 정상인 유래 인간 골수 세포로부터 각각 분리된 RNA 시료로부터 1) cDNA로 합성하면서 실험군과 대조군을 각기 다른 형광물질로 표지하는 단계; 2) 단계 1)의 각기 다른 형광물질로 표지된 cDNA를 제 1항의 DNA 마이크로어레이칩과 혼성화시키는 단계; 3) 단계 2)의 반응한 DNA 마이크로어레이칩을 분석하는 단계; 및, 4) 단계 3)의 분석한 데이터에서 제 1항의 DNA 마이크로어레이 칩에 집적된 유전자의 발현 정도를 대조군과 비교하여 상기 유전자 발현량의 증가 여부를 측정하는 단계를 포함하는 트리클로로에틸렌 노출에 의한 상기 유전자 발현량 증가 여부 확인을 위한 유전자 검출 방법. 6<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 7<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 8 제 5항에 있어서, 단계 2)의 형광물질은 Cy3, Cy5, FITC(poly L-lysine-fluorescein isothiocyanate), RITC(rhodamine-B-isothiocyanate) 및 로다민(rhodamine)으로 이루어진 군으로부터 선택하여 사용하는 것을 특징으로 하는 유전자 검출 방법. 9<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 10<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 11<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 12 제 1항의 DNA 마이크로어레이 칩 또는 상기 DNA 마이크로어레이 칩에 집적된 유전자에 상보적이고, 상기 유전자를 증폭할 수 있는, 18 내지 30머 길이의 프라이머 쌍을 포함하는 것을 특징으로 하는 트리클로로에틸렌 노출에 의한 상기 유전자 발현량 증가 여부 확인용 키트. 13<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 14<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100957055B1, KR20090080679A",null,1]
["K04336","화학","KR","1-(2-하이드록시페닐)부타-2-엔-1-온 또는 크로만-4-온 유도체의 제조방법{Process for preparing 1-(2-hydroxyphenyl)buta-2-en-1-one and croman-4-one}",null,"원문이미지","KR20080013153A","2008.02.13","KR0935016B1","2009.12.23","본 발명은 1-(2-하이드록시페닐)부타-2-엔-1-온 또는 크로만-4-온 유도체의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 2-에티이닐페놀 유도체를 루이스산 촉매 존재 하에서 알데하이드 화합물과 반응시켜 하기 화학식 1로 표시되는 1-(2-하이드록시페닐)부타-2-엔-1-온 유도체 또는 하기 화학식 2로 표시되는 크로만-4-온 유도체를 제조하는 방법에 관한 것이다.상기 화학식 1 또는 2에서, R1 및 R2는 각각 발명의 상세한 설명에서 정의한 바와 같다.","1 하기 화학식 3으로 표시되는 2-에티이닐페놀 유도체와 하기 화학식 4로 표시되는 알데하이드 유도체를, 트라이메틸실릴 트라이플루오로메탄설포네이트(TMSOTf) 또는 틴 테트라클로라이드(SnCl4) 중에서 선택된 루이스산 촉매의 존재 하에서 반응시켜 제조하는 것을 특징으로 하는 하기 화학식 1로 표시되는 1-(2-하이드록시페닐)부타-2-엔-1-온 유도체 또는 하기 화학식 2로 표시되는 크로만-4-온 유도체의 제조방법 : 상기 반응식에서, R1는 수소원자, C1-10 알킬기, 치환 또는 비치환된 페닐기, 또는 C1-10 알킬실릴기를 나타내며, R2는 C1-10 알킬기, 치환 또는 비치환된 페닐기, 또는 나프틸기를 나타내며, 상기 치환된 페닐기는 할로겐, 니트로, 시아노, 및 C1-10 알킬 중에서 선택된 치환기로 치환된 페닐기이다.","조용서, 김유승, 이재균, 배애님, 추현아, 박지연","C07D-311/26,C07D-311/22,C07D-311/28","KR20090087732A","2009.08.18",null,"2028.02.13","1 하기 화학식 3으로 표시되는 2-에티이닐페놀 유도체와 하기 화학식 4로 표시되는 알데하이드 유도체를, 트라이메틸실릴 트라이플루오로메탄설포네이트(TMSOTf) 또는 틴 테트라클로라이드(SnCl4) 중에서 선택된 루이스산 촉매의 존재 하에서 반응시켜 제조하는 것을 특징으로 하는 하기 화학식 1로 표시되는 1-(2-하이드록시페닐)부타-2-엔-1-온 유도체 또는 하기 화학식 2로 표시되는 크로만-4-온 유도체의 제조방법 : 상기 반응식에서, R1는 수소원자, C1-10 알킬기, 치환 또는 비치환된 페닐기, 또는 C1-10 알킬실릴기를 나타내며, R2는 C1-10 알킬기, 치환 또는 비치환된 페닐기, 또는 나프틸기를 나타내며, 상기 치환된 페닐기는 할로겐, 니트로, 시아노, 및 C1-10 알킬 중에서 선택된 치환기로 치환된 페닐기이다. 2 제 1 항에 있어서, 상기 루이스산 촉매는 상기 화학식 3으로 표시되는 2-에티이닐페놀 유도체에 대하여 1.0 내지 3.0 당량 범위로 사용하는 것을 특징으로 하는 제조방법. 3 제 1 항에 있어서, 반응 용매로는 다이클로로메탄 또는 다이에틸에테르로 이루어진 군으로부터 선택된 유기용매를 사용하는 것을 특징으로 하는 제조방법. 4 제 1 항에 있어서, 반응 반응온도는 -78℃ 내지 25℃ 범위인 것을 특징으로 하는 제조방법. 5 제 1 항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 1-(2-하이드록시페닐)부타-2-엔-1-온 유도체는 알칼리금속의 존재 하에서 상기 화학식 2로 표시되는 크로만-4-온 유도체로 전환되는 것을 특징으로 하는 제조방법.","KR100935016B1, KR20090087732A",null,1]
["K04337","기계","KR","전방향성 선형 압전초음파모터{OMNI-DIRECTIONAL LINEAR PIEZOELECTRIC ULTRASONIC MOTOR}",null,"원문이미지","KR20080031294A","2008.04.03","KR0965433B1","2010.06.15","본 발명은 하나의 압전초음파모터를 이용하여 X- 및 Y-축뿐만 아니라 그 축 사이의 임의의 각도로도 선형운동이 가능한 전방향성 선형 압전초음파모터에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 전방향성 선형 압전초음파모터는, 베이스와, 베이스에 결합되어 있고 각각 독립된 교류 전계가 인가되는 분리된 4개의 압전 세라믹으로 구성되어 기계적 진동을 발생시키는 압전 세라믹 진동체와, 4개의 압전 세라믹에 부착되어 압전 세라믹에 의한 기계적 진동을 전달하기 위한 전달부재와, 전달부재의 단부에 결합되어 있는 팁과, 팁과 마찰하여 구동되는 이동판을 포함한다.","1 베이스와, 상기 베이스에 결합되어 있고 각각 독립된 교류 전계가 인가되는 분리된 복수개의 압전 세라믹으로 구성되어 기계적 진동을 발생시키는 압전 세라믹 진동체와, 상기 복수개의 압전 세라믹에 부착되어 상기 압전 세라믹에 의한 기계적 진동을 전달하기 위한 전달부재와, 상기 전달부재의 단부에 결합되어 있는 팁과, 상기 팁과 마찰하여 구동되는 이동판을 포함하고, 상기 전달부재에는 상기 압전 세라믹 진동체에 의해 발생한 진동을 상기 팁에 독립적으로 전달하고 타원형의 기계적 진동을 발생시키기 위한 슬릿이 형성되어 있는 전방향성 선형 압전초음파모터.","윤석진, 김현재, 강종윤, 송현철","H02N-002/02,H02N-002/00","KR20090105683A","2009.10.07",null,"2028.04.03","1 베이스와, 상기 베이스에 결합되어 있고 각각 독립된 교류 전계가 인가되는 분리된 복수개의 압전 세라믹으로 구성되어 기계적 진동을 발생시키는 압전 세라믹 진동체와, 상기 복수개의 압전 세라믹에 부착되어 상기 압전 세라믹에 의한 기계적 진동을 전달하기 위한 전달부재와, 상기 전달부재의 단부에 결합되어 있는 팁과, 상기 팁과 마찰하여 구동되는 이동판을 포함하고, 상기 전달부재에는 상기 압전 세라믹 진동체에 의해 발생한 진동을 상기 팁에 독립적으로 전달하고 타원형의 기계적 진동을 발생시키기 위한 슬릿이 형성되어 있는 전방향성 선형 압전초음파모터. 2 제1항에 있어서, 상기 복수개의 압전 세라믹의 각각에 인가되는 교류 전계의 크기를 조절하여 상기 이동판의 구동력을 조절할 수 있는 전방향성 선형 압전초음파모터. 3 제1항에 있어서, 상기 복수개의 압전 세라믹의 각각에 인가되는 교류 전계의 진동수를 조절하여 상기 이동판의 구동 속도를 조절할 수 있는 전방향성 선형 압전초음파모터. 4 제1항에 있어서, 상기 복수개의 압전 세라믹의 각각에 인가되는 교류 전계의 위상을 조절하여 상기 이동판의 구동 방향을 조절할 수 있는 전방향성 선형 압전초음파모터. 5 제1항에 있어서, 상기 압전 세라믹 진동체는 다층으로 적층되어 형성되는 전방향성 선형 압전초음파모터. 6 제5항에 있어서, 상기 다층으로 적층된 압전 세라믹 진동체의 각 인접하는 층은 서로의 분극 방향이 반대가 되도록 형성된 전방향성 선형 압전초음파모터. 7 제1항에 있어서, 상기 전달부재는 상기 압전 세라믹 진동체에 의해 발생한 기계적 진동을 상기 팁에서 증폭시키기 위해서 콘(cone) 형상을 갖는 전방향성 선형 압전초음파모터. 8<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 9 제1항에 있어서, 상기 전달부재에는 상기 압전 세라믹 진동체에 의해 발생한 기계적 진동의 X-축 또는 Y-축 변위를 증폭하기 위한 홀이 형성되어 있는 전방향성 선형 압전초음파모터. 10 제1항에 있어서, 상기 이동판은 상기 팁과 접촉하는 면에 형성된 마찰부재를 더 포함하는 전방향성 선형 압전초음파모터. 11 제1항 또는 제10항에 있어서, 상기 팁은 내마모성이 우수한 고강도 알루미나(Al2O3)인 전방향성 선형 압전초음파모터. 12 제1항에 있어서, 상기 압전 세라믹 진동체와 상기 전달부재 사이의 최소 진동 지점에 삽입되는 고정판을 더 포함하는 전방향성 선형 압전초음파모터.","KR100965433B1, KR20090105683A",null,1]
["K04330","광학","KR","양방향 파장분할다중방식 수동형 광가입자망{Bidirectional wavelength-division-multiplexed passive optical network}",null,"원문이미지","KR20080014799A","2008.02.19","KR0928033B1","2009.11.16","다중화된 광신호를 송수신하는 중앙 기지국; 상기 중앙 기지국에 의해 송수신되는 상기 다중화된 광신호를 전달하는 동작용 간선 광선로 및 보호용 간선 광선로; 상기 동작용 간선 광선로 또는 상기 보호용 간선 광선로를 통하여 상기 다중화된 광신호를 송수신하는 지역 노드; 상기 지역 노드에 의해 송수신되는 상기 다중화된 광신호를 전달하는 동작용 분배 광선로 및 보호용 분배 광선로;및 상기 동작용 분배 광선로 및 상기 동작용 간선 광선로를 통하여 상기 다중화된 광신호를 송수신하며, 상기 동작용 분배 광선로 또는 상기 동작용 간선 광선로에 장애가 있을 경우 상기 보호용 분배 광선로 및 상기 보호용 간선 광선로를 통하여 상기 다중화된 광신호를 송수신하는 광가입자 장치를 포함하는 양방향 파장분할다중방식 수동형 광가입자망이 개시된다. 본 발명에 따른 양방향 파장분할다중방식 수동형 광가입자망에 의하면 간선망 뿐만아니라 분배망 광선로의 장애를 감지하여 스스로 복구하는 가입자망을 제공하여 경제적이고 효율적으로 망을 관리하거나 유지할 수 있다.","1 다중화된 광신호를 송수신하는 중앙 기지국; 상기 중앙 기지국과 송수신하며, 다중화된 광신호를 수신하여 역다중화하고, 역다중화된 광신호를 수신하여 다중화하는 지역 노드; 상기 지역 노드와 역다중화된 광신호를 송수신하는 광가입자 장치; 상기 중앙 기지국과 상기 지역 노드를 연결하는 동작용 간선 광선로 및 보호용 간선 광선로; 및 상기 지역 노드와 상기 광가입자 장치를 연결하는 동작용 분배 광선로 및 보호용 분배 광선로를 포함하며, 상기 광가입자 장치는 상기 동작용 분배 광선로 및 상기 동작용 간선 광선로를 통하여 광신호를 송수신하고, 상기 동작용 분배 광선로 또는 상기 동작용 간선 광선로에 장애가 있을 경우 상기 보호용 분배 광선로 및 상기 보호용 간선 광선로를 통하여 광신호를 송수신하고, 상기 중앙 기지국은, 광신호를 송수신하는 제1 광송수신 장치; 상기 제1 광송수신 장치로부터 송신되는 광신호를 파장분할 다중화하고 상기 제1 광송수신 장치에 수신되는 광신호를 파장분할 역다중화하는 1 × N 배열 도파로형 격자; 상기 광가입자 장치에 광신호 생성을 위한 주입광을 제공하는 제1 광대역 광원; 한쪽 포트들은 상기 1 × N 배열 도파로형 격자 및 상기 제1 광대역 광원에 각각 광학적으로 연결되며, 다른 쪽 포트들은 상기 동작용 간선 광선로 및 상기 보호용 간선 광선로에 각각 광학적으로 연결되는 2 × 2 광커플러; 상기 1 × N 배열 도파로형 격자 및 상기 2 × 2 광커플러 사이에 광학적으로 연결되며 서로 광학적으로 연결되는 제1 WDM 커플러 및 제2 WDM 커플러; 상기 제1 WDM 커플러 및 상기 제2 WDM 커플러 사이에 광학적으로 연결되는 광서큘레이터; 및 상기 광서큘레이터에 광학적으로 연결되어 상기 제1 광송수신 장치에 광신호 생성을 위한 주입광을 제공하는 제2 광대역 광원을 포함하되, 상기 N 은 자연수인 것을 특징으로 하는 양방향 파장분할다중방식 수동형 광가입자망.","이관일, 이상배","H04B-010/13,H04B-010/12","KR20090089563A","2009.08.24",null,"2028.02.19","1 다중화된 광신호를 송수신하는 중앙 기지국; 상기 중앙 기지국과 송수신하며, 다중화된 광신호를 수신하여 역다중화하고, 역다중화된 광신호를 수신하여 다중화하는 지역 노드; 상기 지역 노드와 역다중화된 광신호를 송수신하는 광가입자 장치; 상기 중앙 기지국과 상기 지역 노드를 연결하는 동작용 간선 광선로 및 보호용 간선 광선로; 및 상기 지역 노드와 상기 광가입자 장치를 연결하는 동작용 분배 광선로 및 보호용 분배 광선로를 포함하며, 상기 광가입자 장치는 상기 동작용 분배 광선로 및 상기 동작용 간선 광선로를 통하여 광신호를 송수신하고, 상기 동작용 분배 광선로 또는 상기 동작용 간선 광선로에 장애가 있을 경우 상기 보호용 분배 광선로 및 상기 보호용 간선 광선로를 통하여 광신호를 송수신하고, 상기 중앙 기지국은, 광신호를 송수신하는 제1 광송수신 장치; 상기 제1 광송수신 장치로부터 송신되는 광신호를 파장분할 다중화하고 상기 제1 광송수신 장치에 수신되는 광신호를 파장분할 역다중화하는 1 × N 배열 도파로형 격자; 상기 광가입자 장치에 광신호 생성을 위한 주입광을 제공하는 제1 광대역 광원; 한쪽 포트들은 상기 1 × N 배열 도파로형 격자 및 상기 제1 광대역 광원에 각각 광학적으로 연결되며, 다른 쪽 포트들은 상기 동작용 간선 광선로 및 상기 보호용 간선 광선로에 각각 광학적으로 연결되는 2 × 2 광커플러; 상기 1 × N 배열 도파로형 격자 및 상기 2 × 2 광커플러 사이에 광학적으로 연결되며 서로 광학적으로 연결되는 제1 WDM 커플러 및 제2 WDM 커플러; 상기 제1 WDM 커플러 및 상기 제2 WDM 커플러 사이에 광학적으로 연결되는 광서큘레이터; 및 상기 광서큘레이터에 광학적으로 연결되어 상기 제1 광송수신 장치에 광신호 생성을 위한 주입광을 제공하는 제2 광대역 광원을 포함하되, 상기 N 은 자연수인 것을 특징으로 하는 양방향 파장분할다중방식 수동형 광가입자망. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5 제1항에 있어서, 상기 제1 광송수신장치는 상기 제2 광대역 광원으로부터 주입광을 수신하고, 수신한 상기 주입광의 파장과 동일한 파장의 광신호를 송신하는 것을 특징으로 하는 양방향 파장분할다중방식 수동형 광가입자망. 6 제5항에 있어서, 상기 제1 광송수신 장치는, 전면이 무반사 코팅된 페브리 페롯 레이저 또는 반사형 반도체 광증폭기 (RSOA: reflctive semiconductor optical amplifier)인 것을 특징으로 하는 양방향 파장분할다중방식 수동형 광가입자망. 7 제1항에 있어서, 상기 지역 노드는, N × N 배열 도파로형 격자를 포함하며, 상기 N은 자연수인 것을 특징으로 하는 양방향 파장분할다중방식 수동형 광가입자망. 8 제7항에 있어서, 상기 N × N 배열 도파로형 격자의 N번째 포트에 상기 다중화된 광신호가 입력될 때 상기 N × N 배열 도파로형 격자의 반대쪽 1번째 포트 내지 N-1번째 포트로 역다중화된 광신호가 출력되는 것을 특징으로 하는 양방향 파장분할다중방식 수동형 광가입자망. 9 제1항에 있어서, 상기 광가입자 장치는, 상기 지역 노드를 경유하여 상기 중앙 기지국으로부터 광신호 생성을 위한 주입광을 수신하고, 수신한 상기 주입광의 파장과 동일한 파장의 광신호를 송신하는 것을 특징으로 하는 양방향 파장분할다중방식 수동형 광가입자망. 10 제1항에 있어서, 상기 광가입자 장치는, 상기 동작용 분배 광선로를 통해 상기 지역 노드로부터 수신되는 광신호의 세기를 측정하는 광신호 모니터; 상기 동작용 분배 광선로 또는 상기 보호용 분배 광선로와 선택적으로 연결되는 광스위칭 소자; 상기 광스위칭 소자에 연결되어 광신호를 송수신하는 제2 광송수신 장치; 및 상기 광신호 모니터에 의하여 측정된 상기 광신호에 장애가 있을 경우 상기 광스위칭 소자를 상기 보호용 분배 광선로와 연결하는 제어 유니트를 포함하는 것을 특징으로 하는 양방향 파장분할다중방식 수동형 광가입자망. 11 제10항에 있어서, 상기 제2 광송수신 장치는, 상기 지역 노드를 경유하여 상기 중앙 기지국으로부터 광신호 생성을 위한 주입광을 수신하고, 수신한 상기 주입광의 파장과 동일한 파장의 광신호를 송신하는 것을 특징으로 하는 양방향 파장분할다중방식 수동형 광가입자망. 12 제11항에 있어서, 상기 제2 광송수신 장치는, 전면이 무반사 코팅된 페브리 페롯 레이저 또는 반사형 반도체 광증폭기 (RSOA: reflctive semiconductor optical amplifier)인 것을 특징으로 하는 양방향 파장분할다중방식 수동형 광가입자망.","KR100928033B1, KR20090089563A, US2009208212A1, US8135278B2",null,1]
["K04314","화학","KR","금속철 에어로젤을 이용한 유기 염소 화합물의 염소 제거 방법{Method for Dechlorinating Organic Chlorine-Containing Compounds using Zero-Valent Iron Aerogels}",null,"원문이미지","KR20080009215A","2008.01.29","KR0963197B1","2010.06.04","솔-젤 법을 이용하여 만든 산화철 습윤젤을 초임계 조건에서 건조 및 열처리하여 제조하는 금속철 에어로젤의 제조 방법을 개시한다. 상기 방법으로 제조된 금속철 에어로젤은 미세기공을 가지면서 동시에 높은 비표면적을 가지는 초경량의 재료이다. 또한, 상기의 방법으로 제조된 금속철 에어로젤을 이용하여 유해 유기 염소 화합물의 염소를 제거하는 방법을 개시하며, 이에 의하면, 마이크로 크기의 상용 금속철에 비하여 염소의 제거속도가 향상되며, 상온에서 수중의 고농도 유해 유기 염소 화합물을 분해하는 것이 가능하고, 그리고 전이금속 함유량을 조절함으로써 다양한 농도의 유해 유기 염소 화합물의 처리가 가능하다.","1 철 염 및 에폭사이드를 유기 용매에서 반응시켜 젤을 제조하는 제 1 단계; 상기에서 제조된 젤을 숙성시키는 제 2 단계; 상기에서 숙성된 젤 내부의 용매를 이산화탄소로 치환 후, 초임계 조건에서 건조시키는 제 3 단계; 및 상기에서 건조된 젤을 수소 분위기에서 열처리하는 제 4 단계를 포함하는 방법에 의해 제조된 금속철 에어로젤을 이용하여 유기 염소 화합물의 염소를 제거하는 유기 염소 화합물의 탈염소 방법.","서영웅, 서동진, 박태진, 윤영현, 류지혜","B01J-013/00,B01J-023/74","KR20090083201A","2009.08.03",null,"2028.01.29","1 철 염 및 에폭사이드를 유기 용매에서 반응시켜 젤을 제조하는 제 1 단계; 상기에서 제조된 젤을 숙성시키는 제 2 단계; 상기에서 숙성된 젤 내부의 용매를 이산화탄소로 치환 후, 초임계 조건에서 건조시키는 제 3 단계; 및 상기에서 건조된 젤을 수소 분위기에서 열처리하는 제 4 단계를 포함하는 방법에 의해 제조된 금속철 에어로젤을 이용하여 유기 염소 화합물의 염소를 제거하는 유기 염소 화합물의 탈염소 방법. 2 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 단계에서 철 염과 함께 전이금속 염을 더 첨가하는 것을 특징으로 하는 유기 염소 화합물의 탈염소 방법. 3 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 단계에서 철 염은 염화철 수화물인 것을 특징으로 하는 유기 염소 화합물의 탈염소 방법. 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5 제 1 항에 있어서, 상기 에폭사이드는 프로필렌 옥사이드인 것을 특징으로 하는 유기 염소 화합물의 탈염소 방법. 6 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 단계에서 철 염과 에폭사이드의 몰비는 1 : 4 내지 1 : 9인 것을 특징으로 하는 유기 염소 화합물의 탈염소 방법. 7 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 단계는 철 염을 물과 1 : 0 내지 1 : 9의 몰비로 혼합하는 과정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 염소 화합물의 탈염소 방법. 8 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 단계에서 유기 용매는 알코올인 것을 특징으로 하는 유기 염소 화합물의 탈염소 방법. 9 제 8 항에 있어서, 상기 제 1 단계에서 유기 용매는 에탄올인 것을 특징으로 하는 유기 염소 화합물의 탈염소 방법. 10 제 2 항에 있어서, 상기 전이금속 염은 팔라듐 아세틸아세토네이트 또는 염화니켈 수화물인 것을 특징으로 하는 유기 염소 화합물의 탈염소 방법. 11 제 2 항에 있어서, 상기 전이금속 염의 중량 함량은 조성물 총 중량의 0.1 내지 10 %인 것을 특징으로 하는 유기 염소 화합물의 탈염소 방법. 12 제 11 항에 있어서, 상기 전이금속 염의 중량 함량은 조성물 총 중량의 0.1 내지 1 %인 것을 특징으로 하는 유기 염소 화합물의 탈염소 방법. 13 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 2 단계에서 숙성은 6 내지 9일 동안 시키는 것을 특징으로 하는 유기 염소 화합물의 탈염소 방법. 14 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 3 단계에서 초임계 조건은 온도는 50 내지 70℃이고 압력은 150 내지 200 기압인 것을 특징으로 하는 유기 염소 화합물의 탈염소 방법. 15 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 4 단계에서 열처리는 350 내지 500℃의 온도에서 행하는 것을 특징으로 하는 유기 염소 화합물의 탈염소 방법. 16 제 15 항에 있어서, 상기 제 4 단계에서 열처리는 350 내지 370℃의 온도에서 행하는 것을 특징으로 하는 유기 염소 화합물의 탈염소 방법. 17 제 15 항에 있어서, 상기 제 4 단계에서 열처리 시 승온 온도는 0.5 내지 5 ℃/분인 것을 특징으로 하는 유기 염소 화합물의 탈염소 방법. 18 제 1 항에 있어서, 상기 제 4 단계 이후, 금속철 에어로젤을 상온에서 1 % 이하의 산소 함유 질소 가스로 약하게 산화시키는 제 5 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법에 의해 제조된 금속철 에어로젤을 이용하여 유기 염소 화합물의 염소를 제거하는 유기 염소 화합물의 탈염소 방법. 19 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제조된 금속철 에어로젤은 비표면적이 25 m2/g 이상이고, 에어로젤 총 중량에 대한 산화철 중량비율이 25 내지 35%인 것을 특징으로 하는 유기 염소 화합물의 탈염소 방법. 20<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 21 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기에서 유기 염소 화합물의 염소 제거에 이용하는 금속철 에어로젤의 투입 농도는 5 내지 10 g/L인 것을 특징으로 하는 유기 염소 화합물의 탈염소 방법. 22 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기에서 금속철 에어로젤을 이용하여 유기 염소 화합물의 염소를 제거할 때 상기 유기 염소 화합물의 초기 농도는 5 내지 50 mg/L인 것을 특징으로 하는 유기 염소 화합물의 탈염소 방법. 23 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기에서 금속철 에어로젤을 이용하는 유기 염소 화합물의 염소 제거 반응 온도는 20 내지 30℃인 것을 특징으로 하는 유기 염소 화합물의 탈염소 방법.","KR100963197B1, KR20090083201A",null,1]
["K04325","생물","KR","나노채널이 집적된 3차원 금속 나노와이어 갭 전극을포함하는 바이오센서, 그 제작방법 및 상기 바이오센서를포함하는 바이오 디스크 시스템{BIO-SENSORS INCLUDING NANOCHANNEL INTEGRATED 3-DEMENSIONAL METALLIC NANOWIRE GAP ELECTRODES, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND BIO-DISK SYSTEM COMPRISING SIAD BIO-SENSORS}",null,"원문이미지","KR20080009649A","2008.01.30","KR0958307B1","2010.05.10","본 발명은 나노채널이 집적된 3차원 금속 나노와이어 갭 전극을 포함하는 바이오센서, 그 제작방법 및 상기 바이오센서를 포함하는 바이오 디스크 시스템에 관한 것으로, 보다 상세하게는 상부 및 하부 기판 상에 금속 나노와이어를 형성하고 상기 금속 나노와이어를 이용하여 상·하부 기판을 정렬한 후 이들을 접착함으로써 3차원 금속 나노와이어 갭 전극을 포함하는 바이오센서를 제작하는 방법, 상기 방법에 의해 제작된 바이오센서 및 상기 바이오센서를 이용하여 바이오 물질을 검출하기 위한 바이오 디스크 시스템에 관한 것이다.","1 하부 면에 복수의 금속 나노와이어가 형성되고, 바이오 물질이 포함된 샘플이 주입되는 주입구를 구비하는 상부기판부; 상부 면에 복수의 금속 나노와이어가 형성된 하부기판부; 및 상기 상부 및 하부 기판부가 이격되도록 지지하여 일정 간격의 나노채널을 형성하는 지지부를 포함하고, 상기 상부 및 하부 기판부에 형성된 금속 나노와이어가 3차원 금속 나노와이어 갭 전극을 형성하는 것을 특징으로 하는 바이오센서.","이병철, 문성욱","G01N-035/00,G01N-033/48","KR20090083689A","2009.08.04",null,"2028.01.30","1 하부 면에 복수의 금속 나노와이어가 형성되고, 바이오 물질이 포함된 샘플이 주입되는 주입구를 구비하는 상부기판부; 상부 면에 복수의 금속 나노와이어가 형성된 하부기판부; 및 상기 상부 및 하부 기판부가 이격되도록 지지하여 일정 간격의 나노채널을 형성하는 지지부를 포함하고, 상기 상부 및 하부 기판부에 형성된 금속 나노와이어가 3차원 금속 나노와이어 갭 전극을 형성하는 것을 특징으로 하는 바이오센서. 2 제 1 항에 있어서, 상기 상부 및 하부 기판부에 형성된 금속 나노와이어는 상기 바이오센서의 상부에서 투과하여 볼 때 상기 나노채널의 진행 방향과 수직을 이루도록 배열되는 것을 특징으로 바이오센서. 3 제 2 항에 있어서, 상기 바이오센서의 상부에서 투과하여 볼 때 상기 하부 기판부에 형성된 금속 나노와이어의 배열이 상기 상부 기판부에 형성된 금속 나노와이어의 배열과 겹치는 것을 특징으로 하는 바이오센서. 4 제 2 항에 있어서, 상기 바이오센서의 상부에서 투과하여 볼 때 상기 상부 기판부에 형성된 금속 나노와이어 다음에 상기 하부 기판부에 형성된 금속 나노와이어가 교대로 배열되는 것을 특징으로 하는 바이오센서. 5 제 1 항에 있어서, 상기 상부 및 하부 기판부에 형성된 금속 나노와이어 중 어느 하나는 상기 바이오센서의 상부에서 투과하여 볼 때 상기 나노채널의 진행 방향과 수직을 이루도록 배열되고, 나머지 하나는 상기 나노채널과 수평으로 배열되는 것을 특징으로 하는 바이오센서. 6 제 1 항에 있어서, 상기 상부 기판부에 형성된 금속 나노와이어와 상기 하부 기판부에 형성된 금속 나노와이어는 상기 바이오센서의 상부에서 투과하여 볼 때 서로 임의의 각도를 형성하도록 배열되는 것을 특징으로 하는 바이오센서. 7 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 상부 및 하부 기판부에 형성된 금속 나노와이어는 Ag, Cu, Au, Al, Pt 중 어느 하나, 혹은 이들 중 어느 하나를 포함하는 합금으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 바이오센서. 8 하부 면에 금속 전극이 형성되고, 바이오 물질이 포함된 샘플이 주입되는 주입구를 구비하는 상부기판부; 상부 면에 금속 전극이 형성된 하부기판부; 및 상기 상부 및 하부 기판부가 이격되도록 지지하여 일정 간격의 나노채널을 형성하는 지지부를 포함하고, 상기 상부 및 하부 기판부에 형성된 금속 전극 중 어느 하나는 복수의 금속 나노와이어로 형성되며, 상기 상부 및 하부 기판부에 형성된 금속 전극이 3차원 금속 나노와이어 갭 전극을 형성하는 것을 특징으로 하는 바이오센서. 9 제 8 항에 있어서, 상기 상부 및 하부 기판부에 형성된 금속 전극은 Ag, Cu, Au, Al, Pt 중 어느 하나, 혹은 이들 중 어느 하나를 포함하는 합금으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 바이오센서. 10 (a) 하부기판의 상부 면에 금속 전극을 형성하는 단계; (b) 나노채널의 폭과 길이를 결정하기 위해 상부기판의 하부 면에 도포된 레지스트에 나노채널을 패터닝하는 단계; (c) 상기 (b)단계에서 형성된 패턴을 마스크로 이용하여 나노채널을 식각하는 단계; (d) 상기 (c)단계에서 형성된 나노채널상에 금속 전극을 형성하는 단계; (e) 상기 상부 및 하부 기판에 형성된 금속 전극을 이용하여 상기 상부 및 하부 기판을 정렬하는 단계; 및 (f) 상기 (e)단계에서 정렬된 상기 상부 및 하부 기판을 접착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 바이오센서 제작방법. 11 제 10 항에 있어서, 상기 상부 및 하부 기판에 형성하는 금속 전극 중 하나 이상은 복수의 금속 나노와이어로 구성하는 것을 특징으로 하는 바이오센서 제작방법. 12 (a) 하부기판의 상부 면에 복수의 금속 나노와이어를 형성하는 단계; (b) 상부기판의 하부 면에 복수의 금속 나노와이어를 형성하는 단계; (c) 하부기판의 상부 면에 나노채널을 형성하기 위한 폴리머를 스핀코팅(spin-coating)하는 단계; (d) 나노채널의 폭과 길이를 결정하고 마스크 패턴을 이용하여 폴리머를 식각하는 단계; (e) 상기 상부 및 하부 기판에 형성된 금속 나노와이어를 이용하여 상기 상부 및 하부 기판을 정렬하는 단계; 및 (f) 상기 (e)단계에서 정렬된 상기 상부 및 하부 기판을 접착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 바이오센서 제작방법. 13 (a) 하부기판의 상부 면에 복수의 금속 나노와이어를 형성하는 단계; (b) 상부기판의 하부 면에 복수의 금속 나노와이어를 형성하는 단계; (c) 하부기판의 상부 면에 나노채널을 형성하기 위한 폴리머를 스핀코팅(spin-coating)하는 단계; (d) 상기 상부 및 하부 기판에 형성된 금속 나노와이어를 이용하여 상기 상부 및 하부 기판을 정렬하는 단계; (e) 상기 (d)단계에서 정렬된 상기 상부 및 하부 기판을 접착하는 단계; 및 (f) 나노채널의 폭과 길이를 결정하고 마스크 패턴을 이용한 감광을 통해 폴리머를 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 바이오센서 제작방법. 14 제 10 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 식각하는 단계는, 화학적인 습식식각, VPE(Vapor-Phase Etching), 플라즈마 에칭(Plasma Etching) 및 RIE(Reactive ion etching) 공정 중 어느 하나의 공정에 의해 행해지는 것을 특징으로 하는 바이오센서 제작방법. 15 제 10 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 상부 및 하부 기판을 접착하는 단계는, 양극 본딩(anodic bonding), 융합 본딩(fusion bonding), 폴리머를 이용한 본딩(bonding) 및 SAM(Self Assembled Monolayer)을 이용한 본딩 중 어느 하나의 공정에 의해 행해지는 것을 특징으로 하는 바이오센서 제작방법. 16 제 10 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 상부 및 하부 기판에 형성된 금속 나노와이어 사이, 또는 금속 전극 사이에 형성되는 갭의 거리는 상기 나노채널의 깊이 및 상기 금속 나노와이어 또는 상기 금속 전극의 증착 두께를 조절함으로써 상이하게 형성되는 것을 특징으로 하는 바이오센서 제작방법. 17 제 1 항 또는 제 8 항에 의한 바이오센서를 이용하여 주입되는 샘플로부터 바이오 물질을 검출하는 바이오 디스크 시스템. 18 제 17 항에 있어서, 상기 바이오센서는 CD-ROM, DVD, 바이오 CD 또는 바이오 DVD와 같은 박막 형태의 디스크형 몸체에 배치되는 것을 특징으로 하는 바이오 디스크 시스템.","CN101571535A, EP2088430A1, JP2009180726A, JP4932860B2, KR100958307B1, KR20090083689A, US2009188784A1","D",2]
["F02828","생화학","JP"," 나노 채널을 형성하는 3차 기초 금속나노 와이어 전극을 포함하는 바이오 센서, 그 제작 방법 및 상기 바이오 센서를 포함하는 바이오 디스크 시스템",null,"원문이미지","JP2009018553A","2009.01.29","JP4932860B9","2012.02.24","(57)【요약】 【과제】상부 및 하부 기판상에 금속나노 와이어를 형성하고, 상기 금속나노 와이어를 이용하고 카도/하부 기판을 정렬한 뒤, 이것들을 접착하는 것으로, 3차 기초 금속나노 와이어 전극을 포함하는 바이오 센서를 제작하는 방법, 상기 방법에 의하여 제작하게 되는 바이오 센서 및 상기 바이오 센서를 이용하고 바이오 분자를 검출하기 위한 바이오 디스크 시스템을 제공한다.【해결 수단】본 발명의 바이오 센서는, 시모베 면에 복수의 금속나노 와이어가 형성하게 되고, 바이오 분자가 포함되어 있는 샘플이 주입하게 되는 주입구를 가지는 상부 기판과, 상부면에 복수의 금속나노 와이어가 형성하게 되는 하부 기판과, 상기 위 부 및 하부 기판이 이간하도록 지지하고 1 정간격의 나노 채널을 형성하는 지지부와를 포함하고, 상기 위 부 및 하부 기판에 형성하게 되는 금속나노 와이어가 3차 기초 금속나노 와이어 전극을 형성한다.【선택도】그림 2A","【청구항 1】 시모베 면에 복수의 금속나노 와이어가 형성하게 되고, 바이오 분자가 포함되어 있는 샘플이 주입하게 되는 주입구를 가지는 상부 기판과, 상부면에 복수의 금속나노 와이어가 형성하게 되는 하부 기판과, 상기 위 부 및 하부 기판이 이간하도록 지지하고 1 정간격의 나노 채널을 형성하는 지지부와 을 포함하고, 상기 위 부 및 하부 기판에 형성하게 되는 금속나노 와이어가 3차 기초 금속나노 와이어 전극을 형성하는 것을 특징으로 하는 바이오 센서.","李  炳▲吉▼, 文  盛▲立▼","G01N-027/02,G01N-027/30","JP2009180726A","2009.08.13","2008-01-30 (KR 10-2008-0009649)","2029.01.29","【특허청구의 범위】 【청구항 1】 시모베 면에 복수의 금속나노 와이어가 형성하게 되고, 바이오 분자가 포함되어 있는 샘플이 주입하게 되는 주입구를 가지는 상부 기판과, 상부면에 복수의 금속나노 와이어가 형성하게 되는 하부 기판과, 상기 위 부 및 하부 기판이 이간하도록 지지하고 1 정간격의 나노 채널을 형성하는 지지부와 을 포함하고, 상기 위 부 및 하부 기판에 형성하게 되는 금속나노 와이어가 3차 기초 금속나노 와이어 전극을 형성하는 것을 특징으로 하는 바이오 센서. 【청구항 2】 상기 위 부 및 하부 기판에 형성하게 되는 금속나노 와이어는 상기나노 채널과 수직에 배열하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 바이오 센서. 【청구항 3】 상기 위 부 및 하부 기판에 형성하게 되는 금속나노 와이어는 겹쳐지도록 배열하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 2에 기재의 바이오 센서. 【청구항 4】 상기 위 부 및 하부 기판에 형성하게 되는 금속나노 와이어는 1개 씩 교대로 배열하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 2에 기재의 바이오 센서. 【청구항 5】 상기 위 부 및 하부 기판에 형성하게 되는 금속나노 와이어의 집의 어느 한쪽은 상기나노 채널과 수직에 배열하게 되고, 또 1개는 상기나노 채널과 수평에 배열하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 바이오 센서. 【청구항 6】 상기 위 부 및 하부 기판에 형성하게 되는 금속나노 와이어가 상기나노 채널과 소정의 각도를 낳도록 배열하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 바이오 센서. 【청구항 7】 상기 위 부 및 하부 기판에 형성하게 되는 금속나노 와이어는, Ag,Cu,Au,Al,Pt의 집의 어느 한쪽 1개, 또는 이 중의 어느 한쪽인가 1개를 포함하는 합금으로 되는 것을 특징으로 하는 청구항 1∼6의 어느 한쪽 1항에 기재의 바이오 센서. 【청구항 8】 시모베 면에 금속 전극이 형성하게 되고, 바이오 분자가 포함되어 있는 샘플이 주입하게 되는 주입구를 가지는 상부 기판과, 상부면에 금속 전극이 형성하게 되는 하부 기판과, 상기 위 부 및 하부 기판이 이간하도록 지지하고 1 정간격의 나노 채널을 형성하는 지지부와 을 포함하고, 상기 위 부 및 하부 기판에 형성하게 되는 금속 전극의 집의 어느 한쪽은 복수의 금속나노 와이어에서 형성하게 되고, 상기 위 부 및 하부 기판에 형성하게 되는 금속 전극이 3차 기초 금속나노 와이어 전극을 형성하는 것을 특징으로 하는 바이오 센서. 【청구항 9】 상기 위 부 및 하부 기판에 형성하게 되는 금속 전극은, Ag,Cu,Au,Al,Pt의 집의 어느 한쪽 1개, 또는 이 중의 어느 한쪽인가 1개를 포함하는 합금으로 되는 것을 특징으로 하는 청구항 8에 기재의 바이오 센서. 【청구항 10】 (a)하부 기판의 상부면에 금속 전극을 형성하는 스텝과, (b)상부 기판의 하부면에 도포하게 되는 레지스트에 나노 채널의 폭과 길이를 결정하는 나노 채널을 패터닝 하는 스텝과, (c)상기(b)스텝으로 형성하게 되는 패턴을 마스크로서 이용하고 나노 채널을 에칭 하는 스텝과, (d)상기(c)스텝으로 형성하게 되는 나노 채널상에 금속 전극을 형성하는 스텝과, (e)상기 위 부 및 하부 기판에 형성하게 되는 금속 전극을 이용하고 상기 위 부 및 하부 기판을 정렬하는 스텝과, (f)상기(e)스텝으로 정렬하게 되는 상기 위 부 및 하부 기판을 접착하는 스텝과 을 포함하는 것을 특징으로 하는 바이오 센서의 제작 방법. 【청구항 11】 상기 위 부 및 하부 기판에 형성하는 금속 전극의 집의 1개 이상은 복수의 금속나노 와이어에서 구성되는 것을 특징으로 하는 청구항 10에 기재의 바이오 센서의 제작 방법. 【청구항 12】 (a)하부 기판의 상부면에 복수의 금속나노 와이어를 형성하는 스텝과, (b)상부 기판의 하부면에 복수의 금속나노 와이어를 형성하는 스텝과, (c)하부 기판의 상부면에 나노 채널을 형성하기 위한 폴리머를 스핀 코팅 하는 스텝과, (d) 나노 채널의 폭과 길이를 결정하고, 마스크 패턴을 이용하고 폴리머를 에칭 하는 스텝과, (e)상기 위 부 및 하부 기판에 형성하게 되는 금속나노 와이어를 이용하고 상기 위 부 및 하부 기판을 정렬하는 스텝과, (f)상기(e)스텝으로 정렬하게 되는 상기 위 부 및 하부 기판을 접착하는 스텝과 을 포함하는 것을 특징으로 하는 바이오 센서의 제작 방법. 【청구항 13】 (a)하부 기판의 상부면에 복수의 금속나노 와이어를 형성하는 스텝과, (b)상부 기판의 하부면에 복수의 금속나노 와이어를 형성하는 스텝과, (c)하부 기판의 상부면에 나노 채널을 형성하기 위한 폴리머를 스핀 코팅 하는 스텝과, (d)상기 위 부 및 하부 기판에 형성하게 되는 금속나노 와이어를 이용하고 상기 위 부 및 하부 기판을 정렬하는 스텝과, (e)상기(d)스텝으로 정렬하게 되는 상기 위 부 및 하부 기판을 접착하는 스텝과, (f) 나노 채널의 폭과 길이를 결정하고, 마스크 패턴을 이용하고 폴리머를 에칭 하는 스텝과 을 포함하는 것을 특징으로 하는 바이오 센서의 제작 방법. 【청구항 14】 전기록 에칭 하는 스텝은, 화학적인 습식 에칭, VPE, 플라즈마 에칭 및 RIE 공정의 집의 어느 한쪽 1개의 공정에 의하여 행하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 10∼13의 어느 한쪽 1항에 기재의 바이오 센서의 제작 방법. 【청구항 15】 상기 위 부 및 하부 기판을 접착하는 스텝은, 양극 본딩, 융합 본딩, 폴리머를 이용한 본딩 및 SAM을 이용한 본딩의 집의 어느 한쪽 1개의 공정에 의하여 행하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 10∼13의 어느 한쪽 1항에 기재의 바이오 센서의 제작 방법. 【청구항 16】 상기 위 부 및 하부 기판에 형성하게 되는 금속나노 와이어의 사이, 또는 금속 전극의 사이에 형태 이루어지는 갭의 거리는, 상기나노 채널의 깊이 및 상기 금속나노 와이어 또는 상기 금속 전극의 증착 두께를 조절하는 것으로, 다르도록 형태 이루어지는 것을 특징으로 하는 청구항 10∼13의 어느 한쪽 1항에 기재의 바이오 센서의 제작 방법. 【청구항 17】 청구항 1∼9의 어느 한쪽 1항에 따르는 바이오 센서를 이용하고 주입하게 되는 샘플으로부터 바이오 분자를 검출하는 바이오 디스크 시스템. 【청구항 18】 상기 바이오 센서는, CD-ROM,DVD, 바이오 CD 또는 바이오 DVD과 같은 얇은 막 형태의 디스크상 본체에 배치하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 17에 기재의 바이오 디스크 시스템 .","CN101571535A, EP2088430A1, JP2009180726A, JP4932860B2, KR100958307B1, KR20090083689A, US2009188784A1","D",2]
["K04370","의료","KR","다중약물내성 암세포에 유용한 항암제{Anti-cancer drug Effective for Multidrug resistant cancer cells}",null,"원문이미지","KR20080018323A","2008.02.28","KR0961688B1","2010.05.28","본 발명은 다중약물내성 암세포에 유용한 항암제에 관한 것으로서, 구체적으로 상기 3-(2-벤족사졸릴)-7-(디에틸아미노)쿠마린[3-(2-Benzoxazolyl)- 7-(diethylamino)Coumarin]을 유효성분으로 함유하는 기존 항암제에 대해 다중약물내성을 나타내는 암세포에 대한 우수한 사멸효과를 제공하는 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 조성물은 항암제에 내성을 나타내는 다중약물내성(Multidrug resistance, MDR) 세포에서 보이는 항암제내성을 극복할 수 있어서 정상암세포는 물론 MDR을 나타내는 세포에서도 항암효과가 있으므로, 약학적으로 유용한 항암제로 사용될 수 있다.","1 화학식 1로 표시되는 3-(2-벤족사졸릴)-7-(디에틸아미노)쿠마린 화합물 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염을 유효성분으로 포함하는 항암제에 대한 다중약물내성 억제용 조성물: &amp;lt;화학식 1&amp;gt; .","김수남, 이석준, 김용기","A61K-031/423,A61K-031/421,A61K-031/422,A61P-035/00","KR20090093026A","2009.09.02",null,"2028.02.28","1 화학식 1로 표시되는 3-(2-벤족사졸릴)-7-(디에틸아미노)쿠마린 화합물 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염을 유효성분으로 포함하는 항암제에 대한 다중약물내성 억제용 조성물: &amp;lt;화학식 1&amp;gt; . 2 제 1항에 있어서, 상기 화합물은 정상암세포 및 다중약물내성 암세포에서 세포독성을 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물. 3 제 1항에 있어서, 상기 화합물은 다중약물내성 암세포에서 정상암세포와 유사하거나 더 향상된 세포사멸 유도효과를 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물. 4 제 2항에 있어서, 다중약물내성 암세포는 항암제 구조에 상관없이 비 특이적인 내성을 획득한 암세포인 것을 특징으로 하는 조성물. 5 제 2항에 있어서, 상기 암세포는 대장암(colon cancer), 방광암(bladder cancer), 난소암(ovarian cancer), 위암(gastric cancer), 폐암(lung cancer), 전립선암(prostate cancer), 췌장암(pancreatic cancer) 및 대장직장암(colorectal cancer)으로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물. 6 화학식 1로 표시되는 3-(2-벤족사졸릴)-7-(디에틸아미노)쿠마린 화합물 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염을 유효성분으로 포함하고, 약제학적으로 허용가능한 담체와 함께 포함하는 정상 암세포 및 다중약물내성 암세포에서 세포독성을 나타내는 항암보조제. 7<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 8 제 6항에 있어서, 상기 화합물은 다중약물내성 암세포에서 정상암세포와 유사하거나 더 향상된 세포사멸 유도효과를 나타내는 것을 특징으로 하는 항암보조제. 9 제 6항에 있어서, 다중약물내성 암세포는 항암제 구조에 상관없이 비 특이적인 내성을 획득한 암세포인 것을 특징으로 하는 항암보조제. 10 제 6항에 있어서, 상기 암세포는 대장암(colon cancer), 방광암(bladder cancer), 난소암(ovarian cancer), 위암(gastric cancer), 폐암(lung cancer), 전립선암(prostate cancer), 췌장암(pancreatic cancer) 및 대장직장암(colorectal cancer)으로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 항암보조제. 11 화학식 1로 표시되는 3-(2-벤족사졸릴)-7-(디에틸아미노)쿠마린 화합물 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염을 다중약물내성을 억제하는 유효농도로 항암제에 대한 다중약물내성을 나타내는 인간을 제외한 동물인 개체에 투여하는 단계를 포함하는 인간을 제외한 동물인 개체의 암질환 치료 방법. 12 제 11항에 있어서, 다중약물내성을 나타내는 개체는 항암제 구조에 상관없이 비 특이적인 내성을 획득한 개체인 것을 특징으로 하는 암질환 치료 방법. 13 제 11항에 있어서, 상기 암질환은 대장암(colon cancer), 방광암(bladder cancer), 난소암(ovarian cancer), 위암(gastric cancer), 폐암(lung cancer), 전립선암(prostate cancer), 췌장암(pancreatic cancer) 및 대장직장암(colorectal cancer)으로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 암질환 치료 방법. 14 다중약물내성을 억제하는 유효 농도의 제 6항의 항암보조제 및 하나 이상의 항암제를 항암제에 대한 다중약물내성을 나타내는 인간을 제외한 동물인 개체에 병용 투여하는 단계를 포함하는 인간을 제외한 동물인 개체의 암질환 치료 방법. 15 제 14항에 있어서, 다중약물내성을 나타내는 개체는 항암제 구조에 상관없이 비 특이적인 내성을 획득한 개체인 것을 특징으로 하는 암질환 치료 방법. 16 제 14항에 있어서, 상기 암질환은 대장암(colon cancer), 방광암(bladder cancer), 난소암(ovarian cancer), 위암(gastric cancer), 폐암(lung cancer), 전립선암(prostate cancer), 췌장암(pancreatic cancer) 및 대장직장암(colorectal cancer)으로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 암질환 치료 방법.","KR100961688B1, KR20090093026A",null,1]
["K04315","화학","KR","분무 열분해법을 이용한 고 비표면적의 바륨 설페이트입자의 제조 방법, 및 상기 바륨 설페이트 입자를 포함하는촉매를 이용한 삼산화황의 분해 방법{PREPARATION OF BARIUM SULFATE PARTICLE WITH HIGH SURFACE AREA BY SPRAY PYROLYSIS, AND METHOD FOR DECOMPOSITION OF SULFUR TRIOXIDE BY USING BARIUM SULFATE CATALYST COMPRISING THE BARIUM SULFATE PARTICLES}",null,"원문이미지","KR20080007188A","2008.01.23","KR0935374B1","2009.12.28","본 발명은 고 비표면적을 갖는 바륨 설페이트 입자의 제조 방법 및 상기 방법에 따라 제조된 바륨 설페이트 입자를 포함하는 바륨 설페이트 촉매를 이용한 삼산화황의 분해 방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게, 본 발명에 따른 바륨 설페이트 입자의 제조 방법은, 바륨 전구체와 황산에 각각 분산제를 혼합하여 각각의 용액을 형성하고, 상기 용액을 서로 혼합한 후, 알콜을 추가로 첨가하고 분무 열분해법을 이용하여 바륨 설페이트 입자를 제조하는 방법이다. 또한, 이러한 제조 방법에 따라 제조된 바륨 설페이트 입자는 고온에서도 내구성이 우수하고 고 비표면적을 가지며, 본 발명에 따른 바륨 설페이트 입자에 백금이 담지된 바륨 설페이트 촉매는, 삼산화황의 분해 반응용 촉매로서 유용하게 이용될 수 있다.","1 1) 바륨 전구체와 황산에 각각 분산제를 혼합하여 바륨 전구체 용액과 황산 용액을 별도로 형성하는 단계, 2) 상기 바륨 전구체 용액과 황산 용액을 혼합하여 바륨 전구체-황산 혼합물을 형성하는 단계, 3) 상기 바륨 전구체-황산 혼합물에 알콜을 첨가하는 단계, 및 4) 상기 혼합물을 분무 장치로 분무시켜 열분해시킴으로써 입자를 생성하는 단계를 포함하는, 바륨 설페이트 입자의 제조 방법.","유계상, 김창수, 공경택, 김홍곤, 안병성, 정광덕, 이병권","C01F-011/46,B01J-027/055,B01J-023/42","KR20090081220A","2009.07.28",null,"2028.01.23","1 1) 바륨 전구체와 황산에 각각 분산제를 혼합하여 바륨 전구체 용액과 황산 용액을 별도로 형성하는 단계, 2) 상기 바륨 전구체 용액과 황산 용액을 혼합하여 바륨 전구체-황산 혼합물을 형성하는 단계, 3) 상기 바륨 전구체-황산 혼합물에 알콜을 첨가하는 단계, 및 4) 상기 혼합물을 분무 장치로 분무시켜 열분해시킴으로써 입자를 생성하는 단계를 포함하는, 바륨 설페이트 입자의 제조 방법. 2 제 1 항에 있어서, 바륨 전구체가 바륨 할라이드, 바륨 하이드록사이드, 바륨 알콕사이드로 구성된 군 중에서 선택된 1종 이상임을 특징으로 하는, 바륨 설페이트 입자의 제조 방법. 3 제 2 항에 있어서, 상기 바륨 전구체가 바륨 하이드록사이드임을 특징으로 하는, 바륨 설페이트 입자의 제조 방법. 4 제 1 항에 있어서, 상기 분산제가 폴리하이드릭 알코올류 또는 폴리알코올류로 구성된 군 중에서 선택된 1종 이상임을 특징으로 하는, 바륨 설페이트 입자의 제조 방법. 5 제 4 항에 있어서, 상기 분산제가 에틸렌 글라이콜임을 특징으로 하는, 바륨 설페이트 입자의 제조 방법. 6 제 1 항에 있어서, 상기 단계 1)에서 바륨 전구체에 대한 분산제의 몰 비가 1 내지 30임을 특징으로 하는, 바륨 설페이트 입자의 제조 방법. 7 제 1 항에 있어서, 상기 단계 3)에서 바륨 전구체-황산 혼합물에 대한 알콜의 혼합비가 부피 기준으로 0.1 내지 10임을 특징으로 하는, 바륨 설페이트 입자의 제조 방법. 8 제 1 항에 있어서, 상기 알콜이 C1~C6 선형 또는 분지형 알콜임을 특징으로 하는, 바륨 설페이트 입자의 제조 방법. 9 제 8 항에 있어서, 상기 알콜이 프로판올임을 특징으로 하는, 바륨 설페이트 입자의 제조 방법. 10 제 1 항에 있어서, 상기 열분해 온도가 300 내지 1000℃임을 특징으로 하는, 바륨 설페이트 입자의 제조 방법. 11 제 1 항에 따른 방법에 의해 제조된 비표면적 35 내지 75m2/g의 바륨 설페이트 입자에 백금이 담지된 구조를 가짐을 특징으로 하는 바륨 설페이트 촉매. 12 제 11 항에 있어서, 900℃ 이상에서도 18 m2/g 이상의 비표면적을 유지함을 특징으로 하는 바륨 설페이트 촉매. 13 제 11 항에 있어서, 담지된 백금의 함량이 바륨 설페이트 촉매의 총량을 기준으로 0.1 내지 3중량%임을 특징으로 하는 바륨 설페이트 촉매. 14 제 11 항에 있어서, 상기 백금의 함량이 바륨 설페이트 촉매의 총량을 기준으로 0.25 내지 2.0중량%임을 특징으로 하는 바륨 설페이트 촉매. 15 제 11 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 따른 바륨 설페이트 촉매의 존재하에 수행됨을 특징으로 하는 삼산화황의 분해 방법. 16 제 15 항에 있어서, 상기 분해가 500 내지 1200℃의 온도 및 0.1 내지 40 기압 하에서 수행됨을 특징으로 하는, 삼산화황의 분해 방법. 17 제 15 항에 있어서, 상기 분해가 700 내지 1000℃의 온도 및 1 내지 25 기압 하에서 수행됨을 특징으로 하는, 삼산화황의 분해 방법. 18 제 15 항에 있어서, 상기 삼산화황의 분해가 IS (Iodine-Sulfur) 싸이클 공정의 황산 분해 반응 중에 일어나는 반응임을 특징으로 하는, 삼산화황의 분해 방법.","KR100935374B1, KR20090081220A",null,1]
["K04307","바이오디젤","KR","초임계 유체를 이용한 폐식용유 정제 방법{METHOD FOR PURIFYING USED COOKING OIL USING SUPERCRITICAL FLUID}",null,"원문이미지","KR20080024548A","2008.03.17","KR0940791B1","2010.01.29","본 발명은 폐식용유로부터 산패되어 생성된 물질을 제거하는 방법에 관한 것으로 보다 자세하게는 초임계 유체를 이용하여 경제적이고 환경친화적인 방법으로 폐식용유에 함유된 유리지방산, 공액이중결합물질, 산화생성물 등을 고효율로 제거하여 폐식용유를 고품질의 바이오디젤유의 원료로 사용할 수 있도록 정제하는 방법에 관한 것이다.","1 추출기 내에 도입된 폐식용유의 하단부에 초임계 유체를 연속적으로 도입하여 상기 폐식용유 중의 불순물을 초임계 유체에 용해시키는 단계, 불순물이 용해된 초임계 유체를 추출기의 상단부에 연결되어 있는 분리기로 이송하는 단계 및 추출기에 남아 있는 유지를 회수하는 단계 를 포함하여 구성되는 초임계유체 이용 폐식용유 정제방법.","김재덕, 김재훈, 홍승아","C11B-013/00","KR20090099355A","2009.09.22",null,"2028.03.17","1 추출기 내에 도입된 폐식용유의 하단부에 초임계 유체를 연속적으로 도입하여 상기 폐식용유 중의 불순물을 초임계 유체에 용해시키는 단계, 불순물이 용해된 초임계 유체를 추출기의 상단부에 연결되어 있는 분리기로 이송하는 단계 및 추출기에 남아 있는 유지를 회수하는 단계 를 포함하여 구성되는 초임계유체 이용 폐식용유 정제방법. 2 제1항에 있어서, 상기 초임계 유체는 프로판, 부탄, 디메틸에테르 및 이산화탄소 초임계 유체 로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 초임계 유체 이용 폐식용유 정제방법. 3 제1항에 있어서, 상기 폐식용유는 대두유, 팜유 및 옥수수유로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 초임계 유체 이용 폐식용유 정제방법. 4 제1항에 있어서, 상기 불순물은 유리지방산, 공액이중결합물질 및 폐식용유의 산화생성물로 구성된 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것을 특징으로 하는 초임계 유체 이용 폐식용유 정제방법. 5 제2항에 있어서, 상기 추출기의 온도는 32 내지 100℃로 유지되는 것을 특징으로 하는 초임계 유체 이용 폐식용유 정제방법. 6 제2항에 있어서, 상기 추출기로 도입되는 초임계유체의 압력은 100 바 내지 500 바로 유지되는 것을 특징으로 하는 초임계 유체 이용 폐식용유 정제방법. 7 제2항에 있어서, 상기 추출기로 도입되는 초임계유체의 유량은 5g/min 내지 50g/min로 유지되는 것을 특징으로 하는 초임계 유체 이용 폐식용유 정제방법. 8 제2항에 있어서, 폐식용유 정제시간이 1 내지 10 시간으로 유지되는 것을 특징으로 하는 초임계 유체 이용 폐식용유 정제방법.","KR100940791B1, KR20090099355A",null,1]
["K04305","광학","KR","금속 나노복합체 코팅층 및 이의 형성방법{NANOMETALLIC COMPOSITE CONTAINING COATING LAYER AND FORMATION THEREOF}",null,"원문이미지","KR20070134376A","2007.12.20","KR0961488B1","2010.05.27","본 발명은 금속 나노복합체 코팅층 및 이의 형성 방법에 관한 것으로서, 구체적으로 나노미터 크기의 금속 입자가 광학적으로 흡수가 적은 기지상 내에 분산되어 있는 금속 나노복합체 광학 코팅층에 관한 것이다. 본 발명의 광학 코팅층은 금속 나노입자가 주변 기지상과 작용하여 표면 플라즈몬 공진 현상을 일으켜 미려한 색상을 나타낼 수 있으므로 표면 장식 코팅에 유용하다.","1 (ⅰ) 두께 20 nm 이하로 증착되어 가시광 영역에서 양 방향 평균 광 투과도가 10% 내지 80% 범위인 반거울(half-mirror) 형태를 나타내거나, 두께 20 nm 초과로 증착되어 광반사를 나타내는 하부 금속층, 및 (ⅱ) 상기 하부 금속층의 상부에 기지상 안에 금속 나노입자가 분산된 금속 나노복합체 코팅층을 포함하는 광학 코팅층으로서, 상기 기지상에 분산된 금속 나노입자에 의하여 발생하는 표면 플라즈몬 공진 현상에 의하여 상기 코팅층이 색상을 발현하는 것을 특징으로 하는 광학 코팅층.","이경석, 김원목, 이택성, 정병기, 변지영","G02B-001/10","KR20090066704A","2009.06.24",null,"2027.12.20","1 (ⅰ) 두께 20 nm 이하로 증착되어 가시광 영역에서 양 방향 평균 광 투과도가 10% 내지 80% 범위인 반거울(half-mirror) 형태를 나타내거나, 두께 20 nm 초과로 증착되어 광반사를 나타내는 하부 금속층, 및 (ⅱ) 상기 하부 금속층의 상부에 기지상 안에 금속 나노입자가 분산된 금속 나노복합체 코팅층을 포함하는 광학 코팅층으로서, 상기 기지상에 분산된 금속 나노입자에 의하여 발생하는 표면 플라즈몬 공진 현상에 의하여 상기 코팅층이 색상을 발현하는 것을 특징으로 하는 광학 코팅층. 2 제 1항에 있어서, 상기 금속 나노복합체 안에 분산되는 금속 나노입자가 2 내지 100 nm 범위의 크기를 갖는 것을 특징으로 하는, 광학 코팅층. 3 제 1항에 있어서, 상기 금속 나노복합체 안에 분산되는 금속 및 하부 금속층의 금속이, Au, Ag, Cu, Al, Pt, Pd, Ni, Co, Fe, Mn, Cr, Mo, W, V, Ta, Nb, Hf, Zr, Ti, Zn, In, Sn, Pb, Sb, Bi 및 이들의 합금으로 구성된 군 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는, 광학 코팅층. 4 제 1항에 있어서, 상기 금속 나노입자가 분산되는 기지상이, 무기물, 유기물 및 무기-유기혼합 또는 복합물로 구성된 군 중에서 선택된 물질로 이루어지며, 흡수계수가 70,000 cm-1 이하인 것을 특징으로 하는, 광학 코팅층. 5 제 4항에 있어서, 상기 무기물이 Si-O, Ge-O, Sn-O, Al-O, In-O, Cr-O, Mo-O, Ti-O, Zr-O, Hf-O, Y-O, Mg-O, Ta-O, W-O, V-O, Ba-Ti-O, Pb-Ti-O, Sr-Ti-O계의 산화물, Al-F, Zn-F, Mg-F, Ca-F, Na-F, Ba-F, Pb-F, Li-F, La-F계의 불화물, Si-N, Al-N, Ti-N, Zr-N, Hf-N, Ga-N, B-N, In-N 계의 질화물, Zn-S, Cd-S, Cu-S, Ba-S, Na-S, K-S, Pb-S, As-S 계의 황화물, Zn-Se, Bi-Se, Cd-Se, Cu-Se, Pb-Se, As-Se계의 셀렌화물, 다이아몬드 유사 카본(dimondlike carbon) 및 이들의 화합물 및 혼합물로 구성되는 군 중에서 선택된 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는, 광학 코팅층. 6 제 4항에 있어서, 상기 유기물이 폴리이미드, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리에테르설폰, 폴리아크릴레이트, 환형 폴리올레핀, 스티렌계 중합체, 레진, 및 이들의 화합물 및 혼합물로 구성된 군 중에서 선택된 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는, 광학 코팅층. 7 (ⅰ) 기판 상에, (ⅱ) 두께 20 nm 이하로 증착되어 가시광 영역에서 양 방향 평균 광 투과도가 10% 내지 80% 범위인 반거울(half-mirror) 형태를 나타내거나, 두께 20 nm 초과로 증착되어 광반사를 나타내는 하부 금속층을 형성하는 단계, 및 (ⅲ) 상기 하부 금속층 상부에, 기지상 안에 금속 나노입자가 분산된 금속 나노복합체 코팅층을 형성하는 단계를 포함하는, 기판의 광학 코팅 방법. 8<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 9<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 10<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 11 제 7항에 있어서, 상기 하부 금속층의 금속이, Au, Ag, Cu, Al, Pt, Pd, Ni, Co, Fe, Mn, Cr, Mo, W, V, Ta, Nb, Hf, Zr, Ti, Zn, In, Sn, Pb, Sb, Bi 및 이들의 합금으로 구성된 군 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는, 기판의 광학 코팅 방법. 12 제 7항에 있어서, 상기 기판의 코팅면이 곡면인 것을 특징으로 하는, 기판의 광학 코팅 방법. 13 기판 상에 형성된 제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 따른 광학 코팅층을 포함하는, 광학 코팅된 제품. 14 제 13항에 있어서, 상기 제품이 휴대폰, MP3 플레이어, DVD, 노트북, PDA, PMP, 네비게이션, 전자사전, 카메라 및 캠코더 중에서 선택된 컨슈머 일렉트로닉스 제품임을 특징으로 하는, 광학 코팅된 제품.","KR100961488B1, KR20090066704A",null,1]
["K04294","수처리","KR","산성광산배수를 이용한 철코팅 모래의 제조방법 및 이를이용한 중금속 함유 수 처리방법{METHOD FOR THE PREPARATION OF IRON COATED SAND BY USING ACID MINE DRAINAGE AND METHOD FOR THE TREATMENT OF HEAVY METAL CONTAINING WATER BY USING IRON COATED SAND}",null,"원문이미지","KR20080003312A","2008.01.11","KR0926736B1","2009.11.06","본 발명은 산성광산배수(acid mine drainage)를 이용한 철코팅 모래(iron oxide coated sand)의 제조방법 및 상기 철코팅 모래를 이용한 중금속 함유 수 처리 방법에 관한 것으로, 본 발명에 따르면 철과 망간이 함유된 산성광산배수의 무기물 침전물과 모래를 혼합한 슬러리를 60 내지 550℃의 온도에서 가열하여 모래를 무기물 침전물로 코팅한 후 세척, 건조하여 제조된 철코팅 모래를 기존 수 처리 여과 시스템이나 지하수 반응벽체의 정화내부물질로 이용할 수 있다. 본 발명에서는 철코팅 모래를 제조하기 위해 일반 시약이 아닌 산성광산배수를 이용하므로 오염물질이 함유된 배수를 경제적으로 재이용할 수 있을 뿐만 아니라, 제조된 철코팅 모래로 오염수 내에 존재하는 비소를 효과적으로 제거할 수 있다는 장점을 갖는다.","1 1) 산성광산배수에 알칼리염을 첨가하여 무기물 침전물을 형성한 후 그 침전물만을 수득하는 단계; 2) 상기 무기물 침전물과 모래를 혼합하여 슬러리를 제조하는 단계; 3) 상기 슬러리를 60 내지 550℃에서 1시간 내지 3일간 가열하여 모래에 무기물 침전물을 코팅하는 단계; 4) 상기에서 코팅되지 않은 무기물 침전물을 제거하고 철코팅 모래를 세척 및 건조하는 단계를 포함하는, 산성광산배수를 이용한 철코팅 모래의 제조방법.","최재영, 양중석, 이주영, 권동욱, 이희용","C02F-001/58,C04B-014/06,C04B-020/10,C02F-003/10","KR20090077386A","2009.07.15",null,"2028.01.11","1 1) 산성광산배수에 알칼리염을 첨가하여 무기물 침전물을 형성한 후 그 침전물만을 수득하는 단계; 2) 상기 무기물 침전물과 모래를 혼합하여 슬러리를 제조하는 단계; 3) 상기 슬러리를 60 내지 550℃에서 1시간 내지 3일간 가열하여 모래에 무기물 침전물을 코팅하는 단계; 4) 상기에서 코팅되지 않은 무기물 침전물을 제거하고 철코팅 모래를 세척 및 건조하는 단계를 포함하는, 산성광산배수를 이용한 철코팅 모래의 제조방법. 2 제1항에 있어서, 단계 1)에서 산성광산배수가 10 ㎎/ℓ 이상의 철을 함유하고, 2 내지 7 범위의 pH를 갖는 것을 특징으로 철코팅 모래의 제조방법. 3 제1항에 있어서, 단계 1)에서 알칼리염이 수산화나트륨(NaOH), 수산화칼륨(KOH), 산화칼슘(CaO), 수산화칼슘(Ca(OH)2) 및 수산화마그네슘(Mg(OH)2)으로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 철코팅 모래의 제조방법. 4 제1항에 있어서, 단계 1)에서 산성광산배수에 알칼리염이 부피비로 100:1 내지 10,000:1의 비로 첨가되는 것을 특징으로 하는 철코팅 모래의 제조방법. 5 제1항에 있어서, 단계 2)에서 무기물 침전물과 모래가 부피비로 1:5 내지 1:100의 비로 혼합되는 것을 특징으로 하는 철코팅 모래의 제조방법. 6 제1항에 있어서, 단계 3)에서 산화제가 추가로 첨가되는 것을 특징으로 하는 철코팅 모래의 제조방법. 7 제7항에 있어서, 산화제가 염소산나트륨(NaClOx, x=1, 2 또는 3), 과산화수소(H2O2), 산소(O2) 및 오존(O3)으로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 철코팅 모래의 제조방법. 8 제1항의 방법에 따라 제조된 철코팅 모래를 이용한 중금속 함유 수 처리방법. 9 제8항에 있어서, 상기 철코팅 모래가 여과 시스템 또는 지하수 반응벽체에 충진제로 사용되는 것을 특징으로 하는 수 처리방법. 10 제8항에 있어서, 상기 중금속이 비소인 것을 특징으로 하는 수 처리방법.","KR100926736B1, KR20090077386A",null,1]
["K04292","생화학","KR","스핑고모나스 속 박테리아 균주와 아스페질러스 속 곰팡이균주의 혼합배양방법, 이로부터 유래한 신규항암-항생물질인 글리오니트린, 및 상기 글리오니트린 또는이의 약학적으로 허용가능한 염을 유효성분으로 하는약학적 조성물{The co-culture method of Sphingomonas sp. Bacterial strain and Aspergillus sp. fungus strain, new anti-cancer and antibiotic glionitrins derived from this co-culture method, and pharmaceutical composition containing glionitrins or pharmaceutically acceptable salt thereof as an active ingredient}",null,"원문이미지","KR20070118544A","2007.11.20","KR0936277B1","2010.01.04","본 발명은 신규한 스핑고모나스 속(Sphingomonas) 박테리아 균주 KMK-001을 액체배지에서 배양하고, 상기 박테리아 균주의 배양액에 액체배지에서 별도로 배양된 신규한 아스페질러스 속(Aspegillus) 균주 KMC-901을 가하여 혼합배양하는 스핑고모나스 박테리아-아스페질러스 곰팡이의 혼합배양법, 이로부터 생합성된 신규한 글리오니트린(Glionitrins), 및 상기 글리오니트린 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염을 유효성분으로 하는 약학적 조성물에 관한 것이다. 상기 글리오니트린은 암세포에 대하여 강한 세포독성 효과가 있고, 스핑고모나스 속 신규 박테리아 균주 KMK-001를 포함한 10종의 유해균에 대한 항생효과를 나타냄으로써 항암제 또는 항생제에 유용하게 이용될 수 있다.","3 수탁번호 KCCM10888P로 기탁된 스핑고모나스 속(Sphingomonas) 박테리아 균주를 액체 배양한 배양액에, 별도로 액체 배양된 수탁번호 KCCM10889P로 기탁된 아스페질러스 속(Aspegillus) 곰팡이 균주 또는 상기 균주를 포함한 배양액을 가하여 배양하는 단계를 포함하는, 균복합체의 혼합배양방법.","양현옥, 권학철, 박현봉, 유지혜","C12N-001/20,C12N-001/16,C12N-001/00","KR20090052035A","2009.05.25",null,"2027.11.20","1<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3 수탁번호 KCCM10888P로 기탁된 스핑고모나스 속(Sphingomonas) 박테리아 균주를 액체 배양한 배양액에, 별도로 액체 배양된 수탁번호 KCCM10889P로 기탁된 아스페질러스 속(Aspegillus) 곰팡이 균주 또는 상기 균주를 포함한 배양액을 가하여 배양하는 단계를 포함하는, 균복합체의 혼합배양방법. 4 제 3항에 있어서, 스핑고모나스 속 박테리아 균주 및 아스페질러스 속(Aspegillus) 곰팡이 균주를 1000 : 1.0 ~ 1000 : 0.1의 비율로 혼합하는 것을 특징으로 하는 혼합배양방법. 5 제 3항의 혼합배양방법으로 8일 이상 배양된 균복합체의 배양액. 6<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 7 제 5항의 균복합체의 배양액으로부터 분리되는, 하기 &amp;lt;화학식 3&amp;gt; 또는 &amp;lt;화학식 4&amp;gt;로 표시되는 화합물: &amp;lt;화학식 3&amp;gt; &amp;lt;화학식 4&amp;gt; . 8<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 9 제 5항의 배양액, 상기 &amp;lt;화학식 3&amp;gt;로 표시되는 화합물 또는 &amp;lt;화학식 4&amp;gt;로 표시되는 화합물을 함유하는, 위암, 간암, 대장암, 폐암 및 전립선암으로 구성된 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상의 암에 대한 항암제. 10<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 11 제 5항의 배양액 또는 상기 &amp;lt;화학식 3&amp;gt;으로 표시되는 화합물을 함유하는, 마이크로코쿠스 로이테우스(Micrococcus leuteus), 바실러스 서브틸러스(Bacillus subtilis), 프로테우스 불가리스(Proteus vulgaris), 살모넬라 티피무리엄(Salmonella typhimurium), 메티실린 내성 황색 포도상구균(Methicillin Resistance Staphylococcus aureus), 아스퍼질러스 푸미가투스(Aspergillus fumigatus) 및 T.루브럼(Trichophyton rubrum)로 구성된 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상의 균주에 대한 항균제. 12<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","CN101868531A, EP2209887A2, EP2209887A4, JP2011502532A, KR100936277B1, KR20090052035A, US2010215620A1, WO2009066876A2, WO2009066876A3",null,1]
["F04048","생화학","DE","Plasmid for expressing thioredoxin fusion protein and method for producing target protein using same",null,"원문이미지","EP2009168440","2009.08.24","EP02210950B1","2013.08.14","The present invention provides a plasmid for expressing a thioredoxin fusion protein comprising thioredoxin as a fusion partner, an E.coli cell transformed with the plasmid, and an efficient method for producing a target protein using the E.coli cell. The method according to the present invention can easily remove thioredoxin from thioredoxin fusion protein, so that can produce a target protein of interest in pure and large quantities in the field of medicine and bioengineering.,","1. A plasmid which is prepared by deleting the S-tag coding sequence from pET-32a(+) plasmid having the nucleotide sequence of SEQ ID NO: 3 represented by the cleavage map of Fig. 1, the pET-32a(+) plasmid comprising a thioredoxin gene, a thrombin recognition site, an S-tag coding sequence, and a multiple cloning site for the insertion of a gene encoding a target protein, wherein the plasmid has the nucleotide sequence of SEQ ID NO: 4 represented by the cleavage map of Fig.2 and is designated pET-32-S(-) plasmid.","Ahn, Hee-Chul, Ahn, Hyung Jun, Shin, Dong Yun, Lim, Jong Soo, Ahn, Dae-Ro","C12N-015/70","EP02210950A1","2010.07.28","2009.01.15 (KR 20090003431)",null,"1. A plasmid which is prepared by deleting the S-tag coding sequence from pET-32a(+) plasmid having the nucleotide sequence of SEQ ID NO: 3 represented by the cleavage map of Fig. 1, the pET-32a(+) plasmid comprising a thioredoxin gene, a thrombin recognition site, an S-tag coding sequence, and a multiple cloning site for the insertion of a gene encoding a target protein, wherein the plasmid has the nucleotide sequence of SEQ ID NO: 4 represented by the cleavage map of Fig.2 and is designated pET-32-S(-) plasmid. 2. The plasmid of claim 1, wherein the gene encoding a target protein is inserted in the multiple cloning site of the pET-32-S(-) plasmid. 3. The plasmid of claim 2, wherein said target protein is selected from the group consisting of human STAT6 SH2 domain, prolyl hydroxylase 2 (PHD2), human á-defensin-2 (hBD2), human interleukin-6 receptor a-chain (hIL-6Ra), mannan-binding lectin-CLR (MBL-CLR), wheat peroxisomal ascorbate peroxidase (pAPX), rhesus macaque interleukin-4 (rMamu IL-4), and a-galactosidase. 4. An E. coli cell transformed with the plasmid according to any one of claims 1 to 2. 5. The E. coli cell of claim 4, which is selected from the group consisting of DH5a, BL21, HB101, JM109, and TH2. 6. A method for producing a target protein, comprising: i) inserting a gene encoding the target protein in the multiple cloning site of the plasmid of claim 1;ii) transforming E. coli cells with the plasmid obtained in i), and culturing the transformed E. coli cells to express a thioredoxin fusion protein; andiii) treating the thioredoxin fusion protein with thrombin. 7. The method of claim 6, wherein the target protein is selected from the group consisting of human STAT6 SH2 domain, prolyl hydroxylase 2(PHD2), human á-defensin-2 (hBD2), human interleukin-6 receptor a-chain (hIL-6Ra), mannan-binding lectin-CLR (MBL-CLR), wheat peroxisomal ascorbate peroxidase (pAPX), rhesus macaque interleukin-4 (rMamu IL-4), and a-galactosidase. 8. The method of claim 6, which further comprises steps of isolation and purification of the thioredoxin fusion protein prior to step (iii).","EP2210950A1, EP2210950B1, KR101016766B1, KR20100084039A, US2010184146A1",null,1]
["K04282","유전공학","KR","니트로푸란토인 처리에 따른, 폐독성 유발 약물 검색용마커유전자 및 이를 이용한 검색 방법{Marker genes based on nitrofurantoin treatment for screening of drug inducing pulmonary toxicity and screening method using thereof}",null,"원문이미지","KR20070139711A","2007.12.28","KR0957051B1","2010.05.03","본 발명은 폐독성 유발 약물 검색용 마커유전자 및 이를 이용한 검색 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 폐독성 유발 약물인 니트로푸란토인(nitrofurantoin)에 의해 유전자 발현이 증가 또는 감소하는 마커유전자 및 이를 이용한 폐독성 유발 약물의 검색 방법에 관한 것이다. 본 발명의 마커유전자는 DNA 마이크로어레이 칩을 통하여 선별된 반응 유전자들을 마커유전자로 이용하여 폐독성의 위험성을 지닌 약물 또는 화학물질을 모니터링 및 판정하는데 유용하게 사용될 수 있으며, 니트로푸란토인이 폐독성 및 부작용을 일으키는 작용 기작을 규명하는 도구로 이용될 수 있다.","1 하기의 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상의 유전자의 핵산서열의 전부 또는 18 내지 30개의 핵산 서열로 구성되는 상기 유전자의 단편인 올리고뉴클레오티드 또는 그의 상보가닥 분자가 집적된 니트로푸란토인 처리에 대한 JAK-STAT 신호경로(signaling pathway) 관련 기능을 갖는 유전자 발현 여부 확인용 DNA 마이크로어레이 칩: 유전자등록번호(Genebank) NM_053056(Cyclin D1), 유전자등록번호(Genebank) BC069137[Interleukin 5 (colony-stimulating factor, eosinophil), 유전자등록번호(Genebank) NM_003629[Phosphoinositide-3-kinase, regulatory subunit 3 (p55, gamma)], 유전자등록번호(Genebank) NM_003955(Suppressor of cytokine signaling 3), 유전자등록번호(Genebank) NM_002309(Hypothetical protein MGC20647), 유전자등록번호(Genebank) NM_172220[Colony stimulating factor 3 (granulocyte)], 유전자등록번호(Genebank) AA995107[Transcribed locus, moderately similar to XP_517807.1 PREDICTED: interleukin 7 receptor (Pan troglodytes)].","류재천, 김연정, 송미","C12N-015/12,C12N-015/11,C12Q-001/68","KR20090071808A","2009.07.02",null,"2027.12.28","1 하기의 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상의 유전자의 핵산서열의 전부 또는 18 내지 30개의 핵산 서열로 구성되는 상기 유전자의 단편인 올리고뉴클레오티드 또는 그의 상보가닥 분자가 집적된 니트로푸란토인 처리에 대한 JAK-STAT 신호경로(signaling pathway) 관련 기능을 갖는 유전자 발현 여부 확인용 DNA 마이크로어레이 칩: 유전자등록번호(Genebank) NM_053056(Cyclin D1), 유전자등록번호(Genebank) BC069137[Interleukin 5 (colony-stimulating factor, eosinophil), 유전자등록번호(Genebank) NM_003629[Phosphoinositide-3-kinase, regulatory subunit 3 (p55, gamma)], 유전자등록번호(Genebank) NM_003955(Suppressor of cytokine signaling 3), 유전자등록번호(Genebank) NM_002309(Hypothetical protein MGC20647), 유전자등록번호(Genebank) NM_172220[Colony stimulating factor 3 (granulocyte)], 유전자등록번호(Genebank) AA995107[Transcribed locus, moderately similar to XP_517807.1 PREDICTED: interleukin 7 receptor (Pan troglodytes)]. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 6 1) 인간 기관지 세포 또는 폐 세포에 피검화합물을 처리하는 단계; 2) 단계 1)의 피검화합물을 처리한 실험군 세포와 피검화합물을 처리하지 않은 대조군 세포에서 RNA를 분리하는 단계; 3) 단계 2)의 실험군 및 대조군의 RNA를 cDNA로 합성하면서 실험군과 대조군을 각기 다른 형광물질로 표지하는 단계; 4) 단계 3)의 각기 다른 형광물질로 표지된 cDNA를 제 1항의 DNA 마이크로어레이칩과 혼성화시키는 단계; 5) 반응한 DNA 마이크로어레이칩을 분석하는 단계; 및 6) 분석한 데이터에서 제 1항의 DNA 마이크로어레이칩에 집적된 유전자의 발현 정도를 대조군과 비교하여 확인하는 단계를 포함하는, 니트로푸란토인 처리에 대한 JAK-STAT 신호경로(signaling pathway) 관련 기능을 갖는 유전자 발현 여부 확인 방법. 7 제 6항에 있어서, 단계 1)의 인간 기관지 세포는 인간 기관지 상피 세포인 BEAS-2B 세포인 것을 특징으로 하는 방법. 8 제 6항에 있어서, 단계 3)의 형광물질은 Cy3, Cy5, 폴리 L-라이신-플루오레세인 이소티오시아네이트(poly L-lysine-fluorescein isothiocyanate, FITC), 로다민-B-이소티오시아네이트(rhodamine-B-isothiocyanate, RITC), 로다민(rhodamine)으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 방법. 9 1) 인간 기관지 세포 또는 폐 세포에 피검화합물을 처리하는 단계; 2) 단계 1)의 피검화합물을 처리한 실험군 세포와 처리하지 않은 대조군 세포에서 RNA를 분리하는 단계; 3) 단계 2)의 RNA를, 제 1항의 마이크로어레이칩에 집적된 유전자에 상보적이고 상기 유전자를 증폭할 수 있는 18머 내지 30머 길이의 프라이머쌍을 사용하여 실시간 RT-PCR(Real-time reverse transcript polymerase chain reaction)을 수행하는 단계; 및 4) 단계 3)의 유전자 산물을 대조군과 비교하여 발현 정도를 확인하는 단계를 포함하는, 니트로푸란토인 처리에 대한 JAK-STAT 신호경로(signaling pathway) 관련 기능을 갖는 유전자 발현 여부 확인 방법. 10 제 9항에 있어서, 단계 1)의 인간 기관지 세포는 인간 기관지 상피 세포인 BEAS-2B 세포인 것을 특징으로 하는 방법. 11 제 1항의 DNA 마이크로어레이 칩을 포함하는, 니트로푸란토인 처리에 대한 JAK-STAT 신호경로(signaling pathway) 관련 기능을 갖는 유전자 발현 여부 확인용 키트. 12 제 11항에 있어서, BEAS-2B 세포, 인간 기관지 세포 또는 폐 세포를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 키트. 13 제 11항에 있어서, 스트렙타비딘-알칼리 탈인화효소 접합물질(strepavidin-like phosphatease conjugate), 화학형광물질(chemiflurorensce) 및 화학발광물질(chemiluminescent)로 이루어진 형광물질군으로부터 선택되는 어느 하나를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 키트. 14 제 11항에 있어서, 혼성화에 사용되는 완충용액, RNA로부터 cDNA를 합성하기 위한 역전사효소, cNTPs 및 rNTP(사전 혼합형 또는 분리 공급형), 표식시약, 및 세척 완충용액으로 이루어진 반응시약군으로부터 선택되는 어느 하나를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 키트. 15 제 1항의 DNA 마이크로어레이 칩에 집적된 유전자에 상보적이고, 상기 유전자를 증폭할 수 있는 18머 내지 30머 길이의 프라이머쌍을 포함하는, 니트로푸란토인 처리에 대한 JAK-STAT 신호경로(signaling pathway) 관련 기능을 갖는 유전자 발현 여부 확인용 키트. 16<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100957051B1, KR20090071808A",null,1]
["K04298","재료","KR","수중환경에서의 ＤＬＣ박막의 내마모성 및 계면 접합력을증가시키는 박막 증착 기술{DIAMOND-LIKE CARBON COATING METHOD FOR ENHANCING WEAR RESISTANCE AND INTERFACIAL TOUGHNESS IN AQUEOUS ENVIRONMENT}",null,"원문이미지","KR20070137927A","2007.12.26","KR0958833B1","2010.05.12","본 발명은 수중 환경에서의 다이아몬드상 카본(Diamond-like carbon) 박막의 마찰 거동 및 마모 현상에 관한 것으로, 본 발명에 따른 다이아몬드상 카본 박막 형성 방법은, 플라즈마 보조 화학기상증착법(Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition)을 이용한 것으로, 벤젠가스에 수소가스로 혼합하여 전구체 가스(precursor gas)로 사용하는 것을 특징으로 한다.","3 반응 챔버 내에 박막을 형성하고자 하는 물질을 전극 상에 배치한 후 진공상태를 유지하고, 상기 반응 챔버 내에 상기 벤젠과 수소의 전구체 가스를 넣고, 반응 챔버 내로 메탄가스를 공급하면서 상기 전극 상에 라디오파(radio frequency) 전원에 의한 전압을 가하여 플라즈마 보조 화학기상증착법으로 다이아몬드상 카본 박막을 형성하는 방법으로서, 상기 전극 상에 가하는 전압은 0 초과 2000 eV인 다이아몬드상 카본 박막을 형성하는 방법.","이진우, 이광렬, 문명운, 박세준","C23C-016/26,C23C-016/27,C23C-016/50","KR20090070057A","2009.07.01",null,"2027.12.26","1<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3 반응 챔버 내에 박막을 형성하고자 하는 물질을 전극 상에 배치한 후 진공상태를 유지하고, 상기 반응 챔버 내에 상기 벤젠과 수소의 전구체 가스를 넣고, 반응 챔버 내로 메탄가스를 공급하면서 상기 전극 상에 라디오파(radio frequency) 전원에 의한 전압을 가하여 플라즈마 보조 화학기상증착법으로 다이아몬드상 카본 박막을 형성하는 방법으로서, 상기 전극 상에 가하는 전압은 0 초과 2000 eV인 다이아몬드상 카본 박막을 형성하는 방법. 4 제3항에 있어서, 상기 벤젠가스에 혼합하는 수소가스의 비율은 0 초과 2의 분율인 다이아몬드상 카본 박막을 형성하는 방법. 5 제3항에 있어서, 상기 반응 챔버 내의 압력은 0.1 내지 100 mTorr인 다이아몬드상 카본 박막을 형성하는 방법. 6<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100958833B1, KR20090070057A",null,1]
["K04268","의료","KR","악티노마이신 Ｄ를 유효성분으로 하는 ＤＤＲ과 콜라겐결합 저해제{The inhibitor on the binding of DDR proteins to collagens comprising an actinomycin D as an effective compound}",null,"원문이미지","KR20070108128A","2007.10.26","KR0925559B1","2009.10.30","본 발명은 악티노마이신 D를 유효성분으로 하는 DDR과 콜라겐 결합 저해제에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 악티노마이신 D을 DDR 단백질의 과잉 활성에 의해 유발되는 질환을 치료하는 방법에 사용하는 용도에 관한 것이다. DDR의 세포외 도메인은 DDR의 리간드인 콜라겐 단백질과 결합하는 특성이 있으며 악티노마이신 D는 이들 결합을 저해하는 활성이 우수하여 DDR 단백질의 과잉 활성에 의해 유발되는 암, 간경화, 류마티스 질환 또는 동맥경화 예방 및 치료에 유용하게 사용될 수 있다.","4 하기 화학식 (1)로 기재되는 악티노마이신 D와 약학적으로 허용되는 담체를 함유하는 간경화, 류마티스 질환 또는 동맥경화의 예방 및 치료용 약학적 조성물: .","양범석, 조승주","A61K-038/08,A61P-035/00,A61P-001/16,A61P-009/10","KR20090042398A","2009.04.30",null,"2027.10.26","1<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4 하기 화학식 (1)로 기재되는 악티노마이신 D와 약학적으로 허용되는 담체를 함유하는 간경화, 류마티스 질환 또는 동맥경화의 예방 및 치료용 약학적 조성물: . 5<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 6 치료적으로 유효한 양의 악티노마이신 D를 인간을 제외한 포유류에게 투여하는 단계를 포함하는 간경화, 류마티스 질환 또는 동맥경화를 치료하는 방법. 7<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 8 악티노마이신 D를 유효성분으로 하는 간경화, 류마티스 질환 또는 동맥경화의 예방 및 개선용 건강 기능성 식품. 9<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100925559B1, KR20090042398A",null,1]
["K04271","컴퓨터","KR","고속 위치 추정 시스템 및 방법{SYSTEM AND METHOD FOR ESTIMATING A POSITION WITH HIGH SPEED}",null,"원문이미지","KR20070133223A","2007.12.18","KR0940251B1","2010.01.27","본 발명은 위치 추정 시스템 및 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 복수의 비콘에서 동일한 신호 성분 또는 상이한 신호 성분을 갖는 위치 추정 신호를 동시에 또는 소정 시간 간격을 두고 발생시켜서, 빠른 신호 전달을 통해 신뢰도가 향상된 정보를 획득하여, 정확한 위치값을 산출할 수 있는 위치 추정 시스템 및 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 위치 추정 시스템은, 위치값 산출을 위한 위치 추정 신호를 동시에 또는 소정 시간 간격으로 발생시키는 복수의 비콘, 및 상기 비콘에서 송신된 위치 추정 신호를 수신하여 현재의 위치값을 산출하는 마스터 모듈을 포함하며, 하나 이상의 상기 비콘은 상이한 신호 성분을 갖는 위치 추정 신호를 발생시키고, 상기 소정 시간 간격은, 현재의 위치값(Zt) 산출 직전의 위치값(Zt-1)에서 동일한 신호 성분을 갖는 위치 추정 신호를 발신하는 비콘들로부터 발신된 신호들이 상기 마스터 모듈까지 도달하는데 걸리는 시간차(Td)와 안전 거리 확보를 위한 오프셋(α)을 곱하여 산출된다.","1 위치값 산출을 위한 위치 추정 신호를 동시에 또는 소정 시간 간격으로 발생시키는 복수의 비콘; 및 상기 비콘에서 송신된 위치 추정 신호를 수신하여 현재의 위치값을 산출하는 마스터 모듈을 포함하며, 하나 이상의 상기 비콘은 상이한 신호 성분을 갖는 위치 추정 신호를 발생시키고, 상기 소정 시간 간격은, 현재의 위치값(Zt) 산출 직전의 위치값(Zt-1)에서 동일한 신호 성분을 갖는 위치 추정 신호를 발신하는 비콘들로부터 발신된 신호들이 상기 마스터 모듈까지 도달하는데 걸리는 시간차(Td)와 안전 거리 확보를 위한 오프셋(α)을 곱하여 산출되는 것을 특징으로 하는 위치 추정 시스템.","최종석, 김홍식","G01S-001/02","KR20090065752A","2009.06.23",null,"2027.12.18","1 위치값 산출을 위한 위치 추정 신호를 동시에 또는 소정 시간 간격으로 발생시키는 복수의 비콘; 및 상기 비콘에서 송신된 위치 추정 신호를 수신하여 현재의 위치값을 산출하는 마스터 모듈을 포함하며, 하나 이상의 상기 비콘은 상이한 신호 성분을 갖는 위치 추정 신호를 발생시키고, 상기 소정 시간 간격은, 현재의 위치값(Zt) 산출 직전의 위치값(Zt-1)에서 동일한 신호 성분을 갖는 위치 추정 신호를 발신하는 비콘들로부터 발신된 신호들이 상기 마스터 모듈까지 도달하는데 걸리는 시간차(Td)와 안전 거리 확보를 위한 오프셋(α)을 곱하여 산출되는 것을 특징으로 하는 위치 추정 시스템. 2 제 1 항에 있어서, 상기 신호 성분은 주파수 대역, 신호의 크기 또는 신호 파형인 것을 특징으로 하는 위치 추정 시스템. 3 제 1 항에 있어서, 상기 마스터 모듈에서 수신된 위치 추정 신호를 여과하여 소정 주파수 대역의 신호만을 검출하는 대역 통과 필터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 위치 추정 시스템. 4 제 1 항에 있어서, 상기 복수의 비콘 중 하나 이상은 상기 마스터 모듈와 교신하는 무선 주파수(RF) 비콘이며, 나머지 비콘은 상기 RF 비콘과 연결되어, 상기 RF 비콘의 명령에 따라 상기 위치 추정 신호를 발생시키는 것을 특징으로 하는 위치 추정 시스템. 5 제 4 항에 있어서, 상기 마스터 모듈은 상기 RF 비콘으로 위치 추정 요청 신호를 송신하며, 상기 위치 추정 요청 신호는 현재의 위치값(Zt) 산출 직전의 위치값(Zt-1) 정보를 포함하는 것을 특징으로 하는 위치 추정 시스템. 6 제 1 항에 있어서, 상기 마스터 모듈은 산출된 위치값을 시간의 경과에 따라 순차적으로 저장하는 메모리를 포함하는 것을 특징으로 하는 위치 추정 시스템. 7 마스터 모듈에서 RF 비콘으로 위치 추정 요청 신호를 전송하는 단계; 상기 RF 비콘의 명령에 따라 하나 이상의 비콘에서 상이한 신호 성분을 갖는 위치 추정 신호를 동시에 또는 소정 시간 간격으로 송신하는 단계; 및 상기 비콘에서 송신된 위치 추정 신호를 상기 마스터 모듈에서 수신하여 현재의 위치값을 산출하는 단계를 포함하며, 상기 소정 시간 간격은, 현재의 위치값(Zt) 산출 직전의 위치값(Zt-1)에서 동일한 신호 성분을 갖는 위치 추정 신호를 발신하는 비콘들로부터 발신된 신호들이 상기 마스터 모듈까지 도달하는데 걸리는 시간차(Td)와 안전 거리 확보를 위한 오프셋(α)을 곱하여 산출되는 것을 특징으로 하는 위치 추정 방법. 8 제 7 항에 있어서, 상기 마스터 모듈에서 수신된 위치 추정 신호를 대역 통과 필터에서 여과하여 소정 주파수 대역의 신호만을 검출하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 위치 추정 방법. 9 제 7 항에 있어서, 상기 위치 추정 요청 신호는 현재의 위치값(Zt) 산출 직전의 위치값(Zt-1) 정보를 포함하는 것을 위치 추정 방법. 10<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100940251B1, KR20090065752A",null,1]
["K04287","물리","KR","스펙트럼 왜곡을 유발하는 인공귀 및 이를 이용한 음원방향 검지 방법{Artificial Ear Inducing Spectral Distortion and Method for Detecting the Direction of a Sound Source Using the Same}",null,"원문이미지","KR20070116031A","2007.11.14","KR0931401B1","2009.12.03","본 발명은 스펙트럼 왜곡을 유발하는 인공귀 및 이를 이용한 음원 방향 검지 방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 음원의 방향에 따라 변화하는 출력신호의 스펙트럼 왜곡을 유발하는 인공귀를 설계하고, 음원 방향에 따른 스펙트럼 왜곡 정보에 대한 데이터베이스를 구축한 후, 실제 측정된 양 귀 출력신호의 스펙트럼 왜곡 정보를 상기 데이터베이스와 비교하여 음원의 방향을 추정한다. 구체적으로는, 양 귀 출력신호의 지연시간과 마이크로폰이 부착된 플랫폼의 형상정보를 이용하여 음원의 수평각을 추정하며, 양 귀 출력신호 사이의 주파수 영역 전달함수의 피크, 노치 정보를 상기 데이터베이스의 정보와 비교함으로써 음원 위치의 앞-뒤 구분 및 고도각을 추정한다. 이로써 두 마이크로폰만을 사용하여 음원 위치의 앞-뒤 구분, 수평각 및 고도각을 추정할 수 있고, 다수의 마이크로폰으로 구성된 마이크로폰 어레이를 사용하는 것에 비해 플랫폼에 마이크로폰을 배치하는 것이 자유로워지며, 처리해야 할 출력 신호의 양이 줄어들어 실시간 방향 검지가 용이해진다.","1 음원 방향에 따라 변화하는 출력신호의 스펙트럼 왜곡을 유발하는 인공귀로서, 마이크로폰이 부착되는 마이크로폰 홀; 및 곡면 형상의 구조물을 포함하되, 음원의 위치가 변경됨에 따라 상기 구조물의 곡면과 상기 마이크로폰 사이의 거리가, 음원 방향에 따라 증가 또는 감소하도록 설계된 것을 특징으로 하는 인공귀.","최종석, 김문상, 박영진, 황성목","H04R-025/00","KR20090049761A","2009.05.19",null,"2027.11.14","1 음원 방향에 따라 변화하는 출력신호의 스펙트럼 왜곡을 유발하는 인공귀로서, 마이크로폰이 부착되는 마이크로폰 홀; 및 곡면 형상의 구조물을 포함하되, 음원의 위치가 변경됨에 따라 상기 구조물의 곡면과 상기 마이크로폰 사이의 거리가, 음원 방향에 따라 증가 또는 감소하도록 설계된 것을 특징으로 하는 인공귀. 2 제 1 항에 있어서, 상기 구조물은 방향 검지 대상 음원에서 방사되는 음파를 반사 및 회절시켜 스펙트럼 왜곡을 유발하는 것을 특징으로 하는 인공귀. 3 제 1 항에 있어서, 상기 인공귀의 크기는 방향 검지 대상 음원에서 발생하는 신호의 주파수 대역에 따라 상이한 것을 특징으로 하는 인공귀. 4 음원 방향에 따라 변화하는 출력신호의 스펙트럼 왜곡을 유발하는 인공귀를 이용한 음원 방향 검지 방법으로서, 두 개의 마이크로폰 및 두 개의 상기 인공귀가 로봇 플랫폼에 부착되는 단계(a); 상기 두 개의 인공귀 간의 시간차로부터 음원의 수평각을 추정하는 단계(b); 및 상기 두 개의 인공귀의 신호 사이의 주파수 영역 전달함수로부터 음원 위치의 앞-뒤 구분 및 음원의 고도각을 추정하는 단계(c)를 포함하며, 상기 주파수 영역 전달 함수는 f가 주파수, Pear1과 Pear2가 각각 상기 두 개의 인공귀에 도달한 음파의 음압을 나타낼 때, 의 수학식인 것을 특징으로 하는 음원 방향 검지 방법. 5 제 4 항에 있어서, 상기 단계(a)에서 상기 두 개의 마이크로폰은 각각 상기 두 개의 인공귀의 마이크로폰 홀에 부착되며, 상기 두 개의 마이크로폰은 서로 비대칭적인 위치에 부착되는 것을 특징으로 하는 음원 방향 검지 방법. 6 제 4 항에 있어서, 상기 단계(a)에서 상기 두 개의 인공귀의 모양 또는 크기가 서로 상이한 것을 특징으로 하는 음원 방향 검지 방법. 7 제 4 항에 있어서, 상기 단계(b)에서 상기 두 개의 마이크로폰이 부착되는 상기 로봇 플랫폼의 형상 및 상기 두 개의 마이크로폰이 부착된 위치를 고려하여 음원의 수평각을 추정하는 것을 특징으로 하는 음원 방향 검지 방법. 8 제 4 항에 있어서, 상기 단계(c)에서 상기 두 개의 인공귀의 신호 사이의 주파수 영역 전달함수에서 피크와 노치의 존재유무로부터 음원 위치의 앞-뒤를 구분하는 것을 특징으로 하는 음원 방향 검지 방법. 9 제 4 항에 있어서, 상기 단계(c)에서 상기 두 개의 인공귀의 신호 사이의 주파수 영역 전달함수에서 피크와 노치 정보로부터 음원의 고도각을 추정하는 것을 특징으로 하는 음원 방향 검지 방법.","KR100931401B1, KR20090049761A",null,1]
["K04267","생물","KR","ＤＤＲ과 콜라겐 결합 저해물질을 검색하는 방법{The method for screening inhibitors on the binding of DDR proteins to collagens}",null,"원문이미지","KR20070108127A","2007.10.26","KR0945018B1","2010.02.23","본 발명은 디스코이딘 도메인 리셉터(Discoidin Domain Receptor, DDR)와 콜라겐 결합 저해물질을 검색하는 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 DDR의 세포외 도메인과 세포막 통과 도메인을 포함하는 단백질을 곤충세포에서 발현시 세포막에 올바른 방향성으로 존재하며 DDR의 세포외 부위와 배양 접시 표면에 코팅된 콜라겐 단백질이 결합하는 특성을 이용하여 이들 결합을 저해하는 물질을 세포차원에서 검색하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 검색법은 간편하여 짧은 시간 내에 많은 물질을 탐색할 수 있고 DDR 단백질의 과잉 활성에 의해 유발되는 질환의 예방 및 치료제 개발에 유용하게 사용될 수 있다.","1 ⅰ) 세포 배양 접시 또는 단백질을 잘 부착시키는 성질을 가진 표면에 콜라겐을 코팅하는 단계; ⅱ) DDR 단백질의 세포외 도메인을 세포 표면에 발현하는 형질전환 곤충세포를 콜라겐으로 코팅된 배양 접시에 가하여 반응시키는 단계; ⅲ) 배양접시에 부착된 곤충세포를 고정시킨 후 염색하는 단계; 및 ⅳ) 흡광도를 측정하여 고정된 세포수를 정량하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 DDR(Discoidin Domain Receptor) 단백질과 콜라겐 상호작용을 정량적으로 분석하는 방법.","양범석, 조승주","G01N-033/68,G01N-033/53","KR20090042397A","2009.04.30",null,"2027.10.26","1 ⅰ) 세포 배양 접시 또는 단백질을 잘 부착시키는 성질을 가진 표면에 콜라겐을 코팅하는 단계; ⅱ) DDR 단백질의 세포외 도메인을 세포 표면에 발현하는 형질전환 곤충세포를 콜라겐으로 코팅된 배양 접시에 가하여 반응시키는 단계; ⅲ) 배양접시에 부착된 곤충세포를 고정시킨 후 염색하는 단계; 및 ⅳ) 흡광도를 측정하여 고정된 세포수를 정량하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 DDR(Discoidin Domain Receptor) 단백질과 콜라겐 상호작용을 정량적으로 분석하는 방법. 2 제 1항에 있어서, 곤충세포는 sf9, sf21 및 Hi-five로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 세포인 것을 특징으로 하는 DDR 단백질과 콜라겐 상호작용을 정량적으로 분석하는 방법. 3 제 1항에 있어서, 곤충세포에서 발현된 DDR 단백질이 동물세포에서와 같이 세포막에 존재하며 세포외 부분은 세포외로 표출되는 것을 특징으로 하는 DDR 단백질과 콜라겐 상호작용을 정량적으로 분석하는 방법. 4 제 1항에 있어서, 콜라겐은 제 1형, 제 2형 또는 제 3형 콜라겐으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 DDR 단백질 리간드인 것을 특징으로 하는 DDR 단백질과 콜라겐 상호작용을 정량적으로 분석하는 방법. 5 제 1항에 있어서, 상기 형질전환 곤충세포는 DDR 단백질의 N-말단 세포외 도메인과 막통과 도메인을 포함하는 단백질을 코딩하는 폴리뉴클레오티드를 포함하는 배큘로 바이러스에 감염된 것을 특징으로 하는 DDR 단백질과 콜라겐 상호작용을 정량적으로 분석하는 방법. 6 제 5항에 있어서, 상기 DDR 단백질의 N-말단 세포외 도메인과 막통과 도메인을 포함하는 단백질은 서열번호 2로 기재되는 아미노산 서열을 갖는 것을 특징으로 하는 DDR 단백질과 콜라겐 상호작용을 정량적으로 분석하는 방법. 7 제 1항에 있어서, 상기 단계 ⅳ)의 흡광도는 고정된 세포에 염색된 염료를 용출하여 측정하는 것을 특징으로 하는 DDR 단백질과 콜라겐 상호작용을 정량적으로 분석하는 방법. 8 제 1항에 있어서, 상기 DDR 단백질은 DDR2 단백질인 것을 특징으로 하는 DDR 단백질과 콜라겐 상호작용을 정량적으로 분석하는 방법. 9 제 1항에 있어서, 상기 DDR 단백질은 포유류에서 유래한 것을 특징으로 하는 DDR 단백질과 콜라겐 상호작용을 정량적으로 분석하는 방법. 10 제 9항에 있어서, 상기 포유류는 식충목, 피익목, 박쥐목, 영장목, 빈치목, 토끼목, 식육목, 고래목, 관치목, 장비목, 바위너구리목, 바다소목, 말목, 소목, 쥐목으로 구성된 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 DDR 단백질과 콜라겐 상호작용을 정량적으로 분석하는 방법. 11 ⅰ) 세포 배양 접시에 콜라겐을 코팅하는 단계; ⅱ) DDR 단백질의 세포외 도메인을 세포 표면에 발현하는 형질전환 곤충세포 및 검색 후보물질을 콜라겐으로 코팅된 배양 접시에 가하여 반응시키는 단계; 및 ⅲ) 후보물질을 투여하지 않은 대조군과 비교하여 DDR 단백질과 콜라겐 결합을 유의하게 저해하는 후보 물질을 선별하는 단계를 포함하는 곤충세포 발현법을 이용하여 DDR 단백질과 콜라겐 결합 저해물질을 검색하는 방법. 12 제 11항에 있어서, 상기 형질전환 곤충세포는 DDR 단백질의 N-말단 세포외 도메인과 막통과 도메인을 포함하는 단백질을 코딩하는 폴리뉴클레오티드를 포함하는 배큘로 바이러스에 감염된 것을 특징으로 하는 DDR 단백질과 콜라겐 결합 저해물질을 검색하는 방법. 13 제 12항에 있어서, 상기 DDR 단백질의 N-말단 세포외 도메인과 막통과 도메인을 포함하는 단백질은 서열번호 2로 기재되는 아미노산 서열을 갖는 것을 특징으로 하는 DDR 단백질과 콜라겐 결합 저해물질을 검색하는 방법. 14 제 11항에 있어서, DDR 단백질과 콜라겐 결합 저해물질이 암, 간경화, 류마티스 질환 또는 동맥경화의 예방 또는 치료제로 사용되는 것을 특징으로 하는 DDR 단백질과 콜라겐 결합 저해물질을 검색하는 방법. 15 제 11항에 있어서, 상기 단계 ⅱ)의 후보물질은 펩티드, 단백질, 비펩티드성 화합물, 합성 화합물, 발효 생산물, 세포 추출액, 식물 추출액, 동물 조직 추출액 또는 혈장인 것을 특징으로 하는 DDR 단백질과 콜라겐 결합 저해물질을 검색하는 방법. 16 제 11항에 있어서, 결합 저해는 IC50을 측정하는 것을 특징으로 하는 DDR 단백질과 콜라겐 결합 저해물질을 검색하는방법. 17<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100945018B1, KR20090042397A",null,1]
["F02719","재료","JP","불규칙한 표면 구조의 조기 도입에 의하여 고수율의 바이오이메징나노 입자를 제조하는 방법",null,"원문이미지","JP2008156971A","2008.06.16","JP5008607B9","2012.06.08","(57)【요약】 【과제】입자간의 수소결합의 인력에 의한 응집 및 침전 현상을 입체적으로 방해하고 나노 입자의 손실 없음에 무극성 유기 용매 또는 수용액내에서 분산성 및 안정성에 우수한 바이오이메징나노 입자를 고수율으로 제조하는 방법 및 이것에 의해 제조하게 되는 바이오이메징나노 입자를 제공한다.【해결 수단】불규칙한 표면 구조의 조기 도입에 따라서 수용액내에서 분산성에 우수하고, 생체 적합성 및 표적 지향성을 가지는 바이오이메징나노 입자를 고수율으로 제조한다.【선택도】그림 2","【청구항 1】 1)계면활성제에 의하여 보호받는 코어 또는 코어/셸구조의 소수성 무기물나노 입자에, 탄소수 8∼20개의 탄화 수소쇄에 의하여 티올기와 친수기와가 결합하게 되는 유기 배위자를 1∼30 당량 첨가하고 계면활성제를 부분적으로 치환하고, 나노 입자의 표면에 금속 치오라토(M-S)결합을 형성한 것에 의해, 일부분만이 친수성에 표면 개질하게 되고, 무극성 유기 용매로 개별 분산성을 유지하는 소수성나노 입자를 제조하는 단계; 2)상기 단계 1)으로 제조하게 되는 소수성나노 입자의 표면상에 도입하게 되는 친수기에 기능성 분자를 결합하게 하고 개별 분산성을 유지하면서, 나노 입자의 표면에 관능성 및 불규칙한 표면 구조를 부여하는 단계;이르고 3)상기 단계 2)으로 제조하게 되는 나노 입자의 표면상에 잔존하는 나머지 계면활성제를 적어도 2개의 친수기가 탄소수 1∼7개의 탄화 수소쇄에 의하여 결합하게 되는 유기 배위자로 치환한 것에 의해 상기나노 입자를 친수성나노 입자에 변환하게 하는 단계를 포함한다, 바이오이메징나노 입자의 제조 방법.","ウ­,キョンジャ, ム­ン,ジヒュン","B82B-003/00,G01N-033/543,B82B-001/00,B01J-019/00,G01N-033/551,G01N-033/53,G01N-033/547,C01G-049/06","JP2009107106A","2009.05.21","2007-10-31 (KR 10-2007-0110333)","2028.06.16","【특허청구의 범위】 【청구항 1】 1)계면활성제에 의하여 보호받는 코어 또는 코어/셸구조의 소수성 무기물나노 입자에, 탄소수 8∼20개의 탄화 수소쇄에 의하여 티올기와 친수기와가 결합하게 되는 유기 배위자를 1∼30 당량 첨가하고 계면활성제를 부분적으로 치환하고, 나노 입자의 표면에 금속 치오라토(M-S)결합을 형성한 것에 의해, 일부분만이 친수성에 표면 개질하게 되고, 무극성 유기 용매로 개별 분산성을 유지하는 소수성나노 입자를 제조하는 단계; 2)상기 단계 1)으로 제조하게 되는 소수성나노 입자의 표면상에 도입하게 되는 친수기에 기능성 분자를 결합하게 하고 개별 분산성을 유지하면서, 나노 입자의 표면에 관능성 및 불규칙한 표면 구조를 부여하는 단계;이르고 3)상기 단계 2)으로 제조하게 되는 나노 입자의 표면상에 잔존하는 나머지 계면활성제를 적어도 2개의 친수기가 탄소수 1∼7개의 탄화 수소쇄에 의하여 결합하게 되는 유기 배위자로 치환한 것에 의해 상기나노 입자를 친수성나노 입자에 변환하게 하는 단계를 포함한다, 바이오이메징나노 입자의 제조 방법. 【청구항 2】 상기 단계 1)에 있어서 소수성 무기물나노 입자가 주기율표상의 II족 원소 인 아연, 카드늄 및 납으로 되는 무리로부터 선택되는 어느 한쪽인가 1개의 원소와, 주기율표상의 VI족 원소 인 유황, 셀레늄 및 텔리움으로 되는 무리로부터 선택되는 어느 한쪽인가 1개의 원소로 되는 반도체나노 입자, 귀금속나노 입자 또는 산화철나노 입자 인 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 바이오이메징나노 입자의 제조 방법. 【청구항 3】 상기 소수성 무기물나노 입자가 CdSe,ZnS,CdSe/CdS,CdSe/ZnS,Au,Ag,Fe2O3 및 Fe3O4으로 되는 무리로부터 선택하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 2에 기재의 바이오이메징나노 입자의 제조 방법. 【청구항 4】 상기 단계 1)에 있어서 유기 배위자가 분자내에 적어도 1개의 티올기와 적어도 1개의 친수기와를 포함하고, 상기 친수기는 망의 근본, 카르복실기, 하이드록실기 및 티올기로 되는 무리로부터 선택하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 바이오이메징나노 입자의 제조 방법. 【청구항 5】 상기 유기 배위자가 멜카푸토운데칸산(mercaptoundecanoic acid), 멜카푸토도데칸산(mercaptododecanoic acid)및 멜카푸토헤키사데칸산(mercaptohexadecanoic acid)으로 되는 무리로부터 선택하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 4에 기재의 바이오이메징나노 입자의 제조 방법. 【청구항 6】 상기 단계 1)에 있어서 나노 입자의 표면에 금속 치오라토(M-S)공유 결합에 따라서 화학적에 결합할 수 있는 유기 배위자의 수가 1∼30개 있는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 바이오이메징나노 입자의 제조 방법. 【청구항 7】 상기 단계 2)에 있어서 기능성 분자가 적어도 한편의 말단에 망의 근본, 알데히드기, 카르복실기, 하이드록실기 및 티올기로 되는 무리로부터 선택하게 되는 친수기가 결합하게 되는 생체 적합성 분자, 표적 지향성 분자, 이러한 착체 또는 혼합물 인 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 바이오이메징나노 입자의 제조 방법. 【청구항 8】 상기 단계 3)에 있어서 유기 배위자가 분자내에 적어도 2개의 친수기를 포함하고, 상기 친수기는 망의 근본, 카르복실기, 하이드록실기 및 티올기로 되는 무리로부터 선택하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 바이오이메징나노 입자의 제조 방법. 【청구항 9】 상기 유기 배위자가 메르캅토 헥산 산(mercaptohexanoic acid), 메르캅토 초산(mercaptoacetic acid), 메르캅토 프로피온산(mercaptopropionic acid), 지멜카푸토코하쿠산(dimercaptosuccinic acid), 2-멜카푸토에타놀(2-mercaptoethanol), 2-망의 에탄 티올(2-aminoethanethiol), 리진(Lysine), 아르기닌(arginine)및 망의 길초 산(aminovaleric acid)으로 되는 무리로부터 선택하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 8에 기재의 바이오이메징나노 입자의 제조 방법. 【청구항 10】 사키 노리오체 적합성 분자가 양측의 말단에 망의 근본, 알데히드기 및 카르복실기가 쏘고 선택되는 친수기를 가질까, 한편의 말단에는 망의 근본, 알데히드기 및 카르복실기가 쏘고 1개를 가지고, 한편의 말단에는 탄소수 1∼7개의 알콕시기 또는 하이드록실기를 가지는 것을 특징으로 하는 청구항 7에 기재의 바이오이메징나노 입자의 제조 방법. 【청구항 11】 사키 노리오체 적합성 분자가 폴리에스틸렌 글리콜(PEG), 덱스트란, 폴리(L-라쿠치도)(PLLA), 폴리(DL-라쿠치도)(PDLLA), 폴리-DL-라쿠치도/글리코리드 공중합체(PLGA), 키토산, 알긴산, 히알론산, 콜라겐, 헤파린 및 폴리(ε-카프로락톤)으로 되는 무리로부터 선택하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 10에 기재의 바이오이메징나노 입자의 제조 방법. 【청구항 12】 상기 표적 지향성 분자가 생체내에서 특이적에 인지하게 될 수 있고, 망의 근본, 알데히드기, 카르복실기, 하이드록실기 및 티올기로 되는 무리로부터 선택하게 되는 어떠한 근본을 갖고 있기 때문에, 생체 적합성 분자와 아미드 결합, 에스테르 결합 및 치오에스텔 결합의 집 어느 한쪽인가 1개에 따라서 결합하게 될 수 있는 것을 특징으로 하는 청구항 7에 기재의 바이오이메징나노 입자의 제조 방법. 【청구항 13】 상기 표적 지향성 분자가 엽산(folic acid), 메토토레키사토(methotrexate,MTX), 특정 세포에 선택적인 펩티드, 또는 특이 항원에 선택적에 반응하는 항체 인 것을 특징으로 하는 청구항 12에 기재의 바이오이메징나노 입자의 제조 방법. 【청구항 14】 청구항 1에 기재의 제조 방법의 단계 1)에 따라서 제조하게된 나노 입자 이고, 계면활성제에 의하여 보호받는 코어 및 코어/셸구조의 소수성 무기물나노 입자의 표면의 일부분에, 탄소수 8∼20개의 탄화 수소쇄에 따라서 티올기와 친수기가 결합하게 되는 유기 배위자를 포함하고, 그 부분은 친수성을 나타내지만, 전체 적으로는 소수성을 나타내고, 무극성 유기 용매내에서 개별 분산성을 유지하는 바이오이메징나노 입자. 【청구항 15】 청구항 1에 기재의 제조 방법의 단계 2)에 따라서 제조하게된 나노 입자 이고, 청구항 14에 기재의 나노 입자의 표면에 도입하게 되는 친수기에 기능성 분자가 결합하게 되는 것에 따라 관능성 및 불규칙한 표면 구조를 가지고, 상기 기능성 분자가 결합하게 되는 부분은 친수성을 나타내지만, 전체 적으로는 소수성을 나타내는 바이오이메징나노 입자. 【청구항 16】 청구항 1에 기재의 제조 방법의 단계 3)에 따라서 제조하게된 나노 입자 이고, 청구항 15에 기재의 나노 입자의 표면에 잔존하는 나머지 계면활성제가, 탄소수 1∼7개의 탄화 수소쇄에 의하여 적어도 2개의 친수기가 결합하게 되는 유기 배위자로 치환한 것에 의해 친수성에 변환하게 되고, 수용액내에서 개별 분산성을 유지하는 바이오이메징나노 입자.","CN101422621A, CN101422621B, DE102008028526A1, JP2009107106A, JP5008607B2, KR100943839B1, KR20090044293A, US2009110642A1",null,1]
["K04265","유전공학","KR","벤조에이안트라센 노출 여부 확인용 바이오마커 및 이를이용한 확인 방법{Biomarker for identification of exposure to benzo[a]anthracene and the method of identification using thereof}",null,"원문이미지","KR20070114257A","2007.11.09","KR0967546B1","2010.06.25","본 발명은 다환 방향족 탄화수소류 중의 하나인 벤조에이안트라센(benzo[a]anthracene)에 대한 노출 여부 확인용 바이오마커 및 이를 이용한 확인 방법에 관한 것으로, 구체적으로 벤조에이안트라센에 의해 특이적으로 유전자 발현이 증가 또는 감소하는 바이오마커 및 이를 이용한 벤조에이안트라센에 대한 노출 여부를 확인하는 방법에 관한 것이며, 본 발명의 바이오마커는 DNA 마이크로어레이 칩을 통하여 선별된 반응 유전자들을 바이오마커로 이용하여 환경 시료에서 벤조에이안트라센의 오염을 모니터링 및 판정하는데 유용하게 사용될 수 있으며, 벤조에이안트라센에 의해 유발되는 독성 작용 기작을 규명하는 도구로 이용될 수 있다.","1 하기 모든 유전자의 핵산서열의 전부 또는 그의 상보가닥 분자가 집적된 벤조에이안트라센에 대한 지질대사 관련 유전자 발현 여부 확인용 DNA 마이크로어레이 칩: 유전자 등록번호(Genebank) AF524864(AKR1B10,Aldo-keto reductase family 1,member B10 (aldose reductase)), 유전자 등록번호(Genebank) AK057762(TDH,L-threonine dehydrogenase), 유전자 등록번호(Genebank) AK091948(LTB4DH,Leukotriene B4 12-hydroxydehydrogenase), 유전자 등록번호(Genebank) BC034763(FDXR,Ferredoxin reductase), 유전자 등록번호(Genebank) BC094756(CRA,Myotubularin related protein 11), 유전자 등록번호(Genebank) BG567934(APOM,Apolipoprotein M), 유전자 등록번호(Genebank) BQ939577(AKR1C3,Aldo-keto reductase family 1,member C3 (3-alpha hydroxysteroid dehydrogenase,type II)), 유전자 등록번호(Genebank) NM_000860(HPGD,Hydroxyprostaglandin dehydrogenase 15-(NAD)), 유전자 등록번호(Genebank) NM_004278(PIGL,Phosphatidylinositol glycan,class L), 유전자 등록번호(Genebank) NM_203380(ACSL5,Acyl-CoA synthetase long-chain family member 5), 유전자 등록번호(Genebank) AF059203(SOAT2,Sterol O-acyltransferase 2), 유전자 등록번호(Genebank) AF202889(APOA5,Apolipoprotein A-V), 유전자 등록번호(Genebank) AF220490(PLA2G3,Phospholipase A2,group III), 유전자 등록번호(Genebank) AF288389(GLT25D2,Glycosyltransferase 25 domain containing 2), 유전자 등록번호(Genebank) AK124635(PCSK9,Proprotein convertase subtilisin/kexin type 9), 유전자 등록번호(Genebank) AL138578(ADPN,Adiponutrin), 유전자 등록번호(Genebank) BC000054(DHCR7,7-dehydrocholesterol reductase), 유전자 등록번호(Genebank) BC026264(UGT2B4,UDP glucuronosyltransferase 2 family,polypeptide 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AK057762(TDH,L-threonine dehydrogenase), 유전자 등록번호(Genebank) AK091948(LTB4DH,Leukotriene B4 12-hydroxydehydrogenase), 유전자 등록번호(Genebank) BC034763(FDXR,Ferredoxin reductase), 유전자 등록번호(Genebank) BC094756(CRA,Myotubularin related protein 11), 유전자 등록번호(Genebank) BG567934(APOM,Apolipoprotein M), 유전자 등록번호(Genebank) BQ939577(AKR1C3,Aldo-keto reductase family 1,member C3 (3-alpha hydroxysteroid dehydrogenase,type II)), 유전자 등록번호(Genebank) NM_000860(HPGD,Hydroxyprostaglandin dehydrogenase 15-(NAD)), 유전자 등록번호(Genebank) NM_004278(PIGL,Phosphatidylinositol glycan,class L), 유전자 등록번호(Genebank) NM_203380(ACSL5,Acyl-CoA synthetase long-chain family member 5), 유전자 등록번호(Genebank) AF059203(SOAT2,Sterol O-acyltransferase 2), 유전자 등록번호(Genebank) AF202889(APOA5,Apolipoprotein A-V), 유전자 등록번호(Genebank) AF220490(PLA2G3,Phospholipase A2,group III), 유전자 등록번호(Genebank) AF288389(GLT25D2,Glycosyltransferase 25 domain containing 2), 유전자 등록번호(Genebank) AK124635(PCSK9,Proprotein convertase subtilisin/kexin type 9), 유전자 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status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5 1) 인간 체세포에 피검화합물을 처리하는 단계; 2) 단계 1)의 피검화합물을 처리한 실험군 세포와 피검화합물을 처리하지 않은 대조군 세포에서 RNA를 분리하는 단계; 3) 단계 2)의 실험군 및 대조군의 RNA를 cDNA로 합성하면서 실험군과 대조군을 각기 다른 형광물질로 표지하는 단계; 4) 단계 3)의 각기 다른 형광물질로 표지된 cDNA를 제 1항의 DNA 마이크로어레이칩과 혼성화시키는 단계; 5) 단계 4)의 반응한 DNA 마이크로어레이칩을 분석하는 단계; 및 6) 단계 5)의 분석한 데이터에서 제 1항의 DNA 마이크로어레이칩에 집적된 유전자의 발현 정도를 대조군과 비교하여 확인하는 단계를 포함하는 벤조에이안트라센에 대한 지질대사 관련 유전자 발현 여부 확인 방법. 6 제 5항에 있어서, 단계 1)의 인간 체세포는 인간 간 세포 또는 인간 간암 세포인 것을 특징으로 하는 벤조에이안트라센에 대한 지질대사 관련 유전자 발현 여부 확인 방법. 7 제 6항에 있어서, 상기 인간 간암 세포는 HepG2인 것을 특징으로 하는 벤조에이안트라센에 대한 지질대사 관련 유전자 발현 여부 확인 방법. 8 제 5항에 있어서, 단계 3)의 형광물질은 Cy3, Cy5, FITC(poly L-lysine-fluorescein isothiocyanate), RITC(rhodamine-B-isothiocyanate) 및 로다민(rhodamine)으로 이루어진 군으로부터 선택하여 사용하는 것을 벤조에이안트라센에 대한 지질대사 관련 유전자 발현 여부 확인 방법. 9<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 10<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 11<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 12 제 1항의 DNA 마이크로어레이 칩을 포함하는 것을 특징으로 하는 벤조에이안트라센에 대한 지질대사 관련 유전자 발현 여부 확인용 키트. 13 제 12항에 있어서, 인간 간 세포 또는 인간 간암 세포를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 벤조에이안트라센에 대한 지질대사 관련 유전자 발현 여부 확인용 키트. 14<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100967546B1, KR20090048057A",null,1]
["K04261","인체","KR","인간동작분석을 위한 인체모델 생성방법{METHOD FOR BUILDING A HUMAN BODY MODEL FOR HUMAN MOTION ANALYSIS}",null,"원문이미지","KR20070127684A","2007.12.10","KR0915606B1","2009.08.28","본 발명은 인체동작의 운동학적 동작을 분석하기 위한 인체모델 생성방법을 제공한다. 본 발명의 인체모델 생성방법은, 복수개의 도형으로 구성되는 인체모델을 생성하는 방법이며, 피실험자의 동작중 일정 시간 간격마다 피실험자의 신체의 다수의 위치정보와 피실험자의 지면반력을 획득하는 단계; 피실험자의 동작중 하나에 인체모델을 적용하고 위치정보를 이용하여 상기 도형 각각의 치수를 결정하는 단계; 인체모델의 ZMP를 계산하는 단계; 지면반력을 이용하여 피실험자의 실제 ZMP를 계산하는 단계; 인체모델의 ZMP와 피실험자의 실제 ZMP 사이의 오차가 제약조건 내에서 최소로 되도록 인체모델을 보정하는 단계로 이루어진다. 본 발명의 인체모델 생성방법에 의하면, 피실험자의 특성에 맞는 인체모델을 생성할 수 있고 생성된 인체모델만으로 피실험자의 운동학적 동작의 ZMP를 쉽게 계산할 수 있다.","1 복수개의 도형으로 구성되는 인체모델을 생성하는 방법이며, 피실험자의 동작중 일정 시간 간격마다 상기 피실험자의 신체의 다수의 위치정보와 상기 피실험자의 지면반력을 획득하는 단계; 상기 피실험자의 동작중 하나에 상기 인체모델을 적용하고 상기 위치정보를 이용하여 상기 도형 각각의 치수를 결정하는 단계; 상기 인체모델의 ZMP를 계산하는 단계; 상기 지면반력을 이용하여 상기 피실험자의 실제 ZMP를 계산하는 단계; 그리고 상기 인체모델의 ZMP와 상기 피실험자의 실제 ZMP 사이의 오차가 제약조건 내에서 최소로 되도록 상기 인체모델을 보정하는 단계 를 포함하는 인체모델 생성방법.","김승수, 김창환, 나성권, 유범재","G06T-017/10,G06T-017/00,G06T-015/70","KR20090060755A","2009.06.15",null,"2027.12.10","1 복수개의 도형으로 구성되는 인체모델을 생성하는 방법이며, 피실험자의 동작중 일정 시간 간격마다 상기 피실험자의 신체의 다수의 위치정보와 상기 피실험자의 지면반력을 획득하는 단계; 상기 피실험자의 동작중 하나에 상기 인체모델을 적용하고 상기 위치정보를 이용하여 상기 도형 각각의 치수를 결정하는 단계; 상기 인체모델의 ZMP를 계산하는 단계; 상기 지면반력을 이용하여 상기 피실험자의 실제 ZMP를 계산하는 단계; 그리고 상기 인체모델의 ZMP와 상기 피실험자의 실제 ZMP 사이의 오차가 제약조건 내에서 최소로 되도록 상기 인체모델을 보정하는 단계 를 포함하는 인체모델 생성방법. 2 제1항에 있어서, 상기 도형의 치수 결정 단계는 상기 도형의 고정치수 및 가변치수를 결정하는 단계를 포함하고, 상기 인체모델 보정 단계는 상기 오차가 상기 제약조건 내에서 최소로 되도록 상기 가변치수를 최적화하는 단계와, 최적화된 상기 가변치수를 이용해 상기 도형의 치수를 수정하는 단계를 포함하는 인체모델 생성방법. 3 제2항에 있어서, 상기 가변치수 최적화 단계는 상기 오차를 계산하는 단계와, 상기 오차 계산시 사용된 가변치수가 상기 제약조건을 만족하는지 확인하는 단계와, 상기 제약조건을 만족하면 상기 오차 계산시 사용된 가변치수를 상기 최적화된 가변치수로 치환하는 단계를 포함하는 인체모델 생성방법. 4 제3항에 있어서, 상기 제약조건은 상기 인체모델의 상기 도형중 어느 하나의 가변치수가 상기 도형중 다른 하나의 가변치수보다 크거나 같은 조건인 인체모델 생성방법. 5 제4항에 있어서, 상기 도형은 구, 원기둥 및 직육면체 중 어느 하나이고, 상기 고정치수는 원기둥의 길이, 직육면체의 가로 및 세로길이이고, 상기 가변치수는 구의 반지름, 원기둥의 반지름 및 직육면체의 높이인 인체모델 생성방법. 6 제1항에 있어서, 상기 위치정보 및 지면반력 획득 단계는 모션캡쳐시스템에서 행해지는 인체모델 생성방법. 7 제6항에 있어서, 상기 지면반력 획득 단계는 상기 모션캡쳐시스템에 지면반력측정기를 설치하고 상기 지면반력측정기로부터 지면반력을 획득하는 단계를 포함하는 인체모델 생성방법. 8 복수개의 도형으로 구성되는 인체모델을 준비하는 단계; 모션캡쳐시스템에서 지면반력측정기 상에서 피실험자가 동작하는 도중 프레임마다 상기 피실험자의 신체의 다수의 위치정보와 상기 지면반력측정기로부터 상기 피실험자의 지면반력을 획득하는 단계; 상기 프레임마다 상기 피실험자의 동작에 상기 인체모델을 적용하고 상기 위치정보를 이용하여 상기 도형 각각의 고정치수와 가변치수를 결정하는 단계; 상기 프레임마다 상기 인체모델의 ZMP를 계산하는 단계; 상기 프레임마다 상기 지면반력을 이용하여 상기 피실험자의 실제 ZMP를 계산하는 단계; 상기 프레임의 총 수에 걸쳐 상기 인체모델의 ZMP와 상기 피실험자의 실제 ZMP 사이의 오차의 합이 제약조건 내에서 최소로 되도록 상기 가변치수를 최적화하는 단계; 그리고 상기 최적화된 가변치수를 이용해 상기 인체모델을 보정하는 단계 를 포함하는 인체모델 생성방법. 9 제8항에 있어서, 상기 가변치수 최적화 단계는 상기 오차의 합을 계산하는 단계와, 상기 오차의 합 계산시 사용된 가변치수가 상기 제약조건을 만족하는지 확인하는 단계와, 상기 제약조건을 만족하면 상기 오차의 합 계산시 사용된 가변치수를 상기 최적화된 가변치수로 치환하는 단계를 포함하는 인체모델 생성방법. 10 제9항에 있어서, 상기 제약조건은 상기 인체모델의 상기 도형중 어느 하나의 가변치수가 상기 도형중 다른 하나의 가변치수보다 크거나 같은 조건인 인체모델 생성방법. 11 제10항에 있어서, 상기 도형은 구, 원기둥 및 직육면체 중 어느 하나이고, 상기 고정치수는 원기둥의 길이와 직육면체의 가로 및 세로 길이이고, 상기 가변치수는 구의 반지름, 원기둥의 반지름 및 직육면체의 높이인 인체모델 생성방법.","KR100915606B1, KR20090060755A",null,1]
["F03402","화학","DE","Lithium-manganese-tin oxide cathode active material and lithium secondary cell using the same",null,"원문이미지","EP2008022439","2008.12.23","EP02104162B1","2011.07.13","A cathode thin film for a lithium secondary cell, which uses a cathode active material substituting Sn for Mn in lithium manganese oxide, has a high discharge capacity and an improved cycle property. The present invention relates to a cathode active material comprising a lithium-manganese-tin oxide of formula: LiSnx/2Mn2-xO4 wherein 0 < x = 0.05.,","1. A cathode active material comprising a lithium-manganese-tin oxide of formula (I): LiSnx/2Mn2-xO4 (I) wherein 0 < x < 0.05","Choi, Ji-Won, Yoon, Seok-Jin, Shin, Dong Wook","H01M-004/02,H01M-004/48,H01M-004/50,H01M-010/05","EP02104162A1","2009.09.23","2008.03.18 (KR 20080025092), 2008.07.23 (KR 20080071536)",null,"1. A cathode active material comprising a lithium-manganese-tin oxide of formula (I): LiSnx/2Mn2-xO4 (I) wherein 0 &lt; x &lt; 0.05 2. The cathode active material of claim 1, whose density is 3.4 to 4.4 g/cm3. 3. A process for preparing the lithium-manganese-tin oxide of claim 1 comprising the steps of: a) mixing powders of Li, Mn and Sn compounds to obtain a mixed powder;b) first-milling the mixed powder;c) calcining the first-milled powder;d) second-milling the calcined powder;e) pressing the second-milled powder; andf) sintering the pressed mixture, wherein the amounts of the Li, Mn and Sn compounds used in step a) are 18.0 to 26.0 wt%, 72.4 to 81.9 wt%, and 0.1 to 1.6 wt%, respectively, based on the total weight of the mixed powder; and the Sn compound is selected from the group consisting of SnO, Sn(CH3CO2)2, SnCl2, SnCl2-2H2O, [CH3(CH2)3CH(C2H5)CO2]2Sn, SnF2, SnC2O4, SnSO4, SnS, and a mixture thereof. 4. The process of claim 3, wherein the Li compound is selected from the group consisting of Li2CO3, LiOH, CH3COCH=C(OLi)CH3, LiOOCCH3, LiOOCCH3ú2H2O, LiCl, LiClúxH2O (0.005=x=1), LiO2CCH2C(OH)(CO2Li)CH2CO2LiúxH2O (1=x=6), Li2S, Li2SO4úH2O, and a mixture thereof. 5. The process of claim 3, wherein the Mn compound is selected from the group consisting of MnO2, (CH3CO2)2Mn, (CH3COO)2Mnú4H2O, (CH3COO)2Mnú2H2O, [CH3COCH=C(O)CH3]2Mn, Mn(C5H7O2)3, MnCO3, MnCl2, MnCl2úxH2O (1=x=5), [C6H11(CH2)3CO2]2Mn, MnF2, Mn(NO3)2, Mn3O4, MnO, Mn2O3, Mn(ClO4)2ú6H2O, MnSO4úxH2O (1=x=6), MnS, and a mixture thereof. 6. The process of claim 3, wherein the calcination process in step c) is conducted at 400 to 800øC for 1 to 5 hours under an ambient condition. 7. The process of claim 3, wherein the second-milled powder is pressed in step e) to form a pellet. 8. The process of claim 3, wherein the sintering process in step f) is conducted at 800 to 1,300 øC for 1 to 24 hours under an ambient condition. 9. A lithium secondary cell which comprises a lithium-manganese-tin oxide of formula (I) as a cathode active material: LiSnx/2Mn2-xO4 (I) wherein 0 &lt; x &lt; 0.05 10. A process for preparing a cathode thin film for the lithium secondary cell of claim 9, comprising the steps of:a) mixing powders of Li, Mn and Sn compounds to obtain a mixed powder;b) first-milling the mixed powder;c) calcining the first-milled powder;d) second-milling the calcined powder;e) pressing the second-milled powder;f) sintering the pressed mixture to form a target; andg) depositing the target on a substrate using an LCVD (laser-assisted chemical vapor deposition) method, wherein the amounts of the Li, Mn and Sn compounds used in step a) are 18.0 to 26.0 wt%, 72.4 to 81.9 wt%, and 0.1 to 1.6 wt%, respectively, based on the total weight of the mixed powder; and the Sn compound is selected from the group consisting of SnO, Sn(CH3CO2)2, SnCl2, SnCl2úH2O, [CH3(CH2)3CH(C2H5)CO2]2Sn, SnF2, SnC2O4, SnSO4. SnS, and a mixture thereof. 11. The process of claim 10, wherein the LCVD process is conducted at a substrate temperature of 350 to 550 øC, while maintaining the distance between the substrate and the target at 3 to 5 cm and the oxygen partial pressure at 0.05 to 0.25 Torr. 12. The process of claim 10, wherein the LCVD process is conducted with a laser power density of 1 to 4 J/cm2, a beam area of 2 to 5 mm2 and a spot repetition of 3 to 10 Hz, for 30 to 120 minutes.","AT516602T, EP2104162A1, EP2104162B1, JP2009224305A, JP5086910B2, KR101001163B1, KR20090100196A, US2009239149A1, US2013316097A1, US8658314B2","E",2]
["F03401","화학","FR","Lithium-manganese-tin oxide cathode active material and lithium secondary cell using the same",null,"원문이미지","EP2008022439","2008.12.23","EP02104162B1","2011.07.13","A cathode thin film for a lithium secondary cell, which uses a cathode active material substituting Sn for Mn in lithium manganese oxide, has a high discharge capacity and an improved cycle property. The present invention relates to a cathode active material comprising a lithium-manganese-tin oxide of formula: LiSnx/2Mn2-xO4 wherein 0 < x = 0.05.,","1. A cathode active material comprising a lithium-manganese-tin oxide of formula (I): LiSnx/2Mn2-xO4 (I) wherein 0 < x < 0.05","Choi, Ji-Won, Yoon, Seok-Jin, Shin, Dong Wook","H01M-004/02,H01M-004/48,H01M-004/50,H01M-010/05","EP02104162A1","2009.09.23","2008.03.18 (KR 20080025092), 2008.07.23 (KR 20080071536)",null,"1. A cathode active material comprising a lithium-manganese-tin oxide of formula (I): LiSnx/2Mn2-xO4 (I) wherein 0 &lt; x &lt; 0.05 2. The cathode active material of claim 1, whose density is 3.4 to 4.4 g/cm3. 3. A process for preparing the lithium-manganese-tin oxide of claim 1 comprising the steps of: a) mixing powders of Li, Mn and Sn compounds to obtain a mixed powder;b) first-milling the mixed powder;c) calcining the first-milled powder;d) second-milling the calcined powder;e) pressing the second-milled powder; andf) sintering the pressed mixture, wherein the amounts of the Li, Mn and Sn compounds used in step a) are 18.0 to 26.0 wt%, 72.4 to 81.9 wt%, and 0.1 to 1.6 wt%, respectively, based on the total weight of the mixed powder; and the Sn compound is selected from the group consisting of SnO, Sn(CH3CO2)2, SnCl2, SnCl2-2H2O, [CH3(CH2)3CH(C2H5)CO2]2Sn, SnF2, SnC2O4, SnSO4, SnS, and a mixture thereof. 4. The process of claim 3, wherein the Li compound is selected from the group consisting of Li2CO3, LiOH, CH3COCH=C(OLi)CH3, LiOOCCH3, LiOOCCH3ú2H2O, LiCl, LiClúxH2O (0.005=x=1), LiO2CCH2C(OH)(CO2Li)CH2CO2LiúxH2O (1=x=6), Li2S, Li2SO4úH2O, and a mixture thereof. 5. The process of claim 3, wherein the Mn compound is selected from the group consisting of MnO2, (CH3CO2)2Mn, (CH3COO)2Mnú4H2O, (CH3COO)2Mnú2H2O, [CH3COCH=C(O)CH3]2Mn, Mn(C5H7O2)3, MnCO3, MnCl2, MnCl2úxH2O (1=x=5), [C6H11(CH2)3CO2]2Mn, MnF2, Mn(NO3)2, Mn3O4, MnO, Mn2O3, Mn(ClO4)2ú6H2O, MnSO4úxH2O (1=x=6), MnS, and a mixture thereof. 6. The process of claim 3, wherein the calcination process in step c) is conducted at 400 to 800øC for 1 to 5 hours under an ambient condition. 7. The process of claim 3, wherein the second-milled powder is pressed in step e) to form a pellet. 8. The process of claim 3, wherein the sintering process in step f) is conducted at 800 to 1,300 øC for 1 to 24 hours under an ambient condition. 9. A lithium secondary cell which comprises a lithium-manganese-tin oxide of formula (I) as a cathode active material: LiSnx/2Mn2-xO4 (I) wherein 0 &lt; x &lt; 0.05 10. A process for preparing a cathode thin film for the lithium secondary cell of claim 9, comprising the steps of:a) mixing powders of Li, Mn and Sn compounds to obtain a mixed powder;b) first-milling the mixed powder;c) calcining the first-milled powder;d) second-milling the calcined powder;e) pressing the second-milled powder;f) sintering the pressed mixture to form a target; andg) depositing the target on a substrate using an LCVD (laser-assisted chemical vapor deposition) method, wherein the amounts of the Li, Mn and Sn compounds used in step a) are 18.0 to 26.0 wt%, 72.4 to 81.9 wt%, and 0.1 to 1.6 wt%, respectively, based on the total weight of the mixed powder; and the Sn compound is selected from the group consisting of SnO, Sn(CH3CO2)2, SnCl2, SnCl2úH2O, [CH3(CH2)3CH(C2H5)CO2]2Sn, SnF2, SnC2O4, SnSO4. SnS, and a mixture thereof. 11. The process of claim 10, wherein the LCVD process is conducted at a substrate temperature of 350 to 550 øC, while maintaining the distance between the substrate and the target at 3 to 5 cm and the oxygen partial pressure at 0.05 to 0.25 Torr. 12. The process of claim 10, wherein the LCVD process is conducted with a laser power density of 1 to 4 J/cm2, a beam area of 2 to 5 mm2 and a spot repetition of 3 to 10 Hz, for 30 to 120 minutes.","AT516602T, EP2104162A1, EP2104162B1, JP2009224305A, JP5086910B2, KR101001163B1, KR20090100196A, US2009239149A1, US2013316097A1, US8658314B2","E",2]
["K04255","유전공학","KR","벤조케이플루오란텐 노출 여부 확인용 바이오마커 및 이를이용한 확인 방법{Biomarker for identification of exposure to benzo[k]fluoranthene and the method of identification using thereof}",null,"원문이미지","KR20070104948A","2007.10.18","KR0958545B1","2010.05.11","본 발명은 다환 방향족 탄화수소류 중의 하나인 벤조케이플루오란텐(benzo[k]fluoranthene)에 대한 노출 여부 확인용 바이오마커 및 이를 이용한 확인 방법에 관한 것으로, 구체적으로 벤조케이플루오란텐에 의해 특이적으로 유전자 발현이 증가 또는 감소하는 바이오마커 및 이를 이용한 벤조케이플루오란텐에 대한 노출 여부를 확인하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 바이오마커는 DNA 마이크로어레이 칩을 통하여 선별된 반응 유전자들을 바이오마커로 이용하여 환경 시료에서 벤조케이플루오란텐의 오염을 모니터링 및 판정하는데 유용하게 사용될 수 있으며, 벤조케이플루오란텐에 의해 유발되는 독성 작용 기작을 규명하는 도구로 이용될 수 있다.","1 하기의 모든 유전자의 핵산서열의 전부 또는 그의 상보가닥 분자가 집적된 벤조케이플루오란텐에 대한 세포사멸 관련 유전자 발현 여부 확인용 DNA 마이크로어레이 칩: 유전자 등록번호(Genebank) BC012609(SERPINB2,Serpin peptidase inhibitor,clade B(ovalbumin),member 2), 유전자 등록번호(Genebank) AB033060(PDCD6,Aryl-hydrocarbon receptor repressor), 유전자 등록번호(Genebank) NM_013246(CLC,Cardiotrophin-like cytokine factor 1), 유전자 등록번호(Genebank) NM_078467(CDKN1A,Cyclin-dependent kinase 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AK055180(PDCD2,Programmed cell death 2), 유전자 등록번호(Genebank) AA601902(NME3,Non-metastatic cells 3,protein expressed in), 유전자 등록번호(Genebank) NM_006024(TAX1BP1,Tax1(human T-cell leukemia virus type I) binding protein 1), 유전자 등록번호(Genebank) AY869712(PPP1R13L,Protein phosphatase 1,regulatory(inhibitor) subunit 13 like), 유전자 등록번호(Genebank) NM_001344(DAD1,Defender against cell death 1), 유전자 등록번호(Genebank) AK097284(TNFAIP8,Tumor necrosis factor,alpha-induced protein 8), 유전자 등록번호(Genebank) NM_016639(TNFRSF12A,Tumor necrosis factor receptor superfamily,member 12A), 유전자 등록번호(Genebank) BC067799(C10orf97,Chromosome 10 open reading frame 97), 유전자 등록번호(Genebank) NM_197966(BID,BH3 interacting domain death agonist), 유전자 등록번호(Genebank) NM_004333(BRAF,V-raf murine sarcoma viral oncogene homolog B1), 유전자 등록번호(Genebank) BX647177(Bit1,Bcl-2 inhibitor of transcription), 유전자 등록번호(Genebank) NM_033357(CASP8,Caspase 8,apoptosis-related cysteine peptidase), 유전자 등록번호(Genebank) NM_020371(AVEN,Apoptosis,caspase activation inhibitor), 유전자 등록번호(Genebank) CR625942(PPM1F,Protein phosphatase 1F(PP2C domain containing)), 유전자 등록번호(Genebank) AB007960(SH3GLB1,SH3-domain GRB2-like endophilin B1), 유전자 등록번호(Genebank) AL831982(BCL2L13,BCL2-like 13(apoptosis facilitator)), 유전자 등록번호(Genebank) CN478604(LGALS7,Lectin,galactoside-binding,soluble,7(galectin 7)), 유전자 등록번호(Genebank) BC039110(SMNDC1,Survival motor neuron domain containing 1), 유전자 등록번호(Genebank) AB209468(UBQLN1,Ubiquilin 1), 유전자 등록번호(Genebank) AB209147(CASP9,Caspase 9, apoptosis-related cysteine peptidase), 유전자 등록번호(Genebank) T35134(PHLDA2,Pleckstrin homology-like domain,family A,member 2).","류재천, 송미경, 전희경, 김연정","C12Q-001/68","KR20090039354A","2009.04.22",null,"2027.10.18","1 하기의 모든 유전자의 핵산서열의 전부 또는 그의 상보가닥 분자가 집적된 벤조케이플루오란텐에 대한 세포사멸 관련 유전자 발현 여부 확인용 DNA 마이크로어레이 칩: 유전자 등록번호(Genebank) BC012609(SERPINB2,Serpin peptidase inhibitor,clade B(ovalbumin),member 2), 유전자 등록번호(Genebank) AB033060(PDCD6,Aryl-hydrocarbon receptor repressor), 유전자 등록번호(Genebank) NM_013246(CLC,Cardiotrophin-like cytokine factor 1), 유전자 등록번호(Genebank) NM_078467(CDKN1A,Cyclin-dependent kinase inhibitor 1A(p21, Cip1)), 유전자 등록번호(Genebank) NM_003897(IER3,Immediate early response 3), 유전자 등록번호(Genebank) NM_003877(SOCS2,Suppressor of cytokine signaling 2), 유전자 등록번호(Genebank) NM_016315(GULP1,GULP, engulfment adaptor PTB domain containing 1), 유전자 등록번호(Genebank) NM_004226(STK17B,Serine/threonine kinase 17b(apoptosis-inducing)), 유전자 등록번호(Genebank) NM_147780(CTSB,Cathepsin B), 유전자 등록번호(Genebank) NM_001197(BIK,BCL2-interacting killer(apoptosis-inducing)), 유전자 등록번호(Genebank) BC047362(PHLDA1,Pleckstrin homology-like domain,family A,member 1), 유전자 등록번호(Genebank) NM_002583(PAWR,PRKC,apoptosis, WT1,regulator), 유전자 등록번호(Genebank) BX537586(STK17A,Serine/threonine kinase 17a(apoptosis-inducing)), 유전자 등록번호(Genebank) AY028896(CARD10,Caspase recruitment domain family,member 10), 유전자 등록번호(Genebank) AY358103(HIP1,Huntingtin interacting protein 1), 유전자 등록번호(Genebank) 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등록번호(Genebank) NM_033357(CASP8,Caspase 8,apoptosis-related cysteine peptidase), 유전자 등록번호(Genebank) NM_020371(AVEN,Apoptosis,caspase activation inhibitor), 유전자 등록번호(Genebank) CR625942(PPM1F,Protein phosphatase 1F(PP2C domain containing)), 유전자 등록번호(Genebank) AB007960(SH3GLB1,SH3-domain GRB2-like endophilin B1), 유전자 등록번호(Genebank) AL831982(BCL2L13,BCL2-like 13(apoptosis facilitator)), 유전자 등록번호(Genebank) CN478604(LGALS7,Lectin,galactoside-binding,soluble,7(galectin 7)), 유전자 등록번호(Genebank) BC039110(SMNDC1,Survival motor neuron domain containing 1), 유전자 등록번호(Genebank) AB209468(UBQLN1,Ubiquilin 1), 유전자 등록번호(Genebank) AB209147(CASP9,Caspase 9, apoptosis-related cysteine peptidase), 유전자 등록번호(Genebank) T35134(PHLDA2,Pleckstrin homology-like domain,family A,member 2). 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5 1)실험군인 피검체 유래 인간 체세포와 대조군 체세포에서 RNA를 분리하는 단계; 2) 단계 1)의 실험군과 대조군의 RNA를 cDNA로 합성하면서 실험군과 대조군을 각기 다른 형광물질을 표지하는 단계; 3) 단계 2)의 각기 다른 형광물질로 표지된 cDNA를 제 1항의 DNA 마이크로어레이칩과 혼성화시키는 단계; 4) 반응한 DNA 마이크로어레이 칩을 분석하는 단계; 및 5) 분석한 데이터에서 제1항의 DNA 마이크로어레이칩에 집적된 유전자의 발현 정도를 대조군과 비교하여 벤조케이플루오란텐 노출 여부를 판정하는 단계를 포함하는 벤조케이플루오란텐에 대한 세포사멸 관련 유전자 발현 여부를 확인하는 방법. 6 제 5항에 있어서, 단계 1)의 인간 체세포는 인간 간 세포 또는 인간 간암 세포인 것을 특징으로 하는 벤조케이플루오란텐에 대한 세포사멸 관련 유전자 발현 여부를 확인하는 방법. 7 제 6항에 있어서, 상기 인간 간암 세포는 HepG2인 것을 특징으로 하는 벤조케이플루오란텐에 대한 세포사멸 관련 유전자 발현 여부를 확인하는 방법. 8 제 5항에 있어서, 단계 3)의 형광물질은 Cy3, Cy5, FITC(poly L-lysine-fluorescein isothiocyanate), RITC(rhodamine-B-isothiocyanate) 및 로다민(rhodamine)으로 이루어진 군으로부터 선택하여 사용하는 것을 벤조케이플루오란텐에 대한 세포사멸 관련 유전자 발현 여부를 확인하는 방법. 9 제 1항의 DNA 마이크로어레이 칩을 포함하는 것을 특징으로 하는 벤조케이플루오란텐에 대한 세포사멸 관련 유전자 발현 여부 확인용 키트. 10<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 11 제 9항에 있어서, 인간 간 세포 또는 인간 간암 세포를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 벤조케이플루오란텐에 대한 세포사멸 관련 유전자 발현 여부 확인용 키트.","KR100958545B1, KR20090039354A",null,1]
["K04244","화학","KR","초고용량 커패시터용 탄소 에어로젤 및 이의 제조방법{Carbon aerogels for supercapacitors and method for manufacturing the same}",null,"원문이미지","KR20070109399A","2007.10.30","KR0911845B1","2009.08.05","본 발명은 플로로그루시놀 및 푸르푸랄 등의 유기물 출발물질과 이 유기물을 용해시킬 수 있는 유기 용매를 소정의 비율로 혼합하여 솔(sol) 용액을 제조하는 단계; 상기 솔 용액의 pH를 산성 또는 염기성 촉매로 적절히 조절함으로써 대기압, 상온에서 젤을 제조 및 숙성하는 단계; 상기 제조된 젤 내부의 유기 용매를 액체 이산화탄소로 치환하고 초임계 상태에서 건조하여 유기 에어로젤을 제조하는 단계; 및 상기 유기 에어로젤을 비활성 분위기의 전기로 내에서 열분해하여 탄소 에어로젤로 제조하는 단계를 포함하는 탄소 에어로젤 제조방법 및 제조된 탄소 에어로젤을 개시한다. 구체적으로는, pH를 적절히 조절하여 상온에서 짧은 시간 동안 젤을 형성함으로써 기존의 젤 제조 방법에 비해 시간과 에너지를 절약할 수 있고, 별도의 용매 치환 공정 없이 초임계 건조가 가능하므로 공정을 단순화하는 효과가 있으며, 별도의 활성화처리 없이도 고비표면적 및 고축전용량을 가지는 초고용량 커패시터용 탄소 에어로젤을 제조할 수 있는 탄소 에어로젤 제조방법을 개시한다.","1 탄소 에어로젤을 제조하는 방법으로서, 하이드록실기를 하나 이상 포함하는 벤젠 화합물 및 알데히드기를 포함하는 화합물을 혼합하고, 상기 혼합물을 용매인 1차 알코올, 2차 알코올, 3차 알코올, 아세톤 또는 테트라하이드로퓨란에 용해시켜 솔 용액을 형성하는 제1단계; 제1단계에서 형성된 솔 용액을 대기압 및 10 내지 80℃의 온도에서 젤화 및 숙성시키는 제2단계; 제2단계에서 제조된 젤 내부의 용매를 액체 이산화탄소로 치환 후 초임계 상태에서 건조시켜 에어로젤을 제조하는 제3단계; 및 제3단계에서 제조된 에어로젤을 비활성 분위기의 전기로 내에서 600℃이상의 온도에서 열처리하여 탄소 에어로젤을 제조하는 제4단계를 포함하는 탄소 에어로젤 제조방법.","서동진, 박태진, 서영웅, 윤영현, 김현중","C01B-031/00,H01G-009/058","KR20090043703A","2009.05.07",null,"2027.10.30","1 탄소 에어로젤을 제조하는 방법으로서, 하이드록실기를 하나 이상 포함하는 벤젠 화합물 및 알데히드기를 포함하는 화합물을 혼합하고, 상기 혼합물을 용매인 1차 알코올, 2차 알코올, 3차 알코올, 아세톤 또는 테트라하이드로퓨란에 용해시켜 솔 용액을 형성하는 제1단계; 제1단계에서 형성된 솔 용액을 대기압 및 10 내지 80℃의 온도에서 젤화 및 숙성시키는 제2단계; 제2단계에서 제조된 젤 내부의 용매를 액체 이산화탄소로 치환 후 초임계 상태에서 건조시켜 에어로젤을 제조하는 제3단계; 및 제3단계에서 제조된 에어로젤을 비활성 분위기의 전기로 내에서 600℃이상의 온도에서 열처리하여 탄소 에어로젤을 제조하는 제4단계를 포함하는 탄소 에어로젤 제조방법. 2 제1항에 있어서, 상기 탄소 에어로젤 제조방법은 제1단계 이후 솔 용액에 산성 또는 염기성 촉매를 첨가하는 단계를 더 포함하는 탄소 에어로젤 제조방법. 3 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 하이드록실기를 하나 이상 포함하는 벤젠 화합물은 페놀, 카테콜, 레소시놀, 하이드로퀴논 또는 플로로그루시놀이고, 상기 알데히드기를 포함하는 화합물은 포름알데히드, 아세트알데히드 또는 푸르푸랄인 탄소 에어로젤 제조방법. 4 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 하이드록실기를 하나 이상 포함하는 벤젠 화합물 및 알데히드기를 포함하는 화합물의 혼합비율은 하이드록실기를 하나 이상 포함하는 벤젠 화합물 : 알데히드기를 포함하는 화합물=1:4 내지 1:1 인 탄소 에어로젤 제조방법. 5 제4항에 있어서, 상기 하이드록실기를 하나 이상 포함하는 벤젠 화합물 및 알데히드기를 포함하는 화합물의 혼합비율은 하이드록실기를 하나 이상 포함하는 벤젠 화합물 : 알데히드기를 포함하는 화합물=1:3 내지 1:2 인 탄소 에어로젤 제조방법. 6 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 하이드록실기를 하나 이상 포함하는 벤젠 화합물에 대한 용매의 혼합비율은 하이드록실기를 하나 이상 포함하는 벤젠 화합물 : 용매=1:500 내지 1:50 인 탄소 에어로젤 제조방법. 7 제6항에 있어서, 상기 하이드록실기를 하나 이상 포함하는 벤젠 화합물에 대한 용매의 혼합비율은 하이드록실기를 하나 이상 포함하는 벤젠 화합물 : 용매=1:300 내지 1:100 인 탄소 에어로젤 제조방법. 8 제2항에 있어서, 상기 산성 촉매는 포름산, 아세트산, 인산, 질산, 염산 또는 황산이고, 상기 염기성 촉매는 암모니아수, 모노에탄올아민, 트리에탄올아민, 수산화칼륨, 수산화나트륨 또는 탄산나트륨인 탄소 에어로젤 제조방법. 9 제2항에 있어서, 상기 하이드록실기를 하나 이상 포함하는 벤젠 화합물에 대한 촉매의 혼합비율은 하이드록실기를 하나 이상 포함하는 벤젠 화합물 : 촉매=1:0.1 내지 1:0.0001 인 탄소 에어로젤 제조방법. 10 제9항에 있어서, 상기 하이드록실기를 하나 이상 포함하는 벤젠 화합물에 대한 촉매의 혼합비율은 하이드록실기를 하나 이상 포함하는 벤젠 화합물 : 촉매=1:0.02 내지 1:0.001 인 탄소 에어로젤 제조방법. 11 제1항 또는 제2항에 있어서, 제2단계의 상기 젤화 온도는 15 내지 40℃인 탄소 에어로젤 제조방법. 12 제11항에 있어서, 제2단계의 상기 젤화 온도는 20 내지 30℃인 탄소 에어로젤 제조방법. 13 제1항 또는 제2항에 있어서, 제2단계의 상기 젤화 숙성 기간은 1일 내지 7일인 탄소 에어로젤 제조방법. 14 제13항에 있어서, 제2단계의 상기 젤화 숙성 기간은 3일 내지 5일인 탄소 에어로젤 제조방법. 15 제1항 또는 제2항에 있어서, 제4단계에서의 열처리 온도는 700 내지 1000℃인 탄소 에어로젤 제조방법. 16 제1항 또는 제2항에 있어서, 제4단계에서 열처리 온도까지의 승온속도는 0.5℃/분 내지 10℃/분인 탄소 에어로젤 제조방법. 17 제16항에 있어서, 제4단계에서 열처리 온도까지의 승온속도는 1℃/분 내지 5℃/분인 탄소 에어로젤 제조방법. 18 제1항의 제조방법으로 제조되고, 비표면적이 700m2/g 내지 1200m2/g 이며, 축전 용량이 200F/g 내지 400F/g인 탄소 에어로젤.","KR100911845B1, KR20090043703A, US2010310847A1, US8480930B2, WO2009057902A1",null,1]
["K04236","의료","KR","블루밍샐리 추출물을 유효성분으로 함유하는 조성물{A composition comprising Chamaenerion angustifolium extract as an active ingredient}",null,"원문이미지","KR20070107087A","2007.10.24","KR0921971B1","2009.10.08","본 발명은 블루밍샐리(Chamaenerionangustifolium) 추출물을 유효성분으로 함유하는 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 물, 알코올 또는 이들의 혼합물을 용매로 하여 추출되는 블루밍샐리 추출물은 전사인자인 에이피-1(AP-1)을 억제하고, 피부 기질의 분해효소인 타입 I 콜라게나제를 억제하고, 피부의 주 구성 성분인 콜라겐의 생성을 증가 및 콜라겐의 분해를 억제함으로써 주름 개선 및 탄력 개선의 효과가 있으므로 피부 노화 방지 및 개선용 약학적 조성물, 건강식품, 피부외용제 또는 화장품으로 유용하게 이용될 수 있다.","1 100% 메탄올 또는 100% 에탄올을 용매로 하여 추출된 블루밍샐리(Chamaenerion angustifolium) 추출물을 유효성분으로 함유하는 피부 노화 방지 및 주름 개선용 약학적 조성물.","김수남, 엄병헌, 김철영, 이우정, 박연숙, 강석우","A61K-036/185,A61K-008/97,A61P-017/18,A61Q-019/08","KR20090041533A","2009.04.29",null,"2027.10.24","1 100% 메탄올 또는 100% 에탄올을 용매로 하여 추출된 블루밍샐리(Chamaenerion angustifolium) 추출물을 유효성분으로 함유하는 피부 노화 방지 및 주름 개선용 약학적 조성물. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4 제 1항에 있어서, 라디칼을 소거하는 것을 특징으로 하는 피부 노화 방지 및 주름 개선용 약학적 조성물. 5 제 1항에 있어서, 에이피-1(activator protein-1, AP-1) 전사인자의 활성을 억제하는 것을 특징으로 하는 피부 노화 방지 및 주름 개선용 약학적 조성물. 6 제 1항에 있어서, 타입 I 콜라게나제(matrix metalloproteinase-1, MMP-1)의 생합성을 억제하는 것을 특징으로 하는 피부 노화 방지 및 주름 개선용 약학적 조성물. 7 제 1항에 있어서, 콜라겐의 생합성을 촉진하는 것을 특징으로 하는 피부 노화 방지 및 주름 개선용 약학적 조성물. 8 제 1항에 있어서, 콜라겐의 분해를 억제하는 것을 특징으로 하는 피부 노화 방지 및 주름 개선용 약학적 조성물. 9 제 1항에 있어서, 염증을 억제하는 것을 특징으로 하는 피부 노화 방지 및 주름 개선용 약학적 조성물. 10 제 1항에 있어서, 피부 탄력을 개선하는 것을 특징으로 하는 피부 노화 방지 및 주름 개선용 약학적 조성물. 11 100% 메탄올 또는 100% 에탄올을 용매로 하여 추출된 블루밍샐리 추출물을 유효성분으로 함유하는 피부 노화 방지 및 주름 개선용 피부 외용제. 12 100% 메탄올 또는 100% 에탄올을 용매로 하여 추출된 블루밍샐리 추출물을 유효성분으로 함유하는 피부 노화 방지 및 주름 개선용 화장료 조성물. 13 100% 메탄올 또는 100% 에탄올을 용매로 하여 추출된 블루밍샐리 추출물을 유효성분으로 함유하는 피부 노화 방지 및 주름 개선용 건강식품.","KR100921971B1, KR20090041533A, WO2009054607A1",null,1]
["K04237","의료","KR","오틸리아 추출물을 유효성분으로 함유하는 조성물{A composition comprising Ortilia secunda extract as an active ingredient}",null,"원문이미지","KR20070107085A","2007.10.24","KR0918616B1","2009.09.16","본 발명은 오틸리아(Ortiliasecunda) 추출물을 유효성분으로 함유하는 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 물, 알코올 또는 이들의 혼합물을 용매로 하여 추출되는 오틸리아 추출물은 전사인자인 에이피-1(AP-1)을 억제하고, 피부 기질의 분해효소인 타입 I 콜라게나제를 억제하고, 피부의 주 구성 성분인 콜라겐의 생성을 증가 및 콜라겐의 분해를 억제함으로써 주름 개선 및 탄력 개선의 효과가 있으므로 화장품 등의 피부외용제로 유용하게 이용될 수 있으며, 또한, 라디칼 소거 능력을 보여 항산화제로 유용하게 이용될 수 있다.","8 물, 알코올 또는 이들의 혼합물을 용매로 하여 추출된 오틸리아 추출물을 유효성분으로 함유하는 피부 주름 개선용 약학적 조성물.","김수남, 엄병헌, 김철영, 이우정, 박연숙, 강석우","A61K-036/185,A61K-008/97,A61P-039/06,A61Q-019/08","KR20090041531A","2009.04.29",null,"2027.10.24","1<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 6<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 7<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 8 물, 알코올 또는 이들의 혼합물을 용매로 하여 추출된 오틸리아 추출물을 유효성분으로 함유하는 피부 주름 개선용 약학적 조성물. 9 제 8항에 있어서, 알코올은 C1 내지 C4 저급 알코올인 것을 특징으로 하는 피부 주름 개선용 약학적 조성물. 10 제 9항에 있어서, 상기 저급 알코올은 에탄올 또는 메탄올인 것을 특징으로 하는 피부 주름 개선용 약학적 조성물. 11<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 12 제 8항에 있어서, 에이피-1(activator protein-1, AP-1) 전사인자의 활성을 억제하는 것을 특징으로 하는 피부 주름 개선용 약학적 조성물. 13 제 8항에 있어서, 타입 I 콜라게나제(matrix metalloproteinase-1, MMP-1)의 생합성을 억제하는 것을 특징으로 하는 피부 주름 개선용 약학적 조성물. 14 제 8항에 있어서, 콜라겐의 생합성을 촉진하는 것을 특징으로 하는 피부 주름 개선용 약학적 조성물. 15 제 8항에 있어서, 콜라겐의 분해를 억제하는 것을 특징으로 하는 피부 주름 개선용 약학적 조성물. 16 물, 알코올 또는 이들의 혼합물을 용매로 하여 추출된 오틸리아 추출물을 유효성분으로 함유하는 피부 주름 개선용 피부 외용제. 17 물, 알코올 또는 이들의 혼합물을 용매로 하여 추출된 오틸리아 추출물을 유효성분으로 함유하는 피부 주름 개선용 화장료 조성물. 18 제 17항에 있어서, 피부 탄력을 개선하는 것을 특징으로 하는 피부 주름 개선용 화장료 조성물. 19 물, 에탄올 또는 이들의 혼합물을 용매로 하여 추출된 오틸리아 추출물을 유효성분으로 함유하는 피부 주름 개선용 건강식품.","KR100918616B1, KR20090041531A, WO2009054701A2, WO2009054701A3",null,1]
["K04239","태양전지","KR","복합 전해질 및 그 제조 방법과, 이를 이용한 중공형금속산화물 입자를 포함하는 전해질 기반의 염료감응태양전지{COMPOSITE ELECTROLYTE AND THE FABRICATION METHOD THEREOF, AND DYE-SENSITIZED SOLAR CELL BASED ON ELECTROLYTE WITH HOLLOW PARTICLES OF METAL OXIDES USING THE SAME}",null,"원문이미지","KR20070127809A","2007.12.10","KR0949762B1","2010.03.19","본 발명은 복합 전해질 및 그 제조 방법과, 이를 이용한 중공형 금속산화물 입자를 포함하는 전해질 기반의 염료감응 태양전지에 관한 것으로서, 기 제조된 코어 표면에 금속산화물 미립자들을 흡착시킨 후 상기 코어를 제거하여 중심 부위가 비어있는 중공형 입자를 제조하고, 이 입자를 염료감응 태양전지의 전해질에 첨가하여, 전해질의 겔화를 통한 태양전지의 기계적 강도 개선 효과와, 전해질 내에서의 이온의 확산 계수 향상 효과와, 빛의 산란 효과를 동시에 얻게 되어, 단순한 금속산화물 나노 분말을 첨가하거나 혹은 광전극에 빛 산란만을 목적으로 하는 층을 도입하였을 때보다 태양전지의 에너지 변환 효율을 크게 향상시킬 수 있다.","1 전해질 및 금속산화물 미립자들을 포함하는 중공형 입자가 혼합된 것으로서, 상기 중공형 입자는 내부가 비어있는 쉘 구조의 구형 또는 다면체 중공형 입자인 것을 특징으로 하는 복합 전해질.","이상수, 박종혁, 김준경","H01L-031/042,C01F-007/00,C01G-023/00","KR20090060855A","2009.06.15",null,"2027.12.10","1 전해질 및 금속산화물 미립자들을 포함하는 중공형 입자가 혼합된 것으로서, 상기 중공형 입자는 내부가 비어있는 쉘 구조의 구형 또는 다면체 중공형 입자인 것을 특징으로 하는 복합 전해질. 2 제1항에 있어서, 상기 중공형 입자와 상기 전해질의 질량비는 1:1000∼2:1인 것을 특징으로 하는 복합 전해질. 3 제1항에 있어서, 상기 중공형 입자의 평균 외경은 50 ㎚∼100 ㎛이고, 상기 금속산화물 미립자의 평균 입경은 1 ㎚∼10 ㎛인 것을 특징으로 하는 복합 전해질. 4 제1항에 있어서, 상기 중공형 입자의 평균 껍질 두께는 10 ㎚∼10 ㎛인 것을 특징으로 하는 복합 전해질. 5 제1항에 있어서, 상기 금속산화물 미립자는 알루미늄 (Al)산화물, 규소 (Si)산화물, 티타늄 (Ti)산화물, 인듐 (In)산화물, 아연 (Zn)산화물, 주석 (Sn)산화물, 텅스텐 (W)산화물, 납 (Pb)산화물, 마그네슘 (Mg)산화물, 갈륨 (Ga)산화물, 지르코늄 (Zr)산화물, 스트론디움 (Sr)산화물, 몰리브데늄 (Mo)산화물, 바나디움 (V)산화물, 이리듐 (Yr)산화물, 스캔디움 (Sc)산화물, 사마리움 (Sm)산화물, 철티타늄 (FeTi)산화물, 망간티타늄 (MnTi))산화물, 바륨티타늄 (BaTi)산화물 스트론티움티타늄 (SrTi)산화물 중에서 선택된 어느 하나 또는 둘 이상의 복합물인 것을 특징으로 하는 복합 전해질. 6 광전극 기판 및 이에 대향하는 대전극 기판과; 상기 광전극 기판의 안쪽 면 위에 형성된 염료가 흡착된 광 흡수층과; 상기 광 흡수층과 상기 대전극 기판 사이에 주입된 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 따른 복합 전해질;을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지. 7 (가) 코어 표면에 금속산화물 미립자들을 흡착시켜 금속산화물 흡착체를 형성한 후, 상기 금속산화물 흡착체로부터 상기 코어를 제거하여 중공형 입자를 얻고, (나) 상기 중공형 입자를 전해질에 혼합하여 복합 전해질을 얻는 것을 특징으로 하는 복합 전해질의 제조 방법. 8 제7항에 있어서, 상기 코어는 고분자 혹은 그 유도체, 또는 실리카 혹은 그 유도체인 것을 특징으로 하는 복합 전해질의 제조 방법. 9 제8항에 있어서, 상기 고분자는 폴리스티렌 (polystyrene), 폴리스티렌/디비닐벤젠 공중합체 (styrene/divinylbenzene copolymer), 폴리메틸메타크릴레이트 (polymethylmethacrylate), 폴리비닐톨루엔 (polyvinyltoluene), 폴리스티렌/부타디엔 공중합체 (styrene/butadiene copolymer) 중에서 선택된 어느 하나 또는 둘 이상의 복합물인 것을 특징으로 하는 복합 전해질의 제조 방법. 10 제7항에 있어서, 상기 코어의 평균 입경은 50 ㎚∼100 ㎛인 것을 특징으로 하는 복합 전해질의 제조 방법. 11 제7항에 있어서, 상기 금속산화물 미립자는 알루미늄 (Al)산화물, 규소 (Si)산화물, 티타늄 (Ti)산화물, 인듐 (In)산화물, 아연 (Zn)산화물, 주석 (Sn)산화물, 텅스텐 (W)산화물, 납 (Pb)산화물, 마그네슘 (Mg)산화물, 갈륨 (Ga)산화물, 지르코늄 (Zr)산화물, 스트론디움 (Sr)산화물, 몰리브데늄 (Mo)산화물, 바나디움 (V)산화물, 이리듐 (Yr)산화물, 스캔디움 (Sc)산화물, 사마리움 (Sm)산화물, 철티타늄 (FeTi)산화물, 망간티타늄 (MnTi))산화물, 바륨티타늄 (BaTi)산화물 스트론티움티타늄 (SrTi)산화물 중에서 선택된 어느 하나 또는 둘 이상의 복합물인 것을 특징으로 하는 복합 전해질의 제조 방법. 12 제7항에 있어서, 상기 코어와 상기 금속산화물 미립자의 입경 비는 10:1∼100000:1인 것을 특징으로 하는 복합 전해질의 제조 방법. 13 제7항에 있어서, 상기 금속산화물 미립자는 알루미늄 (Al)산화물, 규소 (Si)산화물, 티타늄 (Ti)산화물, 인듐 (In)산화물, 아연 (Zn)산화물, 주석 (Sn)산화물, 텅스텐 (W)산화물, 납 (Pb)산화물, 마그네슘 (Mg)산화물, 갈륨 (Ga)산화물, 지르코늄 (Zr)산화물, 스트론디움 (Sr)산화물, 몰리브데늄 (Mo)산화물, 바나디움 (V)산화물, 이리듐 (Yr)산화물, 스캔디움 (Sc)산화물, 사마리움 (Sm)산화물, 철티타늄 (FeTi)산화물, 망간티타늄 (MnTi))산화물, 바륨티타늄 (BaTi)산화물 스트론티움티타늄 (SrTi)산화물 중에서 선택된 어느 하나 또는 둘 이상의 복합물인 것을 특징으로 하는 복합 전해질의 제조 방법. 14 제7항에 있어서, 상기 금속산화물 흡착체는 건식 방법 또는 습식 방법을 이용하여 형성하고, 상기 건식 방법은, 혼합 기기를 이용한 기계적 흡착, 스퍼터링법 (sputtering), 전자빔증착법 (e-beam evaporation), 열증착법 (thermal evaporation), 레이저분자빔증착법 (laser molecular beam epitaxy), 펄스레이저증착법 (pulsed laser deposition), MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition), HVPE (Hydiride vapor phase epitaxy), 일렉트로증착법 (Electro deposition), 아토믹레이어증착법 (atomic layer deposition), MOMBE (Metal-Organic Molecular Beam Epitaxy) 중의 어느 한 방법이고, 상기 습식 방법은, 에멀젼중합법 (emulsion polymerization), 전기영동법 (electrophoresis), 딥코팅법 (dip coating), 표면 작용기 (surface functional group)를 이용한 화학적 흡착법 중의 어느 한 방법인 것을 특징으로 하는 복합 전해질의 제조 방법. 15 제7항에 있어서, 상기 금속산화물 흡착체로부터 상기 코어를 제거하는 것은 열처리법 또는 용액처리법에 의하여 이루어지고, 상기 열처리법은, 상기 금속산화물 흡착체를 분당 10 ℃ 미만의 속도로 승온시켜 300∼1000 ℃의 온도에서 5분∼48시간 열처리하는 것이고, 상기 용액처리법은 용매로 물, 알코올, 아세톤, 클로로포름, 메틸렌클로라이드, 에틸아세테이트, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 테트라하이드로퓨란, 헥산, 다이에틸에테르, 플루오르화수소산 (hydrofluoric acid) 중 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물을 이용하는 것을 특징으로 하는 복합 전해질의 제조 방법.","KR100949762B1, KR20090060855A, US2011174368A1",null,1]
["K04263","광학","KR","결합 공진기를 포함하는 다파장 광섬유 레이저 장치 및다파장 레이저의 발진 방법{MULTIWAVELENGTH FIBER LASER APPARATUS INCLUDING COUPLED CAVITIES AND OSCILLATION METHOD OF MULTIWAVELENGTH LASER}",null,"원문이미지","KR20070127945A","2007.12.11","KR0957133B1","2010.05.03","서로 연결된 제1 공진기 및 제2 공진기를 포함하며, 광신호를 미리 설정된 주파수에서 발진시켜 사이드 모드(side mode)의 광신호를 감소시키는 결합 공진기; 레이저 광신호를 생성하는 반도체 광 증폭기(Semiconductor Optical Amplifier; SOA); 상기 반도체 광 증폭기에 의해 생성된 광신호를 복수 개의 광신호로 필터링하여 상기 제1 공진기에 인가하는 다파장 필터; 및 상기 제1 공진기로부터 광신호의 일부분 이상을 분리하여 출력하는 가변 광 커플러를 포함하는 것을 특징으로 하는 다파장 광섬유 레이저 장치가 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 다파장 광섬유 레이저 장치 및 다파장 레이저의 발진 방법을 사용하면, 버니어(Vernier) 효과에 의해 효과적으로 사이드 모드(side mode)의 발진을 억제함으로써 단일 모드 다파장 레이저를 제공할 수 있으며, 출력 광 커플러의 출력비를 조절함으로써 발진 파장 대역을 변화시킬 수 있는 이점이 있다.","1 서로 연결된 제1 공진기 및 제2 공진기를 포함하며, 광신호를 미리 설정된 주파수에서 발진시켜 사이드 모드(side mode)의 광신호를 감소시키는 결합 공진기; 레이저 광신호를 생성하는 반도체 광 증폭기(Semiconductor Optical Amplifier; SOA); 상기 반도체 광 증폭기에 의해 생성된 광신호를 복수 개의 광신호로 필터링하여 상기 제1 공진기에 인가하는 다파장 필터; 및 상기 제1 공진기로부터 광신호의 일부분 이상을 분리하여 출력하는 가변 광 커플러를 포함하는 것을 특징으로 하는 다파장 광섬유 레이저 장치.","이관일, 이상배","G02B-006/00,G02B-006/293,H01S-003/067","KR20090061100A","2009.06.16",null,"2027.12.11","1 서로 연결된 제1 공진기 및 제2 공진기를 포함하며, 광신호를 미리 설정된 주파수에서 발진시켜 사이드 모드(side mode)의 광신호를 감소시키는 결합 공진기; 레이저 광신호를 생성하는 반도체 광 증폭기(Semiconductor Optical Amplifier; SOA); 상기 반도체 광 증폭기에 의해 생성된 광신호를 복수 개의 광신호로 필터링하여 상기 제1 공진기에 인가하는 다파장 필터; 및 상기 제1 공진기로부터 광신호의 일부분 이상을 분리하여 출력하는 가변 광 커플러를 포함하는 것을 특징으로 하는 다파장 광섬유 레이저 장치. 2 제 1항에 있어서, 상기 다파장 필터는, 인터리버(Interleaver) 또는 패브리-패롯 필터(Fabry-Perot filter)인 것을 특징으로 하는 다파장 광섬유 레이저 장치. 3 제 1항에 있어서, 상기 미리 설정된 주파수는 상기 제1 공진기 및 상기 제2 공진기의 공진 조건을 만족하는 주파수인 것을 특징으로 하는 다파장 광섬유 레이저 장치. 4 제 1항에 있어서, 상기 제1 공진기 및 상기 제2 공진기 각각에 연결되어, 사이드 모드의 광신호가 최소화 되도록 상기 제1 공진기 및 상기 제2 공진기의 편광을 조절하는 편광 조절기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 다파장 광섬유 레이저 장치. 5 제 1항에 있어서, 상기 제1 공진기는 고리형 공진기인 것을 특징으로 하는 다파장 광섬유 레이저 장치. 6 제 5항에 있어서, 상기 제1 공진기에 연결되어 광신호의 역방향 진행을 억제하는 광 아이솔레이터(isolator)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 다파장 광섬유 레이저 장치. 7 제 1항에 있어서, 상기 제1 공진기는 직선형 공진기이며, 상기 반도체 광 증폭기는 상기 제1 공진기의 한쪽 끝에 연결된 반사형 반도체 광 증폭기(Reflective Semiconductor Optical Amplifier; RSOA)이고, 상기 제1 공진기의 다른쪽 끝에 연결되어 광신호를 반사하는 공진기 미러를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 다파장 광섬유 레이저 장치. 8 제 1항에 있어서, 상기 다파장 광섬유 레이저 장치는, 상기 가변 광 커플러의 출력비에 따라 상이한 파장 대역의 광신호를출력하는 것을 특징으로 하는 다파장 광섬유 레이저 장치. 9 제 1항에 있어서, 상기 복수 개의 광신호는 서로 상이한 파장 대역을 가지는 것을 특징으로 하는 다파장 광섬유 레이저 장치. 10 레이저 광신호를 생성하는 단계; 상기 단계에서 생성된 광신호를 복수 개의 광신호로 필터링하는 단계; 상기 복수 개의 광신호로 필터링하는 단계에서 필터링된 광신호를 복수 개의 공진기를 포함하는 결합 공진기를 사용하여 미리 설정된 주파수에서 발진시켜, 사이드 모드(side mode)의 광신호를 감소시키는 단계; 및 광신호의 일부분 이상을 상기 결합 공진기로부터 분리하여 출력하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다파장 레이저의 발진 방법. 11 제 10항에 있어서, 상기 미리 설정된 주파수는 상기 복수 개의 공진기의 공진 조건을 만족하는 주파수인 것을 특징으로 하는 다파장 레이저의 발진 방법. 12 제 10항에 있어서, 상기 사이드 모드의 광신호를 감소시키는 단계는, 사이드 모드의 광신호가 최소화 되도록 상기 복수 개의 공진기의 편광을 조절하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다파장 레이저의 발진 방법. 13 제 10항에 있어서, 상기 복수 개의 광신호로 필터링하는 단계 후 및 상기 사이드 모드의 광신호를 감소시키는 단계 전에, 상기 결합 공진기 내의 광신호의 역방향 진행을 억제하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 다파장 레이저의 발진 방법. 14 제 10항에 있어서, 상기 광신호의 일부분 이상을 상기 결합 공진기로부터 분리하여 출력하는 단계는, 출력되는 광신호의 비율에 따라 상이한 파장 대역의 광신호를 출력하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다파장 레이저의 발진 방법. 15 제 10항에 있어서, 상기 복수 개의 광신호는 서로 상이한 파장 대역을 가지는 것을 특징으로 하는 다파장 레이저의 발진 방법.","KR100957133B1, KR20090061100A",null,1]
["K04231","화학","KR","금속-알루미나 과립형 입자 촉매 및 이를 이용한 삼산화황분해방법{METAL ALUMINA GRANULAR CATALYSTS AND DECOMPOSITION OF SULFUR TRIOXIDE USING THE SAME}",null,"원문이미지","KR20070103625A","2007.10.15","KR0930978B1","2009.12.02","본 발명은 신규의 금속-알루미나 과립형 입자 촉매에 관한 것으로, 본 발명에 따른 과립형 입자 촉매는 고온 및 고압에서 우수한 물리적 안정성 및 반응활성을 유지하여 물분해 요오드-황(IS) 싸이클 공정 중 삼산화황 분해반응에 유용하게 사용할 수 있다.","1 철, 구리 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 금속과 알루미나를 포함하며, 알루미나에 대한 금속의 몰 비가 0.01 내지 1인, 삼산화황 분해용 과립형 입자 촉매.","유계상, 공경택, 김창수, 정광덕, 김홍곤, 이병권","B01J-021/04,B01J-023/70,B01J-037/04","KR20090038234A","2009.04.20",null,"2027.10.15","1 철, 구리 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 금속과 알루미나를 포함하며, 알루미나에 대한 금속의 몰 비가 0.01 내지 1인, 삼산화황 분해용 과립형 입자 촉매. 2 제 1 항에 있어서, 상기 촉매의 크기가 0.1 내지 3 mm인 과립형 입자 촉매. 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5 제 1 항에 있어서, 상기 알루미나에 대한 금속의 몰 비가 0.06 내지 0.5인 과립형 입자 촉매. 6 제 1 항에 있어서, 상기 금속이 철과 구리를 포함하며, 구리에 대한 철의 몰 비가 0.5 내지 5인 과립형 입자 촉매. 7 제 6 항에 있어서, 상기 구리에 대한 철의 몰 비가 1 내지 3인 과립형 입자 촉매. 8 제 1 항에 있어서, 상기 촉매가 900℃ 이상의 고온에서 비 표면적이 100 m2/g 이상인 과립형 입자 촉매. 9 (1) 알루미나 전구체를 가수분해하고 질산을 첨가하여 해교시키는 단계; (2) 상기 단계 (1)에서 얻어진 용액에 금속 용액을 첨가하는 단계; (3) 상기 단계 (2)에서 얻어진 용액을 가열교반하여 졸 상태의 혼합물 용액을 형성시킨 후 파라핀 오일로 적하시키는 단계; 및 (4) 적하된 웨트-겔을 건조하고 소성하는 단계 를 포함하는 금속-알루미나 과립형 입자 촉매의 제조 방법. 10 제 9 항에 있어서, 단계 (2)의 금속 용액이 구리, 철 또는 이들의 혼합물을 함유하는 용액인 방법. 11 제 1 항, 제 2 항 및 제 5 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항의 촉매의 존재하에 삼산화황을 분해하는 방법. 12 제 11 항에 있어서, 500 내지 1200℃의 온도 및 0.1 내지 40 기압 하에서 수행되는 방법. 13 제 12 항에 있어서, 700 내지 1200℃의 온도 및 0.1 내지 40 기압 하에서 수행되는 방법. 14 제 11 항에 있어서, IS(Iodine-Sulfur) 싸이클 공정의 황산 분해반응 중에 일어나는 반응인 방법.","KR100930978B1, KR20090038234A",null,1]
["K04291","화학","KR","인산기-선택적인 형광 프로브를 이용한 포스파타제 활성 측정 방법{METHOD FOR PHOSPHATASE ACTIVITY ASSAYS USING PHOSPHATE-SPECIFIC FLUORESCENT PROBE}",null,"원문이미지","KR20080001394A","2008.01.04","KR0941679B1","2010.02.03","본 발명은 인산기-선택적인 형광 프로브의 제조 방법에 관한 것으로서, 특히 특정 구조의 인산기 결합성 물질에 형광 물질을 공유 결합시킨 후, 생성 화합물을 금속이온과 배위 결합시키는 것을 포함하는, 인산기-선택적인 형광 프로브의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따라 제조된 인산기-선택적인 형광 프로브는 포스파타제 활성 측정 방법에 유용하게 이용될 수 있다.","9 하기 화학식 1 또는 4의 인산기 결합성 물질, 형광 물질 및 금속이온을 포함하는 인산기-선택적인 형광 프로브와 기질을 반응시킨 후 형광 편광도의 변화를 측정하는 것을 특징으로 하는, 포스파타제 활성 측정 방법: [화학식 1] [화학식 4] 상기 식들에서, R1은 아미노, 하이드록실, 싸이올, 카르복실, 카르보닐, 비닐 및 알릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 기이고, R2 및 R3은 에틸렌 글라이콜릴 에테르 (-(CH2O)n-) (이때, n은 3 이하의 정수이다), 지방족 탄화수소 (-(CH2)m-) (이때, m은 3 이하의 정수이다) 및 아미드 (-CONH-)기로 이루어진 군으로부터 선택된 기이다.","안대로, 신동윤, 안희철","C07D-203/00,G01N-033/533,G01N-033/53","KR20090075514A","2009.07.08",null,"2028.01.04","1<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 6<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 7<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 8<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 9 하기 화학식 1 또는 4의 인산기 결합성 물질, 형광 물질 및 금속이온을 포함하는 인산기-선택적인 형광 프로브와 기질을 반응시킨 후 형광 편광도의 변화를 측정하는 것을 특징으로 하는, 포스파타제 활성 측정 방법: [화학식 1] [화학식 4] 상기 식들에서, R1은 아미노, 하이드록실, 싸이올, 카르복실, 카르보닐, 비닐 및 알릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 기이고, R2 및 R3은 에틸렌 글라이콜릴 에테르 (-(CH2O)n-) (이때, n은 3 이하의 정수이다), 지방족 탄화수소 (-(CH2)m-) (이때, m은 3 이하의 정수이다) 및 아미드 (-CONH-)기로 이루어진 군으로부터 선택된 기이다. 10 제 9 항에 있어서, 상기 기질이 DNA, RNA 및 인산기를 갖는 단백질로 이루어진 군으로부터 선택된 생고분자인 것을 특징으로 하는, 포스파타제 활성 측정 방법. 11<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 12 제 9 항에 있어서, (1) 완충 용액 중에서, 상기 인산기-선택적인 형광 프로브를 기질과 혼합하여 상기 형광 프로브를 기질의 인산기에 결합시킨 후, 상기 형광 프로브가 결합된 기질을 포함하는 반응 용액의 형광 편광도 값을 측정하는 단계; (2) 상기 반응 용액에 포스파타제를 첨가하여 탈인산화 반응을 수행하면서, 탈인산화 반응 도중 또는 반응이 완료된 후 상기 반응 용액의 형광 편광도 값을 측정하는 단계; 및 (3) 상기 탈인산화 반응 전/후의 상기 반응 용액의 형광 편광도 값을 비교하는 단계 를 포함하는, 포스파타제 활성 측정 방법. 13<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100941679B1, KR20090075514A",null,1]
["K04226","광전소자","KR","전도성 모노머로 개질된 플러렌 유도체를 이용하여 제조된전도성 고분자 복합막 광전 변환 소자 및 그의 제조방법{CONDUCTING POLYMER COMPOSITE FILM PHOTOVOLTAIC DEVICE PREPARED BY ELECTROCHEMICAL POLYMERIZATION USING CONDUCTING MONOMER FUNCTIONAL GROUP MODIFIED FULLERENE DERIVATIVE AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME}",null,"원문이미지","KR20070101015A","2007.10.08","KR0926263B1","2009.11.04","본 발명은 전도성 모노머로 개질된 플러렌 유도체를 이용하여 전도성 고분자 복합막 광전 변환 소자를 제작하는 기술에 관한 것이다. 구체적으로, 본 발명은 1) 투명 기판; 2) 투명 전극; 3) 전극 보호층; 4) 상기 전극 보호층 위에 제1 전도성 모노머로 개질된 플러렌 유도체와 제2 전도성 모노머의 전기화학적 공중합 반응에 의해 형성된 전도성 고분자 나노 복합막; 및 5) 금속 전극을 포함하는 전도성 고분자 복합막 광전 변환 소자 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 광전 변환 소자는 플러렌 유도체의 전도성 모노머와 p형 고분자 박막 형성을 위한 전도성 모노머의 분자 결합에 의해 플러렌 유도체가 전도성 고분자 박막 내에 고정된 고분자 나노 복합막을 형성함으로써 형성된 최적의 p-n 전하 이동통로가 온도나 시간의 변화에 따른 모폴로지(morphology) 변형이 유발되지 않아 안정적인 광전 변환 효과를 나타낼 수 있다.","1 1) 투명 전극이 형성된 투명 기판 위에 전극 보호층을 형성하는 단계; 2) 제1 전도성 모노머로 개질된 플러렌 유도체, 제2 전도성 모노머, 전해질 및 전해용매를 혼합하여 공중합 반응용액을 제조하는 단계; 3) 상기 공중합 반응용액에 단계 1)의 투명 기판을 담그고 양의 전위차와 음의 전위차를 번갈아 인가하는 단계적 전위차 반응 시스템을 이용한 전기화학적 공중합 반응을 수행하여 전도성 고분자 나노 복합막을 형성하는 단계; 및 4) 상기 전도성 고분자 나노 복합막 위에 금속 전극을 증착하는 단계를 포함하는, 전도성 모노머로 개질된 플러렌 유도체를 이용하여 우수한 광전 변환 효과를 나타내는 전도성 고분자 복합막 광전 변환 소자를 제조하는 방법.","유재웅, 진병두, 김재경, 김소연","H01L-031/02","KR20090035961A","2009.04.13",null,"2027.10.08","1 1) 투명 전극이 형성된 투명 기판 위에 전극 보호층을 형성하는 단계; 2) 제1 전도성 모노머로 개질된 플러렌 유도체, 제2 전도성 모노머, 전해질 및 전해용매를 혼합하여 공중합 반응용액을 제조하는 단계; 3) 상기 공중합 반응용액에 단계 1)의 투명 기판을 담그고 양의 전위차와 음의 전위차를 번갈아 인가하는 단계적 전위차 반응 시스템을 이용한 전기화학적 공중합 반응을 수행하여 전도성 고분자 나노 복합막을 형성하는 단계; 및 4) 상기 전도성 고분자 나노 복합막 위에 금속 전극을 증착하는 단계를 포함하는, 전도성 모노머로 개질된 플러렌 유도체를 이용하여 우수한 광전 변환 효과를 나타내는 전도성 고분자 복합막 광전 변환 소자를 제조하는 방법. 2 제1항에 있어서, 제1 전도성 모노머와 제2 전도성 모노머가 서로 같거나 다를 수 있고, 이들 각각이 아세틸렌(acetylene), 아닐린(aniline), 피롤(pyrrole), 티오펜(thiophene), 페닐렌비닐렌(phenylene vinylene), 페닐렌(phenylene), 3-알킬-티오펜(3-alkyl-thiophene), 옥틸티오펜(octylthiophene) 및 이들의 유도체로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법. 3 제1항에 있어서, 전해질이 리튬퍼클로레이트, 테트라부틸암모늄 헥사플루오로포스페이트(tetrabutylammonium hexafluorophosphate), 테트라부틸암모늄 테트라플루오로보레이트(tetrabutylammonium tetrafluoroborate), 도데실벤젠설폰산(dodecylbenzenesulfonic acid), 캠퍼설폰산(10-camphosulfonic acid) 및 파라톨루엔설폰산(p-toluenesulfonic aicd)으로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법. 4 제1항에 있어서, 전해용매가 프로필렌카보네이트(propylenecarbonate) 또는 아세토나이트릴(acetonitrile)인 것을 특징으로 하는 방법. 5 제1항에 있어서, 투명 기판이 유리, 석영, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate, PET) 및 폴리에테르설폰(polyethersulfone)으로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법. 6 제1항에 있어서, 투명 전극이 인듐 산화주석(indium tin oxide, ITO), 폴리에틸렌다이옥시티오펜(polyethylene dioxythiophene, PEDOT), 폴리아닐린(polyaniline) 및 폴리피롤(polypyrrole)로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법. 7 제1항에 있어서, 전극 보호층이 폴리에틸렌다이옥시티오펜(PEDOT), 폴리아닐린(polyaniline) 및 폴리피롤(polypyrrole)로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법. 8 제1항에 있어서, 금속 전극이 알루미늄, 마그네슘, 리튬, 칼슘, 구리, 은, 금, 백금 및 이들의 합금으로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법. 9<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 10 1) 투명 기판; 2) 투명 전극; 3) 전극 보호층; 4) 전도성 고분자 나노 복합막; 및 4) 금속 전극을 포함하고, 상기 전도성 고분자 나노 복합막이 제1 전도성 모노머로 개질된 플러렌 유도체와 제2 전도성 모노머의 전기화학적 공중합에 의해 형성되면서 이들 사이의 분자 결합에 의해 플러렌 유도체가 전도성 고분자 내에 고정되어 있는 것을 특징으로 하는, 우수한 광전 변환 효과를 나타내는 전도성 고분자 복합막 광전 변환 소자. 11 제10항에 있어서, 제1 전도성 모노머와 제2 전도성 모노머가 서로 같거나 다를 수 있고, 이들 각각이 아세틸렌, 아닐린, 피롤, 티오펜, 페닐렌비닐렌, 페닐렌, 3-알킬-티오펜, 옥틸티오펜 및 이들의 유도체로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 전도성 고분자 복합막 광전 변환 소자. 12 제10항에 있어서, 투명 기판이 유리, 석영, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 및 폴리에테르설폰으로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 전도성 고분자 복합막 광전 변환 소자. 13 제10항에 있어서, 투명 전극이 인듐 산화주석(ITO), 폴리에틸렌다이옥시티오펜(PEDOT), 폴리아닐린 및 폴리피롤로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 전도성 고분자 복합막 광전 변환 소자. 14 제10항에 있어서, 전극 보호층이 폴리에틸렌다이옥시티오펜(PEDOT), 폴리아닐린 및 폴리피롤로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 전도성 고분자 복합막 광전 변환 소자. 15 제10항에 있어서, 금속 전극이 알루미늄, 마그네슘, 리튬, 칼슘, 구리, 은, 금, 백금 및 이들의 합금으로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 전도성 고분자 복합막 광전 변환 소자.","KR100926263B1, KR20090035961A",null,1]
["K04224","로봇","KR","로봇의 경로 설계 방법 및 그 로봇{METHOD FOR DESIGNING MOVING PATH OF ROBOT}",null,"원문이미지","KR20070096139A","2007.09.20","KR0956663B1","2010.04.29","본 발명은 로봇의 경로 설계 방법에 관한 것으로, 본 발명은 상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, a) 초기값을 입력받는 단계와; b) 상기 초기값을 이용하여 로봇이 이동할 노드를 선정하는 단계와; c) 로봇이 상기 선정된 노드를 지나 주변 노드에 도달하였을 때의 시간을 기준으로 장애물의 위치를 파악하는 단계와; d) 상기 주변 노드들이 상기 장애물로부터 안전한지 판단하는 단계와; e) 상기 장애물로부터 안전한 것으로 판단되는 주변 노드를 다음 이동 노드로 선정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 로봇의 이동 경로 설계 방법을 제공한다.","1 움직이는 장애물을 회피면서 이동할 수 있도록 로봇의 이동 경로를 설계하는 방법으로서, 현재 위치로부터 로봇이 이동할 노드를 선정하는 단계와; 상기 로봇이 상기 선정된 노드를 지나 주변 노드에 도달할 때의 시간을 계산하는 단계와; 상기 계산된 시간에 상기 장애물이 움직일 위치를 계산하는 단계와; 여기서 상기 시간은 상기 장애물의 위치를 계산할 때 소요되는 시간이 고려되어 있고, 상기 계산된 장애물의 위치를 바탕으로 상기 주변 노드들이 상기 장애물로부터 안전한지 판단하는 단계와; 상기 장애물로부터 안전한 것으로 판단되는 주변 노드를 다음 이동 노드로 선정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 로봇의 이동 경로 설계 방법.","정문호, 유범재, 강동중","G05D-001/02","KR20090030683A","2009.03.25",null,"2027.09.20","1 움직이는 장애물을 회피면서 이동할 수 있도록 로봇의 이동 경로를 설계하는 방법으로서, 현재 위치로부터 로봇이 이동할 노드를 선정하는 단계와; 상기 로봇이 상기 선정된 노드를 지나 주변 노드에 도달할 때의 시간을 계산하는 단계와; 상기 계산된 시간에 상기 장애물이 움직일 위치를 계산하는 단계와; 여기서 상기 시간은 상기 장애물의 위치를 계산할 때 소요되는 시간이 고려되어 있고, 상기 계산된 장애물의 위치를 바탕으로 상기 주변 노드들이 상기 장애물로부터 안전한지 판단하는 단계와; 상기 장애물로부터 안전한 것으로 판단되는 주변 노드를 다음 이동 노드로 선정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 로봇의 이동 경로 설계 방법. 2 제 1항에 있어서, 로봇의 출발위치, 도착위치, 장애물의 초기 위치, 이동 속도, 이동 방향중 하나 이상을 입력받는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 로봇의 이동 경로 설계 방법. 3 제 1항에 있어서, 상기 이동할 노드는 최초실행시에는 상기 로봇의 출발 위치인 것을 특징으로 하는 로봇의 이동 경로 설계 방법. 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 6 제 1항에 있어서, 상기 안전 판단 단계는 상기 노드의 주변 노드 중 하나를 후보 노드로 선택하는 단계와; 상기 후보 노드가 상기 장애물로부터 안전한지 판단하는 단계를 포함하고, 여기서 상기 선택 단계 및 상기 판단 단계는 상기 주변 노드들 모두에 대해서 수행되는 것을 특징으로 하는 로봇의 이동 경로 설계 방법. 7 제 1항에 있어서, 상기 다음 이동 노드 선정 단계는 상기 안전한 것으로 판단되는 주변 노드들에 대해 목표 위치까지의 비용을 계산하는 단계와; 상기 목표 위치까지 최소 비용이 드는 주변 노드를 다음 이동 노드로 선정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 로봇의 이동 경로 설계 방법. 8 제 1항에 있어서, 상기 다음 이동 노드가 목표 위치가 될 때까지, 상기 선정 단계, 상기 시간 계산 단계, 상기 위치 계산 단계, 상기 안전 판단 단계, 그리고 상기 다음 이동 노드 선정 단계를 반복하는 것을 특징으로 하는 로봇의 이동 경로 설계 방법. 9 제 8항에 있어서, 상기 반복을 통해 상기 이동 노드가 목표 위치가 되면, 이전에 선정된 이동 노드들을 역추적하여, 경로를 결정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 로봇의 이동 경로 설계 방법. 10 제 1항에 있어서, 상기 주변 노드에 도달하였을 때의 시간(tcur)은 수학식 을 통하여 계산가능하고, 여기서, tinit 은 초기 시간이고, Δt는 로봇의 위치를 계산할 때 소요되는 시간이고, Δt*Scs.step은 장애물들의 위치를 계산할 때 시간인 것을 특징으로 하는 로봇의 이동 경로 설계 방법. 11 a) 제 1 리스트에서 첫 번째 항목을 이동할 노드로 선정하는 단계와; b) 선정된 노드를 제 2 리스트에 저장하고, 상기 제 1 리스트에서 제거하는 단계와; c) 상기 선정된 노드의 주변 노드들을 제 3 리스트에 저장하는 단계와; d) 로봇이 상기 선정된 노드를 지나 주변 노드에 도달하는데 소요되는 시간을 산출하는 단계와; e) 상기 산출된 시간에서 장애물의 움직임을 예측하는 단계와; f) 상기 시간에 상기 제 3 리스트 내의 주변 노드에 상기 로봇이 위치할 때, 상기 장애물로부터 안전할지 예측하는 단계와; g) 상기 제 3 리스트 내에 주변 노드들 중 안전하다고 판단되는 노드들로부터 목표위치까지의 비용을 산출하는 단계와; h) 상기 제 3 리스트 내의 주변 노드들을 상기 산출된 비용이 낮은 순으로 상기 제 1 리스트에 저장하는 단계를 포함하고, 여기서, 상기 a) 단계에서의 상기 이동할 노드가 로봇의 목표위치가 될 때까지, 상기 a) 내지 상기 h) 단계를 반복하는 것을 특징으로 하는 로봇의 이동 경로 설계 방법. 12 제 11항에 있어서, 상기 이동할 노드가 로봇의 목표위치인 경우, 상기 제 2 리스트에 저장된 노드들을 상기 로봇의 최적 경로로 결정하는 것을 특징으로 하는 로봇의 이동 경로 설계 방법. 13 제 11항에 있어서, 상기 이동할 노드는 최초실행시에는 상기 로봇의 출발 위치인 것을 특징으로 하는 로봇의 이동 경로 설계 방법. 14 제 11항에 있어서, 상기 시간은 상기 장애물의 움직임을 예측할 때 소요되는 시간이 고려되는 것을 특징으로 하는 로봇의 이동 경로 설계 방법. 15 제 11항에 있어서, 상기 안전 예측 단계는 상기 노드의 주변 노드들 중 하나를 후보 노드로 선택하는 단계와; 상기 시간에 상기 후보 노드에 로봇이 위치할 때 상기 장애물로부터 안전할지 예측하는 단계를 포함하고, 여기서 상기 선택 단계 및 상기 예측 단계는 상기 주변 노드들 모두에 대해서 수행되는 것을 특징으로 하는 로봇의 이동 경로 설계 방법. 16<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 17<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 18<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 19<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 20<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100956663B1, KR20090030683A",null,1]
["K04221","의료","KR","겨우살이 추출물 또는 이로부터 분리된 활성성분을함유하는 신경병증성 통증의 예방 및 치료용 조성물{COMPOSITION FOR THE PREVENTION AND TREATMENT OF NEUROPATHIC PAIN COMPRISING AN EXTRACT OF LORANTHUS YADORIKI OR ACTIVE COMPOUNDS ISOLATED THEREFROM}",null,"원문이미지","KR20070104792A","2007.10.18","KR0923217B1","2009.10.16","본 발명은 겨우살이(Loranthusyadoriki) 추출물, 이로부터 분리된 비스쿰네오시드 Ⅲ(Viscumneoside Ⅲ) 또는 호모플라보야도린 B(Homoflavoyadorin B)를 유효성분으로 함유하는 신경병증성 통증(neuropathic pain)의 예방 및 치료용 조성물에 관한 것이다. 본 발명에 따른 조성물은 우수한 신경병증성 통증 억제효과를 나타내므로 외상이나 염증, 허혈성 손상 또는 대사산물에 의한 신경 손상으로 야기되는 난치성 질환인 만성 신경병증성 통증을 예방하거나 치료하기 위한 약학 조성물로 뿐만 아니라 식품 첨가물로도 유용하게 사용될 수 있다.","1 비스쿰네오시드 Ⅲ(Viscumneoside Ⅲ), 호모플라보야도린 B(Homoflavoyadorin B), 상기 화합물들의 약제학적으로 허용가능한 염 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택된 화합물 또는 이를 포함하는 겨우살이(Loranthus yadoriki) 추출물을 유효성분으로 함유하는 신경병증성 통증(neuropathic pain)의 예방 또는 치료용 약학 조성물.","양현옥, 김종욱","A61K-031/7048,A61K-036/185,A61P-025/04","KR20090039259A","2009.04.22",null,"2027.10.18","1 비스쿰네오시드 Ⅲ(Viscumneoside Ⅲ), 호모플라보야도린 B(Homoflavoyadorin B), 상기 화합물들의 약제학적으로 허용가능한 염 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택된 화합물 또는 이를 포함하는 겨우살이(Loranthus yadoriki) 추출물을 유효성분으로 함유하는 신경병증성 통증(neuropathic pain)의 예방 또는 치료용 약학 조성물. 2 제1항에 있어서, 상기 겨우살이 추출물이 겨우살이 또는 이의 건조물을 물, 메탄올, 메탄올 수용액, 에탄올, 에탄올 수용액, 부탄올, 메틸렌클로라이드, 에틸아세테이트 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택된 용매로 추출하는 것을 특징으로 하는 약학 조성물. 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4 비스쿰네오시드 Ⅲ, 호모플라보야도린 B, 상기 화합물들의 약제학적으로 허용가능한 염 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택된 화합물 또는 이를 포함하는 겨우살이 추출물을 함유하는, 신경병증성 통증을 억제하는 효능을 갖는 건강 기능 식품. 5 제4항에 있어서, 음료의 형태인 것을 특징으로 하는 건강 기능 식품.","KR100923217B1, KR20090039259A",null,1]
["K04212","유전공학","KR","다이벤조에이에이취안트라센 노출 여부 확인용 바이오마커및 이를 이용한 확인 방법{Biomarker for identification of exposure to dibenzo［a, h］anthracene and the method of identification using thereof}",null,"원문이미지","KR20070099135A","2007.10.02","KR0961487B1","2010.05.27","본 발명은 다환 방향족 탄화수소류 중의 하나인 다이벤조에이에이취안트라센(dibenzo[a,h]anthracene)에 대한 노출 여부 확인용 바이오마커 및 이를 이용한 확인 방법에 관한 것으로, 구체적으로 다이벤조에이에이취안트라센에 의해 특이적으로 유전자 발현이 증가 또는 감소하는 바이오마커 및 이를 이용한 다이벤조에이에이취안트라센에 대한 노출 여부를 확인하는 방법에 관한 것이며, 본 발명의 바이오마커는 DNA 마이크로어레이 칩을 통하여 선별된 반응 유전자들을 바이오마커로 이용하여 환경 시료에서 다이벤조에이에이취안트라센의 오염을 모니터링 및 판정하는데 유용하게 사용될 수 있으며, 다이벤조에이에이취안트라센에 의해 유발되는 독성 작용 기작을 규명하는 도구로 이용될 수 있다.","1 유전자 등록번호(Genebank) NM_001633(AMBP, Alpha-1-microglobulin/bikunin precursor) 유전자의 핵산서열의 전부 또는 18 내지 30개의 핵산 서열로 구성되는 상기 유전자의 단편인 올리고뉴클레오티드 또는 그의 상보가닥 분자가 집적된, 다이벤조에이에이취안트라센에 대한 노출 여부 확인용 DNA 마이크로어레이 칩.","류재천, 김연정, 전희경","C12Q-001/68","KR20090034011A","2009.04.07",null,"2027.10.02","1 유전자 등록번호(Genebank) NM_001633(AMBP, Alpha-1-microglobulin/bikunin precursor) 유전자의 핵산서열의 전부 또는 18 내지 30개의 핵산 서열로 구성되는 상기 유전자의 단편인 올리고뉴클레오티드 또는 그의 상보가닥 분자가 집적된, 다이벤조에이에이취안트라센에 대한 노출 여부 확인용 DNA 마이크로어레이 칩. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5 1) 인간 체세포에 피검화합물을 처리하는 단계; 2) 단계 1)의 피검화합물을 처리한 실험군 세포와 피검화합물을 처리하지 않은 대조군 세포에서 RNA를 분리하는 단계; 3) 단계 2)의 실험군 및 대조군의 RNA를 cDNA로 합성하면서 실험군과 대조군을 각기 다른 형광물질로 표지하는 단계; 4) 단계 3)의 각기 다른 형광물질로 표지된 cDNA를 제 1항의 DNA 마이크로어레이칩과 혼성화시키는 단계; 5) 반응한 DNA 마이크로어레이칩을 분석하는 단계; 및 6) 분석한 데이터에서 제 1항의 DNA 마이크로어레이칩에 집적된 유전자의 발현 정도를 대조군과 비교하여 확인하는 단계를 포함하는 다이벤조에이에이취안트라센에 대한 노출 여부를 확인하는 방법. 6 제 5항에 있어서, 단계 1)의 인간 체세포는 인간의 간 세포 또는 인간 간암 세포인 것을 특징으로 하는 다이벤조에이에이취안트라센에 대한 노출 여부를 확인하는 방법. 7 제 6항에 있어서, 상기 인간 간암 세포는 HepG2인 것을 특징으로 하는 다이벤조에이에이취안트라센에 대한 노출 여부를 확인하는 방법. 8 제 5항에 있어서, 단계 3)의 형광물질은 Cy3, Cy5, FITC(poly L-lysine-fluorescein isothiocyanate), RITC(rhodamine-B-isothiocyanate) 및 로다민(rhodamine)으로 이루어진 군으로부터 선택하여 사용하는 것을 다이벤조에이에이취안트라센에 대한 노출 여부를 확인하는 방법. 9<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 10<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 11<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 12 제 1항의 DNA 마이크로어레이 칩을 포함하는 것을 특징으로 하는 다이벤조에이에이취안트라센에 대한 노출 여부 확인용 키트. 13 제 12항에 있어서, 인간 간 세포 또는 간암 세포를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 다이벤조에이에이취안트라센에 대한 노출 여부 확인용 키트. 14<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 15<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100961487B1, KR20090034011A",null,1]
["K04205","유전공학","KR","포름알데히드 노출 여부 진단용 바이오마커 및 이를 이용한진단 방법{Biomarker for diagonosis of exposure to formaldehyde and the method of diagonosis using thereof}",null,"원문이미지","KR20070081823A","2007.08.14","KR0967547B1","2010.06.25","본 발명은 포름알데히드에 대한 노출 여부 진단용 바이오마커 및 이를 이용한 진단 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 포름알데히드에 의해 유전자 발현이 증가 또는 감소하는 바이오마커 및 이를 이용한 포름알데히드에 대한 노출 여부를 진단하는 방법에 관한 것이며, 본 발명의 바이오마커는 DNA 마이크로어레이 칩을 통하여 선별된 반응 유전자들을 바이오마커로 이용하여 환경이나 실생활에서 포름알데히드를 모니터링 및 판정하는데 유용하게 사용될 수 있으며, 포름알데히드에 의해 유발되는 독성 작용 기작을 규명하는 도구로 이용될 수 있다.","1 하기 모든 유전자의 핵산서열의 전부 또는 그의 상보가닥 분자가 집적된 포름알데히드에 대한 노출 여부 진단용 DNA 마이크로어레이 칩: 유전자 등록번호 (Genebank) NM_001778(CD48 antigen(B-cell membrane protein)), 유전자 등록번호 (Genebank) BC071718(Chemokine(C-C motif) ligand 4-like 1), 유전자 등록번호 (Genebank) NM_005101(Interferon, alpha-inducible protein(clone IFI-15K)), 유전자 등록번호 (Genebank) NM_005238(V-ets erythroblastosis virus E26 oncogene homolog 1(avian)), 유전자 등록번호 (Genebank) NM_207037(Transcription factor 12(HTF4, helix-loop-helix transcription factors 4)), 유전자 등록번호 (Genebank) NM_002982(Chemokine(C-C motif) ligand 2), 유전자 등록번호 (Genebank) NM_004334(Bone marrow stromal cell antigen 1), 유전자 등록번호 (Genebank) X74328(Cannabinoid receptor 2(macrophage)).","류재천, 김연정, 사르마","C12Q-001/68","KR20090017230A","2009.02.18",null,"2027.08.14","1 하기 모든 유전자의 핵산서열의 전부 또는 그의 상보가닥 분자가 집적된 포름알데히드에 대한 노출 여부 진단용 DNA 마이크로어레이 칩: 유전자 등록번호 (Genebank) NM_001778(CD48 antigen(B-cell membrane protein)), 유전자 등록번호 (Genebank) BC071718(Chemokine(C-C motif) ligand 4-like 1), 유전자 등록번호 (Genebank) NM_005101(Interferon, alpha-inducible protein(clone IFI-15K)), 유전자 등록번호 (Genebank) NM_005238(V-ets erythroblastosis virus E26 oncogene homolog 1(avian)), 유전자 등록번호 (Genebank) NM_207037(Transcription factor 12(HTF4, helix-loop-helix transcription factors 4)), 유전자 등록번호 (Genebank) NM_002982(Chemokine(C-C motif) ligand 2), 유전자 등록번호 (Genebank) NM_004334(Bone marrow stromal cell antigen 1), 유전자 등록번호 (Genebank) X74328(Cannabinoid receptor 2(macrophage)). 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5 포름알데히드에 대한 노출이 의심되는 개체(실험군) 및 대조군으로부터 분리된 RNA 시료로부터 1) cDNA로 합성하면서 실험군과 대조군을 각기 다른 형광물질로 표지하는 단계; 2) 단계 1)의 각기 다른 형광물질로 표지된 cDNA를 제 1항의 DNA 마이크로어레이 칩과 혼성화시키는 단계; 3) 단계 2)의 반응한 DNA 마이크로어레이 칩을 분석하는 단계; 및 4) 단계 3)의 분석한 데이터에서 제 1항의 DNA 마이크로어레이 칩에 집적된 유전자의 발현 정도를 대조군과 비교하여 포름알데히드에 대한 노출 여부를 측정하는 단계를 포함하는 포름알데히드에 대한 노출 여부 진단을 위한 유전자 검출 방법. 6<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 7 제 5항에 있어서, 단계 1)의 형광물질은 Cy3, Cy5, FITC(poly L-lysine-fluorescein isothiocyanate), RITC(rhodamine-B-isothiocyanate), 로다민(rhodamine)으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 유전자 검출 방법. 8 포름알데히드에 대한 노출이 의심되는 개체(실험군) 및 대조군으로부터 분리된 RNA 시료로부터 1) 상기 RNA를, 제 1항의 DNA 마이크로어레이 칩에 집적된 유전자에 상보적이고 바이오마커 유전자를 증폭할 수 있는 프라이머를 사용하여 실시간 RT-PCR(Real-time reverse transcript polymerase chain reaction)을 수행하는 단계; 및, 2) 단계 1)의 유전자 산물을 대조군과 비교하여 포름알데히드에 대한 노출 여부를 측정하는 단계를 포함하는 포름알데히드에 대한 노출 여부 진단을 위한 유전자 검출 방법. 9 제 5항 또는 제 8항에 있어서, RNA 시료는 실험군의 혈액 세포 또는 림프세포는 인간 골수성 백혈병 세포인 HL-60 세포로부터 유래한 것을 특징으로 하는 유전자 검출 방법. 10 제 1항의 DNA 마이크로어레이 칩 또는 상기 DNA 마이크로어레이 칩에 집적된 유전자에 상보적이고, 상기 유전자를 증폭할 수 있는, 18 내지 30머 길이의 프라이머 쌍을 포함하는 것을 특징으로 하는 포름알데히드에 대한 노출 여부 진단용 키트. 11 제 10항에 있어서, 대조군으로 정상 인간 골수성 백혈병 세포인 HL-60 세포, 인간 혈액 세포 또는 림프 세포를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 진단용 키트. 12<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 13 제 10항에 있어서, 상기 프라이머 쌍은 하기 프라이머 쌍 1 내지 8로 구성되는 것을 특징으로 하는 진단용 키트: 프라이머 쌍 1: 서열번호 1로 기재되는 정방향 프라이머 및 서열번호 2로 기재되는 역방향 프라이머; 프라이머 쌍 2: 서열번호 5로 기재되는 정방향 프라이머 및 서열번호 6으로 기재되는 역방향 프라이머; 프라이머 쌍 3: 서열번호 7로 기재되는 정방향 프라이머 및 서열번호 8로 기재되는 역방향 프라이머; 프라이머 쌍 4: 서열번호 9로 기재되는 정방향 프라이머 및 서열번호 10으로 기재되는 역방향 프라이머; 프라이머 쌍 5: 서열번호 11로 기재되는 정방향 프라이머 및 서열번호 12로 기재되는 역방향 프라이머; 프라이머 쌍 6: 서열번호 13으로 기재되는 정방향 프라이머 및 서열번호 14로 기재되는 역방향 프라이머; 프라이머 쌍 7: 서열번호 17로 기재되는 정방향 프라이머 및 서열번호 18로 기재되는 역방향 프라이머; 및, 프라이머 쌍 8: 서열번호 19로 기재되는 정방향 프라이머 및 서열번호 20으로 기재되는 역방향 프라이머.","KR100967547B1, KR20090017230A",null,1]
["K04214","기계","KR","원환형 압전 초음파 공진기 및 그를 이용한 압전 초음파회전모터{A RING TYPE PIEZOELECTRIC ULTRASONIC RESONATOR AND A PIEZOELECTRIC ULTRASONIC ROTARY MOTOR USING THEREOF}",null,"원문이미지","KR20070121559A","2007.11.27","KR0954529B1","2010.04.16","본 발명은 원환형 압전 초음파 공진기 및 그를 이용한 압전 초음파 회전모터에 관한 것으로서, 더미부를 형성하지 않고 동일한 크기의 압전세라믹 구획을 원환형으로 배치하여 모든 지점에서의 회전력이 동일하며, 출력이 높은 위한 원환형 압전 초음파 공진기 및 이를 이용한 압전 초음파 회전모터를 제공한다.본 발명에 따른 원환형 압전 초음파 공진기는 원환형이며, 인가되는 교류 전계의 파장의 1/4 길이마다 구획되는 압전 세라믹을 포함하며, 상기 압전 세라믹은 두 개의 구획으로 이루어진 분극단위마다 교대로 분극되고, 상기 각 구획들에는 정현파 교류전계 및 그와 위상차를 갖는 교류전계가 교대로 인가된다.","1 원환형이며, 인가되는 교류 전계의 파장의 1/4 길이로 구획되는 압전 세라믹을 포함하며, 상기 압전 세라믹은 두 개의 구획으로 이루어진 분극단위마다 교대로 반대 극성으로 분극되어 상기 분극단위가 연속적으로 배치되고, 정현파 교류전계 및 그와 위상차를 갖는 교류전계가 연속적으로 배치되어 상기 각 구획들에 교대로 인가되는 원환형 압전 초음파 공진기.","윤석진, 김현재, 강종윤, 송현철","H02N-002/00","KR20090054728A","2009.06.01",null,"2027.11.27","1 원환형이며, 인가되는 교류 전계의 파장의 1/4 길이로 구획되는 압전 세라믹을 포함하며, 상기 압전 세라믹은 두 개의 구획으로 이루어진 분극단위마다 교대로 반대 극성으로 분극되어 상기 분극단위가 연속적으로 배치되고, 정현파 교류전계 및 그와 위상차를 갖는 교류전계가 연속적으로 배치되어 상기 각 구획들에 교대로 인가되는 원환형 압전 초음파 공진기. 2 제1항에 있어서, 상기 압전 세라믹의 구획의 개수는 4의 정수배인 원환형 압전 초음파 공진기. 3 제1항에 있어서, 상기 압전 세라믹의 상기 각 구획에 인가되는 상기 교류전계는 인접한 구획에 대해 90도의 위상차를 갖는 원환형 압전 초음파 공진기. 4 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 압전 세라믹의 상기 분극단위의 첫 번째 구획들에는 외측으로 제1 전극이 형성되고, 상기 분극단위의 두 번째 구획들에는 내측으로 제2 전극이 형성되며, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극은 상기 구획들에 교대로 하나씩 접속되어, 상기 제1 전극에 인가되는 교류전계가 상기 제2 전극에 인가되는 교류전계에 비해 90도 느린 위상차를 갖는 경우 상기 압전세라믹이 시계 방향으로 진행파를 생성하며, 상기 제1 전극에 인가되는 교류전계가 상기 제2 전극에 인가되는 교류전계에 비해 90도 빠른 위상차를 갖는 경우 상기 압전세라믹이 반시계 방향으로 진행파를 생성하는 원환형 압전 초음파 공진기. 5 원환형이며, 인가되는 교류 전계의 파장의 1/4 길이로 구획되는 압전 세라믹을 포함하며, 상기 압전세라믹은 두 개의 구획으로 이루어진 분극단위마다 교대로 반대 극성으로 분극되어 상기 분극단위가 연속적으로 배치되고, 정현파 교류전계 및 그와 위상차를 갖는 교류전계가 연속적으로 배치되어 상기 각 구획들에 교대로 인가되는 원환형 압전 초음파 공진기와; 상기 압전세라믹에 접촉하여 상기 압전세라믹의 진동이 전달되는 고정자와; 상기 고정자의 진동에 의해 발생하는 마찰력에 의해 회전하는 회전자와; 상기 회전자의 중심에 부착된 회전축과; 상기 압전세라믹, 상기 고정자, 및 상기 회전자를 수용하고 상기 회전축이 외부로 돌출 될 수 있도록 수용하는 하우징을 포함하는 압전 초음파 회전 모터. 6 제5항에 있어서, 상기 회전자 하부에는 상기 고정자와 직접 마찰하는 마찰링이 결합된 압전 초음파 회전 모터. 7 제6항에 있어서, 상기 고정자는 상기 원환형 압전 초음파 공진기와 접촉하는 베이스부와, 상기 베이스부에서 상기 회전자측으로 돌출된 돌기로 이루어지며, 상기 돌기가 상기 마찰링과 접촉한 상태에서 변형하여 상기 마찰링에 마찰력을 제공하는 압전 초음파 회전 모터. 8 제5항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 회전자를 상기 고정자측으로 가압하는 판스프링을 더 포함하는 압전 초음파 회전 모터.","CN101562438A, JP2009131145A, KR100954529B1, KR20090054728A, US2009134744A1",null,1]
["K04190","태양전지","KR","염료감응 태양전지와 이의 제조방법{DYE-SENSITIVED SOLAR CELL AND FABRICATION METHOD THEREOF}",null,"원문이미지","KR20070113391A","2007.11.07","KR0928941B1","2009.11.20","본 발명은 염료감응 태양전지와 이의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 유기표면처리된 산화티타늄 입자를 이용한 염료감응 태양전지와 이의 제조방법에 관한 것이다.본 발명에 따르는 염료감응 태양전지의 제조방법은 투명 전도성 기판 상에 차단층을 형성하는 단계와; 차단층 상에 복수의 콜로이드 입자를 포함하는 희생층을 형성하는 단계와; 희생층 상에 복수의 전이금속 산화물 나노입자를 포함하는 광전극 재료를 가하여, 콜로이드 입자 사이에 전이금속 산화물 나노입자를 충전하는 단계와; 소성 공정을 이용하여 희생층을 제거하여 역 오팔 구조를 갖는 광전극을 형성하는 단계; 및 광전극에 염료분자를 흡착시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.이에 의하여, 광증폭효과 등의 성능이 개선된 염료감응 태양전지와 이의 제조방법이 제공된다.","1 투명 전도성 기판과; 상기 투명 전도성 기판 상에 형성되어 있는 차단층과; 상기 차단층 상에 역 오팔 구조(inverse opal structure)를 갖도록 마련되어 있으며, 유기 물질이 코팅되어 있는 복수의 전이금속 산화물 나노입자로 이루어진 광전극과; 상기 광전극에 흡착되어 있는 복수의 염료분자와; 상기 투명 전도성 기판에 대향 배치되어 있는 대전극과; 상기 투명 전도성 기판과 마주하는 상기 대전극의 일면에 형성된 백금층과; 상기 투명 전도성 기판과 상기 대전극 사이에 위치하는 전해질층; 및 상기 투명 전도성 기판과 상기 대전극의 가장자리를 따라 형성되어 있는 밀봉부를 포함하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지.","이현정, 김준경, 곽은식, 이상수, 양수철","H01L-031/042","KR20090047300A","2009.05.12",null,"2027.11.07","1 투명 전도성 기판과; 상기 투명 전도성 기판 상에 형성되어 있는 차단층과; 상기 차단층 상에 역 오팔 구조(inverse opal structure)를 갖도록 마련되어 있으며, 유기 물질이 코팅되어 있는 복수의 전이금속 산화물 나노입자로 이루어진 광전극과; 상기 광전극에 흡착되어 있는 복수의 염료분자와; 상기 투명 전도성 기판에 대향 배치되어 있는 대전극과; 상기 투명 전도성 기판과 마주하는 상기 대전극의 일면에 형성된 백금층과; 상기 투명 전도성 기판과 상기 대전극 사이에 위치하는 전해질층; 및 상기 투명 전도성 기판과 상기 대전극의 가장자리를 따라 형성되어 있는 밀봉부를 포함하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지. 2 제1항에 있어서, 상기 유기 물질은 소수성 유기물질인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지. 3 제2항에 있어서, 상기 전이금속 산화물 나노입자의 표면에 코팅된 상기 소수성 유기물질은 0.1nm 내지 20nm의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지. 4 제1항에 있어서, 상기 전이금속 산화물 나노입자는 1nm 내지 100nm의 평균입경을 갖는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지. 5 제1항에 있어서, 상기 전이금속 산화물 나노입자는 이산화티타늄 나노입자, 산화아연 나노입자 및 이산화주석 나노입자 중 적어도 하나를 포함하며, 상기 이산화티타늄 나노입자는 아나타제(anatase) 결정성을 갖는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지. 6 제1항에 있어서, 상기 투명 전도성 기판은 기판 상에 인듐-틴-옥사이드 또는 불소-틴-옥사이드의 투명전극이 형성되어 있는 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지. 7 제1항에 있어서, 상기 광전극은 다공성이며, 2차원 또는 3차원의 규칙적인 결정구조를 갖는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지. 8 제1항에 있어서, 상기 광전극은 복수의 기공을 가지며, 상기 기공은100nm초과 내지 10μm의 평균 직경을 갖는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지. 9 제1항에 있어서, 상기 염료분자는 루테늄(ruthenium)계 또는 쿠마린(coumarin)계인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지. 10 투명 전도성 기판 상에 차단층을 형성하는 단계와; 상기 차단층 상에 복수의 콜로이드 입자를 포함하는 희생층을 형성하는 단계와; 상기 희생층 상에 복수의 전이금속 산화물 나노입자를 포함하는 광전극 재료를 가하여, 상기 콜로이드 입자 사이에 상기 전이금속 산화물 나노입자를 충전하는 단계와; 가열 소성 공정을 이용하여 상기 희생층을 제거하여 역 오팔 구조를 갖는 광전극을 형성하는 단계; 및 상기 광전극에 염료분자를 흡착시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지의 제조방법. 11 제10항에 있어서, 상기 차단층은 증착, 전기분해, 습식법 중 어느 하나의 방법에 의하여 제조되는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지의 제조방법. 12 제10항에 있어서, 상기 콜로이드 입자는 100nm 초과 내지 10μm의 평균 직경을 갖는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지의 제조방법. 13 제10항에 있어서, 상기 콜로이드 입자는 고분자 유기입자 또는 무기입자인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지의 제조방법. 14 제13항에 있어서, 상기 고분자 유기입자는 폴리스타이렌(PS) 및 폴리메틸메싸크릴레이트(PMMA) 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지의 제조방법. 15 제13항에 있어서, 상기 무기입자는 실리카를 포함하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지의 제조방법. 16 제10항에 있어서, 상기 희생층을 형성하는 단계, 상기 전이금속 산화물 나노입자를 충전하는 단계 및 상기 희생층을 제거하여 상기 광전극을 형성하는 단계는 적어도 1회 이상 반복되는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지의 제조방법. 17 제10항에 있어서, 상기 가열 소성 공정은 400℃ 내지 550℃에서 10분 내지 2시간 동안 적어도 1회 이상 이루어지는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지의 제조방법. 18 제10항에 있어서, 상기 광전극 재료는 물 또는 알코올에 상기 전이금속 산화물 나노입자가 분산되어 있으며, 상기 물 또는 알코올이 증발되면서 모세관 현상에 의하여 상기 전이금속 산화물 나노입자는 상기 콜로이드 입자 사이로 균일하게 충전되는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지의 제조방법. 19 제10항에 있어서, 상기 전이금속 산화물 나노입자의 표면에는 소수성 유기물질이 코팅되어 있는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지의 제조방법. 20 제10항에 있어서, 상기 전이금속 산화물 나노입자가 상기 콜로이드 입자 사이에 충전된 후, 상기 희생층을 불소계 고분자로 코팅된 기판으로 눌러주는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지의 제조방법.","KR100928941B1, KR20090047300A, US2009114278A1",null,1]
["K04187","화학","KR","이산화탄소 감지용 고성능 센서 및 그의 제조방법{HIGH-PERFORMANCE SENSOR FOR DETECTING CARBON DIOXIDE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}",null,"원문이미지","KR20080001640A","2008.01.07","KR0958695B1","2010.05.11","본 발명은 이산화탄소 감지용 고성능 센서 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 기준 전극, 감지 전극 및 상기 두 전극 사이에 Li-B-W-O계 전해질 박막을 포함하는 본 발명의 이산화탄소 감지 센서는 높은 이온 전도성을 갖는 Li-B-W-O계 전해질 박막의 사용에 기인하여 센서의 전력 소모를 줄이고, 우수한 감지도(sensitivity) 및 복구력(recovering time)을 가지며, 전류 집전체의 배열을 다양화할 수 있어 고성능 센서로서 유용하게 사용될 수 있다.","1 기준 전극, 감지 전극 및 상기 두 전극 사이에 Li-B-W-O계 전해질 박막을 포함하며, 상기 Li-B-W-O계 전해질 박막이 하기 화학식 1로 표시되는 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 이산화탄소 감지 센서: [화학식 1] Lix-By-Wz-Oδ 상기 식에서, x는 0.5 내지 1.2이고, y는 0.5 내지 1.2이고, z는 0.6 내지 1.5이고, δ는 0.5 내지 1.5이다.","최지원, 윤석진, 윤영수, 박 훈, 김수호, 고재환","G01N-027/12,G01N-027/00","KR20090075970A","2009.07.13",null,"2028.01.07","1 기준 전극, 감지 전극 및 상기 두 전극 사이에 Li-B-W-O계 전해질 박막을 포함하며, 상기 Li-B-W-O계 전해질 박막이 하기 화학식 1로 표시되는 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 이산화탄소 감지 센서: [화학식 1] Lix-By-Wz-Oδ 상기 식에서, x는 0.5 내지 1.2이고, y는 0.5 내지 1.2이고, z는 0.6 내지 1.5이고, δ는 0.5 내지 1.5이다. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3 제 1 항에 있어서, 상기 Li-B-W-O계 전해질 박막이 0.2 내지 50 ㎛의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는, 이산화탄소 감지 센서. 4 제 1 항에 있어서, 상기 기준 전극이 LiCoO2, V2O5, LiMnO2, LiMn2O4 및 이들의 복합산화물로 이루어진 군으로부터 선택된 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 이산화탄소 감지 센서. 5 제 1 항에 있어서, 상기 감지 전극이 Li2CO3, SnO2, LaOCl, La2O3 및 이들의 복합산화물로 이루어진 군으로부터 선택된 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 이산화탄소 감지 센서. 6 초소형 정밀기계 공정(microelectromechanical system, MEMS)을 이용하여 이산화탄소 감지 센서를 제조하는 방법에 있어서, (1) 스퍼터링 또는 진공 증발법을 이용하여 기재 위에 기준 전극 및 제 1 전류 집전체 박막 각각을 증착시키는 단계; (2) 상기 단계 (1)에서 제조한 박막 위에, 진공 증발법을 이용하여 Li-B-W-O계 전해질 박막을 증착시키는 단계; 및 (3) 상기 단계 (2)에서 제조한 전해질 박막 위에, 스퍼터링 또는 진공 증발법을 이용하여 제 2 전류 집전체 및 감지 전극 박막 각각을 증착시키는 단계 를 포함하는, 이산화탄소 감지 센서의 제조방법. 7 제 6 항에 있어서, 상기 기준 전극 및 상기 감지 전극 박막이 제 1 및 제 2 전류 집전체 박막보다 큰 면적을 갖는 것을 특징으로 하는, 이산화탄소 감지 센서의 제조방법. 8 제 6 항에 있어서, 상기 전해질 박막 위에 증착하는 박막이 전해질 박막보다 큰 면적을 갖는 것을 특징으로 하는, 이산화탄소 감지 센서의 제조방법.","KR100958695B1, KR20090075970A",null,1]
["K04179","화학","KR","이온성 액체에 용해된 셀룰로오즈 용액{Cellulose solution by using ionic liquids}",null,"원문이미지","KR20070068434A","2007.07.09","KR0889373B1","2009.03.11","본 발명은 이온성 액체에 용해된 셀룰로오즈 용액에 관한 것으로서, 보다 상세하게 셀룰로오즈와 상호작용을 할 수 있는 관능기가 치환된 양이온 및 음이온으로 구성된 특정의 이온성 액체를 이용하여 셀룰로오즈를 용해시켜 제조된 셀룰로오즈 용액에 관한 것이다.","1 질소원자에 수소결합성 관능기가 하나 이상 치환된 하기 화학식 1로 표시되는 4급 암모늄 양이온과, 하기 화학식 2로 표시되는 음이온으로 이루어진 이온성 액체에, 셀룰로오즈가 용해되어 있는 셀룰로오즈 용액 : [화학식 1] 상기 화학식 1에서, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, 및 R8은 서로 같거나 다른 것으로 C1-C6 알킬기이거나, 또는 C1-C6 알킬카르복시산기, C1-C6 알킬에스테르기, 하이드록시 C1-C6 알킬기, 디하이드록시 C1-C6 알킬기, 및 C1-C6 알콕시 C1-C6 알킬기로 이루어진 수소결합성 관능기로부터 선택되며; 다만 R1 및 R2가 동시에 알킬기인 경우, 또는 R3 및 R4가 동시에 알킬기인 경우, 또는 R5, R6, R7 및 R8가 동시에 알킬기인 경우는 제외하며, [화학식 2] 상기 화학식 2에서, R9 및 R10은 각각 수소원자, C1-C6 알킬기, 하이드록시 C1-C6 알킬기, 및 디하이드록시 C1-C6 알킬기 중에서 선택된다.","이현주, 김창수, 안병성, 서동진, 상병인, 이지연","C08B-001/00,C08B-016/00","KR20090005423A","2009.01.14",null,"2027.07.09","1 질소원자에 수소결합성 관능기가 하나 이상 치환된 하기 화학식 1로 표시되는 4급 암모늄 양이온과, 하기 화학식 2로 표시되는 음이온으로 이루어진 이온성 액체에, 셀룰로오즈가 용해되어 있는 셀룰로오즈 용액 : [화학식 1] 상기 화학식 1에서, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, 및 R8은 서로 같거나 다른 것으로 C1-C6 알킬기이거나, 또는 C1-C6 알킬카르복시산기, C1-C6 알킬에스테르기, 하이드록시 C1-C6 알킬기, 디하이드록시 C1-C6 알킬기, 및 C1-C6 알콕시 C1-C6 알킬기로 이루어진 수소결합성 관능기로부터 선택되며; 다만 R1 및 R2가 동시에 알킬기인 경우, 또는 R3 및 R4가 동시에 알킬기인 경우, 또는 R5, R6, R7 및 R8가 동시에 알킬기인 경우는 제외하며, [화학식 2] 상기 화학식 2에서, R9 및 R10은 각각 수소원자, C1-C6 알킬기, 하이드록시 C1-C6 알킬기, 및 디하이드록시 C1-C6 알킬기 중에서 선택된다. 2 청구항 1에 있어서, 100℃에서 이온성 액체 1 g에 셀룰로오즈가 0.4 g 용해됨을 특징으로 하는 셀룰로오즈 용액. 3 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 4급 암모늄 양이온에 치환되는 R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, 및 R8 그룹은 각각 C1-C6 알킬이거나, 또는 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 에틸 프로피오네이트, 에틸 부티레이트, 하이드록시메틸, 하이드록시에틸, 하이드록시프로필, 하이드록시부틸, 하이드록시헥실, 1,2-디하이드록시에틸, 메톡시메틸, 메톡시에틸, 에톡시에틸, 에톡시프로필, 및 에톡시부틸로 이루어진 수소결합성 관능기로부터 선택되며; 다만 R1 및 R2가 동시에 알킬인 경우, 또는 R3 및 R4가 동시에 알킬인 경우, 또는 R5, R6, R7 및 R8가 동시에 알킬인 경우는 제외된 것을 특징으로 하는 셀룰로오즈 용액. 4 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 2로 표시되는 음이온에 치환되는 R9및 R10그룹은 각각 수소원자, 메틸, 에틸, n-프로필, n-부틸, n-펜틸, n-헥실, 하이드록시메틸, 하이드록시에틸, 1,2-디하이드록시에틸, 하이드록시프로필, 하이드록시부틸, 및 하이드록시헥실로 이루어진 그룹으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 셀룰로오즈 용액. 5 청구항 1에 있어서, 상기 이온성 액체가 다음에서 선택된 것을 특징으로 하는 셀룰로오즈 용액. , , , , , , , , , , , , . 6 청구항 1, 청구항 2, 또는 청구항 5에 있어서, 상기 이온성 액체 1 g이 셀룰로오즈 0.1 g을 녹이는 온도가 60℃ 내지 72℃인 것을 특징으로 하는 셀룰로오즈 용액.","KR100889373B1, KR20090005423A",null,1]
["K04431","화학","KR","약물전달용 폴리포스파젠계 하이드로젤, 그의 제조방법 및그의 용도{POLY(ORGANOPHOSPHAZENE) HYDROGELS FOR DRUG DELIVERY, PREPARATION METHOD THEREOF AND USE THEREOF}",null,"원문이미지","KR20080040413A","2008.04.30","KR0968591B1","2010.06.30","본 발명은 온도 변화에 따라 솔-젤 거동을 보이며 관능기를 갖는 생분해성 및 온도 감응성 포스파젠계 고분자, 그의 제조방법 및 그의 생리 활성 물질 전달 재료로서의 용도에 관한 것이다.","1 다음의 화학식 1a의 구조를 갖는 포스파젠계 고분자: [화학식 1a] 상기 식에서, p는 에틸렌글리콜의 반복 단위 수를 나타내는 것으로서, 7 내지 50의 값을 갖고, NHCH(R1)CO2R2는 소수성 아미노산 에스테르로서, R1은 H, CH3, CH2SH, CH(CH3)2,CH2CH(CH3)2, CH(CH3)C2H5, CH2CH2SCH3, CH2C6H5, CH2C6H4OH 및 CH2C2NH2C6H4로 이루어진 군 중에서 선택된 것이고, R2는 CH3, C2H5, C3H7, C4H9, CH2C6H5 및 CH2CHCH2로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며, NH(R3)(R4)(R5)는 아미노산, 펩티드, 또는 뎁시 펩티드 에스테르로서, R3는CH(W)이고, R4는 CO2, CO2CH2CO2, CO2CH(CH3)CO2 및 CONHCH(X)CO2로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며, R5는 H, CH3 및 C2H5로 이루어진 군 중에서 선택된 것이고, 여기서 W와 X는 각각 독립적으로 H, HCH2, CH3, CH(CH3)2,CH2CH(CH3)2, CH(CH3)C2H5, CH2CH2SCH3, CH2C6H5, CH2C2NH2C6H4, CO2C2H5, (CH2)2CO2C2H5, CH2OH, CH(CH3)OH, CH2C6H4OH, CH2COOH, CH2CH2COOH, CH2CONH2, C4H8NH2, C3H6NHC(=NH)NH2, CH2C3N2H3 및 CH2SH로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며, NH(R6)(R7)(R8)와 NH(R6)(R7)(R9)는 관능기를 갖는 치환체를 나타내는 것으로서, R6는CH(Y)이고, R7은 CH2, C2H4CO2, CONHCH(Z)CONHCH(M)O, CONHCH(Z)CONHCH(L)CONHCH(L)O, CONHCH(Z)CONHCH(M)S, CONHCH(Z)CONHCH(M)CONHCH(L)S, CONHCH(Z)CONHCH(M)N, CONHCH(Z)CONHCH(M)CONHCH(L)N, COCHNH(Z)CONHCH(M)CON, COCHNH(Z)CONHCH(M)CONHCH(L)CON, COCHNH(Z)CONHCH(M)CO, COCHNH(Z)CONHCH(M)CONHCH(L)CO, COCHNH(Z)CONHCH(M)CO2, 및 COCHNH(Z)CONHCH(M)CONHCH(L)CO2로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며, R8는 OH, SH, H, CH3, C2H5, C3H7, C4H9, CH2C6H5 CH2CHCH2 및 하기의 표 2a 내지 2e의 보호기로 이루어진 군 중에서 선택된 것이고, 여기서 Y, Z, L, 및 M은 각각 독립적으로 H, HCH2, CH3, CH(CH3)2,CH2CH(CH3)2, CH(CH3)C2H5, CH2CH2SCH3, CH2C6H5, CH2C2NH2C6H4, CO2C2H5, (CH2)2CO2C2H5, CH2OH, CH(CH3)OH, CH2C6H4OH, CH2COOH, CH2CH2COOH, CH2CONH2, C4H8NH2, C3H6NHC(=NH)NH2, CH2C3N2H3 및 CH2SH로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며, R9는 OH, SH, H, NH2, CH3, C2H5, C3H7, C4H9, CH2C6H5, CH2CHCH2, NHCH(SH)CO2H, NH(CH2)qSH, NH(CH2CH2NH)rH, [NHCH(C4H8NH2)CO]rOH, [NHCH[(CH2)3C(=NH)(NH2)]CO]rOH, 폴산, 히알루론산, 폴리히스티딘, 싸이크로덱스트린, 헤파린, 키토산, 및 프로타민으로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며, 이 때, q는 메틸렌의 반복 단위 수를 나타내는 것으로서 1 내지 20의 값을 갖고, r는 에틸렌이민, 라이신 또는 아르기닌의 반복 단위 수를 나타내는 것으로서 1 내지 18000의 값을 나타내며, a1, a2, b, c, d 및 e는 각 치환체의 함량을 나타내는 값으로서, a1, a2, b, d는 각각 0.01 내지 1.9의 값을 가지고, c 및 e는 각각 0 내지 1.9의 값을 가지며, a1 + a2 + b + c + d + e = 2.0이고, n은 폴리포스파젠의 중합도로서 5 내지 100000의 값을 갖는다. [표 2a] [표 2b] [표 2c] [표 2d] [표 2e]","송수창, 박미란, 이선미","C08G-079/02,A61K-031/745","KR20080110472A","2008.12.18","2007-06-14 (KR 1020070058461)","2028.04.30","1 다음의 화학식 1a의 구조를 갖는 포스파젠계 고분자: [화학식 1a] 상기 식에서, p는 에틸렌글리콜의 반복 단위 수를 나타내는 것으로서, 7 내지 50의 값을 갖고, NHCH(R1)CO2R2는 소수성 아미노산 에스테르로서, R1은 H, CH3, CH2SH, CH(CH3)2,CH2CH(CH3)2, CH(CH3)C2H5, CH2CH2SCH3, CH2C6H5, CH2C6H4OH 및 CH2C2NH2C6H4로 이루어진 군 중에서 선택된 것이고, R2는 CH3, C2H5, C3H7, C4H9, CH2C6H5 및 CH2CHCH2로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며, NH(R3)(R4)(R5)는 아미노산, 펩티드, 또는 뎁시 펩티드 에스테르로서, R3는CH(W)이고, R4는 CO2, CO2CH2CO2, CO2CH(CH3)CO2 및 CONHCH(X)CO2로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며, R5는 H, CH3 및 C2H5로 이루어진 군 중에서 선택된 것이고, 여기서 W와 X는 각각 독립적으로 H, HCH2, CH3, CH(CH3)2,CH2CH(CH3)2, CH(CH3)C2H5, CH2CH2SCH3, CH2C6H5, CH2C2NH2C6H4, CO2C2H5, (CH2)2CO2C2H5, CH2OH, CH(CH3)OH, CH2C6H4OH, CH2COOH, CH2CH2COOH, CH2CONH2, C4H8NH2, C3H6NHC(=NH)NH2, CH2C3N2H3 및 CH2SH로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며, NH(R6)(R7)(R8)와 NH(R6)(R7)(R9)는 관능기를 갖는 치환체를 나타내는 것으로서, R6는CH(Y)이고, R7은 CH2, C2H4CO2, CONHCH(Z)CONHCH(M)O, CONHCH(Z)CONHCH(L)CONHCH(L)O, CONHCH(Z)CONHCH(M)S, CONHCH(Z)CONHCH(M)CONHCH(L)S, CONHCH(Z)CONHCH(M)N, CONHCH(Z)CONHCH(M)CONHCH(L)N, COCHNH(Z)CONHCH(M)CON, COCHNH(Z)CONHCH(M)CONHCH(L)CON, COCHNH(Z)CONHCH(M)CO, COCHNH(Z)CONHCH(M)CONHCH(L)CO, COCHNH(Z)CONHCH(M)CO2, 및 COCHNH(Z)CONHCH(M)CONHCH(L)CO2로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며, R8는 OH, SH, H, CH3, C2H5, C3H7, C4H9, CH2C6H5 CH2CHCH2 및 하기의 표 2a 내지 2e의 보호기로 이루어진 군 중에서 선택된 것이고, 여기서 Y, Z, L, 및 M은 각각 독립적으로 H, HCH2, CH3, CH(CH3)2,CH2CH(CH3)2, CH(CH3)C2H5, CH2CH2SCH3, CH2C6H5, CH2C2NH2C6H4, CO2C2H5, (CH2)2CO2C2H5, CH2OH, CH(CH3)OH, CH2C6H4OH, CH2COOH, CH2CH2COOH, CH2CONH2, C4H8NH2, C3H6NHC(=NH)NH2, CH2C3N2H3 및 CH2SH로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며, R9는 OH, SH, H, NH2, CH3, C2H5, C3H7, C4H9, CH2C6H5, CH2CHCH2, NHCH(SH)CO2H, NH(CH2)qSH, NH(CH2CH2NH)rH, [NHCH(C4H8NH2)CO]rOH, [NHCH[(CH2)3C(=NH)(NH2)]CO]rOH, 폴산, 히알루론산, 폴리히스티딘, 싸이크로덱스트린, 헤파린, 키토산, 및 프로타민으로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며, 이 때, q는 메틸렌의 반복 단위 수를 나타내는 것으로서 1 내지 20의 값을 갖고, r는 에틸렌이민, 라이신 또는 아르기닌의 반복 단위 수를 나타내는 것으로서 1 내지 18000의 값을 나타내며, a1, a2, b, c, d 및 e는 각 치환체의 함량을 나타내는 값으로서, a1, a2, b, d는 각각 0.01 내지 1.9의 값을 가지고, c 및 e는 각각 0 내지 1.9의 값을 가지며, a1 + a2 + b + c + d + e = 2.0이고, n은 폴리포스파젠의 중합도로서 5 내지 100000의 값을 갖는다. [표 2a] [표 2b] [표 2c] [표 2d] [표 2e] 2 다음의 화학식 1b의 구조를 갖는 포스파젠계 고분자: [화학식 1b] 상기 식에서, p는 에틸렌글리콜의 반복 단위 수를 나타내는 것으로서, 7 내지 50의 값을 갖고, NHCH(R1)CO2R2는 소수성 아미노산 에스테르로서, R1은 H, CH3, CH2SH, CH(CH3)2,CH2CH(CH3)2, CH(CH3)C2H5, CH2CH2SCH3, CH2C6H5, CH2C6H4OH 및 CH2C2NH2C6H4로 이루어진 군 중에서 선택된 것이고, R2는 CH3, C2H5, C3H7, C4H9, CH2C6H5 및 CH2CHCH2로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며, NH(R3)(R4)(R5)는 아미노산, 펩티드, 또는 뎁시 펩티드 에스테르로서, R3는CH(W)이고, R4는 CO2, CO2CH2CO2, CO2CH(CH3)CO2 및 CONHCH(X)CO2로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며, R5는 H, CH3 및 C2H5로 이루어진 군 중에서 선택된 것이고, 여기서 W와 X는 각각 독립적으로 H, HCH2, CH3, CH(CH3)2,CH2CH(CH3)2, CH(CH3)C2H5, CH2CH2SCH3, CH2C6H5, CH2C2NH2C6H4, CO2C2H5, (CH2)2CO2C2H5, CH2OH, CH(CH3)OH, CH2C6H4OH, CH2COOH, CH2CH2COOH, CH2CONH2, C4H8NH2, C3H6NHC(=NH)NH2, CH2C3N2H3 및 CH2SH로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며, NH(R6)(R7)(R8)와 NH(R6)(R7)(R9)는 관능기를 갖는 치환체를 나타내는 것으로서, R6는CH(Y)이고, R7은 C2H4, C3H6, C4H8, CH2C6H4, CH2CO2, O, CONHCH(Z)O, CO2, S, CONHCH(Z)S, N, CONHCH(Z)N, CON, COCHNH(Z)CON, 및 CONHCH(Z)CO2로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며, R8는 OH, SH, H, CH3, C2H5, C3H7, C4H9, CH2C6H5 CH2CHCH2 및 하기의 표 2a 내지 2e의 보호기로 이루어진 군 중에서 선택된 것이고, 여기서 Y, 및 Z은 각각 독립적으로 H, HCH2, CH3, CH(CH3)2,CH2CH(CH3)2, CH(CH3)C2H5, CH2CH2SCH3, CH2C6H5, CH2C2NH2C6H4, CO2C2H5, (CH2)2CO2C2H5, CH2OH, CH(CH3)OH, CH2C6H4OH, CH2COOH, CH2CH2COOH, CH2CONH2, C4H8NH2, C3H6NHC(=NH)NH2, CH2C3N2H3 및 CH2SH로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며, R9는 폴산, 히알루론산, 폴리히스티딘, 싸이크로덱스트린, 헤파린, 및 키토산으로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며, a1, a2, b, c, d 및 e는 각 치환체의 함량을 나타내는 값으로서, a1, a2, b, d는 각각 0.01 내지 1.9의 값을 가지고, c 및 e는 각각 0 내지 1.9의 값을 가지며, a1 + a2 + b + c + d + e = 2.0이고, n은 폴리포스파젠의 중합도로서 5 내지 100000의 값을 갖는다. [표 2a] [표 2b] [표 2c] [표 2d] [표 2e] 3 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 포스파젠계 고분자는 다음의 화합물로 이루어진 군에서 선택된 것인 포스파젠계 고분자: 폴리[(글라이신에틸에스테르)(아미노메톡시폴리에틸렌글리콜550)(글라이신페닐알라닌루이신)포스파젠], 폴리[(글라이신에틸에스테르)(아미노메톡시폴리에틸렌글리콜550)(글라이신페닐알라닌루이신)포스파젠], 폴리[(아이소루이신에틸에스테르)(아미노메톡시폴리에틸렌글리콜550)(글라이실글라이신)(글라이실글라이실프로타민)포스파젠], 폴리[(아이소루이신에틸에스테르)(아미노메톡시폴리에틸렌글리콜550)(글라이실글라이신)(글라이실글라이실에틸렌헤파린)포스파젠], 폴리[(아이소루이신에틸에스테르)(아미노메톡시폴리에틸렌글리콜550)(글라이실글라이신)(글라이실글라이실에틸렌히알루논산)포스파젠], 폴리[(아이소루이신에틸에스테르)(아미노메톡시폴리에틸렌글리콜550)(아미노에틸석시네이트)포스파젠], 폴리[(아이소루이신에틸에스테르)(아미노메톡시폴리에틸렌글리콜550)(아미노에틸석시네이트)(아미노에틸석시네이트PEI)포스파젠], 폴리[(아이소루이신에틸에스테르)(아미노메톡시폴리에틸렌글리콜550)(아미노에틸석시네이트)(아미노에틸석시네이트프로타민)포스파젠], 폴리[(아이소루이신에틸에스테르)(아미노메톡시폴리에틸렌글리콜550)(아미노에틸석시네이트)(아미노에틸석시네이트에틸렌헤파린)포스파젠], 및 폴리[(아이소루이신에틸에스테르)(아미노메톡시폴리에틸렌글리콜550)(아미노에틸석시네이트)(아미노에틸석시네이트에틸렌히알루논산)포스파젠]. 4 제1항에 따른 포스파젠계 고분자가 물, 완충용액, 산성용액, 염기성 용액, 염용액, 생리식염수, 주사용수 및 포도당 식염액으로 이루어진 군 중에서 선택된 1종 이상의 용매에 1 내지 50 중량%의 농도로 용해된 고분자 용액을 포함하는, 온도에 따라서 솔-젤 거동을 나타내고 생분해성인, 포스파젠 고분자 하이드로젤. 5 제2항에 따른 포스파젠계 고분자가 물, 완충용액, 산성용액, 염기성 용액, 염용액, 생리식염수, 주사용수 및 포도당 식염액으로 이루어진 군 중에서 선택된 1종 이상의 용매에 1 내지 50 중량%의 농도로 용해된 고분자 용액을 포함하는, 온도에 따라서 솔-젤 거동을 나타내고 생분해성인, 포스파젠계 고분자 하이드로젤. 6 제1항 또는 제2항에 따른 포스파젠계 고분자, 또는 제4항 또는 제5항에 따른 포스파젠계 고분자 하이드로젤; 및 생리 활성 물질로서, 단백질, 폴리펩티드, 펩티드, 백신, 유전자, 호르몬, 항암제 및 신생혈관 억제제로 이루어진 군 중에서 선택된 1종 이상의 약물, 또는 치료용 세포 또는 이들의 조합을 포함하는, 생리 활성 물질 전달체. 7 제6항에 있어서, 상기 단백질, 폴리펩티드, 및 펩티드는 엑센딘-4, 에리스로포이에틴, 인터페론-알파, 인테페론-베타, 인터페론-감마, 성장 호르몬, 성장 호르몬 방출인자, 신경 성장 인자, G-CSF(granulocyte-colony stimulating factor), GM-CSF(granulocyte macrophage-colony stimulating factor), M-CSF(macrophage-colony stimulating factor), 혈액응고 인자, 인슐린, 옥시토신, 바소프레신, 부신피질 자극호르몬, 섬유아세포 성장인자, 표피성장인자, 혈소판 유래 성장인자, 인슐린유사 성장인자, 혈관내피 성장인자, 변환성장인자, 신경성장인자, 뇌신경성장인자, 뉴로트로핀-3, 뉴로트로핀-4/5, 프로락틴, 룰리베린, 황체형성호르몬 방출호르몬(LHRH), LHRH 작용제, LHRH 길항제, 성장호르몬방출 억제인자, 글루카곤, 인터루킨-2(IL-2), 인터루킨-11(IL-11), 가스트린, 테트라가스트린, 펜타가스트린, 유로가스트론, 세크레틴, 칼시토닌, 엔케팔린, 엔돌핀, 안지오텐신, 갑상선자극호르몬 방출호르몬, 종양괴사인자, 종양괴사인자관련 세포자멸사유발 리간드, 헤파린 분해효소, 골형성 단백질, hANP(human atrial natriuretic peptide), 글루카곤유사 펩타이드, 레닌, 브라디키닌, 바시트라신, 폴리믹신, 콜리스틴, 티로시딘, 그라미시딘, 사이클로스포린, 뉴로텐신, 타키티닌, 뉴로펩타이드 Y, 펩타이드 YY, 혈관활성장내폴리펩타이드, 하수체성 아데닐레이트 사이클레이즈-활성 폴리펩타이드; 상기 물질들 중 어느 하나의 합성 아날로그, 단클론항체, 항체, 및 변형되거나 약효를 나타내는 부분; 효소; 및 사이토카인류로 이루어진 군 중에서 선택된 1종 이상의 것인 생리 활성 물질 전달체. 8 제6항에 있어서, 상기 백신은 간염 백신인 생리 활성 물질 전달체. 9 제6항에 있어서, 상기 유전자는 짧은 간섭 리보헥산(siRNA), 플라스미드 디옥시리보헥산 및 안티센스 올리고디옥시뉴클레오티드(AS-ODN)로 이루어진 군 중에서 선택된 1종 이상의 것인 생리 활성 물질 전달체. 10 제6항에 있어서, 상기 호르몬은 테스토스테론, 에스트라디올, 프로게스테론, 프로스타글란딘; 및 상기 물질들 중 어느 하나의 합성 아날로그, 및 변형되거나 동일한 약효를 나타내는 물질로 이루어진 군 중에서 선택된 1종 이상의 것인 생리 활성 물질 전달체. 11 제6항에 있어서, 상기 항암제는 파클리탁셀, 독소루비신, 5-플루오로우라실, 시스플라틴, 카보플라틴, 옥살리플라틴, 테가푸르, 이리노테칸, 도세탁셀, 사이클로포스파미드, 셈시타빈, 이포스파미드, 미토마이신 C, 빈크리스틴, 에토포사이드, 메토트렉세이트, 토포테칸, 타모시펜, 비노렐빈, 캄토테신, 다누오루비신, 클로람부실, 브리오스타틴-1, 칼리케아미신, 마이아탄신, 레바이솔, DNA 재조합 인터페론 알파-2a, 미토산트론, 니무스틴, 인터페론 알파-2a, 독시플루리딘, 포메스테인, 류프롤라이드 아세테이트, 메게스트롤 아세테이트, 카모포르, 테니포사이드, 블레오마이신, 카무스틴, 헵타플라틴, 엑세메스탄, 아나스트로졸, 에스트라무스틴, 카페시타빈, 고세렐린 아세테이트, 폴리사카라이드 칼륨, 메드록시포게스테론 아세테이트, 에피루비신, 레트로졸, 피라루비신, 토포테칸, 알트레타민, 토레미펜 시트레이트, BCNU, 탁소텔, 악티노마이신 D, 아나스트로졸, 벨로테칸, 이메티닙, 플록수리딘, 젬시타빈, 하이드로시유리아, 졸레드로네이트, 플루타마이드, 발루비신, 스트렙토조신, 폴리에틸렌글라이콜 접합 항암제; 및 상기 물질들 중 어느 하나의 합성 아날로그 및 변형되거나 동일한 약효를 나타내는 물질로 이루어진 군 중에서 선택된 1종 이상의 물질인, 생리 활성 물질 전달체. 12 제6항에 있어서, 상기 신생혈관 억제제는 BMS-275291, 클로드로네이트,6-데옥시-6-데메틸-4-데디메틸아미노테트라시클린, 독시사이클린, 마리마스타트, 2-메톡시에스트라디올, 스쿠알라민, SU5164, 탈리도미드, TNP-470, 콤브레타스타틴 A4, 소이 이소플라본, 엔자스타우린, CC 5013(Revimid), 셀레콕십, ZD 6474, 할로푸지논 하이드로브로마이드, 인터페론-알파, 베바시주맵, AE-941, 인터루킨-12, 혈관 내피 성장 인자 트랩, 세툭시맵, 레비마스타트, S-3304, LY317615, 엔도스타틴, 바탈라니브 (PTK787/ZK 222584), 수니티니브 말레이트(SU11248), 실렌퀴타이드(EMD-121974), MEDI-522, EOS-200-4, ATN-161; 상기 물질들 중 어느 하나의 합성 아날로그 및 변형되거나 동일한 약효를 나타내는 물질로 이루어진 군 중에서 선택된 1종 이상의 물질인 생리 활성 물질 전달체. 13 제6항에 있어서, 상기 치료용 세포는 전조골세포, 연골세포, 신생혈관세포, 조골세포, 성체줄기세포, 슈반세포, 희돌기교세포, 간세포(hepatocyte), 벽세포, 근아세포, 인슐린 분비 세포, 내피세포, 평활근세포, 섬유아세포, 베타세포, 내배엽세포, 간 기간 세포(hepatic stem cell), 사구체 엽세포, 골격근세포, 각질세포, 멜라닌세포, 랑켈한스 세포, 머클세포, 진피 섬유아세포 및 지방전구세포로 이루어진 군 중에서 선택된 1종 이상의 것인, 생리 활성 물질 전달체. 14 제6항에 있어서, 중량평균분자량 200 내지 750,000의 양이온성 고분자, 중량평균분자량 200 내지 750,000의 음이온성 고분자, 아미노산, 펩타이드, 단백질, 지방산, 인지질, 비타민류, 약물, 폴리에틸렌글리콜 에스테르, 스테로이드, 아민 화합물, 아크릴계 공중합체, 유기용매, 보존제, 당류, 폴리올, 당함유 폴리올, 당함유 아미노산, 계면활성제, 당함유 이온, 규산염, 금속염 및 암모늄염으로 이루어진 군 중에서 선택된 1종 이상의 첨가제를 생리 활성 물질 전달체 전체 중량을 기준으로 1 X 10-6 내지 30 중량%의 양으로 추가로 함유하는, 생리 활성 물질 전달체. 15 다음의 화학식 1c로 표현되는 포스파젠계 고분자 또는 상기 포스파젠계 고분자 용액을 포함하는 포스파젠계 고분자 하이드로젤; 및 생리 활성 물질을 포함하고, 상기 생리 활성 물질은 엑센딘-4, 섬유아세포 성장인자, 인슐린유사 성장인자, 혈관내피 성장인자, 변환성장인자(TGF-β), 뇌신경성장인자, 뉴로트로핀-3, 뉴로트로핀-4/5, 뉴로텐신, 타키티닌, 뉴로펩타이드 Y, 펩타이드 YY, 혈관활성장내폴리펩타이드, 하수체성 아데닐레이트 사이클레이즈-활성폴리펩타이드, 상기 물질들 중 어느 하나의 단클론항체, 및 항체로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 단백질, 폴리펩티드, 또는 펩티드, 이메티닙, 플록수리딘, 젬시타빈, 하이드로시유리아, 졸레드로네이트, 플루타마이드, 발루비신, 및 스트렙토조신으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 항암제, 레비마스타트, S-3304, LY317615, 엔도스타틴, 바탈라니브(PTK787/ZK 222584), 수니티니브 말레이트 (SU11248), 실렌퀴타이드 (EMD-121974), MEDI-522, EOS-200-4, 및 ATN-161로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 신생혈관 억제제, 및 상기 물질들의 합성 아날로그 및 변형되거나 동일한 약효를 나타내는 물질 로 이루어진 군 중에서 선택된 1종 이상의 것인, 생리 활성 물질 전달체: [화학식 1c] 상기 식에서, p는 에틸렌글리콜의 반복 단위 수를 나타내는 것으로서, 7 내지 50의 값을 갖고, NHCH(R1)CO2R2는 소수성 아미노산 에스테르로서, R1은 H, CH3, CH2SH, CH(CH3)2,CH2CH(CH3)2, CH(CH3)C2H5, CH2CH2SCH3, CH2C6H5, CH2C6H4OH 및 CH2C2NH2C6H4로 이루어진 군 중에서 선택된 것이고, R2는 CH3, C2H5, C3H7, C4H9, CH2C6H5 및 CH2CHCH2로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며, NH(R3)(R4)(R5)는 아미노산, 펩티드, 또는 뎁시 펩티드 에스테르로서, R3는CH(W)이고, R4는 CO2, CO2CH2CO2, CO2CH(CH3)CO2 및 CONHCH(X)CO2로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며, R5는 H, CH3 및 C2H5로 이루어진 군 중에서 선택된 것이고, 여기서 W와 X는 각각 독립적으로 H, HCH2, CH3, CH(CH3)2,CH2CH(CH3)2, CH(CH3)C2H5, CH2CH2SCH3, CH2C6H5, CH2C2NH2C6H4, CO2C2H5, (CH2)2CO2C2H5, CH2OH, CH(CH3)OH, CH2C6H4OH, CH2COOH, CH2CH2COOH, CH2CONH2, C4H8NH2, C3H6NHC(=NH)NH2, CH2C3N2H3 및 CH2SH로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며, NH(R6)(R7)(R8)와 NH(R6)(R7)(R9)는 관능기를 갖는 치환체를 나타내는 것으로서, R6는CH(Y)이고, R7은 C2H4, C3H6, C4H8, CH2C6H4, CH2CO2, O, CONHCH(Z)O, CO, CO2, S, CONHCH(Z)S, N, CONHCH(Z)N, CON, COCHNH(Z)CON, CONHCH(Z)CO 및 CONHCH(Z)CO2로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며, R8는 OH, SH, H, CH3, C2H5, C3H7, C4H9, CH2C6H5 CH2CHCH2 및 하기의 표 2a 내지 2e의 보호기로 이루어진 군 중에서 선택된 것이고, 여기서 Y, 및 Z은 각각 독립적으로 H, HCH2, CH3, CH(CH3)2,CH2CH(CH3)2, CH(CH3)C2H5, CH2CH2SCH3, CH2C6H5, CH2C2NH2C6H4, CO2C2H5, (CH2)2CO2C2H5, CH2OH, CH(CH3)OH, CH2C6H4OH, CH2COOH, CH2CH2COOH, CH2CONH2, C4H8NH2, C3H6NHC(=NH)NH2, CH2C3N2H3 및 CH2SH로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며, R9는 OH, SH, H, NH2, CH3, C2H5, C3H7, C4H9, CH2C6H5, CH2CHCH2, NHCH(SH)CO2H, NH(CH2)qSH, NH(CH2CH2NH)rH, [NHCH(C4H8NH2)CO]rOH, [NHCH[(CH2)3C(=NH)(NH2)]CO]rOH 및 프로타민으로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며, 이 때, q는 1 내지 20의 정수이고, r은 1 내지 18000의 정수이며, a1, a2, b, c, d 및 e는 각 치환체의 함량을 나타내는 값으로서, a1, a2, b, d는 각각 0.01 내지 1.9의 값을 가지고, c 및 e는 각각 0 내지 1.9의 값을 가지며, a1 + a2 + b + c + d + e = 2.0이고, n은 5 내지 100000의 정수이다. [표 2a] [표 2b] [표 2c] [표 2d] [표 2e] 16 제15항에 있어서, 중량평균분자량 200 내지 750,000의 양이온성 고분자, 중량평균분자량 200 내지 750,000의 음이온성 고분자, 아미노산, 펩타이드, 단백질, 지방산, 인지질, 비타민류, 약물, 폴리에틸렌글리콜 에스테르, 스테로이드, 아민 화합물, 아크릴계 공중합체, 유기용매, 보존제, 당류, 폴리올, 당함유 폴리올, 당함유 아미노산, 계면활성제, 당함유 이온, 규산염, 금속염 및 암모늄염으로 이루어진 군 중에서 선택된 1종 이상의 첨가제를 생리 활성 물질 전달체 전체 중량을 기준으로 1 X 10-6 내지 30 중량%의 양으로 추가로 함유하는, 생리 활성 물질 전달체.","EP2158254A1, EP2158254A4, KR100968591B1, KR20080110472A, US2009047348A1, US8075916B2, WO2008153277A1",null,1]
["K04175","유전공학","KR","아미오다론 처리에 따른, 폐독성 유발 약물 검색용마커유전자 및 이를 이용한 검색 방법{Marker genes based on Amiodarone treatment for screening of drug inducing pulmonary toxicity and screening method using thereof}",null,"원문이미지","KR20070074992A","2007.07.26","KR0936286B1","2010.01.04","본 발명은 폐독성 유발 약물 검색용 마커유전자 및 이를 이용한 검색 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 폐독성 유발 약물인 아미오다론(Amiodarone)에 의해 유전자 발현이 증가 또는 감소하는 마커유전자 및 이를 이용한 폐독성 유발 약물의 검색 방법에 관한 것이다. 본 발명의 마커유전자는 DNA 마이크로어레이 칩을 통하여 선별된 반응 유전자들을 마커유전자로 이용하여 폐독성의 위험성을 지닌 약물 또는 화학물질을 모니터링 및 판정하는데 유용하게 사용될 수 있으며, 아미오다론이 폐독성 및 부작용을 일으키는 작용 기작을 규명하는 도구로 이용될 수 있다.","1 하기의 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상의 유전자의 핵산서열의 전부 또는 18 내지 30개의 핵산 서열로 구성되는 상기 유전자의 단편인 올리고뉴클레오티드 또는 그의 상보가닥 분자가 집적된 아미오다론에 대한 노출 여부 진단용 DNA 마이크로어레이 칩: 유전자 등록번호(Genebank) NM_004265(Fatty acid desaturase), 유전자 등록번호(Genebank) AK124635(Proprotein convertase subtilisin/kexin type 9), 유전자 등록번호(Genebank) NM_138711(Peroxisome proliferative activated receptor, gamma), 유전자 등록번호(Genebank) NM_005063[Stearoyl-CoA desaturase(delta-9-desaturase)], 유전자 등록번호(Genebank) BX648997(Peroxisome proliferative activated receptor, gamma, coactivator 1, beta).","김연정, 류재천, 송미","C12Q-001/68","KR20090011429A","2009.02.02",null,"2027.07.26","1 하기의 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상의 유전자의 핵산서열의 전부 또는 18 내지 30개의 핵산 서열로 구성되는 상기 유전자의 단편인 올리고뉴클레오티드 또는 그의 상보가닥 분자가 집적된 아미오다론에 대한 노출 여부 진단용 DNA 마이크로어레이 칩: 유전자 등록번호(Genebank) NM_004265(Fatty acid desaturase), 유전자 등록번호(Genebank) AK124635(Proprotein convertase subtilisin/kexin type 9), 유전자 등록번호(Genebank) NM_138711(Peroxisome proliferative activated receptor, gamma), 유전자 등록번호(Genebank) NM_005063[Stearoyl-CoA desaturase(delta-9-desaturase)], 유전자 등록번호(Genebank) BX648997(Peroxisome proliferative activated receptor, gamma, coactivator 1, beta). 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 6<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 7<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 8<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 9<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 10<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 11 제 1항의 DNA 마이크로어레이 칩을 포함하는 것을 특징으로 하는 아미오다론에 대한 노출 여부 측정용 키트. 12 제 11항에 있어서, 인간 기관지 상피 세포주(Human bronchial epithelial cells, BEAS-2B)를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 키트. 13 제 11항에 있어서, 스트렙타비딘-알칼리 탈인화효소 접합물질(strepavidin-like phosphatease conjugate), 화학형광물질(chemiflurorensce) 및 화학발광물질(chemiluminescent)로 이루어진 형광물질군으로부터 선택되는 어느 하나를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 키트. 14 제 11항에 있어서, 혼성화에 사용되는 완충용액, RNA로부터 cDNA를 합성하기 위한 역전사효소, cNTPs 및 rNTP(사전 혼합형 또는 분리 공급형), 표식시약, 및 세척 완충용액으로 이루어진 반응시약군으로부터 선택되는 어느 하나를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 키트. 15 제 11항에 있어서, 제 1항의 마이크로어레이 칩에 집적된 유전자에 상보적이고, 상기 유전자를 증폭할 수 있는, 18 내지 30개의 핵산으로 구성되는 프라이머 쌍을 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 키트. 16 제15항에 있어서, 상기 프라이머쌍은 하기 프라이머쌍 1 내지 3으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 키트: 프라이머쌍 1: 서열번호 7로 기재되는 정방향 프라이머 및 서열번호 8로 기재되는 역방향 프라이머; 프라이머쌍 2: 서열번호 9로 기재되는 정방향 프라이머 및 서열번호 10으로 기재되는 역방향 프라이머; 및, 프라이머쌍 3: 서열번호 11로 기재되는 정방향 프라이머 및 서열번호 12로 기재되는 역방향 프라이머.","KR100936286B1, KR20090011429A, US2009269747A1, US2011190155A1",null,1]
["K04165","화학","KR","화염분사 공정을 이용한 염소화 유기화합물 분해용 바나디아-티타니아 촉매의 제조방법{METHOD FOR THE PREPARATION OF VANADIA-TITANIA CATALYST FOR DEGRADING CHLORINATED ORGANIC COMPOUNDS BY USING A FLAME SPRAY PROCEDURE}",null,"원문이미지","KR20070085321A","2007.08.24","KR0917987B1","2009.09.11","본 발명은 염소화 유기화합물 분해를 위한 바나디아-티타니아 촉매의 제조방법에 관한 것으로, 구체적으로 연소 과정에서 배출되는 다이옥신을 비롯한 염소화 유기화합물을 효과적으로 분해할 수 있는 바나디아-티타니아 촉매를 이산화티타늄 담체 표면에 바나디아 입자가 분산되어 부착되어 있는 구조의 입자 형태로 화염분사 공정을 이용하여 제조하는 방법에 관한 것이다. 화염분사 공정을 이용하는 본 발명의 제조방법은 습식법에 비해 비교적 간단한 공정으로 바나디아-티타니아 촉매를 생산할 수 있고 촉매 입자 크기의 조절이 용이할 뿐만 아니라, 이와 같이 고온의 화염에서 제조된 바나디아-티타니아 촉매는 반응 표면적이 넓고 물리적 안정성이 우수하여 습식법에 의해 제조된 촉매와 비해 저온에서도 염소화 유기화합물에 대해 높은 분해효율을 나타내는 장점을 갖는다.","1 1) 바나디아 전구체로 바나듐 옥시트라이아이소프로폭사이드(C3H7O)3VO)와 티타니아 전구체로 티타늄-테트라아이소프로폭사이드(TTIP. Ti(OCH(CH3)2)4)가 혼합된 용액을 분사시키는 단계; 2) 분사된 용액의 액적(droplet)을 운반가스에 의해 600 내지 800℃ 온도로 유지되는 화염 속을 통과시키면서 산화반응에 의해 이산화티타늄 담체 표면에 바나디아 입자가 분산되어 부착되어 있는 구조의 입자 형태로 바나디아-티타니아 촉매를 제조하는 단계; 및 3) 상기 구조의 바나디아-티타니아 촉매 입자를 냉각시켜 포집하는 단계를 포함하는, 화염분사 공정을 이용하여 염소화 유기화합물 분해용 바나디아-티타니아 촉매를 제조하는 방법.","정종수, 배귀남, 안강호, 이정은, 김진영, 정혁","B01J-023/22,B01J-021/06,B01D-053/70","KR20090020760A","2009.02.27",null,"2027.08.24","1 1) 바나디아 전구체로 바나듐 옥시트라이아이소프로폭사이드(C3H7O)3VO)와 티타니아 전구체로 티타늄-테트라아이소프로폭사이드(TTIP. Ti(OCH(CH3)2)4)가 혼합된 용액을 분사시키는 단계; 2) 분사된 용액의 액적(droplet)을 운반가스에 의해 600 내지 800℃ 온도로 유지되는 화염 속을 통과시키면서 산화반응에 의해 이산화티타늄 담체 표면에 바나디아 입자가 분산되어 부착되어 있는 구조의 입자 형태로 바나디아-티타니아 촉매를 제조하는 단계; 및 3) 상기 구조의 바나디아-티타니아 촉매 입자를 냉각시켜 포집하는 단계를 포함하는, 화염분사 공정을 이용하여 염소화 유기화합물 분해용 바나디아-티타니아 촉매를 제조하는 방법. 2 제1항에 있어서, 단계 1)에서 바나디아 전구체와 티타니아 전구체가 3.5:96.5 내지 7:93의 중량비로 혼합되는 것을 특징으로 하는 방법. 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4 제1항에 있어서, 단계 1)에서 분사되는 전구체 용액의 공급량이 0.49 내지 2.4 ㎖/시간인 것을 특징으로 하는 방법. 5 제1항에 있어서, 단계 2)에서 운반가스가 질소 또는 아르곤의 불활성 기체인 것을 특징으로 하는 방법. 6 제1항에 있어서, 단계 2)에서 운반가스의 유량이 1 내지 5 ℓ/분으로 조절되는 것을 특징으로 하는 방법. 7 제1항에 있어서, 단계 2)에서 수소가스를 화염의 연료로 사용하는 것을 특징으로 하는 방법. 8 제7항에 있어서, 수소가스의 유량이 1 내지 5 ℓ/분으로 조절되는 것을 특징으로 하는 방법. 9 제1항에 있어서, 단계 3)에서 바나디아-티타니아 촉매 입자가 100 내지 150℃로 냉각되는 것을 특징으로 하는 방법. 10 제1항에 있어서, 단계 3)에서 포집된 바나디아-티타니아 촉매에서 바나디아의 함량이 전체 촉매 중량의 3.5 중량%인 것을 특징으로 하는 방법. 11<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 12<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100917987B1, KR20090020760A, US2009054231A1",null,1]
["F02632","의료","JP","인공 혈관용 2중막 구조의 튜브 형 다공성 스캬폴도 및 그 제조 방법",null,"원문이미지","JP2007266221A","2007.10.12","JP4499143B9","2010.04.23","(57)【요약】 【과제】기공간의 상호 연결성과 기계적 강도에 우수하고 혈액의 누출을 효과적에 방지하고, 세포의 주입 및 증식 효율이 높은 조직 공학적 인공 혈관으로서 유용히 사용되는 다공성 스캬폴도의 제공.【해결 수단】1)고분자/폴로 겐의 혼합액을 제조하는 단계;2)다공성 코팅 층의 안막을 형성하는 단계;3)생분해성 고분자 겔을 제조하는 단계;4)고분자 섬유층의 밖막을 형성하는 단계;5)이중막 구조의 다공성 스캬폴도를 분리하고, 이제부터 유기 용매 및 폴로 겐을 제거하는 단계를 가지는 이중막 구조의 튜브 형 다공성 스캬폴도의 제조 방법.【선택도】그림 1","【청구항 1】 1)생분해성 고분자를 유기 용매에 용해하게 하고, 폴로 겐을 혼합하고 고분자/폴로 겐의 혼합액을 제조하는 단계와, 2)원통상 샤프트를 상기 고분자/폴로 겐의 혼합액으로 코팅 하고, 다공성 코팅 층의 안막을 형성하는 단계와, 3)생분해성 고분자를 유기 용매에 용해하게 하고, 생분해성 고분자 겔을 제조하는 단계와, 4)단계 3)으로 다공성 코팅 층의 안막이 형성하게 되는 원통상 샤프트를 비용매의 응고조에 적시고 회전하게 하면서, 사키 노리오 분해성 고분자 겔을 낙하 방사하고 형성하게 되는 겔 상태의 섬유를 상기 샤프트의 다공성 코팅 층의 안막을 감게 하고 고분자 섬유층의 밖막을 형성하는 단계와, 5)상기 샤프트에 형성하게 되는 이중막 구조의 다공성 스캬폴도를 분리하고, 이제부터 유기 용매 및 폴로 겐을 제거하는 단계와, 을 구비한다, 이중막 구조의 튜브 형 다공성 스캬폴도의 제조 방법.","キム·サンホン, キム·スヒョン, チョン·ウンナ","A61F-002/06,A61L-027/00","JP2009011804A","2009.01.22","2007-07-06 (KR 10-2007-0067907)","2027.10.12","【특허청구의 범위】 【청구항 1】 1)생분해성 고분자를 유기 용매에 용해하게 하고, 폴로 겐을 혼합하고 고분자/폴로 겐의 혼합액을 제조하는 단계와, 2)원통상 샤프트를 상기 고분자/폴로 겐의 혼합액으로 코팅 하고, 다공성 코팅 층의 안막을 형성하는 단계와, 3)생분해성 고분자를 유기 용매에 용해하게 하고, 생분해성 고분자 겔을 제조하는 단계와, 4)단계 3)으로 다공성 코팅 층의 안막이 형성하게 되는 원통상 샤프트를 비용매의 응고조에 적시고 회전하게 하면서, 사키 노리오 분해성 고분자 겔을 낙하 방사하고 형성하게 되는 겔 상태의 섬유를 상기 샤프트의 다공성 코팅 층의 안막을 감게 하고 고분자 섬유층의 밖막을 형성하는 단계와, 5)상기 샤프트에 형성하게 되는 이중막 구조의 다공성 스캬폴도를 분리하고, 이제부터 유기 용매 및 폴로 겐을 제거하는 단계와, 을 구비한다, 이중막 구조의 튜브 형 다공성 스캬폴도의 제조 방법. 【청구항 2】 단계 1)에 있어서 생분해성 고분자가 폴리(L-유산), 폴리(D,L-유산), 폴리(글리콜 산), 폴리(카프로락톤), 폴리(히도로키시알카노에토), 폴리 디옥사논, 포리토리메치렌칼보네토, 이러한 유도체 및 공중합체로 구성되어 지는 무리 보다(에서) 선택하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 제조 방법. 【청구항 3】 단계 1)에 있어서 생분해성 고분자가 5,000∼1,000,000 달톤의 범위의 분자량을 가지는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 제조 방법. 【청구항 4】 단계 1)에 있어서 생분해성 고분자가 유기 용매에 중량/체적비로 1∼20%의 양으로 용해하는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 제조 방법. 【청구항 5】 단계 1)에 있어서 유기 용매가 클로로포름, 메틸렌 염화물, 초산, 에틸 아세테이트, 지메칠칼보네토 및 테트라하이드로푸란으로 구성되어 지는 무리 보다(에서) 선택하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 제조 방법. 【청구항 6】 단계 1)에 있어서 폴로 겐이, 소금, 이 탄산나트륨, 이 탄산암모늄, 파라핀 및 폴리에스틸렌 글리콜으로 구성되어 지는 무리 보다(에서) 선택하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 제조 방법. 【청구항 7】 단계 1)에 있어서 폴로 겐이 생분해성 고분자와 중량비로 9:1∼1:2의 범위에서 혼합하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 제조 방법. 【청구항 8】 단계 2)에 있어서 코팅이, 오시다시 성형법, 함침법, 전기 방사법, 동결건조법, 상-분리법, 입자 침출법, 가스-형성법(gas-foaming), 탄화 수소 주형법(hydrocarbon templating)및 용융 주조법(melt molding)으로 구성하게 되는 무리 보다(에서) 선택하게 되는 방법에 의하여 행하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 제조 방법. 【청구항 9】 단계 2)에 있어서 다공성 코팅 층의 안막에 형성하게 되는 기공이 40미크론 이하의 사이즈를 가지는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 제조 방법. 【청구항 10】 단계 3)에 있어서 생분해성 고분자 겔내의 생분해성 고분자의 농도가 4∼20 중량%로 있는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 제조 방법. 【청구항 11】 단계 4)에 있어서 겔 상태의 섬유가 50∼150미크론의 직경을 가지고, 고분자 섬유층의 밖막에 형성하게 되는 기공이 10∼500미크론의 사이즈를 가지는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 제조 방법. 【청구항 12】 단계 4)에 있어서 과오 용매가, 메탄올, 에탄올, 부타놀, 헥산, 헤푸탄, 및 시클로헥산으로 구성되어 지는 무리 보다(에서) 선택하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 제조 방법. 【청구항 13】 단계 5)에 있어서 유기 용매 및 폴로 겐이 감압 건조 및 용해하게 하는 방법에 의하여 제거하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 제조 방법. 【청구항 14】 청구항 1의 제조 방법에 의하여 제조하게 됐다, 다공성 코팅 층의 안막과 고분자 섬유층의 밖막의 이중막 구조를 가지는 생분해성 및 생체 적합성의 인공 혈관용 튜브 형 다공성 스캬폴도. 【청구항 15】 다공성 코팅 층의 안막이 40미크론 이하의 사이즈의 기공을 가지고, 고분자 섬유층의 밖막이 10∼500미크론 사이즈의 기공을 가지는 것을 특징으로 하는 청구항 14에 기재의 튜브 형 다공성 스캬폴도.","JP2009011804A, JP4499143B2, KR100932688B1, KR20090004027A, US2009012607A1",null,1]
["K04151","기계","KR","고 토크밀도 하이브리드 스테핑 모터{HYBRID STEPPING MOTOR HAVING HIGH TORQUE DENSITY}",null,"원문이미지","KR20070106960A","2007.10.24","KR0932687B1","2009.12.10","본 발명은 하이브리드 스테핑 모터에 관한 것이다. 본 발명의 하이브리드 스테핑 모터는, 외주에 다수의 회전자 치를 각각 가지는 제1 회전자 요크 및 제2 회전자 요크; 제1 및 제2 회전자 요크 사이에 위치하여 제1 및 제2 회전자 요크를 동일 축 상에 지지하며 축 방향으로 자화된 적어도 하나의 영구자석을 포함하는 회전축; 그리고 코어부와 코어부에 감긴 코일과 코어부의 양단에서 축에 평행하게 연장되어 있는 복수개의 고정자 치를 각각 가지며, 고정자 치의 반경방향 내면과 회전자 치의 반경방향 끝면 사이에 일정 공극이 유지되도록 회전축 둘레에 등간격으로 배치된 복수개의 고정자 요크를 포함하며, 코일들 중 서로 대향하는 한 쌍의 코일에는 양의 전류가 나머지 코일에는 음의 전류가 동일한 크기로 동시에 인가되는 것을 특징으로 한다. 상기 구성에 의하면, 모터 작동시 유휴 코일이 없고 전자석의 자속밀도가 증가되어 효율과 토크밀도가 높다.","1 외주에 다수의 회전자 치를 각각 가지는 제1 회전자 요크 및 제2 회전자 요크; 상기 제1 및 제2 회전자 요크 사이에 위치하고 상기 제1 및 제2 회전자 요크를 동일 축 상에 지지하며 상기 축 방향으로 자화된 적어도 하나의 영구자석을 포함하는 회전축; 그리고 코어부와 상기 코어부에 감긴 코일과 상기 코어부의 양단부에서 상기 축에 평행하게 연장되어 있는 복수개의 고정자 치를 각각 가지며, 상기 고정자 치의 반경방향 내면과 상기 회전자 치의 반경방향 끝면 사이에 일정 공극이 유지되도록 상기 회전축 둘레에 등간격으로 배치된 복수개의 고정자 요크를 포함하며, 상기 코일들 중 서로 대향하는 한 쌍의 코일에는 양의 전류가, 나머지 코일에는 음의 전류가 동일한 크기로 동시에 인가되는 하이브리드 스테핑 모터.","김승종, 이종민, 김우연","H02K-037/00","KR20090041464A","2009.04.29",null,"2027.10.24","1 외주에 다수의 회전자 치를 각각 가지는 제1 회전자 요크 및 제2 회전자 요크; 상기 제1 및 제2 회전자 요크 사이에 위치하고 상기 제1 및 제2 회전자 요크를 동일 축 상에 지지하며 상기 축 방향으로 자화된 적어도 하나의 영구자석을 포함하는 회전축; 그리고 코어부와 상기 코어부에 감긴 코일과 상기 코어부의 양단부에서 상기 축에 평행하게 연장되어 있는 복수개의 고정자 치를 각각 가지며, 상기 고정자 치의 반경방향 내면과 상기 회전자 치의 반경방향 끝면 사이에 일정 공극이 유지되도록 상기 회전축 둘레에 등간격으로 배치된 복수개의 고정자 요크를 포함하며, 상기 코일들 중 서로 대향하는 한 쌍의 코일에는 양의 전류가, 나머지 코일에는 음의 전류가 동일한 크기로 동시에 인가되는 하이브리드 스테핑 모터. 2 제1항에 있어서, 상기 코어부는 상기 축에 평행하게 배향되고 상기 제1 회전자 요크와 상기 제2 회전자 요크 사이에서 상기 회전자 치들의 끝면의 반경반향 내측에 위치하는 하이브리드 스테핑 모터. 3 제1항에 있어서, 상기 코어부는 상기 축에 수직하게 배향되고 상기 제1 회전자 요크와 상기 제2 회전자 요크 사이에 위치하는 하이브리드 스테핑 모터. 4 제1항에 있어서, 상기 회전축의 일단부는 상기 축 방향으로 자화된 제1 영구자석으로 구성되고 상기 회전축의 타단부는 상기 축 방향으로 자화된 제2 영구자석으로 구성되며, 상기 제1 영구자석 및 제2 영구자석은 동일한 극이 대향하도록 배치된 하이브리드 스테핑 모터. 5 외주에 다수의 회전자 치를 각각 가지는 제1 회전자 요크 및 제2 회전자 요크; 상기 제1 및 제2 회전자 요크 사이에 위치하여 상기 제1 및 제2 회전자 요크를 동일 축 상에 지지하는 회전축; 상기 축에 수직하게 배향된 코어부와 상기 코어부에 감긴 코일과 상기 코어부의 양단부에서 상기 축에 평행하게 연장되어 있는 복수개의 고정자 치를 각각 가지며, 상기 고정자 치의 반경방향 내면과 상기 회전자 치의 반경방향 끝면 사이에 일정 공극이 유지되도록 상기 회전축 둘레에 등간격으로 배치된 복수개의 고정자 요크; 그리고 상기 코어부들의 반경방향 말단부에 걸쳐서 부착되고 상기 회전축이 통과하는 적어도 하나의 링형상 영구자석을 포함하며, 상기 코일들 중 서로 대향하는 한 쌍의 코일에는 양의 전류가, 나머지 코일에는 음의 전류가 동일한 크기로 동시에 인가되는 하이브리드 스테핑 모터. 6 제5항에 있어서, 상기 축 방향으로 자화된 링형상의 제1 영구자석 및 제2 영구자석을 포함하고, 상기 제1 영구자석 및 제2 영구자석은 동일한 극이 대향하도록 배치된 하이브리드 스테핑 모터. 7 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 4개의 고정자 요크가 구비되는 하이브리드 스테핑 모터. 8 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 6개의 고정자 요크가 구비되는 하이브리드 스테핑 모터.","KR100932687B1, KR20090041464A, US2009108711A1, US7728465B2",null,1]
["K04142","화학","KR","담지촉매를 이용한 함불소에테르 화합물의 제조방법{Method for preparing of hydrofluoroethers using supported catalysts}",null,"원문이미지","KR20070058661A","2007.06.15","KR0917040B1","2009.09.04","본 발명은 담지촉매를 이용한 함불소에테르 화합물의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 알코올 화합물과 함불소올레핀 화합물을 반응시켜 함불소에테르 화합물을 제조하는 반응에 촉매로서 알칼리금속 불소염이 지지체에 지지된 담지촉매를 사용함으로써 보다 온화한 조건과 높은 수율로 함불소에테르 화합물을 제조하는 방법에 관한 것이다.","1 알코올 화합물과 함불소올레핀 화합물을 반응시켜 함불소에테르 화합물을 제조하는 방법에 있어, 상기 반응은 KF/알파알루미나, NaF/알파알루미나, KF/실리카, KF/활성탄, KF/MS 4A, RbF/MgO, 및 CsF/타이타니아 중에서 선택되는 알칼리금속 불소염이 지지체에 담지된 담지촉매를 사용하여, 0 ∼ 25℃ 온도범위로 수행하는 것을 특징으로 하는 함불소에테르 화합물의 제조방법.","이현주, 김홍곤, 이상득, 안병성, 김훈식","C07C-043/12,C07C-041/06","KR20080110204A","2008.12.18",null,"2027.06.15","1 알코올 화합물과 함불소올레핀 화합물을 반응시켜 함불소에테르 화합물을 제조하는 방법에 있어, 상기 반응은 KF/알파알루미나, NaF/알파알루미나, KF/실리카, KF/활성탄, KF/MS 4A, RbF/MgO, 및 CsF/타이타니아 중에서 선택되는 알칼리금속 불소염이 지지체에 담지된 담지촉매를 사용하여, 0 ∼ 25℃ 온도범위로 수행하는 것을 특징으로 하는 함불소에테르 화합물의 제조방법. 2 제1항에 있어서, 상기 알코올 화합물은 탄소수 1 ∼ 8의 알코올, 페놀, 불소원자가 1 내지 5개 포함된 함불소 페놀, 및 불소원자가 1 내지 15개 포함된 탄소수 1 내지 8의 함불소알코올 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 제조방법. 3 제1항에 있어서, 상기 함불소올레핀 화합물은 불소원자가 1 ∼ 8개 포함된 탄소수 2 ∼ 4의 올레핀 화합물 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 제조방법. 4 제1항 또는 제3항에 있어서, 상기 함불소올레핀 화합물의 사용량이 알코올 화합물 1 몰을 기준으로 1 ∼ 10 몰배 범위인 것을 특징으로 하는 제조방법. 5<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 6 제1항에 있어서, 상기 알칼리금속 불소염의 담지량이 지지체 중량을 기준으로 1 ∼ 80 중량%인 것을 특징으로 하는 제조방법. 7 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 알코올 화합물의 주입속도는 담지촉매 1 g당 0.1 ∼ 20 mL/min인 것을 특징으로 하는 제조방법. 8 제1항 또는 제3항에 있어서, 상기 함불소올레핀 화합물의 주입속도는 담지촉매 1 g당 10 ∼ 100 mL/min 인 것을 특징으로 하는 제조방법. 9<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 10 제1항에 있어서, 상기 반응은 비양성자성 극성용매를 사용하여 수행하는 것을 특징으로 하는 제조방법. 11 제1항, 또는 제10항에 있어서, 상기 반응은 촉매가 고정된 고정층 반응기를 사용하여 연속 공정으로 수행하는 것을 특징으로 하는 제조방법.","KR100917040B1, KR20080110204A",null,1]
["K04135","의료","KR","옻나무 추출물, 이의 분획물 또는 상기 분획물에서 분리한화합물을 포함하는 당뇨병 합병증 예방 및 치료용 조성물{The composition comprising the extracts, fractions and the isolated compounds of Rhus verniciflua for prevention and treatment of diabetic complications}",null,"원문이미지","KR20070054855A","2007.06.05","KR0926454B1","2009.11.05","본 발명은 옻나무 추출물, 이의 분획물 또는 상기 분획물에서 분리한 화합물을 유효성분으로 포함하는 당뇨병 합병증 예방 및 치료용 조성물에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 물, 알코올, 또는 이들의 혼합물을 용매로 하여 추출되는 옻나무 추출물, 이의 분획물 및 상기 분획물에서 분리한 화합물은 당뇨병 합병증의 원인인 소르비톨 축적을 일으키는 알도스 환원효소 억제효과 및 최종당화산물 억제효과를 나타내며, 또한 세포독성이 없는 안정한 물질로 확인되었으므로 당뇨 합병증 예방 및 치료용 조성물로 유용하게 이용될 수 있다.","1 물, 알코올 또는 이들의 혼합물을 용매로 하여 추출된 옻나무 추출물을 유효성분으로 포함하는 당뇨병 합병증 예방 및 치료제.","정상훈, 이은하, 판철호, 김철영, 엄병헌, 이동언, 송대근, 이주영","A61K-036/22,A61P-003/10","KR20080107049A","2008.12.10",null,"2027.06.05","1 물, 알코올 또는 이들의 혼합물을 용매로 하여 추출된 옻나무 추출물을 유효성분으로 포함하는 당뇨병 합병증 예방 및 치료제. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 6<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 7 제 1항에 있어서, 알코올은 C1 내지 C4 저급 알코올인 것을 특징으로 하는 당뇨병 합병증 예방 및 치료제. 8 제 7항에 있어서, 저급 알코올은 에탄올인 것을 특징으로 하는 당뇨병 합병증 예방 및 치료제. 9<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 10 제 1항에 있어서, 당뇨병 합병증은 폴리올 경로(polyol pathway)의 기작 변화에 의한 삼투압 스트레스에 의한 것을 특징으로 하는 당뇨병 합병증 예방 및 치료제. 11 제 1항에 있어서, 당뇨병 합병증은 단백질의 비효소적 당화반응(non-enzymatic glycation of protein)에 의한 것을 특징으로 하는 당뇨병 합병증 예방 및 치료제. 12 제 1항에 있어서, 당뇨병 합병증은 당뇨성 망막 병증, 당뇨성 신경병증 또는 당뇨성 신장병증인 것을 특징으로 하는 당뇨병 합병증 예방 및 치료제. 13 제 12항에 있어서, 당뇨성 신경병증은 말초신경장애 또는 자율신경장애인 것을 특징으로 하는 당뇨병 합병증 예방 및 치료제. 14 제 12항에 있어서, 당뇨성 신장병증은 사구체경화증, 단백뇨 또는 신부전인 것을 특징으로 당뇨병 합병증 예방 및 치료제. 15 물, 알코올 또는 이들의 혼합물을 용매로 하여 추출된 옻나무 추출물을 유효성분으로 포함하는 당뇨병 합병증 예방 및 개선용 건강식품. 16<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 17<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 18<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 19<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 20<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100926454B1, KR20080107049A, WO2008150074A2, WO2008150074A3",null,1]
["K04147","기계","KR","발열체 냉각 장치 및 그를 구비하는 전자 장치{COOLING APPARATUS FOR HEATING ELEMENT AND ELECTRONIC DEVICE HAVING THE SAME}",null,"원문이미지","KR20070052265A","2007.05.29","KR0922104B1","2009.10.09","본 발명은 금속 재질의 접촉판과 비금속 재질의 하우징을 포함하여 구성되어 발열체를 냉각하기 위한 냉각 유닛을 채용하는 냉각 장치 및 전자 장치를 개시한다.","6 냉매를 펌핑하는 펌핑부; 상기 펌핑부에 연통되게 연결되어, 상기 펌핑되어 유입되는 냉매가 발열체와 열교환하도록 수용하는 냉각 유닛; 및 상기 냉각 유닛과 연통되게 연결되어, 상기 열교환에 의해 승온되어 유출되는 냉매를 냉각하여 상기 펌핑부로 공급하는 냉각부를 포함하고, 상기 냉각 유닛은, 냉매를 수용하기 위한 냉매 수용부를 구비하는 비금속 재질의 하우징; 및 상기 냉매 수용부에 수용된 냉매와 열교환 하도록 상기 하우징에 결합되는 금속 재질의 접촉판을 포함하는 발열체 냉각 장치.","강상우, 김서영, 황규대, 지태호, 이석원","H05K-007/20,C21B-007/10","KR20080104874A","2008.12.03",null,"2027.05.29","1<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 6 냉매를 펌핑하는 펌핑부; 상기 펌핑부에 연통되게 연결되어, 상기 펌핑되어 유입되는 냉매가 발열체와 열교환하도록 수용하는 냉각 유닛; 및 상기 냉각 유닛과 연통되게 연결되어, 상기 열교환에 의해 승온되어 유출되는 냉매를 냉각하여 상기 펌핑부로 공급하는 냉각부를 포함하고, 상기 냉각 유닛은, 냉매를 수용하기 위한 냉매 수용부를 구비하는 비금속 재질의 하우징; 및 상기 냉매 수용부에 수용된 냉매와 열교환 하도록 상기 하우징에 결합되는 금속 재질의 접촉판을 포함하는 발열체 냉각 장치. 7 제6항에 있어서, 상기 냉각부와 펌핑부 사이를 연결하여, 상기 냉각부에서 냉각된 냉매를 저장하는 냉매 저장부를 더 포함하는 발열체 냉각 장치. 8 제7항에 있어서, 상기 냉매 저장부와 연통되도록 설치되어, 상기 펌핑부로 공급되는 냉매의 유량을 조절하기 위한 유량조절부를 더 포함하는 발열체 냉각 장치. 9 제6항에 있어서, 상기 냉매는 유전성 액체(dielectric liquid)를 포함하는 것을 특징으로 하는 발열체 냉각 장치. 10 유입되는 액체 상태의 냉매가 발열체와 열교환 하도록 수용하는 냉각 유닛; 상기 냉각 유닛과 연통되게 연결되어, 상기 열교환에 의해 기화되어 유출되는 기체 상태의 냉매를 응축하여 상기 냉각 유닛에 공급하는 응축부;및 상기 응축부와 상기 냉각 유닛 사이를 연결하도록 설치되어, 상기 응축부에서 상기 냉각 유닛으로 공급되는 액체 상태의 냉매의 유량을 조절하는 유량조절부를 포함하고, 상기 냉각 유닛은, 냉매를 수용하기 위한 냉매 수용부를 구비하는 비금속 재질의 하우징; 및 상기 냉매 수용부에 수용된 냉매와 열교환 하도록 상기 하우징에 결합되는 금속 재질의 접촉판을 포함하는 발열체 냉각 장치. 11<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 12 제10항에 있어서, 상기 유량조절부는 체크 밸브를 포함하는 것을 특징으로 하는 발열체 냉각 장치. 13 제10항에 있어서, 상기 응축부와 유량조절부 사이를 연결하여, 상기 응축부에서 응축된 냉매를 저장하는 냉매 저장부를 더 포함하는 발열체 냉각 장치. 14 발열체를 구비하는 본체; 및 제6항 내지 제10항, 제12항, 또는 제13항 중 어느 한 항에 따르는 발열체 냉각 장치로 구성되고, 상기 발열체 냉각 장치는 상기 발열체와 열교환하여 상기 발열체에서 발생하는 열을 냉각시키는 것을 특징으로 하고 냉각 장치를 구비하며, 인간형 로봇을 포함하는 것을 특징으로 하는 발열이 있는 전자 장치. 15 제14항에 있어서, 상기 발열체 냉각 장치의 접촉판은 상기 발열체와 접촉하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 냉각 장치를 구비하는 발열이 있는 전자 장치. 16<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100922104B1, KR20080104874A",null,1]
["K04125","디스플레이","KR","이온 빔을 이용한 폴리머 표면 형상의 제어 방법 및 이에의해 제조된 표면에 잔물결 패턴이 형성된 폴리머와, 그응용들{METHOD FOR CONTROLLING A MORPHOLOGY OF A SURFACE OF A POLYMER USING ION-BEAM AND A POLYMER WITH A RIPPLE PATTERN ON ITS SURFACE FABRICATED THEREBY, AND ITS APPLICATIONS}",null,"원문이미지","KR20070056900A","2007.06.11","KR0851892B1","2008.08.06","본 발명은 폴리머 표면에 이온 빔을 비스듬히 조사하여 상기 폴리머 표면에 잔물결 (ripple) 패턴을 형성하는 방법을 제공한다. 특히, 폴리머 재료로서 플렉서블 일렉트로닉스 (flexible electronics) 분야에서 기판으로 사용되는 폴리이미드를 사용하고, 이온 빔의 입사각 및 조사 시간을 조절하여 폴리머 표면의 형상을 제어하는 방법을 제공한다. 본 발명에 의하면, 간단한 이온 빔 조사법을 사용하여 폴리머 표면의 형상을 원하는 방향으로 제어할 수 있다.또한, 표면 형상이 제어된 플렉서블 일렉트로닉스 기판 위에 금속 박막을 증착시킴으로써 금속 박막을 비대칭적으로 배열할 수 있고, 금속 박막과 폴리머 간 접합력을 증진시킬 수 있다. 또한, 잔물결 패턴이 형성된 폴리머 위에 반도체 분야에서 사용되는 액정 (liquid crystal)을 배열하여 그 방향성을 조절함으로써 새로운 타입의 LCD 장치를 만들 수 있다.","1 폴리머 표면에 이온 빔을 비스듬하게 조사하여 상기 폴리머 표면에 잔물결 (ripple) 패턴을 형성하되, 상기 이온 빔의 조사 시간을 조절하여 상기 잔물결 패턴이 서로 다른 2 이상의 주기를 갖는 계층적 구조 (hierarchical structure)를 갖도록 하는 것을 특징으로 하는 이온 빔을 이용한 폴리머 표면 형상의 제어 방법.","문명운, 한준현, 이광렬, 한승희","H01J-037/30,H01J-037/317,H01L-021/265",null,null,null,"2027.06.11","1 폴리머 표면에 이온 빔을 비스듬하게 조사하여 상기 폴리머 표면에 잔물결 (ripple) 패턴을 형성하되, 상기 이온 빔의 조사 시간을 조절하여 상기 잔물결 패턴이 서로 다른 2 이상의 주기를 갖는 계층적 구조 (hierarchical structure)를 갖도록 하는 것을 특징으로 하는 이온 빔을 이용한 폴리머 표면 형상의 제어 방법. 2 제1항에 있어서, 상기 잔물결 패턴을 특정 방향으로 배향시키는 것을 특징으로 하는 이온 빔을 이용한 폴리머 표면 형상의 제어 방법. 3 제1항에 있어서, 상기 이온 빔의 입사각, 조사 시간, 가속 전압의 크기 중 적어도 하나를 조절하여 상기 잔물결 패턴의 폭과 높이를 조절하는 것을 특징으로 하는 이온 빔을 이용한 폴리머 표면 형상의 제어 방법. 4 제1항에 있어서, 상기 이온 빔의 조사 시간을 조절하여 상기 잔물결 패턴의 단면 형상의 비대칭성을 조절하는 것을 특징으로 하는 이온 빔을 이용한 폴리머 표면 형상의 제어 방법. 5<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 6 제1항에 있어서, 상기 이온 빔 조사가 이루어지는 챔버 내 압력 범위는 1.0×10-7∼2.75×10-3 Pa인 것을 특징으로 하는 이온 빔을 이용한 폴리머 표면 형상의 제어 방법. 7 제1항에 있어서, 상기 이온 빔의 전압 범위는 100 V∼30.0 kV인 것을 특징으로 하는 이온 빔을 이용한 폴리머 표면 형상의 제어 방법. 8 제1항에 있어서, 상기 이온 빔의 전류 범위는 1 ㎀∼10 ㎁인 것을 특징으로 하는 이온 빔을 이용한 폴리머 표면 형상의 제어 방법. 9 제1항에 있어서, 상기 폴리머는 폴리이미드 (polyimide)이고, 이온 빔의 입사각은 35°이상 90° 미만인 것을 특징으로 하는 이온 빔을 이용한 폴리머 표면 형상의 제어 방법. 10 제1항의 방법에 의해 제조된 폴리머로서, 상기 폴리머의 표면에 특정 방향으로 배향된 잔물결 패턴이 형성되되, 상기 잔물결 패턴은 서로 다른 2 이상의 주기를 갖는 계층적 구조 (hierarchical structure)를 갖는 것을 특징으로 하는 표면에 잔물결 패턴이 형성된 폴리머. 11 표면에 이온 빔의 비스듬한 조사에 의해 특정 방향으로 배향된 잔물결 패턴이 형성된 폴리머와, 상기 폴리머의 표면 위에 형성되며, 상기 잔물결 패턴에 의해 비대칭적으로 배열된 금속 박막을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 연성 동박 적층 기판. 12 제10항에 따른 표면에 잔물결 패턴이 형성된 폴리머와, 상기 폴리머 표면의 특정 방향으로 배향된 잔물결 패턴에 의해 특정 방향으로 배열되는 액정 (liquid crystal)을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.","KR100851892B1",null,1]
["K04124","화학","KR","Ｔ-형 칼슘 채널 차단제로 유용한 트리아졸 유도체{Triazole derivatives for T-type calcium channel blocker}",null,"원문이미지","KR20070053068A","2007.05.31","KR0917039B1","2009.09.04","본 발명은 T-형 칼슘 채널(T-type calcium channel)을 억제하는 효과가 우수하여 간질과 같은 뇌질환, 협심증, 고혈압, 심근경색과 같은 심장질환, 신경성 통증, 그리고 암 등 다양한 종류의 질환을 치료 및 예방에 유용한 트리아졸 유도체와 이 화합물을 포함하는 약제 조성물에 관한 것이다.","1 하기 화학식 1로 표시되는 화합물 또는 이의 약제학적으로 허용 가능한 염 : [화학식 1] 상기 화학식 1에서, R1은 페닐기, 벤즈이미다졸기, 및 벤즈이미다졸 C1-C8 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 그룹이고; R2는 수소원자, C1-C8 알킬기, C1-C20 알카노일기, 페닐기, 벤조일기, 및 싸이오펜카르보닐기로 이루어진 군으로부터 선택된 그룹이고; R3은 수소원자, 및 N-페닐아세트아마이드로 이루어진 군으로부터 선택된 그룹이고; 상기 정의된 치환기에 있어 페닐, 벤조일, 벤즈이미다졸 및 N-페닐아세트아마이드 그룹의 벤젠고리는 각각 할로겐, 니트로, C1-C8 알킬, C1-C8 알콕시, 및 C1-C8 할로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 치환체가 1 내지 4개 치환 또는 비치환될 수 있고; 단, R1이 벤즈이미다졸메틸기이고, R2가 메틸기이면서, R3가 N-(4-니트로페닐)아세트아마이드, N-(4-브로모페닐)아세트아마이드, 또는 N-(3-클로로-4-메틸페닐)아세트아마이드인 화합물은 제외한다.","이소하, 배애님, 임혜원, 서선희, 정세진, 김준석, 전제호","C07D-249/12","KR20080105463A","2008.12.04",null,"2027.05.31","1 하기 화학식 1로 표시되는 화합물 또는 이의 약제학적으로 허용 가능한 염 : [화학식 1] 상기 화학식 1에서, R1은 페닐기, 벤즈이미다졸기, 및 벤즈이미다졸 C1-C8 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 그룹이고; R2는 수소원자, C1-C8 알킬기, C1-C20 알카노일기, 페닐기, 벤조일기, 및 싸이오펜카르보닐기로 이루어진 군으로부터 선택된 그룹이고; R3은 수소원자, 및 N-페닐아세트아마이드로 이루어진 군으로부터 선택된 그룹이고; 상기 정의된 치환기에 있어 페닐, 벤조일, 벤즈이미다졸 및 N-페닐아세트아마이드 그룹의 벤젠고리는 각각 할로겐, 니트로, C1-C8 알킬, C1-C8 알콕시, 및 C1-C8 할로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 치환체가 1 내지 4개 치환 또는 비치환될 수 있고; 단, R1이 벤즈이미다졸메틸기이고, R2가 메틸기이면서, R3가 N-(4-니트로페닐)아세트아마이드, N-(4-브로모페닐)아세트아마이드, 또는 N-(3-클로로-4-메틸페닐)아세트아마이드인 화합물은 제외한다. 2 제 1 항에 있어서, R1은 페닐기, 벤즈이미다졸기, 벤즈이미다졸메틸기, 벤즈이미다졸에틸기, 및 벤즈이미다졸프로필기로 이루어진 군으로부터 선택된 그룹이고; R2는 수소원자, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, t-부틸기, 펜틸기, 헥실기, 싸이클로프로필기, 싸이클로부틸기, 싸이클로펜틸기, 싸이클로헥실기, 아세틸기, 에티오닐기, n-프로피오닐기, 아이소프로피오닐기, n-부티릴기, 아이소부티릴기, 싸이클로프로판카르보닐기, 싸이클로헥산카르보닐기, 이코사노일기, 페닐기, 벤조일기, 및 싸이오펜카르보닐기로 이루어진 군으로부터 선택된 그룹이고; R3은 수소원자, 및 N-페닐아세트아마이드로 이루어진 군으로부터 선택된 그룹이고; 상기 정의된 치환기에 있어 페닐, 벤조일, 벤즈이미다졸 및 N-페닐아세트아마이드 그룹의 벤젠고리는 각각 플루오로, 염소, 브롬, 요오드, 니트로, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, n-부틸, t-부틸, 펜틸, 헥실, 싸이클로프로필, 싸이클로부틸, 싸이클로펜틸, 싸이클로헥실, 메톡시, 에톡시, 프로톡시, 이소프로톡시, n-부톡시, t-부톡시, 클로로메틸, 디클로로에틸, 트리플루오로메틸, 테트라플루오로에틸, 및 테트라클로로에틸로 이루어진 군으로부터 선택된 치환체가 1 내지 4개 치환 또는 비치환되며; 단, R1이 벤즈이미다졸메틸기이고, R2가 메틸기이면서, R3가 N-(4-니트로페닐)아세트아마이드, N-(4-브로모페닐)아세트아마이드, 또는 N-(3-클로로-4-메틸페닐)아세트아마이드인 화합물이 제외된 것임을 특징으로 하는 화합물 또는 이의 약제학적으로 허용 가능한 염. 3 제 1 항에 있어서, 5-(1H-벤즈이미다졸-1-일)메틸-4-메틸-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-싸이올, 2-[5-(1H-벤즈이미다졸-1-일)메틸-4-메틸-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일술파닐]-N-페닐아세트아마이드, 2-[5-(1H-벤즈이미다졸-1-일)메틸-4-메틸-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일술파닐]-N-(2-클로로페닐)아세트아마이드, 2-[5-(1H-벤즈이미다졸-1-일)메틸-4-메틸-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일술파닐]-N-(4-클로로페닐)아세트아마이드, 2-[5-(1H-벤즈이미다졸-1-일)메틸-4-메틸-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일술파닐]-N-(2-클로로-4-트리플루오르메틸페닐)아세트아마이드, 2-[5-(1H-벤즈이미다졸-1-일)메틸-4-메틸-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일술파닐]-N-(2,5-디에톡시페닐)아세트아마이드, 5-(1H-벤즈이미다졸-1-일)메틸-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-싸이올, 5-(1H-벤즈이미다졸-1-일)메틸-4-벤조일-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-싸이올, 2-[5-(1H-벤즈이미다졸-1-일)메틸-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일술파닐]-N-페닐아세트아마이드, 2-[5-(1H-벤즈이미다졸-1-일)메틸-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일술파닐]-N-(2-클로로-4-트리플루오르메틸페닐)아세트아마이드, 2-[5-(1H-벤즈이미다졸-1-일)메틸-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일술파닐]-N-(2-클로로페닐)아세트아마이드, 2-[5-(1H-벤즈이미다졸-1-일)메틸-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일술파닐]-N-(4-클로로페닐)아세트아마이드, 2-[5-(1H-벤즈이미다졸-1-일)메틸-4-에틸-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일술파닐]-N-(4-클로로페닐)아세트아마이드, 5-(2-클로로페닐)-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-싸이올, 2-[5-(2-클로로페닐)-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일술파닐]-N-페닐아세트아마이드, 2-[5-(2-클로로페닐)-4-아세틸-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일술파닐]-N-페닐아세트아마이드, 2-[5-(2-클로로페닐)-4-(부톡시벤조일)-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일술파닐]-N-페닐아세트아마이드, 2-[5-(2-클로로페닐)-4-(4-클로로메틸벤조일)-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일술파닐]-N-페닐아세트아마이드, 2-[5-(2-클로로페닐)-4-(2,4,6-트리클로로벤조일)-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일술파닐]-N-페닐아세트아마이드, 2-[5-(2-클로로페닐)-4-(2-트리플루오르메틸벤조일)-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일술파닐]-N-페닐아세트아마이드, 2-[5-(2-클로로페닐)-4-(2-메틸벤조일)-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일술파닐]-N-페닐아세트아마이드, 2-[5-(2-클로로페닐)-4-(3,4,5-트리메톡시벤조일)-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일술파닐]-N-페닐아세트아마이드, 2-[5-(2-클로로페닐)-4-(4-부틸벤조일)-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일술파닐]-N-페닐아세트아마이드, 2-[5-(2-클로로페닐)-4-벤조일-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일술파닐]-N-페닐아세트아마이드, 2-[5-(2-클로로페닐)-4-(3-메틸벤조일)-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일술파닐]-N-페닐아세트아마이드, 5-(2-클로로페닐)-4-페닐-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-싸이올, 2-[5-(2-클로로페닐)-4-페닐-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일싸이오]-N-(4-클로로페닐)아세트아마이드, 2-[5-(2-클로로페닐)-4-페닐-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일싸이오]-N-(2-클로로-4-트리플루오르메틸페닐)아세트아마이드, 2-[5-(2-클로로페닐)-4-이코사노일-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일싸이오]-N-페닐아세트아마이드, 2-[5-(2-클로로페닐)-4-부티릴-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일싸이오]-N-페닐아세트아마이드, 2-[5-(2-클로로페닐)-4-싸이클로헥산카아보닐-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일싸이오]-N-페닐아세트아마이드, 2-[5-(2-클로로페닐)-4-싸이클로프로판카아보닐-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일싸이오]-N-페닐아세트아마이드, 2-[5-(2-클로로페닐)-4-(싸이오펜-2-카아보닐)-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일싸이오]-N-페닐아세트아마이드, 2-[5-(2-클로로페닐)-4-(아이소부티릴)-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일싸이오]-N-페닐아세트아마이드, 2-[5-(2-클로로페닐)-4-(4-클로로벤조일)-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일싸이오]-N-페닐아세트아마이드, 2-[5-(2-클로로페닐)-4-(2-클로로벤조일)-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일싸이오]-N-페닐아세트아마이드, 2-[5-(2-클로로페닐)-4-(3-브로모벤조일)-4H-[1,2,4]-트리아졸-3-일싸이오]-N-페닐아세트아마이드, 또는 이의 약제학적으로 허용 가능한 염. 4 하기 화학식 1로 표시되는 화합물 또는 이의 약제학적으로 허용 가능한 염이 함유되어 이루어진 것을 특징으로 하는 간질, 고혈압, 암, 통증 질환의 치료용 약제조성물 : [화학식 1] 상기 화학식 1에서, R1은 페닐기, 벤즈이미다졸기, 및 벤즈이미다졸 C1-C8 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된 그룹이고; R2는 수소원자, C1-C8 알킬기, C1-C20 알카노일기, 페닐기, 벤조일기, 및 싸이오펜카르보닐기로 이루어진 군으로부터 선택된 그룹이고; R3은 수소원자, 및 N-페닐아세트아마이드로 이루어진 군으로부터 선택된 그룹이고; 상기 정의된 치환기에 있어 페닐, 벤조일, 벤즈이미다졸 및 N-페닐아세트아마이드 그룹의 벤젠고리는 각각 할로겐, 니트로, C1-C8 알킬, C1-C8 알콕시, 및 C1-C8 할로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 치환체가 1 내지 4개 치환 또는 비치환될 수 있다.","KR100917039B1, KR20080105463A",null,1]
["K04105","의료","KR","고온-고압 용매추출을 이용하여 범부채 근경으로부터텍토리딘 및 텍토리게닌을 추출하는 방법{Method for extraction of tectoridin and tectorigenin from the rhizomes of Belamcanda chinensis using solvent under high temperature and high pressure}",null,"원문이미지","KR20070032294A","2007.04.02","KR0856486B1","2008.08.28","본 발명은 80℃ 이상의 고온, 대기압보다 높은 고압의 물 및 에탄올을 용매로 하여 식물, 특히 범부채 근경(rhizomes of Belamcanda chinensis)으로부터 다양한 약리활성이 보고된 이소플라본인 텍토리딘(tectoridin) 및 그 비배당체(aglycone)인 텍토리게닌(tectorigenin)을 높은 수율로 추출하는 방법에 관한 것이다. 고온-고압 상태의 물 및 에탄올을 용매로 사용하는 본 발명의 추출 방법을 이용하면, 다양한 약리 효과를 가지는 텍토리딘 및 텍토리게닌을 짧은 시간 내에 고전적 추출법보다 훨씬 우수한 수율로 수득할 수 있다. 또한 유기용매를 사용하지 않고 물 및 에탄올만을 사용하므로 인체 및 환경에 무해하고, 기존의 유기용매를 이용한 추출, 정제 공정이 갖는 여러 문제점을 해결할 수 있다.","1 범부채 근경으로부터 텍토리딘(tectoridin) 및 텍토리게닌(tectorigenin)을 추출하는 방법으로서, 80-200℃의 온도, 1-15 MPa의 압력에서, 에탄올, 또는 물과 에탄올의 혼합물을 용매로 하여 범부채 근경으로부터 텍토리딘(tectoridin) 및 텍토리게닌(tectorigenin)을 추출하는 방법.","김철영, 이희주, 정상훈, 이동언, 엄병헌, 판철호, 함정엽, 차광현, 이은하","A61K-036/88",null,null,null,"2027.04.02","1 범부채 근경으로부터 텍토리딘(tectoridin) 및 텍토리게닌(tectorigenin)을 추출하는 방법으로서, 80-200℃의 온도, 1-15 MPa의 압력에서, 에탄올, 또는 물과 에탄올의 혼합물을 용매로 하여 범부채 근경으로부터 텍토리딘(tectoridin) 및 텍토리게닌(tectorigenin)을 추출하는 방법. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4 제1항에 있어서, 상기 용매는 에탄올의 함량이 총 용매 부피에 대하여 30-100 부피% 인 것을 특징으로 하는 텍토리딘 및 텍토리게닌을 추출하는 방법. 5<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100856486B1",null,1]
["K04104","건강식품","KR","초고압(Ｈｉｇｈ ｈｙｄｒｏｓｔａｔｉｃｐｒｅｓｓｕｒｅ)을 이용하여 오죽잎으로부터 항산화활성물질을 추출하는 방법{Method for extraction of natural antioxidants from the leafs of phyllostachys nigra assisted high hydrostatic pressure}",null,"원문이미지","KR20070028741A","2007.03.23","KR0847806B1","2008.07.16","본 발명은 초고압(High hydrostatic pressure)을 이용하여 오죽잎으로부터 항산화활성 물질을 추출하는 방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 건조된 오죽잎을 상온에서 30분 동안 물로 수화시킨 후, 200 MPa 이상의 초고압 상태에서 1-3분 동안 처리하고, 상온에서 오죽잎으로부터 항산화활성 물질을 추출하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하여 열처리 없이 초고압처리를 통한 추출방법을 이용함으로써 항산화활성 물질의 파괴를 막고 오죽잎으로부터 높은 수율로 항산화활성 물질을 추출해낼 수 있으며, 이를 이용하여 오죽잎이 가지고 있는 항산화 효능을 이용한 기능성 식품 및 화장품 생산에 기여할 수 있다. 또한 물을 용매로 사용하는 경우에도 추출효율이 높게 유지되므로, 인체에 유해한 유기용매를 사용할 필요가 없고, 물을 용매로 사용하여 청정추출기법을 통한 생체 내 부작용 또는 독성 방지 효과를 달성할 수 있다. 또한 물을 용매로 사용하는 경우 추출물의 물에 대한 용해도가 탁월해 제품화 적용성이 우수한 효과를 가진다.","1 오죽잎으로부터 항산화활성 물질을 추출하는 방법으로서, 건조된 오죽잎에 물을 첨가하여 시료를 준비하는 단계; 상기 시료를 초고압처리기의 반응기 내에 넣고 200MPa 이상의 압력에서 처리하는 단계; 및 상기 시료를 상온에 두고 오죽잎으로부터 항산화활성 물질을 용출시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 항산화활성 물질 추출방법.","차광현, 이동언, 엄병헌, 김철영, 정상훈, 판철호, 이희주, 이은하","A61K-008/97,A61Q-019/08",null,null,null,"2027.03.23","1 오죽잎으로부터 항산화활성 물질을 추출하는 방법으로서, 건조된 오죽잎에 물을 첨가하여 시료를 준비하는 단계; 상기 시료를 초고압처리기의 반응기 내에 넣고 200MPa 이상의 압력에서 처리하는 단계; 및 상기 시료를 상온에 두고 오죽잎으로부터 항산화활성 물질을 용출시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 항산화활성 물질 추출방법. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3 제1항에 있어서, 상기 추출방법은 시료를 준비하는 단계 후 초고압처리 전에 오죽잎을 수화시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 항산화활성 물질 추출방법. 4 제3항에 있어서, 상기 수화는 상온에서 20-40분 동안 상기 오죽잎을 물에 담그는 것을 특징으로 하는 추출방법. 5<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 6 제1항, 제3항 및 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 초고압처리는 1-3분 동안 하는 것을 특징으로 하는 항산화활성 물질 추출방법. 7<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 8 제6항의 추출방법에 의하여 오죽잎으로부터 추출된 것을 특징으로 하는 오죽잎 추출물. 9 제8항의 오죽잎 추출물을 유효성분으로 함유하는 것을 특징으로 하는 화장료 조성물. 10 제9항에 있어서, 상기 화장료 조성물은 비누, 로션, 크림, 팩 및 미용액의 제형을 갖는 것을 특징으로 하는 화장료 조성물. 11 제8항의 오죽잎 추출물을 유효성분으로 함유하는 것을 특징으로 하는 건강식품 조성물.","KR100847806B1",null,1]
["K04096","디스플레이","KR","전기영동성 컬러 유기/무기 복합입자를 함유한마이크로캡슐 및 그 제조방법{MICROCAPSULE EMPLOYING ELECTROPHORETIC COLOR HYBRID PARTICLES AND METHOD FOR FABRICATION THEREOF}",null,"원문이미지","KR20070069816A","2007.07.11","KR0932401B1","2009.12.09","본 발명은 차세대 전기영동형 전자종이 디스플레이 시스템 구현을 목적으로 하는 전기영동성 컬러 유기/무기 복합입자를 함유한 마이크로캡슐의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 전기영동성 마이크로캡슐은 극성관능기의 분극성 전하가 부여된 안료 입자 및 상기 안료 입자가 분산된 유전매질로 구성된 코어와, 상기 코어 주위를 구형으로 둘러싸도록 코팅된 캡슐로 이루어진다. 본 발명은 또한 상기 전기영동성 마이크로캡슐을 포함하는 전기영동 디스플레이 장치를 포함하며, 본 발명에 따른 전기영동 디스플레이 장치는 서로 대향하는 상부 기판 및 하부 기판과, 상기 상부 기판 및 하부 기판 상에 각각 형성된 투명 전극 및 상기 투명전극 사이에 구비된 복수 개의 전기영동성 마이크로캡슐로 구성된다. 상기한 전기영동성 마이크로캡슐을 제조하는 방법은 용제에 컬러 무기물/유기물 입자가 분산된 콜로이드 용액을 형성하는 단계와, 유전매질과 캡슐기재를 상기 콜로이드 용액과 혼합하여 균일한 혼합물을 형성하는 단계 및 상기 컬러 무기물/유기물 안료 컬러입자와 유전매질의 주위를 구형으로 둘러싸도록 하는 캡슐 결정을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.","1 극성관능기의 분극성 전하가 부여된, 적색, 청색 및 노랑색 중 어느 하나의 색을 띠는 안료 입자 및 상기 안료 입자가 분산된 유전매질로 구성된 코어와, 상기 코어 주위를 구형으로 둘러싸도록 코팅된 투명한 폴리머 수지로 이루어진 캡슐로 이루어진 것을 특징으로 하는 전기영동성 마이크로캡슐.","이상수, 김준경, 문재석","G02F-001/167","KR20090006453A","2009.01.15",null,"2027.07.11","1 극성관능기의 분극성 전하가 부여된, 적색, 청색 및 노랑색 중 어느 하나의 색을 띠는 안료 입자 및 상기 안료 입자가 분산된 유전매질로 구성된 코어와, 상기 코어 주위를 구형으로 둘러싸도록 코팅된 투명한 폴리머 수지로 이루어진 캡슐로 이루어진 것을 특징으로 하는 전기영동성 마이크로캡슐. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3 제1항에 있어서, 상기 안료 입자는 유기물 혹은 무기물 안료 입자로서, 아조(azo)계, 프탈로시아닌 안료를 포함한 시아닌계, 안트라퀴논계를 포함하는 유기 안료와, 카드뮴 레드, 몰리브덴 레드, 카드뮴 옐로우, 코발트 그린, 코발트 블루, 망간 바이올렛, 코발트 바이올렛을 포함하는 무기 안료로 이루어진 군 중에서 선택되어진 적어도 어느 하나의 안료를 포함하는 것을 특징으로 하는 전기영동성 마이크로캡슐. 4 제3항에 있어서, 상기 안료 입자는 부타디엔, 스티렌, 이소프렌, 메타크릴산, 메틸 메타크릴레이트, 아크릴로니트릴, 비닐 클로라이드, 아크릴산, 나트륨스티렌 술포네이트, 비닐 아세테이트, 클로로스티렌, 디메틸아미노프로필메타크릴아미드, 이소시아노에틸 메타크릴레이트, N-이소부톡시메타크릴아미드의 라텍스 공중합체, 디아크릴레이트, 트리아크릴레이트, 디메틸아크릴레이트, 트리메틸아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 물질을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전기영동성 마이크로캡슐. 5 제1항에 있어서, 상기 유전매질은 헥사데칸, 데카하이드로나프탈렌 (decahydronaphthalene), 5-에틸리덴-2-노르보르넨(5-ethylidene-2-norbornene), 동물성 오일, 식물성 오일, 파라핀 오일 (paraffin oil), 톨루엔 (toluene), 자일렌 (xylene), 페닐자일레탄 (phenylxylylethane), 도데실벤젠 (dodecylbenzene), 알킬나프탈렌 (alkylnaphthalene), 퍼플루오로데칼린 (perfluorodecalin), 퍼플루오로톨루엔 (perfluorotoluene), 퍼플루오로자일렌 (perfluoroxylene), 디클로로벤조트리플루오라이드 (dichlorobenzotrifluoride), 트리클로로벤조트리플루오라이드 (trichloro benzotrifluoride), 클로로펜타플루오로벤젠 (chloropentafluoro-benzene), 디클로로노난(dichlorononane), 펜타클로로벤젠 (pentachlorobenzene), FC-43, FC-70, FC-5060, 폴리클로로트리플루오로에틸렌 (poly(chlorotrifluoroethylene))으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나의 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 전기영동성 마이크로캡슐. 6 제1항에 있어서, 상기 캡슐의 직경은 50㎛ 에서 200㎛인 것을 특징으로 하는 전기영동성 마이크로캡슐. 7<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 8 제1항에 있어서, 상기 투명한 폴리머 수지는 폴리스티렌, 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리에틸 메타크릴레이트, 폴리부틸 메타크릴레이트, 에틸 셀룰로스, 폴리비닐 피리딘, 폴리아크릴로니트릴, 및 멜라민-포름알데히드 폴리머로 이루어진 군 중에서 선택된 어느 하나의 투명한 폴리머 수지인 것을 특징으로 하는 전기영동성 마이크로캡슐. 9 서로 대향하는 상부 기판 및 하부 기판; 상기 상부 기판 및 하부 기판 상에 각각 형성된 투명 전극; 및 상기 투명전극 사이에 구비된 복수 개의 제1항에 따른 전기영동성 마이크로캡슐로 구성된 것을 특징으로 하는 전기영동성 디스플레이 장치. 10 제9항에 있어서, 상기 상부 기판 및 하부 기판은 핫 멜트 접착제로 합착된 것을 특징으로 하는 전기 영동성 디스플레이 장치. 11 용제에 적색, 청색 및 노랑색 중 어느 하나의 색을 띠는 무기물/유기물 안료 입자가 분산된 콜로이드 용액을 형성하는 단계; 유전매질과 캡슐기재를 상기 콜로이드 용액과 혼합하여 균일한 혼합물을 형성하는 단계; 및 상기 컬러 무기물/유기물 안료 입자와 유전매질의 주위를 구형으로 둘러싸도록 하는 캡슐 결정을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는, 제1항에 따른 전기영동성 마이크로캡슐의 제조방법. 12 제11항에 있어서, 상기 용제는 수용성 용제, 비수용성 용제 또는 수용성 용제와 비수용성 용제의 혼합물인 것을 특징으로 하는 전기영동성 마이크로캡슐의 제조방법. 13 제12항에 있어서, 상기 수용성 용제는 증류수, 순수, 이온 교환수, 역삼투압수, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 옥탄올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 글리세린 중 어느 하나 또는 이들의 혼합물로 이루어지는 것에서 선택되는 것을 특징으로 하는 전기영동성 마이크로캡슐의 제조방법. 14 제11항에 있어서, 유전매질과 캡슐기재를 상기 콜로이드 용액과 혼합하여 균일한 혼합물을 형성하는 단계는 상기 안료 입자 및 캡슐기재는 고체 상태로 각각 첨가하거나 수성 결합제에 의해 소량의 용제로 녹여 첨가하는 것을 특징으로 하는 전기영동성 마이크로캡슐의 제조방법.","KR100932401B1, KR20090006453A",null,1]
["K04095","화학","KR","구리-철 산화물 촉매 및 이를 이용한 황산 분해방법{COPPER-IRON OXIDE CATALYST AND DECOMPOSITION OF SULFURIC ACID USING SAME}",null,"원문이미지","KR20070033156A","2007.04.04","KR0860538B1","2008.09.22","본 발명은 황산(H2SO4)의 분해에 유용한 촉매 및 이를 이용한 황산 분해방법에 관한 것으로서, 구리 및 철을 1 : 0.5∼2.0의 몰비로 포함하는 본 발명의 구리-철 이성분계 산화물 촉매는 고온 고압에서 우수한 황산 분해 반응활성과 안정성을 유지할 수 있어, 물분해 요오드-황(IS) 싸이클 공정 중 황산 분해반응에 유용하게 이용될 수 있다.","1 구리 산화물 및 철 산화물을 1 : 0.5∼2.0의 구리 대 철 몰비로 포함하는, 구리-철 이성분계 산화물 촉매.","유계상, 김창수, 공경택, 김홍곤, 정광덕, 안병성, 이병권, 주오심","B01J-023/70,B01J-023/745,B01J-023/72,B01J-021/00",null,null,null,"2027.04.04","1 구리 산화물 및 철 산화물을 1 : 0.5∼2.0의 구리 대 철 몰비로 포함하는, 구리-철 이성분계 산화물 촉매. 2 제 1 항에 있어서, 상기 구리 산화물 및 철 산화물이 담지체에 담지된 것임을 특징으로 하는, 구리-철 이성분계 산화물 촉매. 3 제 2 항에 있어서, 상기 담지체 대 구리 및 철 산화물이 1 : 0.1∼1.0의 몰비로 존재하는 것을 특징으로 하는, 구리-철 이성분계 산화물 촉매. 4 제 2 항에 있어서, 상기 담지체가 실리카, 알루미나, 지르코니아, 티타니아 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 것임을 특징으로 하는, 구리-철 이성분계 산화물 촉매. 5 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항의 구리-철 이성분계 산화물 촉매의 존재 하에 황산을 분해하는 방법. 6 제 5 항에 있어서, 상기 방법이 500 내지 1200℃의 온도 및 0.1 내지 40 기압 하에서 수행됨을 특징으로 하는, 황산 분해방법. 7 제 6 항에 있어서, 상기 방법이 700 내지 1000℃의 온도 및 1 내지 25 기압 하에서 수행됨을 특징으로 하는, 황산 분해방법. 8 제 5 항에 있어서, 상기 방법이 요오드-황(IS) 싸이클 공정에 이용되는 것을 특징으로 하는, 황산 분해방법.","KR100860538B1",null,1]
["K04089","화학","KR","신규한 2-이미노-1,3-티아졸린계 화합물 및 이를 함유하는Ｔ-형 칼슘 채널 저해제{NOVEL 2-IMINO-1,3-THIAZOLINE-BASED COMPOUNDS AND T-TYPE CALCIUM CHANNEL INHIBITORS CONTAINING THE SAME}",null,"원문이미지","KR20070050185A","2007.05.23","KR0863239B1","2008.10.07","본 발명은 아래의 화학식 I의 구조를 갖는 신규한 2-이미노-1,3-티아졸린 화합물 및 이를 포함하는 T-형 칼슘 채널 저해제에 관한 것이다. 본 발명의 T-형 칼슘 채널 저해제는 T-형 칼슘 채널의 과다 발현과 관련된 질병의 치료제로서 유용하다. [화학식 I]","1 아래의 화학식 I의 구조를 갖는 화합물: [화학식 I] 상기 식 중, R1은 수소 또는 C1-C5의 직쇄 또는 측쇄 알킬이고 R2, R3 및 R4는 서로 동일하거나 상이한 것으로, 각각수소 원자, 할로겐 원자, C1-C5의 직쇄 또는 측쇄 알킬, C1-C5의 알킬옥시, 트리플루오르메틸, 트리플루오르메톡시, 페닐옥시, 아미노, 메탄설폰아미노, 파라톨루엔설폰아미노, 니트로, C1-C5의 시아노알킬, 시아노, 에톡시카르보닐 및 C3-C12의 시클로알킬로 이루어진 군 중에서 각각 선택된 것이며, R5는 C1-C5의 직쇄 또는 측쇄 알킬기, C3-C6의 사이클로알킬, 및 벤질기로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며 R6는 C3-C12 사이클로알킬, C4-C17 알킬사이클로알킬, 아다만틸, 벤질 및 C8-C13의 벤질알킬로 이루어진 군 중에서 선택된 것이고, n 및 m 은 각각 0 또는 1 이며, HX는 존재하거나 존재하지 않을 수 있고, HX가 존재하면 X는 할로겐 원자이다.","한호규, 신동윤, 남기달, 임혜원","C07D-277/38,A61K-031/426,A61P-009/00,A61P-035/00",null,null,null,"2027.05.23","1 아래의 화학식 I의 구조를 갖는 화합물: [화학식 I] 상기 식 중, R1은 수소 또는 C1-C5의 직쇄 또는 측쇄 알킬이고 R2, R3 및 R4는 서로 동일하거나 상이한 것으로, 각각수소 원자, 할로겐 원자, C1-C5의 직쇄 또는 측쇄 알킬, C1-C5의 알킬옥시, 트리플루오르메틸, 트리플루오르메톡시, 페닐옥시, 아미노, 메탄설폰아미노, 파라톨루엔설폰아미노, 니트로, C1-C5의 시아노알킬, 시아노, 에톡시카르보닐 및 C3-C12의 시클로알킬로 이루어진 군 중에서 각각 선택된 것이며, R5는 C1-C5의 직쇄 또는 측쇄 알킬기, C3-C6의 사이클로알킬, 및 벤질기로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며 R6는 C3-C12 사이클로알킬, C4-C17 알킬사이클로알킬, 아다만틸, 벤질 및 C8-C13의 벤질알킬로 이루어진 군 중에서 선택된 것이고, n 및 m 은 각각 0 또는 1 이며, HX는 존재하거나 존재하지 않을 수 있고, HX가 존재하면 X는 할로겐 원자이다. 2 제1항에 있어서, 상기 R5는 메틸, 에틸, 직쇄 또는 측쇄 프로필, 직쇄 또는 측쇄 부틸, 사이클로프로필, 사이클로헥실, 및 벤질로 이루어진 군 중에서 선택된 것인 화합물. 3 제1항에 있어서, 상기 R6는 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로헵틸, 메틸-사이클로헥실, 1-아다만틸, 2-아다만틸, 및 펜에틸로 이루어진 군 중에서 선택된 것인 화합물. 4 제1항에 있어서, 상기 R2, R3, 및 R4 은 서로 동일하거나 상이한 것으로, 각각수소 원자, 할로겐 원자, 메틸, 에틸, 직쇄 또는 측쇄 프로필, 직쇄 또는 측쇄 부틸, 메톡시, 트리플루오르메틸, 트리플루오르메톡시, 페닐옥시, 아미노, 메탄설폰아미노, 파라톨루엔설폰아미노, 니트로, 시아노메틸, 시아노, 에톡시카르보닐 및 사이클로펩틸로 이루어진 군 중에서 각 선택된 화합물. 5 제1항에 있어서, 상기 R1은 수소 또는 메틸인 화합물. 6 제1항에 있어서, 아래의 표의 구조 중 어느 하나를 갖는 화합물: 7<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 8 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 화합물을 유효성분으로 함유하는, 통증, 간질, 고혈압, 협심증, 부정맥, 및 암으로 이루어진 군 중에서 선택된 한 가지 이상의 질병의 치료 또는 예방용 조성물. 9 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 화합물을 함유하는, 통증, 간질, 고혈압, 협심증, 부정맥, 및 암으로 이루어진 군 중에서 선택된 한 가지 이상의 질병의 개선 또는 예방용 건강보조식품. 10 아래의 화학식 II의 화합물과 화학식 III의 화합물을 C1 내지 C5의 알코올 용액 중에서 5 내지 20시간 동안 20 내지 130 ℃에서 가열 환류시켜 아래의 화학식 IV의 화합물을 제조하는 단계; 상기 제조된 화학식 IV의 화합물에 염기성 수용액을 넣어 30분 내지 5시간 동안 20 내지 120 ℃에서 가열 환류시키고, 할로겐화수소산을 첨가하여 pH를 1 내지 4로 조절하여 화학식 V의 화합물을 제조하는 단계; 및 상기 얻어진 화학식 V의 화합물에 화학식 VI의 화합물과 아마이드 축합결합제를 넣고 반응시켜 화학식 I의 화합물을 얻는 단계 를 포함하는 화학식 I의 화합물의 제조 방법: [화학식 I] [화학식 II] [화학식 III] [화학식 IV] [화학식 V] [화학식 VI] 상기 식 중, R1은 수소, 또는 C1-C5의 직쇄 또는 측쇄 알킬이고 R2, R3 및 R4 는 서로 동일하거나 상이한 것으로, 각각 수소 원자, 할로겐 원자, C1-C5의 직쇄 또는 측쇄 알킬, C1-C5의 알킬옥시, 트리플루오르메틸, 트리플루오르메톡시, 페닐옥시, 아미노, 메탄설폰아미노, 파라톨루엔설폰아미노, 니트로, C1-C5의 시아노알킬, 시아노, 에톡시카르보닐 및 C3-C12의 시클로알킬로 이루어진 군 중에서 각각 선택된 것이며, R5는 C1-C5의 직쇄 또는 측쇄 알킬기, C3-C6의 사이클로알킬, 및 벤질기로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며 R6는 C3-C12 사이클로알킬, C4-C17 알킬사이클로알킬, 아다만틸, 벤질 및 C8-C13의 벤질알킬로 이루어진 군 중에서 선택된 것이고, R7은 C1-C6의 알콕시이며, n 및 m 은 각각 0 또는 1 이고, X와 Y는 서로 동일하거나 상이한 것으로 각각 독립적으로 플루오르, 염소, 브롬 및 요오드로 이루어진 군 중에서 선택된 할로겐 원자이며 HX는 존재하거나 존재하지 않을 수 있다. 11 아래의 화학식 VII의 화합물과 화학식 VIII의 화합물을 C1 내지 C5의 알코올 용액중에서 5 내지 25시간 20 내지 130 ℃에서 가열 환류시키고 직접 반응시켜, 화학식 I의 화합물을 제조하는 단계를 포함하는, 화학식 I의 화합물의 제조 방법: [화학식 I] [화학식 VII] [화학식 VIII] 상기 식 중, R1은 수소, 또는C1-C5의 직쇄 또는 측쇄 알킬이고 R2, R3 및 R4 는 서로 동일하거나 상이한 것으로, 각각 수소 원자, 할로겐 원자, C1-C5의 직쇄 또는 측쇄 알킬, C1-C5의 알킬옥시, 트리플루오르메틸, 트리플루오르메톡시, 페닐옥시, 아미노, 메탄설폰아미노, 파라톨루엔설폰아미노,니트로, C1-C5의 시아노알킬, 시아노, 에톡시카르보닐 및 C3-C12의 시클로알킬로 이루어진 군 중에서 각각 선택된 것이며, R5는 C1-C5의 직쇄 또는 측쇄 알킬기, C3-C6의 사이클로알킬, 및 벤질기로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며 R6는 C3-C12 사이클로알킬, C4-C17 알킬사이클로알킬, 아다만틸, 벤질 및 C8-C13의 벤질알킬로 이루어진 군 중에서 선택된 것이고, n 및 m 은 각각 0 또는 1 이며, Y는 플루오르, 염소, 브롬 및 요오드로 이루어진 군 중에서 선택된 할로겐 원자이고, HX는 존재하거나 존재하지 않을 수 있고, HX가 존재하면 X는 할로겐 원자이다.","KR100863239B1, US2008293786A1, US7998989B2",null,1]
["K04077","유전공학","KR","３―메틸콜란트렌 노출 여부 진단용 바이오마커 및 이를이용한 진단 방법{Biomarker for diagonosis of exposure to 3-methylcholanthrene and the method of diagonosis using thereof}",null,"원문이미지","KR20070017534A","2007.02.21","KR0915898B1","2009.08.31","본 발명은 다환 방향족 탄화수소류 중의 하나인 3-메틸콜란트렌(3-methylcholanthrene)에 대한 노출 여부 진단용 바이오마커 및 이를 이용한 진단 방법에 관한 것으로, 구체적으로 3-메틸콜란트렌에 특이적으로 유전자 발현이 증가 또는 감소하는 바이오마커 및 이를 이용한 3-메틸콜란트렌에 대한 노출 여부를 진단하는 방법에 관한 것이며, 본 발명의 바이오마커는 DNA 마이크로어레이 칩을 통하여 선별된 반응 유전자들을 바이오마커로 이용하여 환경 시료에서 3-메틸콜란트렌의 오염을 모니터링 및 판정하는데 유용하게 사용될 수 있으며, 3-메틸콜란트렌에 의해 유발되는 독성 작용 기작을 규명하는 도구로 이용될 수 있다.",{"$cut":{"chars":24685,"head":"1 하기의 군으로부터 선택되는 유전자 서열의 전부 또는 일부로 구성되는 올리고뉴클레오티드 또는 그의 상보적인 올리고뉴클레오티드가 집적된 3-메틸콜란트렌에 대한 노출 여부 진단용 DNA 마이크로어레이 칩: 유전자 등록번호(Genebank) NM_203347(MSFL2541), 유전자 등록번호(Genebank) NM_018837(Sulfatase 2), 유전자 등록번호(Genebank) NM_001769(CD9 molecule), 유전자 등록번호(Genebank) NM_001402(Eukaryotic translation elongation factor 1 alpha 1), 유전자 등록번호(Genebank) NM_170693(Serum/glucocorticoid regulated kinase 2), 유전자 등록번호(Genebank) NM_021599(ADAM metallopeptidase with thrombospondin type 1 motif, 2), 유전자 등록번호(Genebank) NM_001017973(Procollagen-proline, 2-oxoglutarate 4-dioxygenase (proline 4-hydroxylase), alpha polypeptide II), 유전자 등록번호(Genebank) NM_032324(Chromosome 1 open reading frame 57), 유전자 등록번호(Genebank) NM_198194(Stomatin), 유전자 등록번호(Genebank) NM_016368(Myo-inositol 1-phosphate synthase A1), 유전자 등록번호(Genebank) NM_030569(Inter-alpha (globulin) inhibitor H5), 유전자 등록번호(Genebank) NM_001748(Calpain 2, (m/II) large subunit), 유전자 등록번호(Genebank) NM_012467(Tryptase gamma 1), 유전자 등록번호(Genebank) NM_001917(D-amino-acid oxidase), 유전자 등록번호(Genebank) NM_015920(Ribosomal protein S27-like), 유전자 등록번호(Genebank) NM_001009820[Small nuclear ribonucleoprotein 70 kDa polypeptide (RNP antigen)], 유전자 등록번호(Genebank) NM_014010(Pregnancy-associated plasma protein A, pappalysin 1), 유전자 등록번호(Genebank) NM_152640[DCP1 decapping enzyme homolog B (S. cerevisiae)], 유전자 등록번호(Genebank) NM_001019(Ribosomal protein S15a), 유전자 등록번호(Genebank) NM_002842(Protein tyrosine phosphatase, receptor type, H), 유전자 등록번호(Genebank) NM_001004(Tetraspanin 4), 유전자 등록번호(Genebank) NM_006929[Superkiller viralicidic activity 2-like (S. cerevisiae)], 유전자 등록번호(Genebank) NM_012190(Aldehyde dehydrogenase 1 family, member L1), 유전자 등록번호(Genebank) NM_032872(Synaptotagmin-like 1), 유전자 등록번호(Genebank) NM_000480[Adenosine monophosphate deaminase (isoform E)], 유전자 등록번호(Genebank) NM_000476(Adenylate kinase 1), 유전자 등록번호(Genebank) NM_018161(NAD synthetase 1), 유전자 등록번호(Genebank) NM_003516(Histone cluster 2, H2aa3), 유전자 등록번호(Genebank) NM_021063(Histone cluster 1, H2bd), 유전자 등록번호(Genebank) NM_001005749[Glucosidase, beta; acid (includes glucosylceramidase)], 유전자 등록번호(Genebank) NM_005319(Histone cluster 1, H1c), 유전자 등록번호(Genebank) NM_001015053(Histone deacetylase 5), 유전자 등록번호(Genebank) NM_003528(Histone cluster 2, H2be), 유전자 등록번호(Genebank) NM_002778[Prosaposin (variant Gaucher disease and variant metachromatic leukodystrophy)], 유전자 등록번호(Genebank) NM_021058(Histone cluster 1, H2bj), 유전자 등록번호(Genebank) NM_003524(Histone cluster 1, H2bh), 유전자 등록번호(Genebank) NM_003519(Histone cluster 1, H2bl), 유전자 등록번호(Genebank) NM_033445(Histone cluster 3, H2a), 유전자 등록번호(Genebank) NM_005572(Lamin A/C), 유전자 등록번호(Genebank) NM_003520(Histone cluster 1, H2bn), 유전자 등록번호(Genebank) NM_003527(Histone cluster 1, H2bo), 유전자 등록번호(Genebank) NM_175055(Histone cluster 3, H2bb), 유전자 등록번호(Genebank) NM_000596(Insulin-like growth factor binding protein 1), 유전자 등록번호(Genebank) NM_004864(Growth differentiation factor 15), 유전자 등록번호(Genebank) NM_201525(G protein-coupled receptor 56), 유전자 등록번호(Genebank) NM_014624(S100 calcium binding protein A6), 유전자 등록번호(Genebank) NM_175744(Ras homolog gene family, member C), 유전자 등록번호(Genebank) NM_005620(S100 calcium binding protein A11), 유전자 등록번호(Genebank) NM_006018(G protein-coupled receptor 109B), 유전자 등록번호(Genebank) NM_005310(Growth factor receptor-bound protein 7), 유전자 등록번호(Genebank) NM_002926(Regulator of G-protein signalling 12), 유전자 등록번호(Genebank) NM_021913(AXL receptor tyrosine kinase), 유전자 등록번호(Genebank) NM_002194(Inositol polyphosphate-1-phosphatase), 유전자 등록번호(Genebank) BC064982(MCF.2 cell line derived transforming sequence-like), 유전자 등록번호(Genebank) NM_001005339(Regulator of G-protein signalling 10), 유전자 등록번호(Genebank) NM_021077(Neuromedin B), 유전자 등록번호(Genebank) NM_004881(Tumor protein p53 inducible protein 3), 유전자 등록번호(Genebank) NM_018494(Leucine-rich repeats and death domain containing), 유전자 등록번호(Genebank) NM_033285(Tumor protein p53 inducible nuclear protein 1), 유전자 등록번호(Genebank) NM_001197[BCL2-interacting killer (apoptosis-inducing)], 유전자 등록번호(Genebank) NM_001540(Heat shock 27 kDa protein 1), 유전자 등록번호(Genebank)"}},"류재천, 김연정, 전희경","C12Q-001/68","KR20080077834A","2008.08.26",null,"2027.02.21",{"$cut":{"chars":27370,"head":"1 하기의 군으로부터 선택되는 유전자 서열의 전부 또는 일부로 구성되는 올리고뉴클레오티드 또는 그의 상보적인 올리고뉴클레오티드가 집적된 3-메틸콜란트렌에 대한 노출 여부 진단용 DNA 마이크로어레이 칩: 유전자 등록번호(Genebank) NM_203347(MSFL2541), 유전자 등록번호(Genebank) NM_018837(Sulfatase 2), 유전자 등록번호(Genebank) NM_001769(CD9 molecule), 유전자 등록번호(Genebank) NM_001402(Eukaryotic translation elongation factor 1 alpha 1), 유전자 등록번호(Genebank) NM_170693(Serum/glucocorticoid regulated kinase 2), 유전자 등록번호(Genebank) NM_021599(ADAM metallopeptidase with thrombospondin type 1 motif, 2), 유전자 등록번호(Genebank) NM_001017973(Procollagen-proline, 2-oxoglutarate 4-dioxygenase (proline 4-hydroxylase), alpha polypeptide II), 유전자 등록번호(Genebank) NM_032324(Chromosome 1 open reading frame 57), 유전자 등록번호(Genebank) NM_198194(Stomatin), 유전자 등록번호(Genebank) NM_016368(Myo-inositol 1-phosphate synthase A1), 유전자 등록번호(Genebank) NM_030569(Inter-alpha (globulin) inhibitor H5), 유전자 등록번호(Genebank) NM_001748(Calpain 2, (m/II) large subunit), 유전자 등록번호(Genebank) NM_012467(Tryptase gamma 1), 유전자 등록번호(Genebank) NM_001917(D-amino-acid oxidase), 유전자 등록번호(Genebank) NM_015920(Ribosomal protein S27-like), 유전자 등록번호(Genebank) NM_001009820[Small nuclear ribonucleoprotein 70 kDa polypeptide (RNP antigen)], 유전자 등록번호(Genebank) NM_014010(Pregnancy-associated plasma protein A, pappalysin 1), 유전자 등록번호(Genebank) NM_152640[DCP1 decapping enzyme homolog B (S. cerevisiae)], 유전자 등록번호(Genebank) NM_001019(Ribosomal protein S15a), 유전자 등록번호(Genebank) NM_002842(Protein tyrosine phosphatase, receptor type, H), 유전자 등록번호(Genebank) NM_001004(Tetraspanin 4), 유전자 등록번호(Genebank) NM_006929[Superkiller viralicidic activity 2-like (S. cerevisiae)], 유전자 등록번호(Genebank) NM_012190(Aldehyde dehydrogenase 1 family, member L1), 유전자 등록번호(Genebank) NM_032872(Synaptotagmin-like 1), 유전자 등록번호(Genebank) NM_000480[Adenosine monophosphate deaminase (isoform E)], 유전자 등록번호(Genebank) NM_000476(Adenylate kinase 1), 유전자 등록번호(Genebank) NM_018161(NAD synthetase 1), 유전자 등록번호(Genebank) NM_003516(Histone cluster 2, H2aa3), 유전자 등록번호(Genebank) NM_021063(Histone cluster 1, H2bd), 유전자 등록번호(Genebank) NM_001005749[Glucosidase, beta; 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["K04066","로봇","KR","물체인식을 바탕으로 한 로봇의 자기위치 추정 방법{Method for esrimating location using ObjectionRecognition of a robot}",null,"원문이미지","KR20070015026A","2007.02.13","KR0866380B1","2008.10.27","본 발명은 이동 로봇이 기준좌표가 주어진 동작 환경내에서 로봇 스스로 자기의 위치를 추정(estimation)하는 방법에 관한 것으로, 이동 로봇이 환경내의 개별 물체들을 비전 센서에 의해 인식을 하고 주어진 지도(맵)를 기반으로 센서의 입력을 분석하여 자기의 위치를 추정(estimation)하는 방법에 대한 발명이다.본 발명에 따른 물체인식을 바탕으로 한 로봇의 자기위치 추정 방법은 상기 위치 연산부가 상기 카메라부로부터 영상을 입력을 받는 영상 입력 단계와, 상기 위치 연산부가 상기 영상 입력 단계에서 입력된 영상안의 개별 물체들을 인식하고 또한 개별 물체들에 대한 거리 정보를 생성하는 물체인식 및 정보 추출 단계와, 상기 위치 연산부가 상기 물체인식 및 정보 추출 단계에서 추출된 정보와 상기 데이터베이스부에 저장되어 있는 물체 기반의 지도를 바탕으로 파티클 필터링 기법을 사용하여 로봇의 위치를 추정하는 로봇 위치 추정단계를 포함한다.","1 전방향의 시야각을 갖는 스테레오 영상장치로 형성된 카메라부와, 로봇 이동 경로 주위의 지도가 미리 위상학적 지도 형태로 저장된 데이터베이스부와, 상기 카메라부에서 입력되는 영상 정보를 상기 데이터베이스부에 저장된 지도와 대조하여 위치를 추정하는 위치 연산부를 포함하는 로봇의 자기위치 추정 방법은, 상기 위치 연산부가 상기 카메라부로부터 영상을 입력을 받는 영상 입력 단계와, 상기 위치 연산부가 상기 영상 입력 단계에서 입력된 영상안의 개별 물체들을 인식하고 또한 개별 물체들에 대한 거리 정보를 생성하는 물체인식 및 정보 추출 단계와, 상기 위치 연산부가 상기 물체인식 및 정보 추출 단계에서 추출된 정보와 상기 데이터베이스부에 저장되어 있는 물체 기반의 지도를 바탕으로 파티클 필터링 기법을 사용하여 로봇의 위치를 추정하는 로봇 위치 추정단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 물체인식을 바탕으로 한 로봇의 자기위치 추정 방법.","박성기, 김문상, 박순용","B25J-013/08,B25J-005/00,B25J-019/04","KR20080075730A","2008.08.19",null,"2027.02.13","1 전방향의 시야각을 갖는 스테레오 영상장치로 형성된 카메라부와, 로봇 이동 경로 주위의 지도가 미리 위상학적 지도 형태로 저장된 데이터베이스부와, 상기 카메라부에서 입력되는 영상 정보를 상기 데이터베이스부에 저장된 지도와 대조하여 위치를 추정하는 위치 연산부를 포함하는 로봇의 자기위치 추정 방법은, 상기 위치 연산부가 상기 카메라부로부터 영상을 입력을 받는 영상 입력 단계와, 상기 위치 연산부가 상기 영상 입력 단계에서 입력된 영상안의 개별 물체들을 인식하고 또한 개별 물체들에 대한 거리 정보를 생성하는 물체인식 및 정보 추출 단계와, 상기 위치 연산부가 상기 물체인식 및 정보 추출 단계에서 추출된 정보와 상기 데이터베이스부에 저장되어 있는 물체 기반의 지도를 바탕으로 파티클 필터링 기법을 사용하여 로봇의 위치를 추정하는 로봇 위치 추정단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 물체인식을 바탕으로 한 로봇의 자기위치 추정 방법. 2 청구항 1항에 있어서, 상기 로봇 위치 추정단계는, 상기 위치 연산부가 데이터베이스부에 저장된 지도에서 상기 물체인식 및 정보 추출 단계에서 인식된 물체가 1개 이상 포함된 노드를 로봇이 위치할 수 있는 후보 노드로 선정하는 후보 노드 선정 단계와, 상기 위치 연산부가 모든 후보 노드에 대한 로봇의 잠정 위치를 수학식1과 수학식 2를 사용해서 계산하는 잠정 위치 계산 단계와, 상기 위치 연산부가 상기 2단계에서 계산된 잠정 위치에 파티클 필터링 기법을 사용해서 정확한 위치 추정에 필요한 최종 가중치를 계산하고, 샘플들이 제일 많이 수렴된 노드의 샘플만으로 수학식 8을 수행하여 로봇의 위치를 추정하는 파티클 필터링 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 물체인식을 바탕으로 한 로봇의 자기위치 추정 방법. (수학식 1) (수학식 2) ( 와 는 각각 동일 물체의 국소 특징점들의 입력영상장치와 환경 지도 중심 좌표계에서 바라본 3차원 거리값이고,이 두 거리값들의 동차 변환행렬은 로 나타낼 수 있으며, 3차원 공간상의 임의의 위치라면 그 로봇 위치는 로 나타낼 수 있으며, 일정한 평면상에서 동작하는 로봇이라면, 이 되어 로봇 위치를 결정하는 변수는가 된다.) (수학식 8) ([s]는 추정된 로봇의 위치이며 는 가정할 수 있는 로봇 위치의 샘플이고 은 샘플 의 반복스텝 t에서의 가중치이고 는 랜덤 샘플의 총 개수이다.) 3 청구항 1항에 있어서, 상기 로봇 위치 추정단계는, 상기 위치 연산부가 데이터베이스부에 저장된 지도에서 상기 물체인식 및 정보 추출 단계에서 인식된 물체가 1개 이상 포함된 노드를 로봇이 위치할 수 있는 후보 노드로 선정하는 후보 노드 선정 단계와, 상기 위치 연산부가 최종 후보 노드에 대한 로봇의 잠정 위치를 수학식 1과 수학식 2를 사용해서 계산하는 잠정 위치 계산 단계와, 상기 위치 연산부가 후보 노드중에서 최종 후보 노드를 선택하는 최종 후보 노드 선택 단계와, 상기 위치 연산부가 상기 2단계에서 계산된 잠정 위치에 파티클 필터링 기법을 사용해서 정확한 위치 추정에 필요한 최종 가중치를 계산하고, 샘플들이 제일 많이 수렴된 노드의 샘플만으로 수학식 8을 수행하여 로봇의 위치를 추정하는 파티클 필터링 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 물체인식을 바탕으로 한 로봇의 자기위치 추정 방법. (수학식 1) (수학식 2) ( 와 는 각각 동일 물체의 국소 특징점들의 입력영상장치와 환경 지도 중심 좌표계에서 바라본 3차원 거리값이고,이 두 거리값들의 동차 변환행렬은 로 나타낼 수 있으며, 3차원 공간상의 임의의 위치라면 그 로봇 위치는 로 나타낼 수 있으며, 일정한 평면상에서 동작하는 로봇이라면, 이 되어 로봇 위치를 결정하는 변수는가 된다.) (수학식 8) ([s]는 추정된 로봇의 위치이며 는 가정할 수 있는 로봇 위치의 샘플이고 은 샘플 의 반복스텝 t에서의 가중치이고 는 랜덤 샘플의 총 개수이다.) 4 일정 범위의 시야각을 갖는 스테레오 영상장치로 형성된 카메라부와 상기 카메라부를 일정 각도씩 회전시킬 수 있는 회전 장치와, 로봇 이동 경로 주위의 지도가 미리 위상학적 지도 형태로 저장된 데이터베이스부와, 상기 카메라부에서 입력되는 영상 정보를 상기 데이터베이스부에 저장된 지도와 대조하여 위치를 추정하는 위치 연산부를 포함하는 로봇의 자기위치 추정 방법은, 상기 위치 연산부가 상기 카메라부로부터 영상을 입력을 받는 영상 입력 단계와, 상기 위치 연산부가 상기 영상 입력 단계에서 입력된 영상안의 개별 물체들을 인식하고 또한 개별 물체들에 대한 거리 정보를 생성하는 물체인식 및 정보 추출 단계와, 상기 위치 연산부가 인식된 물체가 있는지 확인하는 물체 확인 단계와, 상기 위치 연산부가 데이터베이스부에 저장된 지도에서 상기 물체인식 및 정보 추출 단계에서 인식된 물체가 1개 이상 포함된 노드를 로봇이 위치할 수 있는 후보 노드로 선정하는 후보 노드 선정 단계와, 상기 위치 연산부가 후보 노드들의 우선 순위를 계산하는 우선 순위 설정 단계와, 상기 위치 연산부가 후보 노드에 포함된 물체와 로봇간의 거리 및 최우선 순위 물체를 계산하는 최우선 순위 물체 계산 단계와, 상기 위치 연산부가 상기 회전 장치로 카메라부를 회전시켜 후보 노드의 최우선 순위 물체를 확인하는 최우선 순위 물체 확인 단계와, 상기 위치 연산부가 상기 최우선 순위 물체 확인 단계에서 최우선 물체가 확인된 노드에 파티클 필터링 기법을 사용해서 정확한 위치 추정에 필요한 최종 가중치를 계산하고, 샘플들이 제일 많이 수렴된 노드의 샘플만으로 수학식 8을 수행하여 로봇의 위치를 추정하는 파티클 필터링 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 물체인식을 바탕으로 한 로봇의 자기위치 추정 방법. ( 수학식 8 ) ([s]는 추정된 로봇의 위치이며 는 가정할 수 있는 로봇 위치의 샘플이고 은 샘플 의 반복스텝 t에서의 가중치이고 는 랜덤 샘플의 총 개수이다.) 5 청구항 4항에 있어서, 상기 최우선 순위 물체 확인 단계는 후보 노드의 최우선 물체를 인식하지 못하면 상기 회전 장치로 카메라부를 회전시켜 상기 우선 순위 설정 단계에서 해당 후보 노드의 다음 우선 순위로 계산된 후보 노드의 최우선 물체를 확인하는 것을 특징으로 하는 물체인식을 바탕으로 한 로봇의 자기위치 추정 방법. 6 청구항 2 내지 5항중 어느 한항에 있어서, 상기 파티클 필터링 단계에서 계산되는 최종 가중치는 로봇이 어느 노드에 가까이 있을지를 나타내 주는 노드 근접 가중치 와 로봇이 인식한 물체와 노드에 존재하는 동일한 물체의 3차원 특징점간의 거리 차이에 의한 샘플 의 3차원 특징점 가중치 를 하기된 수학식 13와 같이 통합하여 계산되는 것을 특징으로 하는 물체인식을 바탕으로 한 로봇의 자기위치 추정 방법. (수학식 13) 여기서, 는 후보 노드, 는 후보 노드의 개수, 는 랜덤 샘플의 총 개수이다. 7 청구항 6항에 있어서, 상기 노드 근접 가중치 는 후보 노드에 포함된 물체 중 로봇이 인식한 물체와 겹치는 수인 물체 존재 가중치 와, 후보 노드에 저장된 물체의 모델과 로봇이 인식한 물체의 국소적 특징점의 매칭 정도인 물체 특징 가중치와, 로봇이 인식한 물체의 국소적 특징점의 3차원값을 후보 노드의 동일 물체의 국소적 특징점의 3차원 값으로 보간(fitting)하고, 보간된 국소적 특징점의 3차원 값과 후보 노드의 동일 국소적 특징점 3차원 값들 간의 거리 차이인 물체 거리 가중치을 수학식 12에 따라 계산되는 것을 특징으로 하는 물체인식을 바탕으로 한 로봇의 자기위치 추정 방법. (수학식 12) 여기서, 는 후보 노드, 는 후보 노드의 개수이다. 8 청구항 7항에 있어서, 상기 물체 존재 가중치 는 수학식 9에 따라 계산되는 것을 특징으로 하는 물체인식을 바탕으로 한 로봇의 자기위치 추정 방법. (수학식 9) (는 후보 노드 의 물체 존재 가중치이고, 는 후보 노드의 개수이다. 은 로봇이 인식한 물체의 집합, 는 후보 노드 에 존재하는 물체의 집합이고, 는 로봇이 인식한 물체와 후보 노드 에 존재하는 물체 중 동일한 물체의 개수이다.) 9 청구항 7항에 있어서, 상기 물체 특징 가중치는 수학식 10에 따라 계산되는 것을 특징으로 하는 물체인식을 바탕으로 한 로봇의 자기위치 추정 방법. (수학식 10) ( 는 후보 노드 의 물체 특징 가중치이고, 은 로봇이 인식한 모든 물체의 국소적 특징점의 집합이고, 는 후보 노드 에 포함된 물체들의 국소적 특징점의 집합이다. 는 로봇이 인식한 모든 물체의 국소적 특징점의 개수, 는 로봇이 인식한 모든 물체의 국소적 특징점과 후보 노드 에 존재하는 물체 중 로봇이 인식한 물체와 동일한 물체의 매칭된 국소적 특징점의 개수이다.) 10 청구항 7항에 있어서, 상기 물체 거리 가중치는 수학식 11에 따라 계산되는 것을 특징으로 하는 물체인식을 바탕으로 한 로봇의 자기위치 추정 방법. (수학식 11) (여기서, 는 후보 노드 의 물체 거리 가중치이고, 는 보간(fitting)된 국소적 특징점의 3차원값과 후보 노드의 동일 국소적 특징점의 3차원값 간의 거리 차이고, 는 로봇이 인식한 모든 물체의 국소적 특징점과 후보 노드 에 존재하는 물체 중 로봇이 인식한 물체와 동일한 물체의 매칭된 국소적 특징점의 개수이고,는 후보 노드의 개수이다. )","KR100866380B1, KR20080075730A",null,1]
["F03596","연료전지","GB","Electrode-Electrolyte Composite Particles for a Fuel Cell and Method for the Preparation thereof",null,"원문이미지","EP2008159614","2008.07.03","EP02012381B1","2011.11.02","The present invention provides electrode-electrolyte composite particles for a fuel cell, which have either electrode material particles uniformly dispersed around electrolyte material particles or electrolyte material particles uniformly dispersed around electrode material particles, to enhance the electrode performance characteristics and electrode/electrolyte bonding force, as well as thermal, mechanical and electrochemical properties of the fuel cell, in a simple method without using expensive starting materials and a high temperature process.,","1. A method for preparing electrode-electrolyte composite particles, which comprises: (1) (A) dissolving a starting material of an electrode material in a solvent to obtain an electrode solution, and adding thereto one material selected from an amino acid, citric acid and a polymer resin, together with a powder form of an electrolyte material which does not dissolve in the electrode solution, or (B) dissolving a starting material of an electrolyte material in a solvent to obtain an electrolyte solution, and adding thereto one material selected from an amino acid, citric acid and a polymer resin, together with a powder form of an electrode material which does not dissolve in the electrolyte solution, to obtain an electrode-electrolyte mixture, wherein the electrode-electrolyte mixture comprises a nitric acid-containing solvent and the starting material of an electrode or electrolyte material is selected from the group consisting of an oxide, a carbide, a metal and a mixture thereof which are stable in atmosphere and soluble in nitric acid, and wherein the electrode-electrolyte mixture further comprises a polymer dispersing agent in an amount of 0.1 to 4 wt% based on the weight of the electrolyte or electrode material.; and(2) subjecting the electrode-electrolyte mixture to self-combustion or heat treatment.","Lee, Jong Ho, Lee, Hae Weon, Song, Hue Sup, Kim, Joo Sun, Son, Ji Won, Kim, Hae Ryoung, Jung, Hwa Young","H01M-004/88,H01M-004/86","EP02012381A1","2009.01.07","2007.07.04 (KR 20070067286)",null,"1. A method for preparing electrode-electrolyte composite particles, which comprises: (1) (A) dissolving a starting material of an electrode material in a solvent to obtain an electrode solution, and adding thereto one material selected from an amino acid, citric acid and a polymer resin, together with a powder form of an electrolyte material which does not dissolve in the electrode solution, or (B) dissolving a starting material of an electrolyte material in a solvent to obtain an electrolyte solution, and adding thereto one material selected from an amino acid, citric acid and a polymer resin, together with a powder form of an electrode material which does not dissolve in the electrolyte solution, to obtain an electrode-electrolyte mixture, wherein the electrode-electrolyte mixture comprises a nitric acid-containing solvent and the starting material of an electrode or electrolyte material is selected from the group consisting of an oxide, a carbide, a metal and a mixture thereof which are stable in atmosphere and soluble in nitric acid, and wherein the electrode-electrolyte mixture further comprises a polymer dispersing agent in an amount of 0.1 to 4 wt% based on the weight of the electrolyte or electrode material.; and(2) subjecting the electrode-electrolyte mixture to self-combustion or heat treatment. 2. The method for preparing electrode-electrolyte composite particles of claim 1, wherein the electrode solution further comprises hydrogen peroxide. 3. The method for preparing electrode-electrolyte composite particles of claim 1, wherein the electrolyte material used in step (1)(A) has same or different kinds and sizes. 4. The method for preparing electrode-electrolyte composite particles of claim 1, wherein the electrode material used in step (1)(B) is a conductive oxide which has catalytic activity for oxygen reduction, and ionic and electronic conductivities when it is a cathode material, or a metal or an oxide which has catalytic activity for fuel gas and electronic conductivity when it is an anode material. 5. The method for preparing electrode-electrolyte composite particles of claim 1, wherein the amino acid is glycine. 6. The method for preparing electrode-electrolyte composite particles of claim 5, wherein the molar ratio of the nitrate ion generated in the nitric acid-containing solvent and glycine is 1:0.5 to 1:4, and the molar ratio of the cation of the starting material of the electrode material and glycine is 1:0.1 to 1:3. 7. The method for preparing electrode-electrolyte composite particles of claim 1, wherein the electrode solution has a pH in the range of 1 to 5, or the electrolyte solution has a pH in the range of 4 to 6. 8. The method for preparing electrode-electrolyte composite particles of claim 1, wherein the polymer resin has epoxy, acryl, vinyl or amino groups. 9. The method for preparing electrode-electrolyte composite particles of claim 1, wherein the self combustion or heat treatment of the electrode-electrolyte mixture is conducted at a temperature ranging from 200 to 400 øC. 10. The method for preparing electrode-electrolyte composite particles of claim 1, wherein the electrode-electrolyte mixture is further calcinated at a temperature of 1000 øC or lower, after self combustion or heat treatment. 11. Electrode-electrolyte composite particles prepared by the method according to claim 1, the composite particles having either the electrode material particles dispersed around the electrolyte material particles, or the electrolyte material particles dispersed around the electrode material particles. 12. The electrode-electrolyte composite particles of claim 11, wherein the electrolyte material particles are uniformly dispersed, with being apart from each other, and the electrode material particles surround the electrolyte material particles. 13. The electrode-electrolyte composite particles of claim 11 wherein the electrolyte material particles are partially uniformly dispersed as aggregates, and the electrode material particles partially or wholly surround the electrolyte material particles. 14. The electrode-electrolyte composite particles of claim 11, wherein the electrolyte material particles are connected to each other as the aggregates of a chain form, and the electrode material particles partially or wholly surround the electrolyte material particles. 15. The electrode-electrolyte composite particles of claim 11, wherein the electrolyte material and the electrode material have a size ratio of 1:0.01 to 1:100. 16. The electrode-electrolyte composite particles of claim 11, wherein the electrolyte material is present in an amount of 10 to 80 vol % based on the electrode-electrolyte composite particles. 17. A fuel cell comprising the electrode-electrolyte composite particles of claim 11.","AT532225T, EP2012381A1, EP2012381B1, JP2009016350A, JP5306726B2, KR100904203B1, KR20090002895A, US2009011307A1, US8647771B2","F",2]
["F03595","연료전지","DE","Electrode-Electrolyte Composite Particles for a Fuel Cell and Method for the Preparation thereof",null,"원문이미지","EP2008159614","2008.07.03","EP02012381B1","2011.11.02","The present invention provides electrode-electrolyte composite particles for a fuel cell, which have either electrode material particles uniformly dispersed around electrolyte material particles or electrolyte material particles uniformly dispersed around electrode material particles, to enhance the electrode performance characteristics and electrode/electrolyte bonding force, as well as thermal, mechanical and electrochemical properties of the fuel cell, in a simple method without using expensive starting materials and a high temperature process.,","1. A method for preparing electrode-electrolyte composite particles, which comprises: (1) (A) dissolving a starting material of an electrode material in a solvent to obtain an electrode solution, and adding thereto one material selected from an amino acid, citric acid and a polymer resin, together with a powder form of an electrolyte material which does not dissolve in the electrode solution, or (B) dissolving a starting material of an electrolyte material in a solvent to obtain an electrolyte solution, and adding thereto one material selected from an amino acid, citric acid and a polymer resin, together with a powder form of an electrode material which does not dissolve in the electrolyte solution, to obtain an electrode-electrolyte mixture, wherein the electrode-electrolyte mixture comprises a nitric acid-containing solvent and the starting material of an electrode or electrolyte material is selected from the group consisting of an oxide, a carbide, a metal and a mixture thereof which are stable in atmosphere and soluble in nitric acid, and wherein the electrode-electrolyte mixture further comprises a polymer dispersing agent in an amount of 0.1 to 4 wt% based on the weight of the electrolyte or electrode material.; and(2) subjecting the electrode-electrolyte mixture to self-combustion or heat treatment.","Lee, Jong Ho, Lee, Hae Weon, Song, Hue Sup, Kim, Joo Sun, Son, Ji Won, Kim, Hae Ryoung, Jung, Hwa Young","H01M-004/88,H01M-004/86","EP02012381A1","2009.01.07","2007.07.04 (KR 20070067286)",null,"1. A method for preparing electrode-electrolyte composite particles, which comprises: (1) (A) dissolving a starting material of an electrode material in a solvent to obtain an electrode solution, and adding thereto one material selected from an amino acid, citric acid and a polymer resin, together with a powder form of an electrolyte material which does not dissolve in the electrode solution, or (B) dissolving a starting material of an electrolyte material in a solvent to obtain an electrolyte solution, and adding thereto one material selected from an amino acid, citric acid and a polymer resin, together with a powder form of an electrode material which does not dissolve in the electrolyte solution, to obtain an electrode-electrolyte mixture, wherein the electrode-electrolyte mixture comprises a nitric acid-containing solvent and the starting material of an electrode or electrolyte material is selected from the group consisting of an oxide, a carbide, a metal and a mixture thereof which are stable in atmosphere and soluble in nitric acid, and wherein the electrode-electrolyte mixture further comprises a polymer dispersing agent in an amount of 0.1 to 4 wt% based on the weight of the electrolyte or electrode material.; and(2) subjecting the electrode-electrolyte mixture to self-combustion or heat treatment. 2. The method for preparing electrode-electrolyte composite particles of claim 1, wherein the electrode solution further comprises hydrogen peroxide. 3. The method for preparing electrode-electrolyte composite particles of claim 1, wherein the electrolyte material used in step (1)(A) has same or different kinds and sizes. 4. The method for preparing electrode-electrolyte composite particles of claim 1, wherein the electrode material used in step (1)(B) is a conductive oxide which has catalytic activity for oxygen reduction, and ionic and electronic conductivities when it is a cathode material, or a metal or an oxide which has catalytic activity for fuel gas and electronic conductivity when it is an anode material. 5. The method for preparing electrode-electrolyte composite particles of claim 1, wherein the amino acid is glycine. 6. The method for preparing electrode-electrolyte composite particles of claim 5, wherein the molar ratio of the nitrate ion generated in the nitric acid-containing solvent and glycine is 1:0.5 to 1:4, and the molar ratio of the cation of the starting material of the electrode material and glycine is 1:0.1 to 1:3. 7. The method for preparing electrode-electrolyte composite particles of claim 1, wherein the electrode solution has a pH in the range of 1 to 5, or the electrolyte solution has a pH in the range of 4 to 6. 8. The method for preparing electrode-electrolyte composite particles of claim 1, wherein the polymer resin has epoxy, acryl, vinyl or amino groups. 9. The method for preparing electrode-electrolyte composite particles of claim 1, wherein the self combustion or heat treatment of the electrode-electrolyte mixture is conducted at a temperature ranging from 200 to 400 øC. 10. The method for preparing electrode-electrolyte composite particles of claim 1, wherein the electrode-electrolyte mixture is further calcinated at a temperature of 1000 øC or lower, after self combustion or heat treatment. 11. Electrode-electrolyte composite particles prepared by the method according to claim 1, the composite particles having either the electrode material particles dispersed around the electrolyte material particles, or the electrolyte material particles dispersed around the electrode material particles. 12. The electrode-electrolyte composite particles of claim 11, wherein the electrolyte material particles are uniformly dispersed, with being apart from each other, and the electrode material particles surround the electrolyte material particles. 13. The electrode-electrolyte composite particles of claim 11 wherein the electrolyte material particles are partially uniformly dispersed as aggregates, and the electrode material particles partially or wholly surround the electrolyte material particles. 14. The electrode-electrolyte composite particles of claim 11, wherein the electrolyte material particles are connected to each other as the aggregates of a chain form, and the electrode material particles partially or wholly surround the electrolyte material particles. 15. The electrode-electrolyte composite particles of claim 11, wherein the electrolyte material and the electrode material have a size ratio of 1:0.01 to 1:100. 16. The electrode-electrolyte composite particles of claim 11, wherein the electrolyte material is present in an amount of 10 to 80 vol % based on the electrode-electrolyte composite particles. 17. A fuel cell comprising the electrode-electrolyte composite particles of claim 11.","AT532225T, EP2012381A1, EP2012381B1, JP2009016350A, JP5306726B2, KR100904203B1, KR20090002895A, US2009011307A1, US8647771B2","F",2]
["K04048","화학","KR","폴리염화카보실란의 제조방법{Preparation method of polychlorocarbosilanes}",null,"원문이미지","KR20070123884A","2007.11.30","KR0923775B1","2009.10.20","본 발명은 4차 유기염 촉매하에서, 비스(클로로실릴)메탄 화합물을 가열 반응시켜 환형 폴리염화카보실란과 동시에 선형 폴리염화카보실란을 제조하는 방법으로, 보다 온화한 반응조건에서 높은 수율로 폴리염화카보실란의 제조가 가능하며, 특히 단순증류만으로 환형 폴리염화카보실란 중 1,1,3,3,5,5-헥사클로로-1,3,5-트리실라시클로헥산의 분리 회수가 가능한 폴리염화카보실란의 제조방법에 관한 것이다.","1 하기 화학식 4로 표시되는 4차 유기염 촉매하에서, 다음 화학식 3으로 표시되는 비스(클로로실릴)메탄 화합물을 가열 반응시켜 하기 화학식 1로 표시되는 환형 폴리염화카보실란과 동시에 하기 화학식 2로 표시되는 선형 폴리염화카보실란을 제조하는 것을 특징으로 하는 폴리염화카보실란의 제조방법 : [화학식 1] 상기 화학식 1에서, m은 3 또는 4이다. [화학식 2] 상기 화학식 2에서, X1 및 X2는 서로 같거나 다른 것으로, 수소 또는 클로로이며, n은 1 또는 2이다. [화학식 3] CH2(SiY1Cl2)(SiY2Cl2) 상기 화학식 3에서, Y1 및 Y2는 서로 같거나 다른 것으로, 수소 또는 클로로이다. [화학식 4] R4B+Z- 상기 화학식 4에서, R은 서로 같거나 다른 것으로, 탄소 2 ∼ 6의 선형 또는 가지형의 알킬기 또는 페닐기이고, B는 질소(N) 또는 인(P)이며, Z는 플루오로, 클로로, 브로모 또는 아이오도 기이다.","유복렬, 한준수, 임원철, 정동의","C08G-077/60,C08G-077/00","KR20090056646A","2009.06.03",null,"2027.11.30","1 하기 화학식 4로 표시되는 4차 유기염 촉매하에서, 다음 화학식 3으로 표시되는 비스(클로로실릴)메탄 화합물을 가열 반응시켜 하기 화학식 1로 표시되는 환형 폴리염화카보실란과 동시에 하기 화학식 2로 표시되는 선형 폴리염화카보실란을 제조하는 것을 특징으로 하는 폴리염화카보실란의 제조방법 : [화학식 1] 상기 화학식 1에서, m은 3 또는 4이다. [화학식 2] 상기 화학식 2에서, X1 및 X2는 서로 같거나 다른 것으로, 수소 또는 클로로이며, n은 1 또는 2이다. [화학식 3] CH2(SiY1Cl2)(SiY2Cl2) 상기 화학식 3에서, Y1 및 Y2는 서로 같거나 다른 것으로, 수소 또는 클로로이다. [화학식 4] R4B+Z- 상기 화학식 4에서, R은 서로 같거나 다른 것으로, 탄소 2 ∼ 6의 선형 또는 가지형의 알킬기 또는 페닐기이고, B는 질소(N) 또는 인(P)이며, Z는 플루오로, 클로로, 브로모 또는 아이오도 기이다. 2 제 1 항에 있어서, 상기 가열반응이 50 ∼ 200 ℃ 범위에서 수행되는 것을 특징으로 하는 제조방법. 3 제 1 항에 있어서, 상기 4차 유기염 촉매는 비스(클로로실릴)메탄 화합물에 대하여 1 ∼ 50 몰% 범위로 사용하는 것을 특징으로 하는 제조방법. 4 제 1 항에 있어서, 상기 제조된 폴리염화카보실란은 환형 폴리염화카보실란 70 ∼ 95 중량%와 선형 폴리염화카보실란 5 ∼ 30 중량% 범위를 유지하는 것을 특징으로 하는 제조방법.","KR100923775B1, KR20090056646A",null,1]
["K04047","화학","KR","금속산화물 입자의 표면개질제 및 이를 이용한 금속산화물입자의 표면 개질방법{Surface modifiers and process for surface modifications of particles of metal oxide using the same}",null,"원문이미지","KR20070116574A","2007.11.15","KR0947891B1","2010.03.09","본 발명은 금속산화물 입자의 표면개질제 및 이를 이용한 금속산화물 입자의 표면 개질방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 입체장애를 부여할 수 있는 고리형 알킬기를 함유하는 알킬실란폴리올 단독 또는 알킬알콕시실란과의 혼합물로 이루어진 표면개질제와, 금속산화물 입자의 친수성 표면에 상기한 표면개질제를 화학적 결합을 통해 코팅하여 소수성 또는 양쪽성(소수 및 친수) 그리고 반응성으로 개질하는 금속산화물 입자의 표면 개질방법에 관한 것이다.본 발명에 의하면 특정 화학구조의 알킬실란폴리올을 선택 사용함으로써 금속산화물과 개질제간의 화학적 결합을 유도하기 위한 고온 축합반응 중에서의 표면개질제 자체의 축합으로 인한 응집을 억제함은 물론이고 규소-수산기(Si-OH) 결합을 안정화시켜, 고른 입자 분포를 갖는 표면개질된 금속산화물 입자를 제공할 수 있다.","1 하기 화학식 1로 표시되는 알킬실란폴리올인 것임을 특징으로 하는 금속산화물 입자의 표면개질제 : [화학식 1] RR1Si(OH)2 상기 화학식 1에서, R은 시클로펜틸, 시클로헥사닐, 시클로펜텐-1-일, 시클로펜텐-2-일, 시클로펜텐-3-일, 시클로헥센-1-일, 시클로헥센-2-일, 시클로헥센-3-일, 3-메틸-시클로헥센-3-일, 4-메틸-시클로헥센-3-일, 3,4-디메틸-시클로헥센-3-일 중에서 선택되고, 상기 고리형 알킬기는 수소원자, 및 C1-6 알킬 중에서 선택된 치환기로 치환될 수 있고; R1는 OH 또는 SiR(OH)2 기이다.","유복렬, 한준수, 임원철, 정용수","C07F-007/18,C07F-007/08","KR20090050237A","2009.05.20",null,"2027.11.15","1 하기 화학식 1로 표시되는 알킬실란폴리올인 것임을 특징으로 하는 금속산화물 입자의 표면개질제 : [화학식 1] RR1Si(OH)2 상기 화학식 1에서, R은 시클로펜틸, 시클로헥사닐, 시클로펜텐-1-일, 시클로펜텐-2-일, 시클로펜텐-3-일, 시클로헥센-1-일, 시클로헥센-2-일, 시클로헥센-3-일, 3-메틸-시클로헥센-3-일, 4-메틸-시클로헥센-3-일, 3,4-디메틸-시클로헥센-3-일 중에서 선택되고, 상기 고리형 알킬기는 수소원자, 및 C1-6 알킬 중에서 선택된 치환기로 치환될 수 있고; R1는 OH 또는 SiR(OH)2 기이다. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 알킬실란폴리올은 시클로펜틸실란트리올, 시클로헥사닐실란트리올, 시클로펜텐-1-일실란트리올, 시클로펜텐-2-일실란트리올, 시클로펜텐-3-일실란트리올, 시클로헥센-1-일실란트리올, 시클로헥센-2-일실란트리올, 시클로헥센-3-일실란트리올, 3-메틸-시클로헥센-3-일실란트리올, 4-메틸-시클로헥센-3-일실란트리올, 3,4-디메틸-시클로헥센-3-일실란트리올, 1,2-디시클로헥실-1,1,2,2-테트라히드록시디실란, 1,2-비스(시클로헥센-3-일)-1,1,2,2-테트라히드록시디실란, 1,2-비스(3-메틸-시클로헥센-3-일)-1,1,2,2-테트라히드록시디실란, 1,2-비스(4-메틸-시클로헥센-3-일)-1,1,2,2-테트라히드록시디실란, 1,2-비스(3,4-디메틸-시클로헥센-3-일)-1,1,2,2-테트라히드록시디실란 중에서 선택된 것임을 특징으로 하는 표면개질제. 4 청구항 1에 있어서, 하기 화학식 2로 표시되는 알킬알콕시실란을 추가로 포함하는 것임을 특징으로 하는 표면개질제 : [화학식 2] R3Si(OR2)3 상기 화학식 2에서, R2는 C1-6의 알킬기이고; R3은 3-(글리시독시)프로필, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸, 3,3,3-트리플르오르프로필, 3-[3-(트리에톡시실릴)프로필테트라티오]프로필, 3-[3-(트리메톡시실릴)프로필테트라티오]프로필, 3-[3-(트리에톡시실릴)프로필디티오]프로필, 3-[3-(트리메톡시실릴)프로필디티오]프로필, 3-아미노프로필, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필, 3-아크릴록시프로필, 3-메타아크릴록시프로필, 2-시아노에틸, 3-시아노프로필, 3-이소시아네이토프로필, 3-메르캅토프로필, 3-(메타아크릴옥시)프로필, CF3(CF2)nCH2CH2 (이때, n은 0 내지 10의 정수), 2-(3-헥센닐)에틸, 또는 말단 알켄닐기이다. 5 청구항 4에 있어서, 상기 화학식 2로 표시되는 알킬알콕시실란은 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리에톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3,3,3-트리플르오르프로필트리에톡시실란, 3,3,3-트리플르오르프로필트리메톡시실란, 비스(3-트리에톡시실릴프로필)테트라설피드, 비스(3-트리메톡시실릴프로필)테트라설피드, 비스(3-트리에톡시실릴프로필)디설피드, 비스(3-트리메톡시실릴프로필)디설피드, 비스(3-트리에톡시실릴프로필)디설피드, 비스(3-트리메톡시실릴프로필)디설피드, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-아크릴록시프로필트리메톡시실란, 3-아크릴록시프로필트리에톡시실란, 3-(메타아크릴옥시)프로필트리에톡시실란, 3-(메타아크릴옥시)프로필트리메톡시실란, 2-시아노에틸트리에톡시실란, 2-시아노에틸트리메톡시실란, 3-시아노프로필트리에톡시실란, 3-시아노프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이토프로필트리에톡시실란, 3-이소시아네이토프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리에톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란, CF3(CF2)nCH2CH2-Si(OCH2CH3)3, CF3(CF2)nCH2CH2-Si(OCH3)3, 2-(3-헥센닐)에틸트리에톡시실란, 2-(3-헥센닐)에틸트리메톡시실란, 또는 말단 알켄닐기에톡시실란 중에서 선택된 것임을 특징으로 하는 표면개질제. 6 청구항 1, 및 청구항 3 내지 5항 중에서 선택된 어느 한 항에 있어서, 아세트산 수용액이 추가로 첨가되는 것을 특징으로 하는 표면개질제. 7 금속산화물 분말과 하기 화학식 1로 표시되는 알킬실란폴리올을 물 및 탄소수 1 내지 6의 알코올 중에서 선택된 용매에 분산시키는 과정, 상기 분산액으로부터 용매를 증발시켜 알킬실란폴리올이 코팅된 금속산화물 입자를 얻는 과정, 및 상기 코팅된 금속산화물 입자를 100 ℃ 내지 130 ℃에서 열처리하여 입자 표면에 알킬실란폴리올이 화학적으로 결합된 금속산화물 입자를 얻는 과정 을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 금속산화물 입자의 표면 개질방법 : [화학식 1] RR1Si(OH)2 상기 화학식 1에서, 시클로펜틸, 시클로헥사닐, 시클로펜텐-1-일, 시클로펜텐-2-일, 시클로펜텐-3-일, 시클로헥센-1-일, 시클로헥센-2-일, 시클로헥센-3-일, 3-메틸-시클로헥센-3-일, 4-메틸-시클로헥센-3-일, 3,4-디메틸-시클로헥센-3-일 중에서 선택되고, 상기 고리형 알킬기는 수소원자, 및 C1-6 알킬 중에서 선택된 치환기로 치환될 수 있고; R1는 OH 또는 SiR(OH)2 기이다. 8 청구항 7에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 알킬실란폴리올은 시클로펜틸실란트리올, 시클로헥사닐실란트리올, 시클로펜텐-1-일실란트리올, 시클로펜텐-2-일실란트리올, 시클로펜텐-3-일실란트리올, 시클로헥센-1-일실란트리올, 시클로헥센-2-일실란트리올, 시클로헥센-3-일실란트리올, 3-메틸-시클로헥센-3-일실란트리올, 4-메틸-시클로헥센-3-일실란트리올, 3,4-디메틸-시클로헥센-3-일실란트리올, 1,2-디시클로헥실-1,1,2,2-테트라히드록시디실란, 1,2-비스(시클로헥센-3-일)-1,1,2,2-테트라히드록시디실란, 1,2-비스(3-메틸-시클로헥센-3-일)-1,1,2,2-테트라히드록시디실란, 1,2-비스(4-메틸-시클로헥센-3-일)-1,1,2,2-테트라히드록시디실란, 1,2-비스(3,4-디메틸-시클로헥센-3-일)-1,1,2,2-테트라히드록시디실란 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법. 9 청구항 7에 있어서, 상기 용매에 하기 화학식 2로 표시되는 알킬알콕시실란을 추가로 분산시키는 것을 특징으로 하는 방법 : [화학식 2] R3Si(OR2)3 상기 화학식 2에서, R2는 C1-6의 알킬기이고; R3은 3-(글리시독시)프로필, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸, 알릴, 3,3,3-트리플르오르프로필, 3-[3-(트리에톡시실릴)프로필테트라티오]프로필, 3-[3-(트리메톡시실릴)프로필테트라티오]프로필, 3-[3-(트리에톡시실릴)프로필디티오]프로필, 3-[3-(트리메톡시실릴)프로필디티오]프로필, 3-아미노프로필, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필, 3-아크릴록시프로필, 3-메타아크릴록시프로필, 2-시아노에틸, 3-시아노프로필, 3-이소시아네이토프로필, 3-메르캅토프로필, 3-(메타아크릴옥시)프로필, CF3(CF2)nCH2CH2, 2-(3-헥센닐)에틸, 또는 말단 알켄닐기이다. 10 청구항 7에 있어서, 상기 금속산화물 분말은 실리카, 마이카, 탈크, 산화티타늄, 산화지르코늄, 주석산화물, 철산화물, 및 아연산화물 중에서 선택된 금속산화물이며, 입경이 5 nm 내지 100 ㎛ 범위인 것을 특징으로 하는 방법. 11 청구항 7, 또는 8항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 알킬실란폴리올은 상기 금속산화물 분말에 대하여 0.1 내지 30 중량% 범위로 사용하는 것을 특징으로 하는 방법. 12 청구항 9에 있어서, 상기 화학식 2로 표시되는 알킬알콕시실란은 상기 금속산화물 분말에 대하여 0.1 내지 10 중량% 범위로 사용하는 것을 특징으로 하는 방법. 13 청구항 7 내지 10항 중에서 선택된 어느 한 항에 있어서, 아세트산 수용액이 추가로 첨가되는 것을 특징으로 하는 방법. 14 청구항 13에 있어서, 상기 아세트산 수용액은 1 중량% 농도의 것을 기준으로 할 때, 금속산화물 분말 중량에 대비하여 1 내지 5 중량% 범위로 첨가되는 것을 특징으로 하는 방법.","EP2062948A2, EP2062948A3, EP2062948B1, EP2062948B8, JP2009120804A, JP4982427B2, KR100947891B1, KR20090050237A, US2009130306A1","G",5]
["F04053","재료","FR","Surface modifier for metal oxide particles and method for modifying surface of metal oxide particles using the same",null,"원문이미지","EP2008075230","2008.03.31","EP02062948B8","2013.10.02","Disclosed herein are a surface modifier for metal oxide particles and a method of modifying the surface of metal oxide particles using the same. The surface modifier consists either of an alkylsilanepolyol containing a cyclic alkyl group capable of imparting steric hindrance or of a mixture of said alkylsilanepolyol with alkylalkoxysilane, and the method of modifying the surface of metal oxide particles comprises coating the surface modifier on the hydrophilic surface of the metal oxide particles through chemical bonding so as to impart hydrophobicity or amphiphilicity (hydrophilicity and hydrophobicity) and reactivity to the surface of the metal oxide particles. Through the use of alkylsilane triol having a specific chemical structure, surface-modified metal particles having uniform particle size distribution can be provided not only by inhibiting the condensation and agglomeration of the surface modifier itself during a high-temperature condensation reaction for inducing the chemical bonding between metal oxide and the modifier, but also by stabilizing silicon-hydroxyl (Si-OH) bonds.,",null,"Yoo, Bok Ryul, Han, Joon Soo, Lim, Weon Cheol, Jung, Yong Su","C09C-001/30,C09C-001/36,C09C-003/12","EP02062948A2","2009.05.27","2007.11.15 (KR 20070116574)",null,null,"EP2062948A2, EP2062948A3, EP2062948B1, EP2062948B8, JP2009120804A, JP4982427B2, KR100947891B1, KR20090050237A, US2009130306A1","G",5]
["F04052","재료","DE","Surface modifier for metal oxide particles and method for modifying surface of metal oxide particles using the same",null,"원문이미지","EP2008075230","2008.03.31","EP02062948B8","2013.10.02","Disclosed herein are a surface modifier for metal oxide particles and a method of modifying the surface of metal oxide particles using the same. The surface modifier consists either of an alkylsilanepolyol containing a cyclic alkyl group capable of imparting steric hindrance or of a mixture of said alkylsilanepolyol with alkylalkoxysilane, and the method of modifying the surface of metal oxide particles comprises coating the surface modifier on the hydrophilic surface of the metal oxide particles through chemical bonding so as to impart hydrophobicity or amphiphilicity (hydrophilicity and hydrophobicity) and reactivity to the surface of the metal oxide particles. Through the use of alkylsilane triol having a specific chemical structure, surface-modified metal particles having uniform particle size distribution can be provided not only by inhibiting the condensation and agglomeration of the surface modifier itself during a high-temperature condensation reaction for inducing the chemical bonding between metal oxide and the modifier, but also by stabilizing silicon-hydroxyl (Si-OH) bonds.,",null,"Yoo, Bok Ryul, Han, Joon Soo, Lim, Weon Cheol, Jung, Yong Su","C09C-001/30,C09C-001/36,C09C-003/12","EP02062948A2","2009.05.27","2007.11.15 (KR 20070116574)",null,null,"EP2062948A2, EP2062948A3, EP2062948B1, EP2062948B8, JP2009120804A, JP4982427B2, KR100947891B1, KR20090050237A, US2009130306A1","G",5]
["F04051","재료","GB","Surface modifier for metal oxide particles and method for modifying surface of metal oxide particles using the same",null,"원문이미지","EP2008075230","2008.03.31","EP02062948B8","2013.10.02","Disclosed herein are a surface modifier for metal oxide particles and a method of modifying the surface of metal oxide particles using the same. The surface modifier consists either of an alkylsilanepolyol containing a cyclic alkyl group capable of imparting steric hindrance or of a mixture of said alkylsilanepolyol with alkylalkoxysilane, and the method of modifying the surface of metal oxide particles comprises coating the surface modifier on the hydrophilic surface of the metal oxide particles through chemical bonding so as to impart hydrophobicity or amphiphilicity (hydrophilicity and hydrophobicity) and reactivity to the surface of the metal oxide particles. Through the use of alkylsilane triol having a specific chemical structure, surface-modified metal particles having uniform particle size distribution can be provided not only by inhibiting the condensation and agglomeration of the surface modifier itself during a high-temperature condensation reaction for inducing the chemical bonding between metal oxide and the modifier, but also by stabilizing silicon-hydroxyl (Si-OH) bonds.,",null,"Yoo, Bok Ryul, Han, Joon Soo, Lim, Weon Cheol, Jung, Yong Su","C09C-001/30,C09C-001/36,C09C-003/12","EP02062948A2","2009.05.27","2007.11.15 (KR 20070116574)",null,null,"EP2062948A2, EP2062948A3, EP2062948B1, EP2062948B8, JP2009120804A, JP4982427B2, KR100947891B1, KR20090050237A, US2009130306A1","G",5]
["F02613","재료","JP","금속 산화물 입자의 표면 개질제 및 그것을 사용한 금속 산화물 입자의 표면 개질 방법",null,"원문이미지","JP2008129248A","2008.05.16","JP4982427B9","2012.04.27","(57)【요약】 【과제】금속 산화물 입자의 표면 개질제 및 그것을 사용한 금속 산화물 입자의 표면 개질 방법을 제공한다.【해결 수단】입체 장애를 부여할 수 있는 바퀴식 알킬기를 포함하는 알킬시란포리올 단독 또는 알킬알코키시시란이라는 혼합물으로 되는 표면 개질제다고, 금속 산화물 입자의 친수성 표면에 상기의 표면 개질제를 화학적 결합을 통하여 코팅 하고 소수성 또는 양성(소수성 및 친수성)그리고 반응성에 개질하는 금속 산화물 입자의 표면 개질 방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면 특정화학 구조의 알킬시란포리올을 선택 사용하는 것으로, 금속 산화물과 개질제간의 화학적 결합을 유도하기 위한 고온 축합 반응중으로의 표면 개질제 자체의 축합에 의한 응집을 억제하는 것은 물론, 규소-수산기(Si-OH)결합을 안정화되게 하고, 균일한 입자 분포를 가지는 표면 개질하게 되는 금속 산화물 입자를 제공할 수 있다.【선택도】그림 2","【청구항 1】 하기 화학식 1으로 표현되는 알킬시란포리올 있는 것을 특징으로 하는 금속 산화물 입자의 표면 개질제. 화학식 1:RR1Si(OH)2 화학식 1중, R은 C3-8의 바퀴식 포화 또는 불포화 알킬기로, 상기환 식 알킬기는 수소 원자, 및 C1-6 알킬의 중으로부터 선택하게 되는 치환기로 치환할 수 있고, R1은 OH 또는 SiR(OH)2기 있다.","ボク  リュル·ヨ­, ジョ­ン  ス­·ハン, ウェオン  チョル·リム, ヨン  ス·ジュン","C09C-003/12,C01B-013/14,C09C-001/28,C09C-001/30,C09C-001/36,C09C-001/40,C09C-001/24,C09C-001/04","JP2009120804A","2009.06.04","2007-11-15 (KR 10-2007-0116574)","2028.05.16","【특허청구의 범위】 【청구항 1】 하기 화학식 1으로 표현되는 알킬시란포리올 있는 것을 특징으로 하는 금속 산화물 입자의 표면 개질제. 화학식 1:RR1Si(OH)2 화학식 1중, R은 C3-8의 바퀴식 포화 또는 불포화 알킬기로, 상기환 식 알킬기는 수소 원자, 및 C1-6 알킬의 중으로부터 선택하게 되는 치환기로 치환할 수 있고, R1은 OH 또는 SiR(OH)2기 있다. 【청구항 2】 상기 화학식 1중의 R이, 시클로 펜틸, 시쿠로헤키사닐, 시클로 펜텐-1-일, 시클로 펜텐-2-일, 시클로 펜텐-3-일, 시클로헥센-1-일, 시클로헥센-2-일, 시클로헥센-3-일, 3-메칠?시쿠로헤키센-3-일, 4-메칠?시쿠로헤키센-3-일, 3,4-지메칠?시쿠로헤키센-3-일의 중으로부터 선택하게 된 것이는 것을 특징으로 한다, 청구항 1에 기재의 표면 개질제. 【청구항 3】 상기 화학식 1으로 표현되는 알킬시란포리올이, 시쿠로펜칠시란토리올, 시쿠로헤키사닐시란토리올, 시클로 펜텐-1-일시란토리올, 시클로 펜텐-2-일시란토리올, 시클로 펜텐-3-일시란토리올, 시클로헥센-1-일시란토리올, 시클로헥센-2-일시란토리올, 시클로헥센-3-일시란토리올, 3-메칠?시쿠로헤키센-3-일시란토리올, 4-메칠?시쿠로헤키센-3-일시란토리올, 3,4-지메칠?시쿠로헤키센-3-일시란토리올, 1,2-디시클로 헥실-1,1,2,2-테토라히도로키시지시란, 1,2-비스(시클로헥센-3-일)-1,1,2,2-테토라히도로키시지시란, 1,2-비스(3-메칠?시쿠로헤키센-3-일)-1,1,2,2-테토라히도로키시지시란, 1,2-비스(4-메칠?시쿠로헤키센-3-일)-1,1,2,2-테토라히도로키시지시란, 1,2-비스(3,4-지메칠?시쿠로헤키센-3-일)-1,1,2,2-테토라히도로키시지시란의 중으로부터 선택하게 된 것이는 것을 특징으로 한다, 청구항 1에 기재의 표면 개질제. 【청구항 4】 하기 화학식 2으로 표현되는 알킬알코키시시란을 더욱 포함하는 것을 특징으로 한다, 청구항 1에 기재의 표면 개질제. 화학식 2:R3Si(OR2)3 화학식 2중, R2은 C1-6의 알킬기 이고, R3은 3-(글리시독시)프로필, 2-(3,4-에폭시 시클로 헥실)에틸, 3,3,3-트리 플루오르 프로필, 3-[3-(토리에토키시시릴)푸로필테토라치오 ] 프로필, 3-[3-(트리 메톡시 실릴)푸로필테토라치오 ] 프로필, 3-[3-(토리에토키시시릴)프로필 디티오 ] 프로필, 3-[3-(트리 메톡시 실릴)프로필 디티오 ] 프로필, 3-망의 프로필, N-(2-망의 에틸)-3-망의 프로필, 3-아크릴록시 프로필, 3-메타 아크릴록시 프로필, 2-시아노 에틸, 3-시아노 프로필, 3-이소시아네이트 프로필, 3-메르캅토 프로필, 3-(메타 아크릴록시)프로필, CF3(CF2)nCH2CH2(여기에서, n은 0인 의사 10의 정수), 2-(3-헤키세닐)에틸, 또는 말단 알케닐기 이다. 【청구항 5】 상기 화학식 2으로 표현되는 알킬알코키시시란이, 3-구리시도키시푸로필토리에토키시시란, 3-구리시도키시푸로필토리메토키시시란, 2-(3,4-에폭시 시클로 헥실)에칠토리에토키시시란, 2-(3,4-에폭시 시클로 헥실)에칠토리메토키시시란, 3,3,3-토리훌오로푸로필토리에토키시시란, 3,3,3-토리훌오로푸로필토리메토키시시란, 비스(3-토리에토키시시릴푸로필)테트라 술피드, 비스(3-트리 메톡시 실릴 프로필)테트라 술피드, 비스(3-토리에토키시시릴푸로필)디설파이드, 비스(3-트리 메톡시 실릴 프로필)디설파이드, 비스(3-토리에토키시시릴푸로필)디설파이드, 비스(3-트리 메톡시 실릴 프로필)디설파이드, 3-아미노푸로필토리에토키시시란, 3-아미노푸로필토리메토키시시란, N-(2-망의 에틸)-3-아미노푸로필토리메토키시시란, N-(2-망의 에틸)-3-아미노푸로필토리에토키시시란, 3-아쿠리로키시푸로필토리메토키시시란, 3-아쿠리로키시푸로필토리에토키시시란, 3-(메타 아크릴록시)푸로필토리에토키시시란, 3-(메타 아크릴록시)푸로필토리메토키시시란, 2-시아노에칠토리에토키시시란, 2-시아노에칠토리메토키시시란, 3-시아노푸로필토리에토키시시란, 3-시아노푸로필토리메토키시시란, 3-이소시아네토푸로필토리에토키시시란, 3-이소시아네토푸로필토리메토키시시란, 3-멜카푸토푸로필토리에토키시시란, 3-멜카푸토푸로필토리메토키시시란, CF3(CF2)nCH2CH2-Si(OCH2CH3)3,CF3(CF2)nCH2CH2-Si(OCH3)3,2-(3-헤키세닐)에칠토리에토키시시란, 2-(3-헤키세닐)에칠토리메토키시시란, 끝 실마리 알케닐기 에토키시시란의 중으로부터 선택하게 된 것이는 것을 특징으로 하는 청구항 4에 기재의 표면 개질제. 【청구항 6】 초산 수용액이 또한 첨가하게 되는 것을 특징으로 한다, 청구항 1인 의사 청구항 5의 어느 한쪽 1항에 기재의 표면 개질제. 【청구항 7】 금속 산화물 분말과 하기 화학식 1으로 표현되는 알킬시란포리올을 물 및 탄소수 1인 의사 6의 알코올의 중으로부터 선택하게 되는 용매로 분산하게 하는 공정, 상기 분산액으로부터 용매를 증발하게 하고 알킬시란포리올이 코팅 되는 금속 산화물 입자를 얻는 공정, 및 상기 코팅 되는 금속 산화물 입자를 100℃군 풀고 130℃로 열처리하고 입자 표면에 알킬시란포리올이 화학적에 결합하게 되는 금속 산화물 입자를 얻는 공정과를 포함하고 되는 것을 특징으로 하는 금속 산화물 입자의 표면 개질 방법. 화학식 1:RR1Si(OH)2 화학식 1중, R은 C3-8의 바퀴식 포화 또는 불포화 알킬기로, 상기환 식 알킬기는 수소 원자, 및 C1-6 알킬의 중으로부터 선택하게 되는 치환기로 치환하게 될 수 있고, R1은 OH 또는 SiR(OH)2기 있다. 【청구항 8】 상기 화학식 1으로 표현되는 알킬시란포리올이, 시쿠로펜칠시란토리올, 시쿠로헤키사닐시란토리올, 시클로 펜텐-1-일시란토리올, 시클로 펜텐-2-일시란토리올, 시클로 펜텐-3-일시란토리올, 시클로헥센-1-일시란토리올, 시클로헥센-2-일시란토리올, 시클로헥센-3-일시란토리올, 3-메칠?시쿠로헤키센-3-일시란토리올, 4-메칠?시쿠로헤키센-3-일시란토리올, 3,4-지메칠?시쿠로헤키센-3-일시란토리올, 1,2-디시클로 헥실-1,1,2,2-테토라히도로키시지시란, 1,2-비스(시클로헥센-3-일)-1,1,2,2-테토라히도로키시지시란, 1,2-비스(3-메칠?시쿠로헤키센-3-일)-1,1,2,2-테토라히도로키시지시란, 1,2-비스(4-메칠?시쿠로헤키센-3-일)-1,1,2,2-테토라히도로키시지시란, 1,2-비스(3,4-지메칠?시쿠로헤키센-3-일)-1,1,2,2-테토라히도로키시지시란의 중으로부터 선택하게 되는 것을 특징으로 한다, 청구항 7에 기재의 방법. 【청구항 9】 상기 용매에 하기 화학식 2으로 표현되는 알킬알코키시시란을 더욱 분산되게 하는 것을 특징으로 한다, 청구항 7에 기재의 방법. 화학식 2:R3Si(OR2)3 화학식 2중, R2은 C1-6의 알킬기로, R3은 3-(글리시독시)프로필, 2-(3,4-에폭시 시클로 헥실)에틸, 3,3,3-트리 플루오르 프로필, 3-[3-(토리에토키시시릴)푸로필테토라치오 ] 프로필, 3-[3-(트리 메톡시 실릴)푸로필테토라치오 ] 프로필, 3-[3-(토리에토키시시릴)프로필 디티오 ] 프로필, 3-[3-(트리 메톡시 실릴)프로필 디티오 ] 프로필, 3-망의 프로필, N-(2-망의 에틸)-3-망의 프로필, 3-아크릴록시 프로필, 3-메타 아크릴록시 프로필, 2-시아노 에틸, 3-시아노 프로필, 3-이소시아네이트 프로필, 3-메르캅토 프로필, 3-(메타 아크릴록시)프로필, CF3(CF2)nCH2CH2(여기에서, n은 0인 의사 10의 정수), 2-(3-헤키세닐)에틸, 또는 말단 알케닐기 이다. 【청구항 10】 상기 금속 산화물 분말이, 실리카, mica, 활석, 산화 티탄, 산화 지르코늄, 주석산 도깨비, 철 산화물, 및 아연 산화물의 중으로부터 선택하게 되는 금속 산화물 이고, 입경이 5nm 내지 100미크론 m의 범위 인 것을 특징으로 한다, 청구항 7에 기재의 방법. 【청구항 11】 상기 화학식 1으로 표현되는 알킬시란포리올이, 상기 금속 산화물 분말에 대하여 0.1인 의사 30 중량%의 범위에서 사용하게 되는 것을 특징으로 한다, 청구항 7,9 또는 청구항 10에 기재의 방법. 【청구항 12】 상기 화학식 2으로 표현되는 알킬알코키시시란이, 상기 금속 산화물 분말에 대하여 0.1인 의사 10 중량%의 범위에서 사용하게 되는 것을 특징으로 한다, 청구항 7,9 또는 청구항 10에 기재의 방법. 【청구항 13】 초산 수용액을 더욱 첨가하는 것을 특징으로 한다, 청구항 7인 의사 청구항 10의 어느 한쪽 1항에 기재의 방법. 【청구항 14】 상기 초산 수용액은, 1 중량%의 농도의 것을 기준으로 하는 때, 금속 산화물 분말 중량에 대하여 1인 의사 5 중량%의 범위에서 첨가하게 되는 것을 특징으로 한다, 청구항 13에 기재의 방법.","EP2062948A2, EP2062948A3, EP2062948B1, EP2062948B8, JP2009120804A, JP4982427B2, KR100947891B1, KR20090050237A, US2009130306A1","G",5]
["K04038","연료전지","KR","두께 구배를 가지는 촉매층을 포함하는 막 전극 집합체, 그제조 방법, 상기 막 전극 집합체를 포함하는 연료전지 및그 운전 방법{MEA comprising catalyst layer having thickness gradient, preparation method thereof, fuel cell comprising the MEA and operation method thereof}",null,"원문이미지","KR20070000656A","2007.01.03","KR0864957B1","2008.10.16","본 발명은 MEA의 캐소드 촉매층이 두께 구배를 갖도록 코팅된 무 가습 또는 저 가습 조건 하에서 운전되는 연료전지용 MEA, 그 제조 방법, 상기 MEA를 포함하는 연료전지 및 그 운전 방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면 가습기 자체를 제거함으로써 반응물질의 가습 수준을 낮추어 가습기 장착에 따른 제반 문제점을 해결하는 것과 더불어, 촉매 로딩양의 구배를 형성함으로써 무 가습 또는 저 가습 조건 하서도 생산된 물을 효과적으로 이용하여 셀 성능 향상을 달성할 수 있다.","1 무 가습 조건 또는 습도가 0 % 초과 20% 이하인 저 가습 조건 하에서 운전되는 연료전지용 MEA로서, 상기 MEA의 캐소드 촉매층은 두께 구배를 가지도록 코팅된 것을 특징으로 하는 연료전지용 MEA.","이상엽, 임태훈, 조은애, 김형준, 오인환, 윤성필, 한종희","H01M-004/86,H01M-008/02,H01M-008/04","KR20080063979A","2008.07.08",null,"2027.01.03","1 무 가습 조건 또는 습도가 0 % 초과 20% 이하인 저 가습 조건 하에서 운전되는 연료전지용 MEA로서, 상기 MEA의 캐소드 촉매층은 두께 구배를 가지도록 코팅된 것을 특징으로 하는 연료전지용 MEA. 2 제 1 항에 있어서, 상기 MEA는 공기 또는 산소 입구 측의 촉매층 두께가 공기 또는 산소 출구 측의 촉매층 두께보다 더 큰 것을 특징으로 하는 연료전지용 MEA. 3 무 가습 또는 습도가 0 % 초과 20% 이하인 저 가습 조건 하에서 운전되는 연료전지용 MEA의 제조 방법으로서, 상기 MEA의 캐소드 촉매층이 두께 구배를 가지도록 코팅하는 것을 특징으로 하는 연료전지용 MEA의 제조 방법. 4 제 3 항에 있어서, 상기 MEA는 공기 또는 산소 입구 측의 촉매층 두께가 공기 또는 산소 출구 측의 촉매층 두께보다 더 크도록 코팅하는 것을 특징으로 하는 연료전지용 MEA의 제조 방법. 5 무 가습 또는 습도가 0 % 초과 20% 이하인 저 가습 조건 하에서 운전되는 연료전지에 있어서, 제 1 항 또는 제 2 항에 따른 MEA를 포함하는 연료전지. 6 무 가습 또는 습도가 0 % 초과 20% 이하인 저 가습 조건 하에서 연료전지를 작동하는 방법으로서, 제 5 항에 따른 연료 전지를 작동하는 것을 특징으로 하는 연료전지의 작동 방법. 7 제 6 항에 있어서, 상기 연료전지의 작동 시 전류 밀도가 0.8A/cm2 미만에서는 작동 온도를 낮추고 0.8A/cm2 이상에서는 작동 온도를 높이도록 하는 것을 특징으로 하는 연료전지의 작동 방법.","KR100864957B1, KR20080063979A",null,1]
["K04014","영상처리","KR","환경 카메라 시스템을 이용한 사용자 착용 카메라에 대한물체 자세의 간접적 추정 방법{Indirect Object Pose Estimation Method With Respect To User-Wearable Camera Using Multi-view Camera System}",null,"원문이미지","KR20070015858A","2007.02.15","KR0825859B1","2008.04.22","세대 이상의 복수의 카메라를 포함하는 환경 카메라군, 3차원 캘리브레이션용 구조물, 사용자 착용 카메라, 사용자에 부착된 사용자 마크점 및 움직이는 물체에 부착된 마크점으로 구성되는 시스템에 있어서, 환경 카메라에서 사용자의 마크점과 물체의 마크점을 검출하여 사용자 착용 카메라에 물체가 어떻게 투영되는지를 알아보는 방법이 개시된다. 본 발명에서는, 사용자 착용 카메라에 물체의 마크점이 보이지 않아 사용자 착용 카메라 좌표계와 움직이는 물체에 부착된 마크점 좌표계 사이의 변환관계를 기존의 방법으로 구할 수 없는 경우, 환경 카메라를 이용하여 사용자 마크점과 움직이는 물체 마크점을 검출하여 사용자 착용 카메라와 물체 마크점 좌표계 사이의 변환관계를 구하는 방법이 제시된다.","1 복수의 카메라를 포함하는 환경 카메라군, 원점에 세계 좌표계가 설정되는 카메라 캘리브레이션용 3차원 구조물, 사용자가 착용하는 카메라, 상기 사용자에 부착된 마크점 및 상기 사용자로부터 이격되어 위치하는 물체에 부착된 마크점을 포함하는 시스템을 사용하여, 상기 환경 카메라군을 이용하여 상기 세계 좌표계에 대한 상기 사용자에 부착된 마크점 좌표계의 변환관계 및 상기 세계 좌표계에 대한 상기 사용자가 착용하는 카메라 좌표계의 변환 관계를 검출하는 단계(a); 상기 사용자에 부착된 마크점 좌표계에 대한 상기 사용자가 착용하는 카메라 좌표계의 변환식을 구하는 단계(b); 상기 환경 카메라군을 이용하여 상기 세계 좌표계에 대한 상기 물체에 부착된 마크점 좌표계의 변환관계를 검출하는 단계(c); 및 상기 사용자가 착용하는 카메라 좌표계에 대한 상기 물체에 부착된 마크점 좌표계의 변환식을 구하는 단계(d)를 포함하는 것을 특징으로 하는 사용자 착용 카메라에 대한 물체 자세의 간접적 추정 방법.","정문호, 유범재","H04N-013/00,H04N-013/02",null,null,null,"2027.02.15","1 복수의 카메라를 포함하는 환경 카메라군, 원점에 세계 좌표계가 설정되는 카메라 캘리브레이션용 3차원 구조물, 사용자가 착용하는 카메라, 상기 사용자에 부착된 마크점 및 상기 사용자로부터 이격되어 위치하는 물체에 부착된 마크점을 포함하는 시스템을 사용하여, 상기 환경 카메라군을 이용하여 상기 세계 좌표계에 대한 상기 사용자에 부착된 마크점 좌표계의 변환관계 및 상기 세계 좌표계에 대한 상기 사용자가 착용하는 카메라 좌표계의 변환 관계를 검출하는 단계(a); 상기 사용자에 부착된 마크점 좌표계에 대한 상기 사용자가 착용하는 카메라 좌표계의 변환식을 구하는 단계(b); 상기 환경 카메라군을 이용하여 상기 세계 좌표계에 대한 상기 물체에 부착된 마크점 좌표계의 변환관계를 검출하는 단계(c); 및 상기 사용자가 착용하는 카메라 좌표계에 대한 상기 물체에 부착된 마크점 좌표계의 변환식을 구하는 단계(d)를 포함하는 것을 특징으로 하는 사용자 착용 카메라에 대한 물체 자세의 간접적 추정 방법. 2 제1항에 있어서, 상기 단계(b)는, 상기 세계 좌표계에 대한 상기 사용자가 착용하는 카메라 좌표계의 변환관계를 , 상기 세계 좌표계에 대한 상기 사용자에 부착된 마크점 좌표계의 변환관계를 , 상기 사용자에 부착된 마크점 좌표계에 대한 상기 사용자가 착용하는 카메라 좌표계의 변환관계를 라 할 경우, 의 수학식에 의하여 상기 사용자에 부착된 마크점 좌표계에 대한 상기 사용자가 착용하는 카메라 좌표계의 변환식을 구하는 단계인 것을 특징으로 하는 사용자 착용 카메라에 대한 물체 자세의 간접적 추정 방법. 3 제1항에 있어서, 상기 단계(d)는, 상기 사용자가 착용하는 카메라 좌표계에 대한 상기 세계 좌표계의 변환관계를 , 상기 세계 좌표계에 대한 상기 사용자에 부착된 마크점 좌표계의 변환관계를 , 상기 사용자에 부착된 마크점 좌표계에 대한 상기 사용자가 착용하는 카메라 좌표계의 변환관계를 , 상기 세계 좌표계에 대한 상기 물체에 부착된 마크점 좌표계의 변환관계를 , 상기 사용자가 착용하는 카메라 좌표계에 대한 상기 물체에 부착된 마크점 좌표계의 변환관계를 라 할 경우, 의 수학식에 의하여 상기 사용자가 착용하는 카메라 좌표계에 대한 상기 물체에 부착된 마크점 좌표계의 변환식을 구하는 단계인 것을 특징으로 하는 사용자 착용 카메라에 대한 물체 자세의 간접적 추정 방법. 4 제1항에 있어서, 상기 단계(b)는, 상기 세계 좌표계에 대한 상기 사용자가 착용하는 카메라 좌표계의 변환관계를 , 상기 세계 좌표계에 대한 상기 사용자에 부착된 마크점 좌표계의 변환관계를 , 상기 사용자에 부착된 마크점 좌표계에 대한 상기 사용자가 착용하는 카메라 좌표계의 변환관계를 라 할 경우, 의 수학식에 의하여 상기 사용자에 부착된 마크점 좌표계에 대한 상기 사용자가 착용하는 카메라 좌표계의 변환식을 구하는 단계이며, 상기 단계(d)는, 상기 사용자가 착용하는 카메라 좌표계에 대한 상기 세계 좌표계의 변환관계를 , 상기 세계 좌표계에 대한 상기 물체에 부착된 마크점 좌표계의 변환관계를 , 상기 사용자가 착용하는 카메라 좌표계에 대한 상기 물체에 부착된 마크점 좌표계의 변환관계를 라 할 경우, 의 수학식에 의하여 상기 사용자가 착용하는 카메라 좌표계에 대한 상기 물체에 부착된 마크점 좌표계의 변환식을 구하는 단계인 것을 특징으로 하는 사용자 착용 카메라에 대한 물체 자세의 간접적 추정 방법. 5 제1항 또는 제4항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 환경 카메라군은 3대 이상의 환경 카메라를 포함하는 것을 특징으로 하는 사용자 착용 카메라에 대한 물체 자세의 간접적 추정 방법. 6 제1항 또는 제4항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 사용자가 착용하는 카메라는 HMD 투시형 카메라인 것을 특징으로 하는 사용자 착용 카메라에 대한 물체 자세의 간접적 추정 방법. 7 복수의 카메라를 포함하는 환경 카메라군, 원점에 세계 좌표계가 설정되는 카메라 캘리브레이션용 3차원 구조물, 사용자가 착용하는 카메라 및 상기 사용자에 부착된 마크점을 포함하는 시스템을 사용하여, 상기 환경 카메라군을 이용하여 상기 세계 좌표계에 대한 상기 사용자에 부착된 마크점 좌표계의 변환관계 및 상기 세계 좌표계에 대한 상기 사용자가 착용하는 카메라 좌표계의 변환 관계를 검출하는 단계; 및 상기 사용자에 부착된 마크점 좌표계에 대한 상기 사용자가 착용하는 카메라 좌표계의 변환식을 구하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 사용자에 부착된 마크점 좌표계와 사용자 착용 카메라 좌표계 사이의 변환관계를 구하는 방법. 8 제 7항에 있어서, 상기 사용자에 부착된 마크점 좌표계에 대한 상기 사용자가 착용하는 카메라 좌표계의 변환식을 구하는 단계는, 상기 세계 좌표계에 대한 상기 사용자가 착용하는 카메라 좌표계의 변환관계를 , 상기 세계 좌표계에 대한 상기 사용자에 부착된 마크점 좌표계의 변환관계를 , 상기 사용자에 부착된 마크점 좌표계에 대한 상기 사용자가 착용하는 카메라 좌표계의 변환관계를 라 할 경우, 의 수학식에 의하여 상기 사용자에 부착된 마크점 좌표계에 대한 상기 사용자가 착용하는 카메라 좌표계의 변환식을 구하는 단계인 것을 특징으로 하는 사용자에 부착된 마크점 좌표계와 사용자 착용 카메라 좌표계 사이의 변환관계를 구하는 방법.","KR100825859B1",null,1]
["K04309","화학","KR","초해상 재료 및 이를 이용한 고밀도 광 정보저장매체{SUPER-RESOLUTION MATERIAL AND HIGH DENSITY OPTICAL INFORMATION STORAGE MEDIUM USING SAME}",null,"원문이미지","KR20070122771A","2007.11.29","KR0928197B1","2009.11.17","본 발명은 고밀도 광 정보 재생 및 기록용 초해상 재료에 관한 것으로서, 입사광의 파장 영역에서 광의 흡수 및 가열에 따라 광 투과도가 증가하는 특성을 갖는 반도체 물질, 및 질소, 산소, 탄소 및 붕소 중에서 선택되는 1종 이상의 원소를 포함하는 본 발명에 따른 초해상 재료는 작은 결정립의 안정한 미세조직을 가지며 열전도도가 작아서 레이저 파워의 감소와 함께 높은 신호대 잡음비, 그리고 반복 재생 또는 기록에 대한 내구특성의 향상이 기대되어 하나 또는 그 이상의 정보저장층을 갖는 재생전용형 또는 한번쓰기형 또는 되쓰기형 광 정보저장매체에 효과적으로 적용할 수 있다.","6 정보를 기록 저장하는 정보저장층 및 상기 정보저장층에 도달하는 레이저 집속광의 유효크기를 회절한계 이하의 크기로 감소시키기 위한 초해상층을 포함하는 복수의 층을 구비한 광 정보저장매체에 있어서, 상기 초해상층은 하기 화학식 1 또는 2로 표현되는 초해상 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 광 정보저장매체: [화학식 1] [A]x[B]1-x [화학식 2] [A]x[M]y(SbaTe1-a)z 상기 식에서, [A]는 B, C, N 및 O 중에서 선택되는 1종 이상의 원소이고, 단 화학식 1에서 [A]는 N 이며; [B]는 Sb이며; [M]은 Ge, Ag, In 및 Ga 중에서 선택되는 1종 이상의 원소이고; x, y 및 z는 x+y+z=1, 0 &amp;lt; x &amp;lt; 0.2 및 0 &amp;lt; y &amp;lt; 0.15를 만족하는 몰분율이며; a는 0.6 ≤ a ≤ 0.85 를 만족하는 몰분율이다.","정병기, 이택성, 이현석, 정증현, 이수연, 김원목","G11B-007/253,G11B-007/252,G11B-007/241,G11B-007/24","KR20080051061A","2008.06.10","2006-12-04 (KR 1020060121215)","2027.11.29","1<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 6 정보를 기록 저장하는 정보저장층 및 상기 정보저장층에 도달하는 레이저 집속광의 유효크기를 회절한계 이하의 크기로 감소시키기 위한 초해상층을 포함하는 복수의 층을 구비한 광 정보저장매체에 있어서, 상기 초해상층은 하기 화학식 1 또는 2로 표현되는 초해상 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 광 정보저장매체: [화학식 1] [A]x[B]1-x [화학식 2] [A]x[M]y(SbaTe1-a)z 상기 식에서, [A]는 B, C, N 및 O 중에서 선택되는 1종 이상의 원소이고, 단 화학식 1에서 [A]는 N 이며; [B]는 Sb이며; [M]은 Ge, Ag, In 및 Ga 중에서 선택되는 1종 이상의 원소이고; x, y 및 z는 x+y+z=1, 0 &amp;lt; x &amp;lt; 0.2 및 0 &amp;lt; y &amp;lt; 0.15를 만족하는 몰분율이며; a는 0.6 ≤ a ≤ 0.85 를 만족하는 몰분율이다. 7 제 6 항에 있어서, 상기 초해상 재료의 층 두께가 1 nm 내지 λ/2πk nm (λ; 사용 레이저의 파장, k; 상온에서의 소멸계수)임을 특징으로 하는, 광 정보저장매체. 8 제 6 항에 있어서, 상기 초해상 재료가 결정질인 것을 특징으로 하는, 광 정보저장매체. 9 제 6 항에 있어서, 상기 광 정보저장매체가 재생전용형, 한번쓰기형 또는 되쓰기형인 것을 특징으로 하는, 광 정보저장매체.","KR100928197B1, KR20080051061A, US2008131688A1, US7906195B2",null,1]
["K03983","생화학","KR","하이드록시아파타이트를 함유한 조직공학용 다공성 생분해고분자 지지체 및 이의 제조방법{PREPARATION METHOD OF BIODEGRADABLE POROUS POLYMER SCAFFOLDS CONTAINING HYDROXYAPATITE FOR TISSUE ENGINEERING}",null,"원문이미지","KR20060113227A","2006.11.16","KR0794174B1","2008.01.07","본 발명은 표면에 하이드록시아파타이트(hydroxyapatite, HA)가 형성된 조직공학용 다공성 생분해 고분자 지지체의 제조방법에 관한 것으로, 1) 다공성 생분해 고분자 지지체의 표면에 기능성기를 함유한 친수성 단량체를 그라프트 중합하는 단계; 및 2) 상기에서 기능성기가 도입된 고분자 지지체를 유사체액인 SBF(simulated body fluid) 용액에 침지하여 지지체의 표면에 하이드록시아파타이트를 형성시키는 단계를 포함한다. 본 발명의 제조방법은 간단한 표면개질만으로 벌크물성의 저하없이 신속하고 효과적으로 다공성 생분해 고분자 지지체의 표면에 하이드록시아파타이트를 형성할 수 있으며, 이로부터 제조된 표면에 하이드록시아파타이트가 형성된 다공성 생분해 고분자 지지체는 세포친화성 및 골전도성이 우수하여 조직공학적으로 인공뼈나 연골을 재생하는데 유용할 뿐만 아니라 다른 근골격계 조직재생에도 효과적으로 적용될 수 있다.","1 1) 다공성 생분해 고분자 지지체의 표면에 기능성기를 함유한 친수성 단량체를 그라프트 중합하는 단계; 및 2) 상기에서 기능성기가 도입된 고분자 지지체를 유사체액인 SBF(simulated body fluid) 용액에 침지하여 지지체의 표면에 하이드록시아파타이트를 형성시키는 단계를 포함하고, 상기 기능성기를 함유한 친수성 단량체가 말단기에 카르복실산을 함유한 유기산, 말단기에 인산을 가진 단량체 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택되는, 표면에 하이드록시아파타이트가 형성된 다공성 생분해 고분자 지지체의 제조방법.","한동근, 박귀덕, 손준식, 정현정","C08J-009/00,C08J-007/00,A61L-031/00",null,null,null,"2026.11.16","1 1) 다공성 생분해 고분자 지지체의 표면에 기능성기를 함유한 친수성 단량체를 그라프트 중합하는 단계; 및 2) 상기에서 기능성기가 도입된 고분자 지지체를 유사체액인 SBF(simulated body fluid) 용액에 침지하여 지지체의 표면에 하이드록시아파타이트를 형성시키는 단계를 포함하고, 상기 기능성기를 함유한 친수성 단량체가 말단기에 카르복실산을 함유한 유기산, 말단기에 인산을 가진 단량체 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택되는, 표면에 하이드록시아파타이트가 형성된 다공성 생분해 고분자 지지체의 제조방법. 2 제1항에 있어서, 단계 1)에서 다공성 생분해 고분자 지지체가 생분해성 고분자, 비등성 혼합물, 용매 및 비용매를 포함하는 고분자 용액을 -196℃ 내지 상온에 방치하여 용매를 증발시키고 비등성 매질 하에서 비등한 후 건조시켜 제조되는 것을 특징으로 하는 제조방법. 3 제2항에 있어서, 상기 생분해성 고분자가 분자량이 5,000 내지 2,000,000 범위인 폴리글리콜산(PGA), 폴리락트산(PLA), 폴리락트산-글리콜산 공중합체(PLGA), 폴리-ε-카프로락톤(PCL), 폴리아미노산, 폴리안하이드라이드, 폴리오르쏘에스테르, 및 이들의 유도체 및 공중합체로 구성된 군으로부터 선택된 1종 이상이고, 고분자 용액의 5 내지 15 중량%로 사용되는 것을 특징으로 하는 제조방법. 4 제2항에 있어서, 상기 비등성 혼합물이 탄산수소나트륨, 탄산나트륨, 탄산수소암모늄, 탄산암모늄, 탄산수소칼륨, 탄산칼륨 및 탄산칼슘의 탄산염과 구연산, 주석산, 석신산, 말레산, 퓨마르산, 말론산, 말산, 글루콘산, 점액산 및 아미노산의 유기산으로 구성된 군으로부터 선택된 1종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 제조방법. 5 제2항에 있어서, 단일기공 형성시에는 5 내지 500 ㎛의 입자크기를 갖는 비등성 혼합물이 생분해성 고분자의 중량을 기준으로 5:1 내지 20:1로 사용되고, 이중기공 형성시에는 100 내지 500 ㎛의 입자크기와 5 내지 50 ㎛의 입자크기를 갖는 비등성 물질이 10:1 내지 1:1 범위의 중량비로 혼합된 비등성 혼합물이 생분해성 고분자의 중량을 기준으로 5:1 내지 20:1로 사용되는 것을 특징으로 하는 제조방법. 6 제2항에 있어서, 상기 용매가 메틸렌클로라이드, 클로로폼, 사염화탄소, 아세톤, 다이옥산 및 테트라하이드로퓨란으로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 제조방법. 7 제2항에 있어서, 상기 비용매가 물, 에탄올, 메탄올 및 아세톤으로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 제조방법. 8 제2항에 있어서, 상기 고분자 용액이 용매:비용매의 비율이 80:20 내지 95:5 부피비인 혼합용매에 비등성 혼합물:생분해성 고분자의 중량비가 5:1 내지 20:1이 되도록 첨가하여 제조되는 것을 특징으로 하는 제조방법. 9 제2항에 있어서, 상기 비등성 매질이 물과 알콜의 혼합 수용액으로, 알콜을 1 내지 95 중량% 함유하는 것을 특징으로 하는 제조방법. 10 제9항에 있어서, 상기 알콜이 에탄올, 메탄올 또는 아이소프로필알콜인 것을 특징으로 하는 제조방법. 11<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 12 제1항에 있어서, 상기 유기산 단량체가 아크릴산, 말레산, 이타콘산, 시스-아콘산, 크로톤산, 퓨마르산 및 트랜스-플루탄산으로 구성된 군으로부터 선택되고, 인산 단량체가 비닐포스폰산 또는 에틸렌 글리콜 메타크릴레이트 포스페이트인 것을 특징으로 하는 제조방법. 13 제1항에 있어서, 단계 2)에서 SBF 용액이 1 ℓ의 증류수에 NaCl 8.035 g, NaHCO 0.355 g, KCl 0.225 g, K2HPO4·3H2O 0.231g, MgCl2·6H2O 0.311 g, CaCl2 0.292 g, Na2SO4 0.072 g, [(HOCH2)3(CNH2)] 6.118 g 및 1.0 M HCl 39 ㎖을 함유하고, 1× 내지 5× 농도로 사용되는 것을 특징으로 하는 제조방법. 14 제1항에 있어서, 단계 2)에서 고분자 지지체를 37± 0.5℃의 온도 및 7.2 내지 7.4의 pH 범위인 SBF 용액에 1일 내지 30일간 침지하는 것을 특징으로 하는 제조방법. 15 제1항의 제조방법에 의해 제조된, 표면에 하이드록시아파타이트가 형성된 다공성 생분해 고분자 지지체.","KR100794174B1",null,1]
["K03982","생화학","KR","과산화수소를 이용한 조직공학용 다공성 생분해 고분자지지체의 제조 방법{PREPARATION METHOD OF BIODEGRADABLE POROUS POLYMER SCAFFOLDS FOR TISSUE ENGINEERING USING HYDROGEN PEROXIDE}",null,"원문이미지","KR20060113167A","2006.11.16","KR0760511B1","2007.09.14","본 발명은 과산화수소를 이용한 조직공학용 다공성 생분해 고분자 지지체의 제조 방법에 관한 것으로서, 생분해성 고분자를 용매 중에 용해시킨 고분자 용액에 과산화수소-함유 화합물을 첨가하고 균일하게 혼합한 후 얻어진 용액으로부터 용매를 증발시켜 고분자 시편을 얻은 다음 이를 과산화수소 분해촉매-함유 수용액에 넣고 발포시키는 본 발명의 방법에 따르면, 고분자 지지체의 기공 크기를 용이하게 조절할 수 있고 과산화수소에 의한 고분자 지지체의 살균 효과를 기대할 수 있을 뿐만 아니라, 기공 막힘 현상과 유해물질의 분비 및 잔존 현상이 없고 표면적과 다공도가 매우 높아 생체 조직 및 장기를 조직공학적으로 재생하는데 유리하게 이용될 수 있는 다공성 생분해 고분자 지지체를 기존 방법에 비해 간단하고 효율적이면서도 친환경적으로 제조할 수 있다.","1 a) 생분해성 고분자를 용매에 용해시켜 얻은 고분자 용액에 과산화수소-함유 화합물을 첨가하고 균일하게 혼합하는 단계, b) 단계 a)에서 얻어진 용액을 -196 ℃ 내지 상온 범위의 온도에서 방치하여 용매를 증발시키는 단계, 및 c) 단계 b)에서 얻어진 고분자 시편을 과산화수소 분해촉매-함유 수용액에 넣고 발포시킨 후 건조시키는 단계를 포함하는, 다공성 생분해 고분자 지지체의 제조 방법.","한동근, 안광덕, 박귀덕, 손준식","C08J-009/22,C08J-009/00,C08J-003/22,C08K-005/00",null,null,null,"2026.11.16","1 a) 생분해성 고분자를 용매에 용해시켜 얻은 고분자 용액에 과산화수소-함유 화합물을 첨가하고 균일하게 혼합하는 단계, b) 단계 a)에서 얻어진 용액을 -196 ℃ 내지 상온 범위의 온도에서 방치하여 용매를 증발시키는 단계, 및 c) 단계 b)에서 얻어진 고분자 시편을 과산화수소 분해촉매-함유 수용액에 넣고 발포시킨 후 건조시키는 단계를 포함하는, 다공성 생분해 고분자 지지체의 제조 방법. 2 제1항에 있어서, 생분해성 고분자가, 5,000 내지 2,000,000 g/mol 범위의 중량평균 분자량을 갖는 폴리글리콜산(PGA), 폴리락트산(PLA), 락트산-글리콜산 공중합체(PLGA), 폴리-ε-카프로락톤(PCL), 폴리아미노산, 폴리안하이드라이드, 폴리오르쏘에스테르, 및 이들의 유도체 및 공중합체 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 방법. 3 제1항에 있어서, 생분해성 고분자가 고분자 용액 총 중량의 5 내지 15 중량% 범위의 양으로 사용되는 것을 특징으로 하는 방법. 4 제1항에 있어서, 용매가 유기용매이거나, 또는 유기용매와 비용매의 혼합용매인 것을 특징으로 하는 방법. 5 제4항에 있어서, 유기용매가 메틸렌클로라이드, 클로로포름, 사염화탄소, 아세톤, 다이옥산 및 테트라히드로퓨란으로 이루어진 군 중에서 선택된 것임을 특징으로 하는 방법. 6 제4항에 있어서, 비용매가 물, 에탄올, 메탄올 및 아세톤으로 이루어진 군 중에서 선택된 것임을 특징으로 하는 방법. 7 제4항에 있어서, 유기용매와 비용매의 혼합용매가, 유기용매와 비용매를 80:20 내지 95:5의 부피비로 혼합한 것임을 특징으로 하는 방법. 8 제1항에 있어서, 과산화수소-함유 화합물이 우레아 하이드로겐 퍼옥사이드(urea hydrogen peroxide), 소듐 퍼카보네이트(sodium percarbonate), 고체 과산화수소(solid hydrogen peroxide) 및 이들의 혼합물 중에서 선택된 것임을 특징으로 하는 방법. 9 제8항에 있어서, 과산화수소-함유 화합물이 5 내지 500 ㎛ 범위의 입자크기를 갖는 것임을 특징으로 하는 방법. 10 제8항에 있어서, 과산화수소-함유 화합물이 100 내지 500 ㎛ 크기의 입자와 5 내지 50 ㎛ 크기의 입자가 10:1 내지 1:1의 중량비로 혼합된 것임을 특징으로 하는 방법. 11 제1항에 있어서, 과산화수소-함유 화합물과 생분해성 고분자가 5:1 내지 10:1 범위의 중량비로 사용되는 것을 특징으로 하는 방법. 12 제1항에 있어서, 과산화수소 분해촉매가 효소촉매 또는 무기촉매인 것을 특징으로 하는 방법. 13 제12항에 있어서, 효소촉매가 카탈라아제인 것을 특징으로 하는 방법. 14 제12항에 있어서, 무기촉매가 이산화망간, 과망간산칼륨, 요오드화칼륨, 중크롬산칼륨, 탄산나트륨, 산화구리 및 탄소파우더로 이루어진 군 중에서 선택된 것임을 특징으로 하는 방법. 15 제1항에 있어서, 과산화수소 분해촉매-함유 수용액이 물 1ℓ 당 0.01 내지 5 g의 과산화수소 분해촉매를 함유한 것임을 특징으로 하는 방법. 16 제1항에 있어서, 단계 c)에서, 발포 공정이 초음파 조사, 마이크로파 조사 및 교반 중에서 선택된 방법을 이용하여 2 내지 24 시간 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 방법. 17 제1항에 있어서, 단계 c)에서, 건조 공정이 동결 건조, 또는 상온 내지 제조되는 지지체의 유리전이온도(glass transition temperature, Tg) 범위의 온도에서 진공 건조시킴으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.","KR100760511B1",null,1]
["K04025","컴퓨터","KR","문장 축소 시스템{Sentence abridgment system}",null,"원문이미지","KR20060123840A","2006.12.07","KR0839036B1","2008.06.11","본 발명은 문장 축소 시스템에 관한 것으로, 본 발명에서는 누적·저장되어 있는 여러 유형의 학습 원본-축소 문장 간의 관계를 반복적으로 학습하여, &amp;lt;어휘 기반의 문장 축소 규칙(Sentence Abridgement Rule based on the vocabulary)&amp;gt; 및 &amp;lt;원본문장이 축소될 때, 주요 문장 틀이 유지될 수 있도록 유도하기 위한 다수의 학습 템플릿들&amp;gt;을 생성할 수 있는 전산모듈, SARv에 포함된 단어집합들(어휘들)을 품사로 대체하여, 품사 기반의 문장 축소 규칙(Sentence Abridgement Rule based on the part of speech)을 생성할 수 있는 전산모듈, 입력원으로부터 입력된 원본문장을 학습 템플릿과 비교하여, 매칭되는 단어집합들을 추출한 후, SARs 간의 전후 문맥관계, SARs의 규칙내역 등을 두루 체크하여, 해당 구문들에 적합한 최적의 축소패턴을 결정하고, 이에 상응하는 축소문장을 생성할 수 있는 전산모듈 등을 체계적으로 연동 배치하고, 이를 통해, 원본문장의 축소가 필요한 다양한 사용자 측에서, 문장의 문법적인 연결관계나 논리적인(의미적인) 흐름이 자연스럽게 이어지는 최선의 축소문장을 획득할 수 있도록 가이드 함으로써, 해당 사용자 측에서, 별다른 어려움 없이, 고 품질의 문장축소 서비스를 융통성 있게 향유할 수 있도록 유도할 수 있다.","1 원본문장 입력원과 신호 연결된 정보처리장치 내에 설치되며, 학습 원본-축소 문장 간의 관계를 반복적으로 학습하여, 다수의 학습 템플릿들 및 상기 학습 템플릿들이 반영된 어휘 기반의 문장 축소 규칙들(SARv:Sentence Abridgement Rule based on the vocabulary)을 생성하고, 상기 SARv들에 포함된 학습단어집합들을 각 학습단어집합들에 상응하는 학습 품사태그구문들로 대체하여, 품사 기반의 문장 축소 규칙들(SARs:Sentence Abridgement Rule based on the part of speech)을 생성함과 아울러, 상기 SARs들의 출현빈도 및 상기 SARs들 간 전이패턴들의 출현빈도를 체크하고, 해당 체크결과를 토대로, 상기 SARs들의 출현확률 및 상기 SARs들 간 전이패턴들의 전이확률을 결정하는 템플릿/SAR(Sentence Abridgement Rule) 관리유닛과; 상기 원본문장 입력원과 신호 연결되면서, 템플릿/SAR 관리유닛과 선택적으로 교신하며, 상기 원본문장 입력원으로부터 원본문장이 입력되는 경우, 상기 학습 템플릿에 맞추어, 상기 원본문장으로부터 원본단어집합들을 추출하고, 추출된 원본단어집합들을 연속 배치된 다수의 원본 품사태그구문들로 변형한 후, 상기 원본 품사태그구문들에 상응하는 SARs들을 체크함과 아울러, 상기 원본 품사태그구문들에 상응하는 SARs들의 출현확률 및 각 SARs들 간 전이패턴들의 전이확률을 체크하고, 상기 원본 품사태그구문들에 상응하는 SARs들 중, 상기 출현확률 또는 앞서 배치된 다른 원본 품사태그구문과의 전이확률이 가장 높은 SARs들을 선별한 후, 선별된 SARs들에 따라, 상기 원본 품사태그구문들을 축소시켜, 상기 원본문장에 상응하는 축소문장을 생성하는 문장축소 실행유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 문장 축소 시스템.","이승수, 박지형, 염기원, 이중호, 이형래, 김윤선, 정희석","G06F-017/21,G06F-017/26,G06F-017/00","KR20080051958A","2008.06.11",null,"2026.12.07","1 원본문장 입력원과 신호 연결된 정보처리장치 내에 설치되며, 학습 원본-축소 문장 간의 관계를 반복적으로 학습하여, 다수의 학습 템플릿들 및 상기 학습 템플릿들이 반영된 어휘 기반의 문장 축소 규칙들(SARv:Sentence Abridgement Rule based on the vocabulary)을 생성하고, 상기 SARv들에 포함된 학습단어집합들을 각 학습단어집합들에 상응하는 학습 품사태그구문들로 대체하여, 품사 기반의 문장 축소 규칙들(SARs:Sentence Abridgement Rule based on the part of speech)을 생성함과 아울러, 상기 SARs들의 출현빈도 및 상기 SARs들 간 전이패턴들의 출현빈도를 체크하고, 해당 체크결과를 토대로, 상기 SARs들의 출현확률 및 상기 SARs들 간 전이패턴들의 전이확률을 결정하는 템플릿/SAR(Sentence Abridgement Rule) 관리유닛과; 상기 원본문장 입력원과 신호 연결되면서, 템플릿/SAR 관리유닛과 선택적으로 교신하며, 상기 원본문장 입력원으로부터 원본문장이 입력되는 경우, 상기 학습 템플릿에 맞추어, 상기 원본문장으로부터 원본단어집합들을 추출하고, 추출된 원본단어집합들을 연속 배치된 다수의 원본 품사태그구문들로 변형한 후, 상기 원본 품사태그구문들에 상응하는 SARs들을 체크함과 아울러, 상기 원본 품사태그구문들에 상응하는 SARs들의 출현확률 및 각 SARs들 간 전이패턴들의 전이확률을 체크하고, 상기 원본 품사태그구문들에 상응하는 SARs들 중, 상기 출현확률 또는 앞서 배치된 다른 원본 품사태그구문과의 전이확률이 가장 높은 SARs들을 선별한 후, 선별된 SARs들에 따라, 상기 원본 품사태그구문들을 축소시켜, 상기 원본문장에 상응하는 축소문장을 생성하는 문장축소 실행유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 문장 축소 시스템. 2 제 1 항에 있어서, 상기 템플릿/SAR 관리유닛은 상기 학습 템플릿, SARv 및 SARs의 생성 및 저장 절차를 총괄 제어하는 템플릿/SAR 관리 제어모듈과; 상기 템플릿/SAR 관리 제어모듈에 의해 제어되며, 상기 학습 원본-축소 문장들을 저장 관리하는 학습데이터 D/B와; 상기 템플릿/SAR 관리 제어모듈에 의해 제어되며, 상기 학습데이터 D/B에 저장되어 있는 각 학습 원본-축소 문장 중에서, 쌍을 이루는 학습 원본-축소 문장을 추출하고, 해당 학습 원본-축소 문장 쌍 사이의 학습 원본문장 간 유사구문/상이구문 관계 및 학습 축소문장 간 유사구문/상이구문 관계를 파악한 후, 상기 학습 원본-축소 문장 쌍에 포함된 학습단어들 중, 서로 동일한 학습단어집합은 상수로 유지시키고, 서로 상이한 학습단어집합은 변수로 대체시켜, 변수 및 상수로 이루어진 학습문장 간의 축소규칙을 정의하는 학습 템플릿을 생성하는 템플릿 생성모듈과; 상기 템플릿/SAR 관리 제어모듈에 의해 제어되며, 상기 템플릿 생성모듈과 교신하면서, 상기 학습 템플릿들을 체크하여, 해당 학습 템플릿들 내에 나타나는 학습단어집합의 축소규칙을 정의하는 SARv를 생성하는 SARv 생성모듈과; 상기 템플릿/SAR 관리 제어모듈에 의해 제어되며, 상기 SARv 생성모듈에 의해 생성된 SARv들을 체크하여, 상기 SARv에 포함된 학습단어집합들을 각 학습단어들에 상응하는 품사태그들로 이루어진 학습 품사태그구문들로 대체한 후, 상기 SARv에 규정된 학습단어집합들의 축소규칙에 따라, 각 학습 품사태그구문들의 축소규칙을 정의하는 다수의 SARs들을 생성하는 SARs 생성모듈을 포함하는 것을 특징으로 하는 문장 축소 시스템. 3 제 2 항에 있어서, 상기 템플릿/SAR 관리 제어모듈에 의해 제어되며, 상기 SARs 생성모듈과 교신하면서, 각 학습 품사태그구문들에 상응하는 SARs들의 출현빈도를 체크하고, 해당 출현빈도에 따라, 각 SARs 별로, 출현확률을 결정·부여하는 SARs 출현확률 부여모듈을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 문장 축소 시스템. 4 제 3 항에 있어서, 상기 템플릿/SAR 관리 제어모듈에 의해 제어되며, 상기 SARs 생성모듈과 교신하면서, 각 SARs 간의 앞뒤 연결유형을 체크하여, 각 SARs 간의 전이패턴들을 확인한 후, 해당 전이패턴들의 출현빈도를 체크하여, 각 SARs 간 전이패턴들에 상응하는 전이확률을 결정·부여하는 SARs 간 전이확률 부여모듈을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 문장 축소 시스템. 5 제 1 항에 있어서, 상기 문장축소 실행 유닛은 상기 원본단어집합들의 추출절차, 원본단어집합들의 원본 품사태그구문들로의 변형절차, 원본문장의 축소절차를 총괄 제어하는 문장축소 제어모듈과; 상기 문장축소 제어모듈에 의해 제어되며, 상기 원본문장에 매칭되는 학습 템플릿을 체크한 후, 해당 학습 템플릿에 정의된 형식에 맞추어, 상기 원본문장으로부터 원본단어집합들을 추출하는 단어집합 추출모듈과; 상기 문장축소 제어모듈에 의해 제어되며, 상기 단어집합 추출모듈에 의해 추출된 원본단어집합들을 품사태그들로 이루어진 연속된 다수의 원본 품사태그구문들로 대체한 후, 상기 템플릿/SAR 관리유닛과 교신을 취하여, 상기 원본 품사태그구문들에 상응하는 SARs들 및 해당 SARs들의 출현확률, 그리고, 해당 SARs들 간 전이패턴들의 전이확률을 체크하고, 해당 체크결과에 따라, 상기 원본 품사태그구문들에 상응하는 SARs들 중, 상기 출현확률 또는 앞서 배치된 다른 원본 품사태그구문과의 전이확률이 가장 높은 SARs들을 선별하는 SARs 선별모듈과; 상기 문장축소 제어모듈에 의해 제어되며, 상기 SARs 선별모듈에 의해 선별된 SARs들에 따라, 상기 원본 품사태그구문들을 축소시킨 후, 상기 원본 품사태그구문들을 원본단어집합들로 대체시켜, 상기 원본문장에 상응하는 축소문장을 생성하는 축소문장 생성모듈을 포함하는 것을 특징으로 하는 문장 축소 시스템. 6 제 5 항에 있어서, 상기 문장축소 제어모듈에 의해 제어되며, 상기 원본문장 입력원으로부터 원본문장이 입력되는 경우, 해당 원본문장을 이루는 원본단어들에 상응하는 품사태그들을 추출하는 전처리 모듈을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 문장 축소 시스템.","KR100839036B1, KR20080051958A",null,1]
["K03979","화학","KR","마그네슘계 수소저장재료의 제조방법{FABRICATION METHOD OF MAGNESIUM BASED HYDROGEN STORAGE METARIAL}",null,"원문이미지","KR20060112215A","2006.11.14","KR0811116B1","2008.02.29","본 발명에 따른 마그네슘계 수소저장재료의 제조방법은 마그네슘 수소화물 분말과 전이금속 할로겐화물 분말의 혼합물을 형성하는 단계, 혼합물과 볼을 용기에 장입하는 단계, 용기에 불활성 가스 또는 수소 가스를 충진하는 단계 및 혼합물에 대하여 고에너지 볼밀링(high energy ball milling)을 실시하는 단계를 포함한다.","1 마그네슘 수소화물 분말과 전이금속 할로겐화물 분말의 혼합물을 형성하는 단계, 상기 혼합물과 볼을 용기에 장입하는 단계, 상기 용기에 불활성 가스 또는 수소 가스를 충진하는 단계, 및 상기 혼합물에 대하여 5~30 분 동안 고에너지 볼밀링(high energy ball milling)을 실시하는 단계 를 포함하는 마그네슘계 수소저장재료의 제조방법.","심재혁, 진선아, 조영환","C01B-003/00,C01F-005/00",null,null,null,"2026.11.14","1 마그네슘 수소화물 분말과 전이금속 할로겐화물 분말의 혼합물을 형성하는 단계, 상기 혼합물과 볼을 용기에 장입하는 단계, 상기 용기에 불활성 가스 또는 수소 가스를 충진하는 단계, 및 상기 혼합물에 대하여 5~30 분 동안 고에너지 볼밀링(high energy ball milling)을 실시하는 단계 를 포함하는 마그네슘계 수소저장재료의 제조방법. 2 제1항에 있어서, 상기 혼합물을 형성하는 단계에서, 상기 전이금속 할로겐화물 분말을 상기 혼합물에 대하여 0.1~5 mol% 첨가하는 마그네슘계 수소저장재료의 제조방법. 3 제2항에 있어서, 상기 전이금속 할로겐화물은, 티타늄(Ti), 바나듐(V), 지르코늄(Zr), 니오븀(Nb), 니켈(Ni), 철(Fe) 및 크롬(Cr)의 불화물 또는 염화물 중 적어도 하나를 포함하는 마그네슘계 수소저장재료의 제조방법. 4 제2항에 있어서, 상기 볼은 5~30mm의 직경을 갖는 마그네슘계 수소저장재료의 제조방법. 5 제2항에 있어서, 상기 용기에 투입되는 상기 혼합물과 상기 볼의 중량비가 1:1 내지 1:100인 마그네슘계 수소저장재료의 제조방법. 6 제2항에 있어서, 상기 볼밀링은 쉐이커밀(shaker mill), 진동밀(vibratory mill), 유성밀(planetary mill) 또는 어트리터밀(attritor mill)을 이용하여 이루어지는 마그네슘계 수소저장재료의 제조방법. 7 제2항에 있어서, 상기 불활성 가스는 아르곤 또는 헬륨인 마그네슘 수소저장재료의 제조방법.","AT550294T, EP1923350A2, EP1923350A3, EP1923350B1, JP2008120675A, JP4918463B2, KR100811116B1, US2008111105A1, US7871537B2","H",4]
["F03632","재료","FR","Method for fabricating magnesium-based hydrogen storage materials",null,"원문이미지","EP2007021936","2007.11.12","EP01923350B1","2012.03.21","A method for fabricating a magnesium-based hydrogen storage material according to the present invention comprises a) forming a mixture of a magnesium hydride powder and a transition metal halide powder, b) adding the mixture and balls into a vessel, c) filling the vessel with an inert gas or hydrogen, and d) subjecting the mixture to high energy ball milling.,","1. A method for fabricating a magnesium-based hydrogen storage material, comprising: a) forming a mixture of a magnesium hydride powder and a transition metal halide powder,b) adding the mixture and balls into a vessel,c) filling the vessel with an inert gas or hydrogen, andd) subjecting the mixture to high energy ball milling for 5 to 30 minutes, wherein the transition metal halide powder is added in step a) in an amount of 0.1 to 5 mol% on the basis of the mixture, wherein the ball has a diameter of 5 to 30 mm, and wherein the weight ratio of the mixture to the ball is 1:1 to 1:100.","Jae-Hyeok, Shim, Seon-Ah, Jin, Young-Whan, Cho","C01B-003/00","EP01923350A2","2008.05.21","2006.11.14 (KR 20060112215)",null,"1. A method for fabricating a magnesium-based hydrogen storage material, comprising: a) forming a mixture of a magnesium hydride powder and a transition metal halide powder,b) adding the mixture and balls into a vessel,c) filling the vessel with an inert gas or hydrogen, andd) subjecting the mixture to high energy ball milling for 5 to 30 minutes, wherein the transition metal halide powder is added in step a) in an amount of 0.1 to 5 mol% on the basis of the mixture, wherein the ball has a diameter of 5 to 30 mm, and wherein the weight ratio of the mixture to the ball is 1:1 to 1:100. 2. The method of claim 1, wherein the transition metal halide comprises at least one selected from the group consisting of fluorides and chlorides of titanium(Ti), vanadium(V), zirconium(Zr), niobium(Nb), nickel(Ni), iron(Fe) and chrome(Cr). 3. The method of claim 1, wherein the ball milling is conducted using a shaker mill, vibratory mill, planetary mill or attritor mill. 4. The method of claim 1, wherein the inert gas is argon or helium.","AT550294T, EP1923350A2, EP1923350A3, EP1923350B1, JP2008120675A, JP4918463B2, KR100811116B1, US2008111105A1, US7871537B2","H",4]
["F03631","재료","DE","Method for fabricating magnesium-based hydrogen storage materials",null,"원문이미지","EP2007021936","2007.11.12","EP01923350B1","2012.03.21","A method for fabricating a magnesium-based hydrogen storage material according to the present invention comprises a) forming a mixture of a magnesium hydride powder and a transition metal halide powder, b) adding the mixture and balls into a vessel, c) filling the vessel with an inert gas or hydrogen, and d) subjecting the mixture to high energy ball milling.,","1. A method for fabricating a magnesium-based hydrogen storage material, comprising: a) forming a mixture of a magnesium hydride powder and a transition metal halide powder,b) adding the mixture and balls into a vessel,c) filling the vessel with an inert gas or hydrogen, andd) subjecting the mixture to high energy ball milling for 5 to 30 minutes, wherein the transition metal halide powder is added in step a) in an amount of 0.1 to 5 mol% on the basis of the mixture, wherein the ball has a diameter of 5 to 30 mm, and wherein the weight ratio of the mixture to the ball is 1:1 to 1:100.","Jae-Hyeok, Shim, Seon-Ah, Jin, Young-Whan, Cho","C01B-003/00","EP01923350A2","2008.05.21","2006.11.14 (KR 20060112215)",null,"1. A method for fabricating a magnesium-based hydrogen storage material, comprising: a) forming a mixture of a magnesium hydride powder and a transition metal halide powder,b) adding the mixture and balls into a vessel,c) filling the vessel with an inert gas or hydrogen, andd) subjecting the mixture to high energy ball milling for 5 to 30 minutes, wherein the transition metal halide powder is added in step a) in an amount of 0.1 to 5 mol% on the basis of the mixture, wherein the ball has a diameter of 5 to 30 mm, and wherein the weight ratio of the mixture to the ball is 1:1 to 1:100. 2. The method of claim 1, wherein the transition metal halide comprises at least one selected from the group consisting of fluorides and chlorides of titanium(Ti), vanadium(V), zirconium(Zr), niobium(Nb), nickel(Ni), iron(Fe) and chrome(Cr). 3. The method of claim 1, wherein the ball milling is conducted using a shaker mill, vibratory mill, planetary mill or attritor mill. 4. The method of claim 1, wherein the inert gas is argon or helium.","AT550294T, EP1923350A2, EP1923350A3, EP1923350B1, JP2008120675A, JP4918463B2, KR100811116B1, US2008111105A1, US7871537B2","H",4]
["F02606","재료","JP","마그네슘계 수요일 밑천 저장 재료의 제조 방법",null,"원문이미지","JP2007295096A","2007.11.14","JP4918463B9","2012.02.03","(57)【요약】 【과제】수소화 마그네슘의 수소 저장 용량을 최대화한 것과 동시에, 수소의 저장 및 방출 속도를 향상하게 하는 마그네슘계 수요일 밑천 저장 재료의 제조 방법을 제공한다.【해결 수단】본 발명에 의한 마그네슘계 수요일 밑천 저장 재료의 제조 방법은, 수소화 마그네슘 분말과 천이 금속 할로겐화물 분말이라는 혼합물을 형성하는 단계, 혼합물과 공과를 용기에 장입하는 단계, 용기에 불활성가스 또는 수소 가스를 충전하는 단계, 및 혼합물에 대하여고 에너지 보 루미 링(high energy ball milling)을 행하는 단계를 포함한다.【선택도】 그림 1","【청구항 1】 수소화 마그네슘 분말과 천이 금속 할로겐화물 분말이라는 혼합물을 형성하는 단계, 상기 혼합물과 공과를 용기에 장입하는 단계, 상기 용기에 불활성가스 또는 수소 가스를 충전하는 단계, 이르고 상기 혼합물을 5∼30 분간 고에너지 보 루미 링(high energy ball milling)하는 단계 을 포함하는 마그네슘계 수요일 밑천 저장 재료의 제조 방법.","ジェ-ヒョク·シム, ソン-ア­·ジン, ユン-ワン·チョ","C01B-003/00,C01B-006/04,B01J-020/04","JP2008120675A","2008.05.29","2006-11-14 (KR 10-2006-0112215)","2027.11.14","【특허청구의 범위】 【청구항 1】 수소화 마그네슘 분말과 천이 금속 할로겐화물 분말이라는 혼합물을 형성하는 단계, 상기 혼합물과 공과를 용기에 장입하는 단계, 상기 용기에 불활성가스 또는 수소 가스를 충전하는 단계, 이르고 상기 혼합물을 5∼30 분간 고에너지 보 루미 링(high energy ball milling)하는 단계 을 포함하는 마그네슘계 수요일 밑천 저장 재료의 제조 방법. 【청구항 2】 상기 혼합물을 형성하는 단계에 있어서, 상기 천이 금속 할로겐화물 분말을 상기 혼합물 전체를 기준으로서 0.1∼5mol%의 양으로 첨가하는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 마그네슘계 수요일 밑천 저장 재료의 제조 방법. 【청구항 3】 상기 천이 금속 할로겐화물이, 티타늄(Ti), 바나듐(V), 지르코늄(Zr), 니오브(Nb), 니켈(Ni), 철(Fe)및 쿠롬(Cr)의 불화물 또는 염화물으로 되는 무리로부터 선택되는 적어도 1개를 포함하는 것을 특징으로 하는 청구항 2에 기재의 마그네슘계 수요일 밑천 저장 재료의 제조 방법. 【청구항 4】 상기 공이 5∼30mm의 직경을 가지는 것을 특징으로 하는 청구항 2에 기재의 마그네슘계 수요일 밑천 저장 재료의 제조 방법. 【청구항 5】 상기 혼합물과 상기 공이라는 중량비가 1:1∼1:100 있는 것을 특징으로 하는 청구항 2에 기재의 마그네슘계 수요일 밑천 저장 재료의 제조 방법. 【청구항 6】 상기 공 밀링이, 셰이커밀(shaker mill), 진동밀(vibratory mill), 유성밀(planetary mill)또는 마찰밀(attritor mill)을 이용하고 행하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 2에 기재의 마그네슘계 수요일 밑천 저장 재료의 제조 방법. 【청구항 7】 상기 불활성가스가, 아르곤 또는 헬륨 인 것을 특징으로 하는 청구항 2에 기재의 마그네슘계 수요일 밑천 저장 재료의 제조 방법.","AT550294T, EP1923350A2, EP1923350A3, EP1923350B1, JP2008120675A, JP4918463B2, KR100811116B1, US2008111105A1, US7871537B2","H",4]
["K03976","연료전지","KR","연료전지용 냉각 장치{COOLING APPARATUS FOR FUEL CELL}",null,"원문이미지","KR20060113526A","2006.11.16","KR0776726B1","2007.11.08","본 발명은 연료전지용 냉각장치에 관한 것으로, 연료탱크로부터 액체 연료를 공급받는 수용액 탱크; 상기 수용액 탱크의 내부로 일 측이 연장하도록 형성되어, 스택의 캐소드에서 상기 수용액 탱크의 내부로 유입되는 배기가스를 응축시켜 응축수를 발생시키는 수응축 코일; 및 상기 수응축 코일의 타 측이 연결되어, 상기 수응축 코일의 내부를 유동하는 응축액체를 냉각하는 냉각기를 포함하여 구성됨으로써, 냉각 장치의 전체적인 사이즈를 줄이면서도 냉각을 위한 동력 소모를 줄인다.","1 연료탱크로부터 액체 연료를 공급받는 수용액 탱크; 상기 수용액 탱크의 내부로 일 측이 연장하도록 형성되어, 스택의 캐소드에서 상기 수용액 탱크의 내부로 유입되는 배기가스를 응축시켜 응축수를 발생시키는 수응축 코일; 및 상기 수응축 코일의 타 측이 연결되어, 상기 수응축 코일의 내부를 유동하는 응축액체를 냉각하는 냉각기를 포함하는 연료전지용 냉각 장치.","장영수, 이헌주","H01M-008/04",null,null,null,"2026.11.16","1 연료탱크로부터 액체 연료를 공급받는 수용액 탱크; 상기 수용액 탱크의 내부로 일 측이 연장하도록 형성되어, 스택의 캐소드에서 상기 수용액 탱크의 내부로 유입되는 배기가스를 응축시켜 응축수를 발생시키는 수응축 코일; 및 상기 수응축 코일의 타 측이 연결되어, 상기 수응축 코일의 내부를 유동하는 응축액체를 냉각하는 냉각기를 포함하는 연료전지용 냉각 장치. 2 제1항에 있어서, 상기 수용액 탱크에 연통되게 형성되어, 상기 응축에 의해 발생된 기체를 외부로 배출하는 기액분리기를 더 포함하는 연료전지용 냉각 장치. 3 제2항에 있어서, 상기 기액분리기의 기체를 배출하는 배출구는 상기 냉각기의 출구 측에 배치되어, 상기 기체가 상기 냉각기를 통과한 공기와 혼합되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 연료전지용 냉각 장치. 4 제1항에 있어서, 상기 냉각기의 입구 측에서 상기 출구 측으로의 공기의 유동을 조절하도록 상기 냉각기의 출구 측에 배치되어, 상기 응축액체의 냉각량을 제어하는 냉각팬을 더 포함하는 연료전지용 냉각 장치. 5 제1항에 있어서, 일 측은 상기 수용액 탱크의 내부에 배치되고 타 측은 상기 냉각기에 연결되며 내부에는 냉각액체가 유동하도록 형성되어, 상기 스택의 애노드에 공급되는 액체 연료의 수용액을 냉각하는 수용액 냉각코일을 더 포함하는 연료전지용 냉각 장치. 6 제5항에 있어서, 상기 수응축 코일 및 수용액 냉각코일에 각각 연결되어,상기 수용액 탱크에 대한 상기 응축액체 및 냉각액체의 공급을 독립적으로 제어 가능한 응축펌프 및 냉각펌프를 더 포함하는 연료전지용 냉각 장치. 7 제5항에 있어서, 상기 응축액체 및 냉각액체는 2차 유체인 것을 특징으로 하는 연료전지용 냉각 장치. 8 연료탱크로부터 액체 연료를 공급받는 수용액 탱크; 상기 수용액 탱크의 내부로 일 측이 연장하도록 형성되어, 스택의 캐소드에서 상기 수용액 탱크의 내부로 유입되는 배기가스를 응축시켜 응축수를 발생시키는 수응축 코일; 상기 수응축 코일의 타 측이 연결되어, 상기 수응축 코일의 내부를 유동하는 응축액체를 냉각하는 냉각기; 및 상기 냉각기의 표면에 냉각수를 분사하는 분사 유닛을 포함하는 연료전지용 냉각 장치. 9 제8항에 있어서, 일 측은 상기 수용액 탱크의 내부에 배치되고 타 측은 상기 냉각기에 연결되며 내부에는 냉각액체가 유동하도록 형성되어, 상기 스택의 애노드에 공급되는 액체 연료의 수용액을 냉각하는 수용액 냉각코일을 더 포함하는 연료전지용 냉각 장치. 10 제8항에 있어서, 상기 분사 유닛은, 상기 스택의 캐소드에서 상기 수용액 탱크의 내부로 상기 배기가스를 유입시키는 유입라인에 연통 되게 배치되어, 상기 배기가스를 응축시키는 수응축기; 및 상기 수응축기에 연통되어, 상기 수응축기에서 응축된 응축수를 상기 냉각기의 표면에 분사하는 분사라인을 포함하는 연료전지용 냉각 장치. 11 제10항에 있어서, 상기 수응축기에 대한 공기의 유동 정도를 조절하여 상기 배기 가스의 응축량을 제어하는 응축팬을 더 포함하는 연료전지용 냉각 장치. 12 제10항에 있어서, 상기 분사라인에 설치되어, 상기 분사되는 응축수의 양을 제어하는 분사펌프를 더 포함하는 연료전지용 냉각 장치. 13 연료탱크로부터 액체 연료를 공급받는 수용액 탱크; 상기 수용액 탱크의 내부로 일 측이 연장하고 내부에는 응축액체가 유동하도록 형성되어, 스택의 캐소드에서 상기 수용액 탱크의 내부로 유입되는 배기가스를 응축시켜 응축수를 발생시키는 수응축 코일; 상기 수용액 탱크의 내부로 일 측이 연장하고 내부에는 냉각액체가 유동하도록 형성되어, 상기 스택의 애노드에 공급되는 액체 연료의 수용액을 냉각하는 수용액 냉각코일; 및 상기 수응축 코일 및 수용액 냉각코일의 타측 들에 연결되어, 상기 응축액체 및 냉각액체를 냉각하는 냉각기를 포함하는 연료전지용 냉각 장치. 14 제13항에 있어서, 상기 수응축 코일은 상기 액체 연료의 수용액에 잠기지 않도록 배치되고, 상기 수용액 냉각코일은 상기 액체 연료의 수용액에 잠기도록 배치되는 것을 특징으로 하는 연료전지용 냉각 장치.","KR100776726B1",null,1]
["K03974","유전공학","KR","휘발성 유기 화합물 검색용 바이오마커 및 이를 이용한유해성을 나타내는 휘발성 유기 화합물 검색 방법{Biomaker and screening method of volatile organic compounds having toxicity using thereof}",null,"원문이미지","KR20060105644A","2006.10.30","KR0862972B1","2008.10.06","본 발명은 휘발성 유기 화합물 검색용 바이오마커 및 이를 이용한 검색 방법에 관한 것으로, 구체적으로 휘발성 유기 화합물의 대표적인 화학물질인 벤젠, 톨루엔, 크실렌에 공통적으로 유전자 발현이 증가 또는 감소하는 바이오마커 및 이를 이용한 휘발성 유기 화합물의 검색 방법에 관한 것이다. 본 발명의 바이오마커는 DNA 마이크로어레이 칩을 통하여 선별된 반응 유전자들을 바이오마커로 이용하여 환경이나 실생활에서 휘발성 유기 화합물, 특히 유해성을 나타내는 휘발성 유기 화합물을 모니터링 및 판정하는데 유용하게 사용될 수 있으며, 휘발성 유기 화합물이 독성을 일으키는 작용 기작을 규명하는 도구로 이용될 수 있다.","1 하기의 군으로부터 선택되는 유전자 서열의 전체 또는 일부를 포함하는 올리고뉴클레오티드 또는 그의 상보적인 올리고뉴클레오티드가 집적된 벤젠, 톨루엔 또는 o-크실렌으로 이루어진 군으로부터 선택된 휘발성 유기 화합물 검색용 DNA 마이크로어레이 칩: 유전자 등록번호(Genebank) BC071718[Chemokine(C-C motif) ligand 4-like 1], 유전자 등록번호 NM_022168(Interferon induced with helicase C domain 1), 유전자 등록번호 AK095515(Interferon-induced protein with tetratricopeptide repeats 1), 유전자 등록번호 CD521853[Chemokine(C-C motif) ligand 4], 유전자 등록번호 AK023956(2'-5'-oligoadenylate synthetase-like), 유전자 등록번호 BC032839(Interferon-induced protein with tetratricopeptide repeats 2), 유전자 등록번호 AF026939(Interferon-induced protein with tetratricopeptide repeats 3), 유전자 등록번호 BX649185[B-cell CLL/lymphoma 6(zinc finger protein 51)], 유전자 등록번호 AI742278(Interleukin 8), 유전자 등록번호 X74328[Cannabinoid receptor 2(macrophage)], 유전자 등록번호 BF690887(BCL2-related protein A1), 유전자 등록번호 NM_001165(Baculoviral IAP repeat-containing 3), 유전자 등록번호 D90070(Phorbol-12-myristate-13-acetate -induced protein 1), 유전자 등록번호 M83221(V-rel reticuloendotheliosis viral oncogene homolog B), 유전자 등록번호 NM_004430(Early growth response 3), 유전자 등록번호 AK123009(Growth factor independent 1), 유전자 등록번호 NM_003764(Syntaxin 11), 유전자 등록번호 NM_014331(Solute carrier family 7, member 11), 유전자 등록번호 NM_000104(Cytochrome P450, family 1, subfamily B, polypeptide 1), 유전자 등록번호 AY123223(Sestrin 2), 유전자 등록번호 NM_002395[Malic enzyme 1, NADP(+)-dependent, cytosolic], 유전자 등록번호 NM_024625(Zinc finger CCCH-type, antiviral 1), 유전자 등록번호 AF302505[Pellino homolog 1(Drosophila)], 유전자 등록번호 AL834442(Nuclear receptor coactivator 7), 유전자 등록번호 NM_017414(Ubiquitin specific peptidase 18), 유전자 등록번호 NM_002133[Heme oxygenase (decycling) 1], 유전자 등록번호 AY337518(Hect domain and RLD 5), 유전자 등록번호 D80008(DNA replication complex GINS protein PSF1).","류재천, 김연정","C12Q-001/68,G01N-033/53,G01N-033/50","KR20080038583A","2008.05.07",null,"2026.10.30","1 하기의 군으로부터 선택되는 유전자 서열의 전체 또는 일부를 포함하는 올리고뉴클레오티드 또는 그의 상보적인 올리고뉴클레오티드가 집적된 벤젠, 톨루엔 또는 o-크실렌으로 이루어진 군으로부터 선택된 휘발성 유기 화합물 검색용 DNA 마이크로어레이 칩: 유전자 등록번호(Genebank) BC071718[Chemokine(C-C motif) ligand 4-like 1], 유전자 등록번호 NM_022168(Interferon induced with helicase C domain 1), 유전자 등록번호 AK095515(Interferon-induced protein with tetratricopeptide repeats 1), 유전자 등록번호 CD521853[Chemokine(C-C motif) ligand 4], 유전자 등록번호 AK023956(2'-5'-oligoadenylate synthetase-like), 유전자 등록번호 BC032839(Interferon-induced protein with tetratricopeptide repeats 2), 유전자 등록번호 AF026939(Interferon-induced protein with tetratricopeptide repeats 3), 유전자 등록번호 BX649185[B-cell CLL/lymphoma 6(zinc finger protein 51)], 유전자 등록번호 AI742278(Interleukin 8), 유전자 등록번호 X74328[Cannabinoid receptor 2(macrophage)], 유전자 등록번호 BF690887(BCL2-related protein A1), 유전자 등록번호 NM_001165(Baculoviral IAP repeat-containing 3), 유전자 등록번호 D90070(Phorbol-12-myristate-13-acetate -induced protein 1), 유전자 등록번호 M83221(V-rel reticuloendotheliosis viral oncogene homolog B), 유전자 등록번호 NM_004430(Early growth response 3), 유전자 등록번호 AK123009(Growth factor independent 1), 유전자 등록번호 NM_003764(Syntaxin 11), 유전자 등록번호 NM_014331(Solute carrier family 7, member 11), 유전자 등록번호 NM_000104(Cytochrome P450, family 1, subfamily B, polypeptide 1), 유전자 등록번호 AY123223(Sestrin 2), 유전자 등록번호 NM_002395[Malic enzyme 1, NADP(+)-dependent, cytosolic], 유전자 등록번호 NM_024625(Zinc finger CCCH-type, antiviral 1), 유전자 등록번호 AF302505[Pellino homolog 1(Drosophila)], 유전자 등록번호 AL834442(Nuclear receptor coactivator 7), 유전자 등록번호 NM_017414(Ubiquitin specific peptidase 18), 유전자 등록번호 NM_002133[Heme oxygenase (decycling) 1], 유전자 등록번호 AY337518(Hect domain and RLD 5), 유전자 등록번호 D80008(DNA replication complex GINS protein PSF1). 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 6 1) 인간 골수성 백혈병 세포에 피검화합물을 처리하는 단계; 2) 단계 1)의 피검화합물을 처리한 실험군 세포와 피검화합물을 처리하지 않은 대조군 세포에서 RNA를 분리하는 단계; 3) 단계 2)의 실험군 및 대조군의 RNA를 cDNA로 합성하면서 실험군과 대조군을 각기 다른 형광물질로 표지하는 단계; 4) 단계 3)의 각기 다른 형광물질로 표지된 cDNA를 제 1항의 DNA 마이크로어레이칩과 혼성화시키는 단계; 5) 단계 4)의 반응한 DNA 마이크로어레이칩을 분석하는 단계; 및 6) 단계 5)의 분석한 데이터에서 제 1항에 기재된 유전자의 발현 정도를 대조군과 비교하여 확인하는 단계를 포함하는 벤젠, 톨루엔 또는 o-크실렌으로 이루어진 군으로부터 선택된 휘발성 유기 화합물 검색 방법. 7 제 6항에 있어서, 단계 1)의 인간 골수성 백혈병 세포는 HL-60 세포 또는 인간 혈액 또는 림프 조직으로부터 유래된 백혈병 세포인 것을 특징으로 하는 검색 방법. 8 제 6항에 있어서, 단계 3)의 형광물질은 Cy3, Cy5, FITC(poly L-lysine-fluorescein isothiocyanate), RITC(rhodamine-B-isothiocyanate) 및 로다민(rhodamine)으로 이루어진 군으로부터 선택하여 사용하는 것을 특징으로 하는 검색 방법. 9 1) 인간 골수성 백혈병 세포에 피검화합물을 처리하는 단계; 2) 단계 1)의 피검화합물을 처리한 실험군 세포와 피검화합물을 처리하지 않은 대조군 세포에서 RNA를 분리하는 단계; 3) 단계 2)의 RNA를, 제 1항에 기재된 유전자를 증폭할 수 있는 프라이머를 사용하여 실시간 RT-PCR(Real-time reverse transcript polymerase chain reaction)을 수행하는 단계; 4) 단계 3)의 유전자 산물을 대조군과 비교하여 발현 정도를 확인하는 단계를 포함하는 벤젠, 톨루엔 또는 o-크실렌으로 이루어진 군으로부터 선택된 휘발성 유기 화합물 검색 방법. 10 제 9항에 있어서, 단계 1)의 인간 골수성 백혈병 세포는 HL-60 세포 또는 인간 혈액 또는 림프 조직으로부터 유래된 백혈병 세포인 것을 특징으로 하는 검색 방법. 11 제 1항의 DNA 마이크로어레이 칩을 포함하는 벤젠, 톨루엔 또는 o-크실렌으로 이루어진 군으로부터 선택된 휘발성 유기 화합물 검색용 키트. 12 제 11항에 있어서, 인간 골수성 백혈병 세포를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 휘발성 유기 화합물 검색용 키트. 13 서열번호 1 내지 20으로 기재되는 서열로 구성된 군으로부터 선택되는 2개의 정방향 및 역방향 프라이머쌍을 포함하는 벤젠, 톨루엔 또는 o-크실렌으로 이루어진 군으로부터 선택된 휘발성 유기 화합물 검색 키트. 14<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100862972B1, KR20080038583A",null,1]
["K03977","화학","KR","시클로헥세닐실란의 제조 방법{PREPARATION METHOD OF CYCLOHEXENYLSILANE}",null,"원문이미지","KR20070056294A","2007.06.08","KR0899605B1","2009.05.20","본 발명은 시클로헥세닐실란의 제조 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 공액 디엔 (Conjugated Diene)과 비닐 실란 화합물을 가열 반응시켜 시클로헥세닐실란을 제조할 때, 특정 비점의 탄화수소 화합물을 함께 넣거나 또는 과량의 비닐 실란 화합물과 특정 비점의 탄화수소 화합물을 함께 넣어 가열 반응시킴으로써 연속 공정 혹은 대량 생산에서 문제가 되었던 고온 반응에서의 불포화 유기 화합물의 중합물, 유기 실란 화합물의 고분자 중합물 및 타르의 생성을 효과적으로 억제할 수 있는 시클로헥세닐실란의 제조 방법에 관한 것이다.시클로헥세닐실란은 유·무기 화합물의 보강제, 고무 합성시에 첨가하는 결합제, 실리카의 극성을 개질하는 기능성 실리콘 고분자, 살충제의 합성 중간 물질, 절연 (insulating) 무기 물질 또는 금속과 접촉력이 좋은 폴리올레핀 고분자의 출발 물질, 유-무기 하이브리드 물질로서 이용될 뿐만 아니라 근래 전자 산업의 발달과 함께 반도체 소자가 점점 가속화, 고밀도화, 고집적화 및 미세화가 요구됨에 따라 전자의 이동이 용이하며 분자 단위의 차원에서 제어 기능을 가지는 유기 초박막 소자의 개발 등에의 응용이 기대되는 물질이다.","1 공액 디엔과 화학식 2로 표시되는 비닐 실란 화합물을 가열 반응시켜 화학식 1로 표시되는 시클로헥세닐실란을 제조함에 있어서, 비점이 30 ~ 400℃ 범위인 탄화수소 화합물을 함께 넣는 것을 특징으로 하는 시클로헥세닐실란의 제조 방법. [화학식 1] [화학식 2] 식 중에서, R1과 R2는 같거나 다를 수 있고, 수소 원자 및 탄소수 1∼6의 알킬기 중에서 선택되고, R3은 탄소수 1 ~ 6의 알킬기 중에서 선택되며, X는 할로겐 원자 및 탄소수 1∼3의 알콕시기 중에서 선택되고, m은 2 또는 3이다.","유복렬, 한준수, 임원철, 정동의, 정용수","C07F-007/12,C07F-007/14,C07F-007/08","KR20080107911A","2008.12.11",null,"2027.06.08","1 공액 디엔과 화학식 2로 표시되는 비닐 실란 화합물을 가열 반응시켜 화학식 1로 표시되는 시클로헥세닐실란을 제조함에 있어서, 비점이 30 ~ 400℃ 범위인 탄화수소 화합물을 함께 넣는 것을 특징으로 하는 시클로헥세닐실란의 제조 방법. [화학식 1] [화학식 2] 식 중에서, R1과 R2는 같거나 다를 수 있고, 수소 원자 및 탄소수 1∼6의 알킬기 중에서 선택되고, R3은 탄소수 1 ~ 6의 알킬기 중에서 선택되며, X는 할로겐 원자 및 탄소수 1∼3의 알콕시기 중에서 선택되고, m은 2 또는 3이다. 2 제1항에 있어서, 상기 가열 반응은 압력 반응기 또는 연속 반응 장치를 이용하여 150 ~ 220℃의 온도에서 수행되는 것이 특징인 시클로헥세닐실란의 제조 방법. 3 제1항에 있어서, 상기 가열 반응은 압력 반응기 또는 연속 반응 장치을 이용하여 100 ~ 500 PSIG의 압력에서 수행되는 것이 특징인 시클로헥세닐실란의 제조 방법. 4 제1항에 있어서, 탄화수소 화합물은 탄소수 3 ~ 20 범위의 지방족 탄화수소, 탄소수 6 ~ 12 범위의 방향족 탄화수소, 페닐기로 치환된 탄소수 1 ~ 5 범위의 지방족 탄화수소, 탄소수 1 ~ 5 범위의 알킬기로 치환된 방향족 탄화수소, 탄소수 1 ~ 5 범위의 알킬기로 치환된 비페닐, 탄소수 1 ~ 5 범위의 알킬기로 치환된 터페닐 및 탄소수 1 ~ 5 범위의 알킬기로 치환된 나프탈렌으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 시클로헥세닐실란의 제조 방법. 5 제1항에 있어서, 탄화수소 화합물은 n-펜탄, i-펜탄, n-헥산, n-헵탄, n-옥탄, n-노난, 데칸, 도데칸, 운데칸, 테트라데칸, 헥사데칸, 옥타데칸, 벤젠, 톨루엔, 에틸벤젠, 크실렌, 2,2-디페닐프로판, 트리페닐메탄, 1,1,2-트리페닐에탄, 1,1,1-트리페닐에탄, 디에틸페닐, 트리에틸페닐, o-터페닐, m-터페닐, p-터페닐, 시클로헥실비페닐, 1,2,3-트리메틸나프탈렌, 1,2,5-트리메틸나프탈렌, 디에틸벤젠, 헥실벤젠, 디벤질벤젠, 디벤질톨루엔 및 시클로헥실벤젠으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 시클로헥세닐실란의 제조 방법. 6 제1항에 있어서, 비닐 실란 화합물을 공액 디엔에 대하여 몰비로 1~4배로 넣는 것을 특징으로 하는 시클로헥시닐실란의 제조 방법. 7 제1항 내지 제6항 중 어느 하나의 항에 있어서, 탄화수소 화합물은 공액 디엔에 대하여 부피비로 0.5 ~ 10배 사용되는 것이 특징인 시클로헥세닐실란의 제조 방법.","KR100899605B1, KR20080107911A",null,1]
["K03969","화학","KR","치과 및 정형외과용 광중합형 생체친화성 복합재료 조성물{PHOTOPOLYMERIZABLE BIOCOMPATIBLE COMPOSITE MATERIAL COMPOSITIONS FOR DENTAL AND ORTHOPEDIC APPLICATIONS}",null,"원문이미지","KR20060104859A","2006.10.27","KR0786648B1","2007.12.11","본 발명은 광중합형 생체친화성 복합재료 조성물에 관한 것이다. 종래 치과 및 정형외과용 프리폴리머로 사용되고 있는 2,2-비스-(4-(2-하이드록시-3-메타크릴로일옥시프로폭시)페닐)프로판 [이하 \"Bis-GMA\"라 명명함] 대신, 분자 중에 비스페놀 A를 함유하지 않는 저점도의 신규한 다관능성 메타크릴레이트기 함유 프리폴리머를 기재로 하고 희석제, 중합 단량체, 무기 충전제, 광개시계 및 기타 첨가제를 포함하는 본 발명의 광중합형 복합재료 조성물은, Bis-GMA를 포함하는 종래의 조성물에 비해 우수한 물리적, 기계적 특성을 나타낼 뿐만 아니라 환경호르몬으로 추정되고 있는 비스페놀 A를 함유하고 있지 않으므로 각종 산업용 친환경형 고분자 수지에 적용 가능하고 충치치료 및 치과수복용 복합레진, 충치예방용 치면열구전색재(실란트), 치과용 접착제 및 시멘트 등과 같은 치과용 재료, 및 골 시멘트와 같은 정형외과용 재료로서 유리하게 사용될 수 있다.","1 a) 하기 화학식 2의 이관능성 메타크릴레이트 프리폴리머, 화학식 3의 삼관능성 메타크릴레이트 프리폴리머, 화학식 4의 사관능성 메타크릴레이트 프리폴리머 및 이들의 혼합물 중에서 선택되고, 유기 매트릭스 성분의 총 중량을 기준으로 15 내지 80 중량%로 함유되는 다관능성 메타크릴레이트 프리폴리머, b) 유기 매트릭스 성분의 총 중량을 기준으로 5 내지 50 중량%의 희석제, c) 유기 매트릭스 성분의 총 중량을 기준으로 1 내지 40 중량%의 중합단량체, d) 유기 매트릭스 성분의 총 중량을 기준으로 0.1 내지 10 중량%의 광개시제, 및 e) 유기 매트릭스 성분의 총 중량을 기준으로 0.1 내지 10 중량%의 기타 첨가제로 이루어진, 복합재료 조성물의 총 중량을 기준으로 5 내지 95 중량%의 유기 매트릭스 성분과, f) 복합재료 조성물의 총 중량을 기준으로 5 내지 95 중량%의 무기 충전제를 포함하는, 광중합형 복합재료 조성물. 화학식 2 화학식 3 화학식 4 상기 식에서, n은 0 내지 2 범위의 수이고, X는 -CH2-, 또는 이며, R은 -H, -CH3, -CH2CH3 또는 -C(CH3)3이다.","한동근, 안광덕, 김재진, 박귀덕, 손준식","C08L-033/10,A61K-006/05,C08L-033/04,C08K-003/00",null,null,null,"2026.10.27","1 a) 하기 화학식 2의 이관능성 메타크릴레이트 프리폴리머, 화학식 3의 삼관능성 메타크릴레이트 프리폴리머, 화학식 4의 사관능성 메타크릴레이트 프리폴리머 및 이들의 혼합물 중에서 선택되고, 유기 매트릭스 성분의 총 중량을 기준으로 15 내지 80 중량%로 함유되는 다관능성 메타크릴레이트 프리폴리머, b) 유기 매트릭스 성분의 총 중량을 기준으로 5 내지 50 중량%의 희석제, c) 유기 매트릭스 성분의 총 중량을 기준으로 1 내지 40 중량%의 중합단량체, d) 유기 매트릭스 성분의 총 중량을 기준으로 0.1 내지 10 중량%의 광개시제, 및 e) 유기 매트릭스 성분의 총 중량을 기준으로 0.1 내지 10 중량%의 기타 첨가제로 이루어진, 복합재료 조성물의 총 중량을 기준으로 5 내지 95 중량%의 유기 매트릭스 성분과, f) 복합재료 조성물의 총 중량을 기준으로 5 내지 95 중량%의 무기 충전제를 포함하는, 광중합형 복합재료 조성물. 화학식 2 화학식 3 화학식 4 상기 식에서, n은 0 내지 2 범위의 수이고, X는 -CH2-, 또는 이며, R은 -H, -CH3, -CH2CH3 또는 -C(CH3)3이다. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3 제1항에 있어서, 희석제가 메틸 메타크릴레이트(MMA), 에틸렌 글리콜 다이메타크릴레이트(EGDMA), 다이에틸렌 글리콜 다이메타크릴레이트(DEGDMA), 트리에틸렌 글리콜 다이메타크릴레이트(TEGDMA), 1,4-부탄다이올 다이메타크릴레이트, 1,6-헥산다이올 다이메타크릴레이트, 1-메틸-1,3-프로판다이올 다이메타크릴레이트 및 1,6-비스(메타크릴로일옥시-2-에톡시카보닐아미노)-2,2,4-트리메틸헥산으로 이루어진 군 중에서 선택된 것임을 특징으로 하는, 광중합형 복합재료 조성물. 4 제1항에 있어서, 중합단량체가 우레탄 다이메타아크릴레이트(UDMA)인 것을 특징으로 하는, 광중합형 복합재료 조성물. 5 제1항에 있어서, 광개시계가, 유기 매트릭스 성분의 총 중량을 기준으로 0.1 내지 10 중량%의 광개시제 및 0.1 내지 10 중량%의 환원제를 포함하는 것임을 특징으로 하는, 광중합형 복합재료 조성물. 6 제5항에 있어서, 광개시제가 캄포퀴논이고, 환원제가 에틸 p-다이메틸 아미노벤조에이트(ethyl p-dimethyl aminobenzoate, EDMAB) 또는 N,N-다이메틸아미노에틸 메타크릴레이트(N,N-dimethylaminoethyl methacrylate, DMAEMA)인 것을 특징으로 하는, 광중합형 복합재료 조성물. 7 제1항에 있어서, 기타 첨가제가, 유기 매트릭스 성분의 총 중량을 기준으로 0.1 내지 10 중량%의 중합금지제, 0.01 내지 5 중량%의 광안정화제, 0.01 내지 5 중량%의 산화안정화제 및 0.001 내지 5 중량%의 안료를 포함하는 것임을 특징으로 하는, 광중합형 복합재료 조성물. 8 제7항에 있어서, 중합 금지제가 하이드로퀴논(HQ), 하이드로퀴논 모노메틸 에테르(MEHQ) 및 하이드로퀴논 모노에틸 에테르(EEHQ)로 이루어진 군 중에서 선택되고, 광안정화제가 티누빈이고, 산화안정화제가 이가녹스 또는 부틸레이티드 하이드록시 톨루엔(BHT)이며, 안료가 산화철계 또는 티타늄 다이옥시드 무기 안료인 것을 특징으로 하는, 광중합형 복합재료 조성물. 9 제1항에 있어서, 무기 충전제가 실란(silane)으로 표면처리되고 입도가 0.1 ㎚ 내지 50 ㎛ 범위인 실리카, 석영, 바륨 글래스, 바륨 글래스/실리카, 바륨 글래스 혼합물, 석영/바륨 글래스, 지르코니아/실리카, 실리카 혼합물, 알루미노 실리케이트, 리튬 알루미노 실리케이트 및 바륨 알루미노 실리케이트로 이루어진 군 중에서 선택된 것임을 특징으로 하는, 광중합형 복합재료 조성물. 10 제9항에 있어서, 무기 충전제의 표면처리용 실란이 감마-메타크릴옥시 프로필 트리메톡시 실란(γ-methacryloxy propyl trimethoxysilane, γ-MPS), 다이메틸 다이클로로 실란, 헥사메틸렌 다이실리잔 및 다이메틸 폴리실록산 중에서 선택된 것임을 특징으로 하는, 광중합형 복합재료 조성물.","KR100786648B1",null,1]
["K03961","로봇","KR","로봇의 팔 동작 제어 방법 및 그 로봇{METHOD FOR CONTROLLING ARM MOVEMENT OF ROBOT AND ROBOT THEREOF}",null,"원문이미지","KR20060118606A","2006.11.28","KR0813693B1","2008.03.07","본 발명은 로봇의 팔 동작 제어 방법 및 그 로봇에 관한 것이다. 이러한 본원 발명은 인간의 팔 동작 재현을 위해 인간 어깨로부터의 손목 위치 및 손바닥의 법선 방향과 지면이 이루는 각도를 획득하는 단계와; 상기 획득된 손목의 위치 및 손바닥의 법선 방향과 지면이 이루는 각도를 통하여 팔꿈치 들림각을 산출하는 단계와; 상기 손목의 위치, 상기 손바닥의 법선 방향과 지면이 이루는 각도, 및 팔꿈치 들림각을 이용하여 로봇의 각 관절 값을 산출하는 단계와; 상기 산출된 각 관절 값을 이용하여, 상기 로봇의 관절을 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 로봇의 팔 동작 제어 방법을 제공한다.","1 인간의 팔 동작을 캡쳐링한 궤적을 통해 획득가능한 인간 어깨로부터의 손목 위치와; 그리고 상기 궤적을 통해 획득가능한 인간의 손바닥의 법선 방향과 지면이 이루는 각도로 표현가능한 팔꿈치 들림각을 이용하여 로봇의 팔동작을 제어하는 것을 특징으로 하는 로봇의 팔동작 제어 방법.","김창환, 김승수, 나성권, 유범재","B25J-009/16,B25J-018/00",null,null,null,"2026.11.28","1 인간의 팔 동작을 캡쳐링한 궤적을 통해 획득가능한 인간 어깨로부터의 손목 위치와; 그리고 상기 궤적을 통해 획득가능한 인간의 손바닥의 법선 방향과 지면이 이루는 각도로 표현가능한 팔꿈치 들림각을 이용하여 로봇의 팔동작을 제어하는 것을 특징으로 하는 로봇의 팔동작 제어 방법. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4 인간의 팔 동작 재현을 위해 인간 어깨로부터의 손목 위치 및 손바닥의 법선 방향과 지면이 이루는 각도를 획득하는 단계와; 상기 획득된 손목의 위치 및 손바닥의 법선 방향과 지면이 이루는 각도를 통하여 팔꿈치 들림각을 산출하는 단계와; 상기 손목의 위치, 상기 손바닥의 법선 방향과 지면이 이루는 각도, 및 팔꿈치 들림각을 이용하여 로봇의 각 관절 값을 산출하는 단계와; 상기 산출된 각 관절 값을 이용하여, 상기 로봇의 관절을 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 로봇의 팔 동작 제어 방법. 5 제 4항에 있어서, 상기 획득 단계는 인간의 팔 동작을 캡쳐링한 궤적을 획득하는 단계와; 상기 궤적을 통하여 상기 인간 어깨로부터의 손목 위치 및 상기 손바닥의 법선 방향과 지면이 이루는 각도를 획득하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 로봇의 팔 동작 제어 방법. 6<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 7 제 4항에 있어서, 상기 로봇의 각 관절 값을 산출하는 단계는 상기 로봇의 어깨 관절을 위한 적어도 3 이상의 각도와; 상기 로봇의 팔꿈치 관절을 위한 적어도 2 이상의 각도를 산출하는 것을 특징으로 하는 로봇의 팔동작 제어 방법. 8 인간의 팔 동작 재현을 위해 인간 어깨로부터의 손목 위치 및 손바닥의 법선 방향과 지면이 이루는 각도를 저장하는 저장장치와; 상기 저장장치 내의 상기 손목 위치 및 손바닥의 법선 방향과 지면이 이루는 각도를 이용하여, 팔꿈치 들림각을 산출하고, 그리고 상기 손목의 위치, 상기 손바닥의 법선 방향과 지면이 이루는 각도, 및 팔꿈치 들림각을 이용하여 로봇의 각 관절 값을 산출한 후, 상기 로봇의 관절 제어 신호를 출력하는 프로세서를 포함하는 것을 특징으로 하는 로봇 내장형 제어 장치. 9 인간의 팔 동작 재현을 위해 인간 어깨로부터의 손목 위치 및 손바닥의 법선 방향과 지면이 이루는 각도를 저장하는 저장장치와; 상기 저장장치 내의 상기 손목 위치 및 손바닥의 법선 방향과 지면이 이루는 각도를 이용하여, 팔꿈치 들림각을 산출하고, 그리고 상기 손목의 위치, 상기 손바닥의 법선 방향과 지면이 이루는 각도, 및 팔꿈치 들림각을 이용하여 로봇의 각 관절 값을 산출한 후, 상기 로봇의 관절 제어 신호를 출력하는 프로세서를 포함하는 것을 특징으로 하는 로봇. 10 인간의 팔 동작을 캡쳐링한 궤적을 저장하는 저장장치와; 상기 저장장치 내의 상기 궤적을 통해 인간 어깨로부터의 손목 위치 및 손바닥의 법선 방향과 지면이 이루는 각도를 획득하고, 상기 획득된 손목 위치 및 손바닥의 법선 방향과 지면이 이루는 각도를 이용하여, 팔꿈치 들림각을 산출하고, 그리고 상기 손목의 위치, 상기 손바닥의 법선 방향과 지면이 이루는 각도, 및 팔꿈치 들림각을 이용하여 로봇의 각 관절 값을 산출한 후, 상기 로봇의 관절 제어 신호를 출력하는 프로세서와; 상기 로봇의 관절 제어 신호를 출력하는 네트워크 인터페이스를 포함하는 것을 특징으로 하는 로봇 외부 제어 장치.","KR100813693B1",null,1]
["K03951","재료","KR","열처리된 산화티타늄층을 포함하는 슈퍼커패시터용 전극 및그 제조방법{ELECTRODE FOR SUPERCAPACITOR HAVING HEAT-TREATED TITANIUM DIOXIDE LAYER AND THE FABRICATION METHOD THEREOF}",null,"원문이미지","KR20070003997A","2007.01.12","KR0879767B1","2009.01.14","본 발명은 슈퍼커패시터용 전극에 관한 것으로서, 집전체 위에 전기방사법으로 초극세 섬유상 산화티타늄층을 제조하고, 이를 고온에서 열처리하여 고전도도의 슈퍼커패시터용 기판을 제조한다. 이 기판에 산화환원이 가능한 금속산화물을 증착하여 슈퍼커패시터용 전극을 제조한다. 이와 같이 고온에서 열처리된 초극세 산화티타늄 섬유를 포함하는 본 발명에 따른 슈퍼커패시터용 전극은 고 비표면적으로 이루어져 있어 고 비용량을 가지며, 고전도도의 기판으로 이루어져 있어 고속의 충방전에서도 고 비용량을 유지할 수 있다.","1 집전체; 상기 집전체 위에 형성되며, 초극세 섬유상(狀) 또는 나노로드상(狀) 산화티타늄을 포함하여 이루어지고, 열처리를 통해 일부 산소가 빠져나가 환원된 다공성 산화티타늄층; 및 상기 산화티타늄층 위에 코팅된 금속산화물;을 포함하여 이루어진 슈퍼커패시터용 전극.","김동영, 조성무, 안영락","H01G-009/058,H01G-009/042,H01G-004/005","KR20080066495A","2008.07.16",null,"2027.01.12","1 집전체; 상기 집전체 위에 형성되며, 초극세 섬유상(狀) 또는 나노로드상(狀) 산화티타늄을 포함하여 이루어지고, 열처리를 통해 일부 산소가 빠져나가 환원된 다공성 산화티타늄층; 및 상기 산화티타늄층 위에 코팅된 금속산화물;을 포함하여 이루어진 슈퍼커패시터용 전극. 2 제 1 항에 있어서, 상기 산화티타늄층의 두께는 1∼20 ㎛인 것을 특징으로 하는 슈퍼커패시터용 전극. 3 제 1 항에 있어서, 상기 산화티타늄층을 구성하는 초극세 섬유의 직경은 10∼1000 ㎚인 것을 특징으로 하는 슈퍼커패시터용 전극. 4 제 1 항에 있어서, 상기 집전체는 티타늄, 팔라듐, 백금, 스테인리스스틸, 탄탈륨으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 슈퍼커패시터용 전극. 5 제 1 항에 있어서, 상기 금속산화물은 산화루테늄, 산화망간, 산화니켈, 산화바나듐, 산화코발트, 산화텅스텐, 산화이리듐, 산화루비듐으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 슈퍼커패시터용 전극. 6 집전체 위에 산화티타늄 전구체 함유 용액을 방사하고 소결하여 산화티타늄층을 형성하는 단계; 상기 산화티타늄층을 열처리하여 환원시키는 단계; 및 상기 열처리하여 환원된 산화티타늄층 위에 금속산화물 박막을 형성하는 단계;를 포함하여 이루어진 슈퍼커패시터용 전극의 제조방법. 7 제 6 항에 있어서, 상기 방사와 소결 사이에, 상기 집전체 위에 방사된 산화티타늄 전구체 층을 압착하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슈퍼커패시터용 전극의 제조방법. 8 제 6 항 또는 제 7 항에 있어서, 상기 산화티타늄 전구체 함유 용액은, 산화티타늄 전구체와 고분자를 함유하는 것을 특징으로 하는 슈퍼커패시터용 전극의 제조방법. 9 제 8 항에 있어서, 상기 산화티타늄 전구체는 티타늄 테트라이소프로폭사이드(Titanium tetraisopropoxide), 티타늄 테트라뷰톡사이드(Titanium tetrabutoxide), 티타늄 테트라프로폭사이드(Titanium tetrapropoxide), 티타늄 테트라클로라이드(Titanium tetrachloride)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 슈퍼커패시터용 전극의 제조방법. 10 제 8 항에 있어서, 상기 고분자는 폴리우레탄, 폴리에테르우레탄, 폴리우레탄 공중합체, 셀룰로오스 아세테이트, 셀룰로오스 아세테이트 부틸레이트, 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트, 셀룰로오스 유도체, 폴리메틸메스아크릴레이트(PMMA), 폴리메틸아크릴레이트(PMA), 폴리아크릴 공중합체, 폴리비닐아세테이트, 폴리비닐아세테이트 공중합체, 폴리비닐알콜(PVA), 폴리퍼퓨릴알콜(PPFA), 폴리스틸렌, 폴리스틸렌 공중합체, 폴리에틸렌옥사이드(PEO), 폴리프로필렌옥사이드(PPO), 폴리에틸렌옥사이드 공중합체, 폴리프로필렌옥사이드 공중합체, 폴리카보네이트(PC), 폴리카보네이트 공중합체, 폴리비닐클로라이드(PVC), 폴리비닐클로라이드 공중합체, 폴리카프로락톤, 폴리카프로락톤 공중합체, 폴리비닐피롤리돈(PVP), 폴리비닐피롤리돈 공중합체, 폴리비닐풀루오라이드, 폴리비닐풀루오라이드 공중합체, 폴리비닐리덴풀루오라이드, 폴리비닐리덴풀루오라이드 공중합체, 폴리아마이드로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 슈퍼커패시터용 전극의 제조방법. 11 제 6 항 또는 제 7 항에 있어서, 상기 산화티타늄 전구체 함유 용액은, 산화티타늄 전구체와 산 촉매를 함유하는 것을 특징으로 하는 슈퍼커패시터용 전극의 제조방법. 12 제 11 항에 있어서, 상기 산 촉매는 스테아릭 산(stearic acid), 아디픽 산(adipic acid), 에톡시아세틱 산(ethoxyacetic acid), 벤조익 산(benzoic acid), 니트릭 산(nitric acid)으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 슈퍼커패시터용 전극의 제조방법. 13 제 6 항에 있어서, 상기 방사는 전기방사, 멜트블로운 방사(meltblown spinning), 플래쉬 방사(flash spinning) 또는 일렉트로블로잉(electro-blowing)법인 것을 특징으로 하는 슈퍼커패시터용 전극의 제조방법. 14 제 6 항에 있어서, 상기 소결은 400∼550 ℃에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 슈퍼커패시터용 전극의 제조방법. 15 제 6 항에 있어서, 상기 열처리는 수소, 질소, 아르곤 또는 이들의 혼합기체를 충진한 전기로에서 700∼1000 ℃에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 슈퍼커패시터용 전극의 제조방법. 16 제 6 항에 있어서, 상기 금속산화물 박막의 형성은, 열처리된 산화티타늄층이 형성된 집전체를 금속산화물 전구체 용액에 침지한 후, 일정 전류법 또는 순환전위 전류법을 이용하여 증착하는 것을 특징으로 하는 슈퍼커패시터용 전극의 제조방법. 17 제 6 항 또는 제 7 항에 있어서, 상기 금속산화물 박막 형성 후, 150∼250 ℃에서 추가적으로 열처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슈퍼커패시터용 전극의 제조방법.","KR100879767B1, KR20080066495A",null,1]
["K03948","연료전지","KR","고체산화물연료전지 스택의 공기극 집전체용 다공성금속산화물 폼의 제조방법{FABRICATION METHOD OF POROUS METAL OXIDE FOAM FOR CATHODE CURRENT COLLECTOR OF SOLID OXIDE FUEL CELL}",null,"원문이미지","KR20070017988A","2007.02.22","KR0797048B1","2008.01.16","본 발명은 다공성 금속산화물 폼(foam)의 제조방법에 관한 것으로, 특히 고체산화물연료전지 스택의 공기극 집전체용 다공성 금속산화물 폼의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 3차원 망목구조를 갖는 다공성 폴리머에 도전성 금속산화물 슬러리를 코팅하여 폴리머/금속산화물 복합체를 제조하는 단계와, 상기 폴리머/금속산화물 복합체를 가열하여 상기 폴리머를 연소시킴으로써 다공성 금속산화물 폼을 형성하는 단계와, 상기 금속산화물 폼을 소결하는 단계를 포함한다. 본 발명에 의해 제조된 독립적인 형태의 다공성 금속산화물 폼은 높은 전도성, 화학적 안정성, 충분한 가스 침투를 위한 다공성, 우수한 기계적 강도 및 완충성, 우수한 열팽창 계수 조화 특성을 갖는다.","1 고체산화물연료전지(SOFC) 스택을 구성하는 단위전지의 공기극과 접속자 사이에 개재되는 공기극 집전체용 다공성 금속산화물 폼을 제조하는 방법에 있어서, 3차원 망목구조를 갖는 다공성 폴리머에 도전성 금속산화물 슬러리를 코팅하여 폴리머/금속산화물 복합체를 제조하는 단계; 상기 폴리머/금속산화물 복합체를 가열하여 상기 폴리머를 연소시킴으로써 다공성 금속산화물 폼(foam)을 형성하는 단계; 및 상기 금속산화물 폼을 소결하는 단계;를 포함하는 고체산화물연료전지 스택의 공기극 집전체용 다공성 금속산화물 폼의 제조방법.","이종호, 이해원, 오은옥, 노호성, 황진명","H01M-008/02",null,null,null,"2027.02.22","1 고체산화물연료전지(SOFC) 스택을 구성하는 단위전지의 공기극과 접속자 사이에 개재되는 공기극 집전체용 다공성 금속산화물 폼을 제조하는 방법에 있어서, 3차원 망목구조를 갖는 다공성 폴리머에 도전성 금속산화물 슬러리를 코팅하여 폴리머/금속산화물 복합체를 제조하는 단계; 상기 폴리머/금속산화물 복합체를 가열하여 상기 폴리머를 연소시킴으로써 다공성 금속산화물 폼(foam)을 형성하는 단계; 및 상기 금속산화물 폼을 소결하는 단계;를 포함하는 고체산화물연료전지 스택의 공기극 집전체용 다공성 금속산화물 폼의 제조방법. 2 제 1 항에 있어서, 상기 다공성 폴리머는 폴리우레탄(polyurethane), 폴리스티렌(polystyrene), 셀룰로우즈(cellulose) 중 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 고체산화물연료전지 스택의 공기극 집전체용 다공성 금속산화물 폼의 제조방법. 3 제 1 항에 있어서, 상기 도전성 금속산화물 슬러리는 수계 또는 비수계 용매에 결합제, 분산제 및 계면활성제를 분산시킨 용액에 도전성 물질을 혼합하여 제조하는 것을 특징으로 하는 고체산화물연료전지 스택의 공기극 집전체용 다공성 금속산화물 폼의 제조방법. 4 제 3 항에 있어서, 상기 도전성 물질은 페로브스카이트(perovskite) 족의 금속산화물 분말인 것을 특징으로 하는 고체산화물연료전지 스택의 공기극 집전체용 다공성 금속산화물 폼의 제조방법. 5 제 4 항에 있어서, 상기 페로브스카이트 족의 금속산화물 분말은 (La,Sr,)MnO3, (La,Sr)CrO3, (La,Sr)(Co,Fe)O3, (La,Sr)CoO3, (Ba,Sr)(Co,Fe)O3, LaNiO4, SmSrCoO3 중 선택된 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 고체산화물연료전지 스택의 공기극 집전체용 다공성 금속산화물 폼의 제조방법. 6 제 1 항에 있어서, 상기 코팅을 반복하여 다중 코팅하는 것을 특징으로 하는 고체산화물연료전지 스택의 공기극 집전체용 다공성 금속산화물 폼의 제조방법. 7 제 1 항에 있어서, 상기 연소는, 상기 폴리머/금속산화물 복합체를 산화 분위기 또는 불활성 분위기하에서 0.1∼10℃/min의 속도로 400∼650℃ 범위의 온도까지 승온시킨 후 0.1∼10시간 동안 유지하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 고체산화물연료전지 스택의 공기극 집전체용 다공성 금속산화물 폼의 제조방법. 8 제 1 항에 있어서, 상기 소결은, 상기 금속산화물 폼을 산화 분위기 또는 불활성 분위기하에서 0.1∼10℃/min의 속도로 900∼1200℃까지 승온하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 고체산화물연료전지 스택의 공기극 집전체용 다공성 금속산화물 폼의 제조방법. 9 제 1 항에 있어서, 상기 다공성 금속산화물 폼의 기공률은 최대 75%인 것을 특징으로 하는 고체산화물연료전지 스택의 공기극 집전체용 다공성 금속산화물 폼의 제조방법. 10 3차원 망목구조를 갖는 다공성 폴리머에 도전성 금속산화물을 포함하는 슬러리를 코팅하여 폴리머/금속산화물 복합체를 제조하는 단계; 상기 폴리머/금속산화물 복합체를 가열하여 상기 폴리머를 연소시킴으로써 다공성 금속산화물 폼을 형성하는 단계; 및 상기 금속산화물 폼을 소결하는 단계;를 포함하는 다공성 금속산화물 폼의 제조방법. 11 제 10 항에 있어서, 상기 도전성 금속산화물은 (La,Sr,)MnO3, (La,Sr)CrO3, (La,Sr)(Co,Fe)O3, (La,Sr)CoO3, (Ba,Sr)(Co,Fe)O3, LaNiO4, SmSrCoO3으로 이루어진 그룹 중 선택된 적어도 어느 하나이거나, 혹은 (La,Sr,)MnO2.5, (La,Sr)CrO2.5, (La,Sr)(Co,Fe)O2.5 및 (La,Sr)CoO2.5으로 이루어진 그룹 중 선택된 적어도 어느 하나이거나, 혹은 CaO, In2O3SnO2, SnO2, RuO2, Fe2O3, Sc2O3, Gd2O3, Sm2O3, M2O3, M2O5, As2O5 및 Sb2O5으로 이루어진 그룹 중 선택된 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 다공성 금속산화물 폼의 제조방법.","KR100797048B1",null,1]
["K03943","기계","KR","하모닉 감속기{HARMONIC DRIVE}",null,"원문이미지","KR20060131717A","2006.12.21","KR0786205B1","2007.12.10","본 발명은 하모닉 감속기에 관한 것으로서, 보다 상세하게 본 발명의 실시예에 따른 하모닉 감속기는 원통형 고정 스플라인; 상기 고정 스플라인의 내측에 설치되는 가요성 스플라인; 상기 가요성 스플라인의 내주면에 접촉하면서 회전하여 상기 가요성 스플라인을 변형시켜 하모닉 운동을 발생시키는 파형 발생부; 및 상기 가요성 스플라인에 내접하여 회전하는 출력부를 포함하는 것을 특징으로 한다.","1 원통형 고정 스플라인; 상기 고정 스플라인의 내측에 설치되는 가요성 스플라인; 상기 가요성 스플라인의 내주면에 접촉하면서 회전하여 상기 가요성 스플라인을 변형시켜 하모닉 운동을 발생시키는 파형 발생부; 및 상기 가요성 스플라인에 내접하여 회전하는 출력부를 포함하는 것을 특징으로 하는 하모닉 감속기.","김문상, 조창현","F16H-001/32",null,null,null,"2026.12.21","1 원통형 고정 스플라인; 상기 고정 스플라인의 내측에 설치되는 가요성 스플라인; 상기 가요성 스플라인의 내주면에 접촉하면서 회전하여 상기 가요성 스플라인을 변형시켜 하모닉 운동을 발생시키는 파형 발생부; 및 상기 가요성 스플라인에 내접하여 회전하는 출력부를 포함하는 것을 특징으로 하는 하모닉 감속기. 2 제1항에 있어서, 상기 가요성 스플라인은 밴드 형태로 이루어지는 것을 특징으로 하는 하모닉 감속기. 3 제2항에 있어서, 상기 파형 발생부는 구동부에 연결되는 입력 회전판 및 상기 입력 회전판의 둘레를 따라 복수개로 설치되어 상기 가요성 스플라인과 접촉하면서 자유 회전하는 회전자로 이루어지는 것을 특징으로 하는 하모닉 감속기. 4 제3항에 있어서, 상기 가요성 스플라인과 상기 고정 스플라인은 마찰 구동되는 것을 특징으로 하는 하모닉 감속기. 5 제3항에 있어서, 상기 가요성 스플라인과 상기 고정 스플라인은 치형 결합되어 구동되는 것을 특징으로 하는 하모닉 감속기. 6 제4항 또는 제5항에 있어서, 상기 회전자는 마찰 롤러로 이루어지는 것을 특징으로 하는 하모닉 감속기. 7 제4항 또는 제5항에 있어서, 상기 회전자는 외주면에 치형이 형성되는 치차로 이루어지는 것을 특징으로 하는 하모닉 감속기. 8 제4항 또는 제5항에 있어서, 상기 가요성 스플라인과 상기 출력부가 마찰 구동되는 것을 특징으로 하는 하모닉 감속기. 9 제4항 또는 제5항에 있어서, 상기 가요성 스플라인과 상기 출력부가 치형 결합되어 구동되는 것을 특징으로 하는 하모닉 감속기. 10 제3항에 있어서, 상기 입력 회전판은 정다각형으로 형성되고, 상기 회전자는 상기 입력 회전판의 각 꼭지점부에 위치하는 것을 특징으로 하는 하모닉 감속기. 11 제3항에 있어서, 상기 입력 회전판은 타원형으로 형성되는 것을 특징으로 하는 하모닉 감속기. 12 제3항에 있어서, 상기 가요성 스플라인에 외접하여 상기 가요성 스플라인과 상기 출력부의 접촉을 유지시키는 보조 회전자가 더 설치되는 것을 특징으로 하는 하모닉 감속기. 13 제12항에 있어서, 상기 보조 회전자는 상기 가요성 스플라인과 상기 출력부가 접촉하는 지점에 설치되는 것을 특징으로 하는 하모닉 감속기. 14 제3항에 있어서, 상기 가요성 스플라인은 복수개로 구비되고, 각 가요성 스플라인은 적어도 하나의 상기 회전자에 감기는 것을 특징으로 하는 하모닉 감속기. 15 제14항에 있어서, 상기 가요성 스플라인은 상기 회전자에 일대일 대응하면서 설치되는 것을 특징으로 하는 하모닉 감속기. 16 제3항에 있어서, 상기 파형 발생부는 상기 가요성 스플라인 내측에 서로 대칭하여 한 쌍으로 설치되고, 상기 한 쌍의 파형 발생부 사이에 출력부가 위치하는 것을 특징으로 하는 하모닉 감속기. 17 제16항에 있어서, 상기 한 쌍의 파형 발생부의 회전자가 상기 출력부보다 외측으로 돌출되어 설치되는 것을 특징으로 하는 하모닉 감속기. 18 제16항에 있어서, 상기 한 쌍의 파형 발생부는 공통 풀리에 연결되어 회전 동기를 맞추는 것을 특징으로 하는 하모닉 감속기.","KR100786205B1",null,1]
["K03931","재료","KR","폴리머와 고유전성 세라믹이 코팅된 금속 입자를 포함하는복합 유전막 및 이를 구비하는 캐패시터{COMPOSITE DIELECTRIC FILM INCLUDING POLYMER AND HIGH DIELECTRIC CERAMIC COATED METALLIC PARTICLES AND CAPACITOR INCLUDING THE SAME}",null,"원문이미지","KR20060099318A","2006.10.12","KR0813177B1","2008.03.06","본 발명은 폴리머와 고유전성 세라믹이 코팅된 금속 입자를 포함하는 복합 유전막 및 이를 구비하는 캐패시터에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 졸(sol) 형태의 고유전 세라믹 전구체(precursor)를 이용하여 금속 입자를 코팅 시 금속 입자간의 급격한 뭉침 현상을 최소화하기 위해 금속입자 표면에 말단기가 친수성 관능기로 되어있는 티올 화합물을 결합시켜 제조된 고유전성 세라믹이 코팅된 금속 입자를 포함하는 복합 유전막 및 이를 구비하는 내장형 캐패시터에 관한 것이다.","1 폴리머 기질과 금속입자를 포함하는 복합 유전막에 있어서, 상기 금속입자는 티올 화합물로 처리 후, 세라믹으로 코팅된 것을 특징으로 하는 복합 유전막.","김일두, 홍재민, 최승훈, 정성윤","H01G-004/12",null,null,null,"2026.10.12","1 폴리머 기질과 금속입자를 포함하는 복합 유전막에 있어서, 상기 금속입자는 티올 화합물로 처리 후, 세라믹으로 코팅된 것을 특징으로 하는 복합 유전막. 2 제 1 항에 있어서, 상기 티올 화합물은 말단기에 -OH , -COOH, -NH3, -C≡N, -SO2, -NO2 의 친수성 관능기를 포함하는 것을 특징으로 하는 복합 유전막. 3 제 1 항에 있어서, 상기 폴리머는 폴리우레탄 공중합체, 셀룰로오스계 유도체, 폴리메틸메스아크릴레이트(PMMA), 폴리메틸아크릴레이트(PMA), 폴리아크릴 공중합체, 폴리비닐아세테이트(PVAc), 폴리비닐아세테이트 공중합체, 폴리비닐알콜(PVA), 폴리퍼퓨릴알콜(PPFA), 폴리스틸렌, 폴리스틸렌 공중합체, 폴리에틸렌 옥사이드(PEO), 폴리프로필렌옥사이드(PPO), 폴리에틸렌옥사이드 공중합체, 폴리프로필렌옥사이드 공중합체, 폴리카보네이트(PC), 폴리비닐클로라이드(PVC), 폴리카프로락톤, 폴리비닐피롤리돈(PVP), 폴리비닐풀루오라이드, 폴리비닐리덴풀루오라이드, 폴리이미드 및 폴리에틸렌테레프탈레이트 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 복합 유전막. 4 제 1 항에 있어서, 상기 금속입자는 Ag, Fe, Ni, Al, Au, Pt, Cu, Mo, Cr, Ti 또는 Ta인 것을 특징으로 하는 복합 유전막 5 제 1 항에 있어서, 상기 세라믹은 ZrO2, TiO2, BaTiO3, Al2O3, Ta2O5, SrTiO3, (Ba,Sr)TiO3, (Pb,Zr)TiO3, Pb(Mg,Nb)O3-PbTiO3 또는 Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7인 것을 특징으로 하는 복합 유전막. 6 제 1 항에 있어서, 상기 금속입자는 고분자 부피의 0.5 ~ 90 부피%인 것을 특징으로 하는 복합 유전막. 7 금속 입자 현탁액 표면에 티올 화합물 용액을 첨가시킨 다음, 비이온 계면활성제로 처리하는 단계; 상기 비이온 계면활성제가 처리된 금속 입자 표면에 세라믹 전구체 졸 용액을 반응시켜 표면을 코팅하는 단계; 상기 세라믹 전구체가 코팅된 금속 입자를 가열하여 세라믹이 코팅된 금속 분말을 얻는 단계; 유기용매 내에 폴리머를 용해시켜 폴리머 기질을 얻는 단계; 상기 세라믹이 코팅된 금속 분말을 상기 폴리머 기질 내에 분산시켜 현탁액을 형성하는 단계; 및 기판 상에 상기 현탁액을 도포하고 열처리하여 복합 유전막을 제조하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 복합 유전막의 제조방법. 8 제 7 항에 있어서, 상기 금속입자 현탁액은 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 이소프로판올, 디메틸포름아마이드(Dimethylformamide), 디메틸아세트아마이드(Dimethylacetamide) 및 디메틸 술폭사이드(Dimethyl sulfoxide) 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 용매에 금속분말을 분산시켜 제조된 것임을 특징으로 하는 복합 유전막의 제조방법. 9 제 7 항에 있어서, 상기 티올 화합물은 말단기가 -OH, -COOH, -NH3, -C≡N, -SO2, -NO2의 친수성 관능기로 되어있는 것을 특징으로 하는 복합 유전막의 제조방법. 10 제 7 항에 있어서, 상기 비이온 계면활성제는 폴리비닐피롤리돈, 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌지방산에스테르 폴리옥시에틸렌알킬페놀에테르, 소르비탄지방산에스테르 및 폴리옥시에틸렌소르비탄지방산에스테르 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 복합 유전막의 제조방법. 11 제 7 항에 있어서, 상기 세라믹 전구체는 지르코늄 알콕사이드, 지르코늄 이소프로폭사이드, 티타늄 알콕사이드, 티타늄(IV) 클로라이드, 티타늄(IV) 부톡사이드, 바륨티타네이트(BaTiO3) 또는 리드 지르코늄 티타네이트(Pb,Zr)TiO3 인 것을 특징으로 하는 복합 유전막의 제조방법. 12 제 7 항에 있어서, 상기 유기용매는 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 이소프로판올, 디메틸포름아마이드(Dimethylformamide), 디메틸아세트아마이드(Dimethylacetamide), 디메틸 술폭사이드(Dimethyl sulfoxide) 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 복합 유전막의 제조방법. 13 청구항 1 내지 6 중에서 선택된 어느 한 항의 복합 유전막을 구비하는 것을 특징으로 하는 내장형 캐패시터.","KR100813177B1",null,1]
["K03921","광학","KR","광학적인 마이크로 미러 어레이를 이용한 가변 초고주파필터{Tunable Photonic Microwave Bandpass Filter Based on Micromirror Arrays}",null,"원문이미지","KR20060087839A","2006.09.12","KR0767726B1","2007.10.10","광학적인 마이크로 미러 어레이에 기반을 두고 인가되는 전압을 조절하여 쉽게 주파수 응답 모양의 변경이 가능하고, 공진 주파수의 조절이 가능한 광학적인 마이크로 미러 어레이를 이용한 초고주파 필터에 관하여 개시한다. 본 발명은 광대역의 파장을 가지는 ASE 광원; 상기 ASE 광원을 입력받아 다파장 채널을 생성하는 마이크로 미러 어레이; 상기 마이크로 미러 어레이에서 출력되는 다파장 채널에 초고주파 신호를 싣는 전광 모듈레이터; 상기 전광 모듈레이터에서 출력되는 초고주파 신호를 싣고 있는 다파장 채널을 파장에 따라 다른 시간축 지연을 가지고 전송하는 분산 광섬유; 및 상기 분산 광섬유를 통해 전송된 다른 시간축 지연을 가지는 다파장 채널을 합쳐 전기 신호로 변환하는 광전 변환기를 포함한다. 따라서, 마이크로 미러 어레이와 이에 가해지는 전압을 조절하여 원하는 모양의 다파장 채널을 만들 수 있어 쉽게 원하는 모양의 주파수 응답을 만들어 낼 수 있을 뿐만 아니라, 마이크로 미러 어레이에 가해지는 전압을 조절하여 다파장 채널의 파장 간격을 조절하여 쉽게 공진 주파수를 변화할 수 있다.","1 광학적인 방법을 사용하는 가변 초고주파 트랜스버셜(transversal) 필터를 구현함에 있어서, 다파장 채널을 생성하기 위한 광필터로 마이크로 미러 어레이를 사용하는 것을 특징으로 하는 가변 초고주파 필터.","이주한, 장유민, 한영근, 이상배","H01P-001/20",null,null,null,"2026.09.12","1 광학적인 방법을 사용하는 가변 초고주파 트랜스버셜(transversal) 필터를 구현함에 있어서, 다파장 채널을 생성하기 위한 광필터로 마이크로 미러 어레이를 사용하는 것을 특징으로 하는 가변 초고주파 필터. 2 제 1 항에 있어서, 상기 마이크로 미러 어레이에 인가되는 전압을 조절함으로써 다파장 채널의 출력 광스펙트럼의 전체 모양을 가변하여 초고주파 응답 모양을 가변하는 것을 특징으로 하는 가변 초고주파 필터. 3 제 1 항에 있어서, 상기 마이크로 미러 어레이에 인가되는 전압을 조절함으로써 다파장 채널의 파장 간격을 조절하여 초고주파 응답의 공진 주파수를 가변하는 것을 특징으로 하는 가변 초고주파 필터. 4 광대역의 파장을 가지는 ASE 광원; 상기 ASE 광원을 입력받아 다파장 채널을 생성하는 마이크로 미러 어레이; 상기 마이크로 미러 어레이에서 출력되는 다파장 채널에 초고주파 신호를 싣는 전광 모듈레이터; 상기 전광 모듈레이터에서 출력되는 초고주파 신호를 싣고 있는 다파장 채널을 파장에 따라 다른 시간축 지연을 가지고 전송하는 분산 광섬유; 및 상기 분산 광섬유를 통해 전송된 다른 시간축 지연을 가지는 다파장 채널을 합쳐 전기 신호로 변환하는 광전 변환기를 포함하는 것을 특징으로 하는 가변 초고주파 필터. 5 제 4 항에 있어서, 상기 마이크로 미러 어레이에 인가되는 전압을 조절함으로써 다파장 채널의 출력 광스펙트럼의 전체 모양을 가변하여 초고주파 응답 모양을 가변하는 것을 특징으로 하는 가변 초고주파 필터. 6 제 4 항에 있어서, 상기 마이크로 미러 어레이에 인가되는 전압을 조절함으로써 다파장 채널의 파장 간격을 조절하여 초고주파 응답의 공진 주파수를 가변하는 것을 특징으로 하는 가변 초고주파 필터.","KR100767726B1",null,1]
["K03911","연료전지","KR","고체 산화물 연료전지용 구리계 산화극의 제조 방법{PREPARATION METHOD OF COPPER-BASED CERMET ANODE FOR SOLID OXIDE FUEL CELL}",null,"원문이미지","KR20060096370A","2006.09.29","KR0804481B1","2008.02.12","본 발명은 고체 산화물 연료전지의 산화극 물질로 사용될 수 있는 구리계 복합체를 간편하게 제조하는 방법에 관한 것으로서, 상기 방법은 CuO/GDC, CuO/YSZ 또는 CuO/GDC/YSZ의 성형체를 산화구리의 융점보다 약간 높은 온도에서 짧은 시간 동안 소결하여 즉석(in situ) 침투가 일어나도록 함으로써 간편하게 CuO-YSZ 소결체를 제조하는 공정을 포함한다.","1 (1) Y2O3으로 안정화한 ZrO2 또는 Ce0.9Gd0.1O2 분말을 용매에 분산시키고, 산성계 구리염을 첨가하여 혼합하는 단계, (2) 염기성계 구리염을 첨가하고 혼합하는 단계, (3) 용매를 제거하여 건조 분말을 얻는 단계, (4) 단계 (3)에서 얻어지는 분말을 300 내지 600℃에서 하소하여 복합 분말을 얻는 단계 및 (5) 상기 단계 (4)에서 얻어진 복합 분말을 성형하고, 1100 내지 1250℃에서 열처리하여 소결시키는 단계를 포함하는, 고체 산화물 연료전지용 구리계 산화극 물질의 제조 방법.","임경란, 정윤지, 김창삼","H01M-004/88,H01M-004/86,C04B-035/01",null,null,null,"2026.09.29","1 (1) Y2O3으로 안정화한 ZrO2 또는 Ce0.9Gd0.1O2 분말을 용매에 분산시키고, 산성계 구리염을 첨가하여 혼합하는 단계, (2) 염기성계 구리염을 첨가하고 혼합하는 단계, (3) 용매를 제거하여 건조 분말을 얻는 단계, (4) 단계 (3)에서 얻어지는 분말을 300 내지 600℃에서 하소하여 복합 분말을 얻는 단계 및 (5) 상기 단계 (4)에서 얻어진 복합 분말을 성형하고, 1100 내지 1250℃에서 열처리하여 소결시키는 단계를 포함하는, 고체 산화물 연료전지용 구리계 산화극 물질의 제조 방법. 2 제1항에 있어서, 최종적으로 얻어지는 구리계 산화극 물질 중의 CuO 함량이 20 내지 60중량%인 고체 산화물 연료전지용 구리계 산화극 물질의 제조 방법. 3 제1항에 있어서, 상기 단계 (5)의 열처리 시간이 30분 이하인 고체 산화물 연료전지용 구리계 산화극 물질의 제조 방법. 4 제1항에 있어서, 상기 단계 (5)의 열처리 온도가 1130 내지 1180℃인 고체 산화물 연료전지용 구리계 산화극 물질의 제조 방법. 5 제1항에 있어서, 상기 산성계 구리염은 초산구리, 질산구리, 황산구리 및 염화구리로 구성된 군에서 선택되는 것인 고체 산화물 연료전지용 구리계 산화극 물질의 제조 방법. 6 제1항에 있어서, 상기 염기성계 구리염은 탄산구리인 고체 산화물 연료전지용 구리계 산화극 물질의 제조 방법. 7 제1항에 있어서, 최종적으로 얻어지는 산화극 물질이 CuO/Ce0.9Gd0.1O2 복합체 또는 CuO/Ce0.9Gd0.1O2/Y2O3으로 안정화한 ZrO2 복합체인 고체 산화물 연료전지용 구리계 산화극 물질의 제조 방법. 8 제1항에 있어서, 상기 단계 (4)에서 얻어지는 복합 분말을 MgO 졸로 표면 개질하고, 이어서 단계 (5)를 수행하는 것인 고체 산화물 연료전지용 구리계 산화극 물질의 제조 방법. 9 제1항에 있어서, 상기 단계 (1)에서 Y2O3으로 안정화한 ZrO2를 사용하고, 단계 (4)에서 얻어지는 분말에 GDC 분말 또는 MgO 졸로 표면 개질한 GDC 분말을 첨가하여 CuO/Ce0.9Gd0.1O2/Y2O3으로 안정화한 ZrO2 복합 분말을 제조하고, 이어서 단계 (5)를 수행하는 것인 고체 산화물 연료전지용 구리계 산화극 물질의 제조 방법. 10 제1항에 있어서, 상기 단계 (1)에서 Y2O3으로 안정화한 ZrO2를 사용하고, 단계 (4)에서 얻어지는 분말을 MgO 졸로 표면 개질한 다음 Ce0.9Gd0.1O2 분말 또는 MgO로 표면 개질한 Ce0.9Gd0.1O2 분말을 첨가하여 CuO/Ce0.9Gd0.1O2/Y2O3으로 안정화한 ZrO2 복합 분말을 제조하고, 이어서 단계 (5)를 수행하는 것인 고체 산화물 연료전지용 구리계 산화극 물질의 제조 방법. 11 제9항 또는 제10항에 있어서, 상기 CuO/Ce0.9Gd0.1O2/Y2O3으로 안정화한 ZrO2복합 분말의 비 CuO : YSZ : GDC가 20 내지 60중량% : 30 내지 70중량% : 5 내지 30중량%인 고체 산화물 연료전지용 구리계 산화극 물질의 제조 방법. 12 제8항 내지 제10항 중 어느 하나의 항에 있어서, 표면 개질에 사용되는 MgO 졸의 양은 표면이 개질되는 분말의 중량에 대하여 MgO의 양이 0.1 내지 3중량%가 되는 양인 고체 산화물 연료전지용 구리계 산화극 물질의 제조 방법.","KR100804481B1",null,1]
["K03941","화학","KR","금 나노 입자/고분자 미세 입자 복합체 및 이의 제조방법과 이를 함유하는 전기영동성 컬러 잉크 재료 및전기영동성 디스플레이 구조체{POLYMER MICROCAPSULE COMPLEX WITH GOLD NANO PARTICLES, PREPARATION THEREOF, AND ELECTROPHORETIC COLOR INK MATERIAL AND ELECTROPHORETIC DISPLAY COMPLEX COMPRISING THE SAME}",null,"원문이미지","KR20070006712A","2007.01.22","KR0835396B1","2008.05.29","본 발명은 금 나노 입자/고분자 미세 입자 복합체 및 이의 제조 방법과 이를 함유하는 전기영동성 컬러 잉크 재료 및 전기영동성 디스플레이 구조체에 관한 것으로, 보다 구체적으로 본 발명은 표면 플라즈몬 현상에 의하여 고유의 특이 컬러를 나타내는 금 나노 입자를, 금 등의 전이 금속에 대한 친화력을 지닌 관능기를 표면에 갖는 고분자 미세 입자 지지체의 표면에 복합화시켜, 금 나노 입자의 안정적인 색상 발현과 전기 응답성 및 컬러 영속성 유지가 가능하도록 제조한 금 나노 입자/고분자 미세 입자 복합체 및 이의 제조 방법과 이를 함유하는 전기영동성 컬러 잉크 재료 및 전기영동성 디스플레이 구조체에 관한 것이다.","1 (1) 코어와 상기 코어를 둘러싸는 쉘로 이루어지며, 그 표면에 전이 금속에 대한 화학적 친화력이 있는 표면 관능기를 갖는 고분자 미세 입자와, (2) 상기 고분자 미세 입자의 표면에 복합되어 있는 금 나노 입자를 포함하며, 상기 전이 금속에 대한 화학적 친화력이 있는 표면 관능기는 카르복실기, 히드록시기, 아민기, 니트릴기, 티올기 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 포함하는 금 나노 입자/고분자 미세 입자 복합체.","이상수, 김준경, 임해진","C08J-003/12,C08K-003/08",null,null,null,"2027.01.22","1 (1) 코어와 상기 코어를 둘러싸는 쉘로 이루어지며, 그 표면에 전이 금속에 대한 화학적 친화력이 있는 표면 관능기를 갖는 고분자 미세 입자와, (2) 상기 고분자 미세 입자의 표면에 복합되어 있는 금 나노 입자를 포함하며, 상기 전이 금속에 대한 화학적 친화력이 있는 표면 관능기는 카르복실기, 히드록시기, 아민기, 니트릴기, 티올기 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 포함하는 금 나노 입자/고분자 미세 입자 복합체. 2 제1항에 있어서, 상기 금 나노 입자의 평균 입경은 1 ~ 100 nm인 것인 금 나노 입자/고분자 미세 입자 복합체. 3 제1항에 있어서, 상기 금 나노 입자는 금 나노 입자/고분자 미세 입자 복합체 중량에 대하여 0.0001 ~ 0.1 중량%의 양으로 존재하는 것인 금 나노 입자/고분자 미세 입자 복합체. 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 6 제1항에 있어서, 상기 코어는 방향족 비닐계 화합물, 시안계 비닐계 화합물, 아크릴레이트계 화합물, 메타크릴레이트계 화합물, 디아크릴레이트계 화합물 및 디메타크릴레이트계 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 소수성 비닐계 단량체가 가교 중합되어 이루어진 것인 금 나노 입자/고분자 미세 입자 복합체. 7 제6항에 있어서, 상기 소수성 비닐계 단량체는 스티렌, 디비닐벤젠, 에틸비닐벤젠, 알파메틸스티렌, 플루오로스티렌, 비닐피리딘, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실에틸아크릴레이트, 글리시딜아크릴레이트, N,N'-디메틸아미노에틸아크릴레이트, 부틸메타크릴레이트, 2-에틸헥실에틸메타크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,6-헥산디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디메타크릴레이트 및 1,3-부틸렌글리콜디메타크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 단량체인 것인 금 나노 입자/고분자 미세 입자 복합체. 8 제1항에 있어서, 상기 쉘은 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 알킬(메타)아크릴아미드, 말레산, 푸마르산, (메타)아크릴로니트릴, 염화비닐로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 친수성 비닐계 단량체가 가교 중합되어 이루어진 것인 금 나노 입자/고분자 미세 입자 복합체. 9<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 10 제1항에 있어서, 상기 금 나노 입자가 고분자 미세 입자에 복합화되는 힘은 반데르발스힘, 정전기적 상호 작용 및 화학 결합 중 어느 하나에 의하는 것인 금 나노 입자/고분자 미세 입자 복합체. 11 (1) 소수성 비닐계 단량체, 카르복실기, 히드록시기, 아민기, 니트릴기, 티올기 중 어느 하나인 표면 관능기를 갖는 친수성 비닐계 단량체, 친수성 중합 개시제 및 가교제를 용매에 용해시켜 무유화 중합으로 친수성 비닐계 단량체가 중합된 쉘과 소수성 비닐계 단량체가 중합된 코어를 가지는 고분자 미세 입자를 제조하는 단계; (2) 금(Au)의 염을 환원제를 이용하여 환원시켜 금 나노 입자 수용액을 만드는 단계; (3) 상기 고분자 미세 입자를 금 나노 입자 수용액과 혼합하고 교반시켜 고분자 미세 입자 표면에 금 나노 입자를 흡착시켜 금 나노 입자/고분자 미세 입자 복합체를 얻는 단계 를 포함하는, 금 나노 입자/고분자 미세 입자 복합체의 제조 방법. 12<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 13<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 14 제11항에 있어서, 상기 단계 (3)에서 얻어지는 금 나노 입자/고분자 미세 입자 복합체는 금 나노 입자를 금 나노 입자/고분자 미세 입자 복합체의 중량에 대하여 0.0001 ~ 0.1 중량%의 양으로 함유하는 것인 금 나노 입자/고분자 미세 입자 복합체의 제조 방법. 15 제11항에 있어서, 상기 소수성 비닐계 단량체는 방향족 비닐계 화합물, 시안계 비닐계 화합물, 아크릴레이트계 화합물, 메타크릴레이트계 화합물, 디아크릴레이트계 화합물 및 디메타크릴레이트계 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 단량체인 것인 금 나노 입자/고분자 미세 입자 복합체의 제조 방법. 16 제15항에 있어서, 상기 소수성 비닐계 단량체는 스티렌, 디비닐벤젠, 에틸비닐벤젠, 알파메틸스티렌, 플루오로스티렌, 비닐피리딘, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실에틸아크릴레이트, 글리시딜아크릴레이트, N,N'-디메틸아미노에틸아크릴레이트, 부틸메타크릴레이트, 2-에틸헥실에틸메타크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,6-헥산디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디메타크릴레이트 및 1,3-부틸렌글리콜디메타크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 단량체인 것인 금 나노 입자/고분자 미세 입자 복합체의 제조 방법. 17 제11항에 있어서, 상기 친수성 비닐계 단량체는 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 알킬(메타)아크릴아미드, 말레산, 푸마르산, (메타)아크릴로니트릴, 염화비닐로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 단량체인 것인 금 나노 입자/고분자 미세 입자 복합체의 제조 방법. 18<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 19 제1항 내지 제3항, 제6항 내지 제8항, 제10항 중 어느 하나의 항에 따른 금 나노 입자/고분자 미세 입자 복합체를 무극성 용매에 분산시킨 것인 금 나노 입자/고분자 미세 입자 복합체를 함유하는 전기영동성 컬러 잉크 재료. 20<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 21 제1항 내지 제3항, 제6항 내지 제8항, 제10항 중 어느 하나의 항에 따른 금 나노 입자/고분자 미세 입자 복합체를 함유하는 것인 금 나노 입자/고분자 미세 입자 복합체를 함유하는 전기영동성 디스플레이 구조체. 22 제19항에 따른 금 나노 입자/고분자 미세 입자 복합체를 함유하는 전기영동성 컬러 잉크 재료를 함유하는 것인 금 나노 입자/고분자 미세 입자 복합체를 함유하는 전기영동성 디스플레이 구조체. 23<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100835396B1",null,1]
["F04141","생화학","FR","Method for analysis of metabolite difference between two biological samples using gas chromatography-mass spectrometry",null,"원문이미지","EP2007007252","2007.04.05","EP01906183B1","2013.02.13","Disclosed is a method of extracting all metabolites existing in a biological sample to detect a comprehensive difference between metabolites of a control group and a test group, thereby verifying significance thereof. More particularly, the invention comprises a first step of analyzing a fraction extracted with a solid phase extraction method, a fraction obtained by extracting the remnant fraction with a liquid-liquid extraction method and fractions extracted with the liquid-liquid extraction method at two pH different from each other after the hydrolysis, with a gas chromatography-mass spectrometry; a second step of converting the chromatogram result into numerical values capable of being statistically processed; and a third step of analyzing the numerical values with a principal component analysis (PCA) and a discriminant analysis (DA) to detect a difference between the control group and the test group. According to the invention, the difference between the two groups can be comprehensively detected with the areas of the peaks on the chromatogram, without a standard material or verified quantitative method. Therefore, it is possible to detect the metabolic change in the organism due to the disease or gene mutation, without an accurate quantitative analysis of the metabolites.,","1. A method for detecting differences of concentrations or quantities between metabolites of two biological samples, the method comprising sequentially performing the following steps: (i) extracting fraction 1 using a Strata XR solid phase extraction method, wherein the solid phase is pretreated with methanol to activate it and wherein the extraction is performed by first adsorbing metabolites and subsequently discharging them with methanol and finally derivatizing part of said discharged fraction 1 metabolites by reacting a portion of said fraction 1 with a mixture of MSTFA (N-Methyl-N-(trimethylsilyl) trifluoroacetamide), NH4I (ammonium iodide) and dithiolerythritol in a ratio of 100:4:5 (vol/vol/vol) for 15 minutes at 60øC;(ii) separating fraction 2 from the remaining underivatized fraction 1 using a liquid-liquid extraction method after buffering said fraction 1 at pH 5 to pH 5.5, wherein the liquid-liquid extraction is performed by shaking said fraction 1 with a mixture of acetic acid buffer and diethylether in a ratio of 1:5 vol/vol for 5 minutes and finally derivatizing part of said extracted fraction 2 metabolites by reacting a portion thereof with a mixture of MSTFA, NH4I and dithiolerythritol in a ratio of 100:4:5 (vol/vol/vol) for 15 minutes at 60øC;(iii) hydrolyzing the remaining underivatized liquid phase left over after separating said fraction 2 at 55øC for 3 hours using beta-glucuronidase/arylsulfatase (Helix pomatia, RocheR, Mannheim) 100 æl, and separating fraction 3 from the hydrolyzed left over liquid phase using a liquid-liquid extraction method by shaking said left over for 5 minutes with diethylether and finally derivatizing part of said fraction 3 metabolites by reacting a portion thereof with a mixture of MSTFA, NH4I and dithiolerythritol in a ratio of 100:4:5 (vol/vol/vol) for 15 minutes at 60øC; and(iv) separating fraction 4 from the remaining underivatized liquid phase left after separating said fraction 3, by using a liquid-liquid extraction method by shaking said left over liquid phase for 5 minutes with diethylether after buffering said left over liquid phase at pH 13-13.5 with K2CO3 and finally derivatizing part of said extracted fraction 4 metabolites by reacting a portion thereof with a mixture of MSTFA, NH4I and dithiolerythritol in a ratio of 100:4:5 (vol/vol/vol) for 15 minutes at 60øC; and(v) performing chromatography on each of said derivatized fractions 1 to 4 with a gas chromatography-mass spectrometry analysis device; converting a result of said chromatography into numerical values by dividing a total chromatography performing time at 1 minute intervals and determining the highest value of areas of chromatogram peaks or the highest value of heights of chromatogram peaks exhibited during 1 minute as a representative value of each 1 minute period and analyzing the numerical values from the first biological sample group and the numerical values from the second biological sample group with principle component analysis and discriminant analysis, and thus determining whether there is a statistically significant difference between the numerical values of said two sample groups.","Jung, Byung Hwa, Chung, Bong Chul","G01N-033/68,G01N-030/02,G06F-019/24,G01N-001/28,G01N-033/50","EP01906183A1","2008.04.02","2006.09.27 (KR 20060094002)",null,"1. A method for detecting differences of concentrations or quantities between metabolites of two biological samples, the method comprising sequentially performing the following steps: (i) extracting fraction 1 using a Strata XR solid phase extraction method, wherein the solid phase is pretreated with methanol to activate it and wherein the extraction is performed by first adsorbing metabolites and subsequently discharging them with methanol and finally derivatizing part of said discharged fraction 1 metabolites by reacting a portion of said fraction 1 with a mixture of MSTFA (N-Methyl-N-(trimethylsilyl) trifluoroacetamide), NH4I (ammonium iodide) and dithiolerythritol in a ratio of 100:4:5 (vol/vol/vol) for 15 minutes at 60øC;(ii) separating fraction 2 from the remaining underivatized fraction 1 using a liquid-liquid extraction method after buffering said fraction 1 at pH 5 to pH 5.5, wherein the liquid-liquid extraction is performed by shaking said fraction 1 with a mixture of acetic acid buffer and diethylether in a ratio of 1:5 vol/vol for 5 minutes and finally derivatizing part of said extracted fraction 2 metabolites by reacting a portion thereof with a mixture of MSTFA, NH4I and dithiolerythritol in a ratio of 100:4:5 (vol/vol/vol) for 15 minutes at 60øC;(iii) hydrolyzing the remaining underivatized liquid phase left over after separating said fraction 2 at 55øC for 3 hours using beta-glucuronidase/arylsulfatase (Helix pomatia, RocheR, Mannheim) 100 æl, and separating fraction 3 from the hydrolyzed left over liquid phase using a liquid-liquid extraction method by shaking said left over for 5 minutes with diethylether and finally derivatizing part of said fraction 3 metabolites by reacting a portion thereof with a mixture of MSTFA, NH4I and dithiolerythritol in a ratio of 100:4:5 (vol/vol/vol) for 15 minutes at 60øC; and(iv) separating fraction 4 from the remaining underivatized liquid phase left after separating said fraction 3, by using a liquid-liquid extraction method by shaking said left over liquid phase for 5 minutes with diethylether after buffering said left over liquid phase at pH 13-13.5 with K2CO3 and finally derivatizing part of said extracted fraction 4 metabolites by reacting a portion thereof with a mixture of MSTFA, NH4I and dithiolerythritol in a ratio of 100:4:5 (vol/vol/vol) for 15 minutes at 60øC; and(v) performing chromatography on each of said derivatized fractions 1 to 4 with a gas chromatography-mass spectrometry analysis device; converting a result of said chromatography into numerical values by dividing a total chromatography performing time at 1 minute intervals and determining the highest value of areas of chromatogram peaks or the highest value of heights of chromatogram peaks exhibited during 1 minute as a representative value of each 1 minute period and analyzing the numerical values from the first biological sample group and the numerical values from the second biological sample group with principle component analysis and discriminant analysis, and thus determining whether there is a statistically significant difference between the numerical values of said two sample groups.","EP1906183A1, EP1906183B1, JP2008083027A, JP4758933B2, KR100740582B1, US2008076181A1, US7678579B2","I",4]
["F04140","생화학","DE","Method for analysis of metabolite difference between two biological samples using gas chromatography-mass spectrometry",null,"원문이미지","EP2007007252","2007.04.05","EP01906183B1","2013.02.13","Disclosed is a method of extracting all metabolites existing in a biological sample to detect a comprehensive difference between metabolites of a control group and a test group, thereby verifying significance thereof. More particularly, the invention comprises a first step of analyzing a fraction extracted with a solid phase extraction method, a fraction obtained by extracting the remnant fraction with a liquid-liquid extraction method and fractions extracted with the liquid-liquid extraction method at two pH different from each other after the hydrolysis, with a gas chromatography-mass spectrometry; a second step of converting the chromatogram result into numerical values capable of being statistically processed; and a third step of analyzing the numerical values with a principal component analysis (PCA) and a discriminant analysis (DA) to detect a difference between the control group and the test group. According to the invention, the difference between the two groups can be comprehensively detected with the areas of the peaks on the chromatogram, without a standard material or verified quantitative method. Therefore, it is possible to detect the metabolic change in the organism due to the disease or gene mutation, without an accurate quantitative analysis of the metabolites.,","1. A method for detecting differences of concentrations or quantities between metabolites of two biological samples, the method comprising sequentially performing the following steps: (i) extracting fraction 1 using a Strata XR solid phase extraction method, wherein the solid phase is pretreated with methanol to activate it and wherein the extraction is performed by first adsorbing metabolites and subsequently discharging them with methanol and finally derivatizing part of said discharged fraction 1 metabolites by reacting a portion of said fraction 1 with a mixture of MSTFA (N-Methyl-N-(trimethylsilyl) trifluoroacetamide), NH4I (ammonium iodide) and dithiolerythritol in a ratio of 100:4:5 (vol/vol/vol) for 15 minutes at 60øC;(ii) separating fraction 2 from the remaining underivatized fraction 1 using a liquid-liquid extraction method after buffering said fraction 1 at pH 5 to pH 5.5, wherein the liquid-liquid extraction is performed by shaking said fraction 1 with a mixture of acetic acid buffer and diethylether in a ratio of 1:5 vol/vol for 5 minutes and finally derivatizing part of said extracted fraction 2 metabolites by reacting a portion thereof with a mixture of MSTFA, NH4I and dithiolerythritol in a ratio of 100:4:5 (vol/vol/vol) for 15 minutes at 60øC;(iii) hydrolyzing the remaining underivatized liquid phase left over after separating said fraction 2 at 55øC for 3 hours using beta-glucuronidase/arylsulfatase (Helix pomatia, RocheR, Mannheim) 100 æl, and separating fraction 3 from the hydrolyzed left over liquid phase using a liquid-liquid extraction method by shaking said left over for 5 minutes with diethylether and finally derivatizing part of said fraction 3 metabolites by reacting a portion thereof with a mixture of MSTFA, NH4I and dithiolerythritol in a ratio of 100:4:5 (vol/vol/vol) for 15 minutes at 60øC; and(iv) separating fraction 4 from the remaining underivatized liquid phase left after separating said fraction 3, by using a liquid-liquid extraction method by shaking said left over liquid phase for 5 minutes with diethylether after buffering said left over liquid phase at pH 13-13.5 with K2CO3 and finally derivatizing part of said extracted fraction 4 metabolites by reacting a portion thereof with a mixture of MSTFA, NH4I and dithiolerythritol in a ratio of 100:4:5 (vol/vol/vol) for 15 minutes at 60øC; and(v) performing chromatography on each of said derivatized fractions 1 to 4 with a gas chromatography-mass spectrometry analysis device; converting a result of said chromatography into numerical values by dividing a total chromatography performing time at 1 minute intervals and determining the highest value of areas of chromatogram peaks or the highest value of heights of chromatogram peaks exhibited during 1 minute as a representative value of each 1 minute period and analyzing the numerical values from the first biological sample group and the numerical values from the second biological sample group with principle component analysis and discriminant analysis, and thus determining whether there is a statistically significant difference between the numerical values of said two sample groups.","Jung, Byung Hwa, Chung, Bong Chul","G01N-033/68,G01N-030/02,G06F-019/24,G01N-001/28,G01N-033/50","EP01906183A1","2008.04.02","2006.09.27 (KR 20060094002)",null,"1. A method for detecting differences of concentrations or quantities between metabolites of two biological samples, the method comprising sequentially performing the following steps: (i) extracting fraction 1 using a Strata XR solid phase extraction method, wherein the solid phase is pretreated with methanol to activate it and wherein the extraction is performed by first adsorbing metabolites and subsequently discharging them with methanol and finally derivatizing part of said discharged fraction 1 metabolites by reacting a portion of said fraction 1 with a mixture of MSTFA (N-Methyl-N-(trimethylsilyl) trifluoroacetamide), NH4I (ammonium iodide) and dithiolerythritol in a ratio of 100:4:5 (vol/vol/vol) for 15 minutes at 60øC;(ii) separating fraction 2 from the remaining underivatized fraction 1 using a liquid-liquid extraction method after buffering said fraction 1 at pH 5 to pH 5.5, wherein the liquid-liquid extraction is performed by shaking said fraction 1 with a mixture of acetic acid buffer and diethylether in a ratio of 1:5 vol/vol for 5 minutes and finally derivatizing part of said extracted fraction 2 metabolites by reacting a portion thereof with a mixture of MSTFA, NH4I and dithiolerythritol in a ratio of 100:4:5 (vol/vol/vol) for 15 minutes at 60øC;(iii) hydrolyzing the remaining underivatized liquid phase left over after separating said fraction 2 at 55øC for 3 hours using beta-glucuronidase/arylsulfatase (Helix pomatia, RocheR, Mannheim) 100 æl, and separating fraction 3 from the hydrolyzed left over liquid phase using a liquid-liquid extraction method by shaking said left over for 5 minutes with diethylether and finally derivatizing part of said fraction 3 metabolites by reacting a portion thereof with a mixture of MSTFA, NH4I and dithiolerythritol in a ratio of 100:4:5 (vol/vol/vol) for 15 minutes at 60øC; and(iv) separating fraction 4 from the remaining underivatized liquid phase left after separating said fraction 3, by using a liquid-liquid extraction method by shaking said left over liquid phase for 5 minutes with diethylether after buffering said left over liquid phase at pH 13-13.5 with K2CO3 and finally derivatizing part of said extracted fraction 4 metabolites by reacting a portion thereof with a mixture of MSTFA, NH4I and dithiolerythritol in a ratio of 100:4:5 (vol/vol/vol) for 15 minutes at 60øC; and(v) performing chromatography on each of said derivatized fractions 1 to 4 with a gas chromatography-mass spectrometry analysis device; converting a result of said chromatography into numerical values by dividing a total chromatography performing time at 1 minute intervals and determining the highest value of areas of chromatogram peaks or the highest value of heights of chromatogram peaks exhibited during 1 minute as a representative value of each 1 minute period and analyzing the numerical values from the first biological sample group and the numerical values from the second biological sample group with principle component analysis and discriminant analysis, and thus determining whether there is a statistically significant difference between the numerical values of said two sample groups.","EP1906183A1, EP1906183B1, JP2008083027A, JP4758933B2, KR100740582B1, US2008076181A1, US7678579B2","I",4]
["F02530","생화학","GB","Method for analysis of metabolite difference between two biological samples using gas chromatography-mass spectrometry",null,"원문이미지","EP2007007252","2007.04.05","EP01906183B1","2013.02.13","Disclosed is a method of extracting all metabolites existing in a biological sample to detect a comprehensive difference between metabolites of a control group and a test group, thereby verifying significance thereof. More particularly, the invention comprises a first step of analyzing a fraction extracted with a solid phase extraction method, a fraction obtained by extracting the remnant fraction with a liquid-liquid extraction method and fractions extracted with the liquid-liquid extraction method at two pH different from each other after the hydrolysis, with a gas chromatography-mass spectrometry; a second step of converting the chromatogram result into numerical values capable of being statistically processed; and a third step of analyzing the numerical values with a principal component analysis (PCA) and a discriminant analysis (DA) to detect a difference between the control group and the test group. According to the invention, the difference between the two groups can be comprehensively detected with the areas of the peaks on the chromatogram, without a standard material or verified quantitative method. Therefore, it is possible to detect the metabolic change in the organism due to the disease or gene mutation, without an accurate quantitative analysis of the metabolites.,","1. A method for detecting differences of concentrations or quantities between metabolites of two biological samples, the method comprising sequentially performing the following steps: (i) extracting fraction 1 using a Strata XR solid phase extraction method, wherein the solid phase is pretreated with methanol to activate it and wherein the extraction is performed by first adsorbing metabolites and subsequently discharging them with methanol and finally derivatizing part of said discharged fraction 1 metabolites by reacting a portion of said fraction 1 with a mixture of MSTFA (N-Methyl-N-(trimethylsilyl) trifluoroacetamide), NH4I (ammonium iodide) and dithiolerythritol in a ratio of 100:4:5 (vol/vol/vol) for 15 minutes at 60øC;(ii) separating fraction 2 from the remaining underivatized fraction 1 using a liquid-liquid extraction method after buffering said fraction 1 at pH 5 to pH 5.5, wherein the liquid-liquid extraction is performed by shaking said fraction 1 with a mixture of acetic acid buffer and diethylether in a ratio of 1:5 vol/vol for 5 minutes and finally derivatizing part of said extracted fraction 2 metabolites by reacting a portion thereof with a mixture of MSTFA, NH4I and dithiolerythritol in a ratio of 100:4:5 (vol/vol/vol) for 15 minutes at 60øC;(iii) hydrolyzing the remaining underivatized liquid phase left over after separating said fraction 2 at 55øC for 3 hours using beta-glucuronidase/arylsulfatase (Helix pomatia, RocheR, Mannheim) 100 æl, and separating fraction 3 from the hydrolyzed left over liquid phase using a liquid-liquid extraction method by shaking said left over for 5 minutes with diethylether and finally derivatizing part of said fraction 3 metabolites by reacting a portion thereof with a mixture of MSTFA, NH4I and dithiolerythritol in a ratio of 100:4:5 (vol/vol/vol) for 15 minutes at 60øC; and(iv) separating fraction 4 from the remaining underivatized liquid phase left after separating said fraction 3, by using a liquid-liquid extraction method by shaking said left over liquid phase for 5 minutes with diethylether after buffering said left over liquid phase at pH 13-13.5 with K2CO3 and finally derivatizing part of said extracted fraction 4 metabolites by reacting a portion thereof with a mixture of MSTFA, NH4I and dithiolerythritol in a ratio of 100:4:5 (vol/vol/vol) for 15 minutes at 60øC; and(v) performing chromatography on each of said derivatized fractions 1 to 4 with a gas chromatography-mass spectrometry analysis device; converting a result of said chromatography into numerical values by dividing a total chromatography performing time at 1 minute intervals and determining the highest value of areas of chromatogram peaks or the highest value of heights of chromatogram peaks exhibited during 1 minute as a representative value of each 1 minute period and analyzing the numerical values from the first biological sample group and the numerical values from the second biological sample group with principle component analysis and discriminant analysis, and thus determining whether there is a statistically significant difference between the numerical values of said two sample groups.","Jung, Byung Hwa, Chung, Bong Chul","G01N-033/68,G01N-030/02,G06F-019/24,G01N-001/28,G01N-033/50","EP01906183A1","2008.04.02","2006.09.27 (KR 20060094002)",null,"1. A method for detecting differences of concentrations or quantities between metabolites of two biological samples, the method comprising sequentially performing the following steps: (i) extracting fraction 1 using a Strata XR solid phase extraction method, wherein the solid phase is pretreated with methanol to activate it and wherein the extraction is performed by first adsorbing metabolites and subsequently discharging them with methanol and finally derivatizing part of said discharged fraction 1 metabolites by reacting a portion of said fraction 1 with a mixture of MSTFA (N-Methyl-N-(trimethylsilyl) trifluoroacetamide), NH4I (ammonium iodide) and dithiolerythritol in a ratio of 100:4:5 (vol/vol/vol) for 15 minutes at 60øC;(ii) separating fraction 2 from the remaining underivatized fraction 1 using a liquid-liquid extraction method after buffering said fraction 1 at pH 5 to pH 5.5, wherein the liquid-liquid extraction is performed by shaking said fraction 1 with a mixture of acetic acid buffer and diethylether in a ratio of 1:5 vol/vol for 5 minutes and finally derivatizing part of said extracted fraction 2 metabolites by reacting a portion thereof with a mixture of MSTFA, NH4I and dithiolerythritol in a ratio of 100:4:5 (vol/vol/vol) for 15 minutes at 60øC;(iii) hydrolyzing the remaining underivatized liquid phase left over after separating said fraction 2 at 55øC for 3 hours using beta-glucuronidase/arylsulfatase (Helix pomatia, RocheR, Mannheim) 100 æl, and separating fraction 3 from the hydrolyzed left over liquid phase using a liquid-liquid extraction method by shaking said left over for 5 minutes with diethylether and finally derivatizing part of said fraction 3 metabolites by reacting a portion thereof with a mixture of MSTFA, NH4I and dithiolerythritol in a ratio of 100:4:5 (vol/vol/vol) for 15 minutes at 60øC; and(iv) separating fraction 4 from the remaining underivatized liquid phase left after separating said fraction 3, by using a liquid-liquid extraction method by shaking said left over liquid phase for 5 minutes with diethylether after buffering said left over liquid phase at pH 13-13.5 with K2CO3 and finally derivatizing part of said extracted fraction 4 metabolites by reacting a portion thereof with a mixture of MSTFA, NH4I and dithiolerythritol in a ratio of 100:4:5 (vol/vol/vol) for 15 minutes at 60øC; and(v) performing chromatography on each of said derivatized fractions 1 to 4 with a gas chromatography-mass spectrometry analysis device; converting a result of said chromatography into numerical values by dividing a total chromatography performing time at 1 minute intervals and determining the highest value of areas of chromatogram peaks or the highest value of heights of chromatogram peaks exhibited during 1 minute as a representative value of each 1 minute period and analyzing the numerical values from the first biological sample group and the numerical values from the second biological sample group with principle component analysis and discriminant analysis, and thus determining whether there is a statistically significant difference between the numerical values of said two sample groups.","EP1906183A1, EP1906183B1, JP2008083027A, JP4758933B2, KR100740582B1, US2008076181A1, US7678579B2","I",4]
["F02529","생화학","JP","가스 크로마토그래피 질량 해석기를 이용한 양서체 시료군간의 대사체의 차별성의 해석 방법",null,"원문이미지","JP2007096793A","2007.04.02","JP4758933B9","2011.06.10","(57)【요약】 【과제】생체 시료중에 존재하는 모든 대사체를 추출하고, 대조군과 실험군이라는 대사체의 대략적인 차이를 검출하고, 그것에 대한 유의성을 검증하는 방법을 제공한다.【해결 수단】본 발명은, 모든 생체 시료를 고체 상태 추출법에 의하여 추출한 분획, 이 분획을 액체-액체 추출법에 의하여 추출한 분획, 및 가수분해 후, 다른 2 종류의 pH하, 액체-액체 추출법에 의하여 추출한 분획을 가스 크로마토그래피 질량 해석기를 이용하고 해석하는 단계와, 그 크로마토그램 결과를 통계 처리 가능한 수치에 변환하는 단계와, 상기 수치를 주성분 해석(PCA)과 판별 해석(DA)에 보다 해석하고, 대조군과 실험군이라는 차별성을 검출하는 단계와,을 포함하는 것을 특징으로 한다. 다른 특성을 가지는 2군의 차별성을 표준 물질이나 검증하게 되는 정량 방법 없음에도 크로마토그램상의 피크 면적에 근거하고 대략적인 차이를 검출하는 곳(것)에 장점이 리, 병 등에 의한 생체로의 대사 변화의 유무를 대사체의 정확한 정량 없이 검출 가능해진다.【선택도】그림 3","【청구항 1】 양서체 시료군의 차별성을 검출하는 방법 이고, i)고체 상태 추출법다고, ii)약산성으로의 액체-액체 추출법다고, iii)가수분해 후에 있어서 약산성으로의 액체-액체 추출법다고, iv)알칼리성으로의 액체-액체 추출법다고,을 순차적으로에게 적용하고 생체 시료로부터 대사체를 추출하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 양서체 시료군간의 대사체의 차별성의 해석 방법.","ジュン,  ビュン  フワ, チュン,  ボン  チュル","G01N-030/88,G01N-030/06,G01N-030/72,G01N-027/62,C12Q-001/34","JP2008083027A","2008.04.10","2006-09-27 (KR 10-2006-0094002)","2027.04.02","【특허청구의 범위】 【청구항 1】 양서체 시료군의 차별성을 검출하는 방법 이고, i)고체 상태 추출법다고, ii)약산성으로의 액체-액체 추출법다고, iii)가수분해 후에 있어서 약산성으로의 액체-액체 추출법다고, iv)알칼리성으로의 액체-액체 추출법다고,을 순차적으로에게 적용하고 생체 시료로부터 대사체를 추출하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 양서체 시료군간의 대사체의 차별성의 해석 방법. 【청구항 2】 상기 해석 방법은, 상기 추출하게 되는 대사체를 크로마토그래피 해석 구기를 이용하고 해석하는 단계와, 전기록 크로마토그래피 해석 결과를 통계 처리 가능한 수치에 변환하는 단계와, 상기 변환하게 되는 수치에 근거하고, 통계학적에 상기 양 생체 시료군의 차별성을 검증하는 단계와,을 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 양서체 시료군간의 대사체의 차별성의 해석 방법. 【청구항 3】 상기 ii)및 iii)에 있어서 약산성은 pH5∼pH5.5 있고, 상기 iv)에 있어서 알칼리성은 pH13∼13.5 있는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 양서체 시료군간의 대사체의 차별성의 해석 방법. 【청구항 4】 상기 iii)에 있어서 가수분해는,β-굴쿠로니다제와 아릴슬파타제를 이용하고 행하는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 양서체 시료군간의 대사체의 차별성의 해석 방법. 【청구항 5】 전기록 크로마토그래피 해석 구기는, 가스 크로마토그래피에 질량 해석기가 장착되고 있는 것이는 것을 특징으로 하는 청구항 2에 기재의 양서체 시료군간의 대사체의 차별성의 해석 방법. 【청구항 6】 전기록 크로마토그래피 해석 결과를 통계 처리 가능한 수치에 변환하는 단계 파, 총해석 시간을 복수의 단위 시간 간격에 나누고, 단위시간중에 나타나는 크로마토그램 피크의 면적 및 높이의 우치 다이 키나님의 수치를 단위시간중의 대표치로서 정하는 것을 특징으로 하는 청구항 2에 기재의 양서체 시료군간의 대사체의 차별성의 해석 방법.","EP1906183A1, EP1906183B1, JP2008083027A, JP4758933B2, KR100740582B1, US2008076181A1, US7678579B2","I",4]
["K03885","재료","KR","미세 캡슐-도전성 입자 복합체, 이의 제조 방법 및 이를이용한 이방 도전성 접착 필름{CONDUCTING PARTICLE COMPLEX WITH MICROCAPSULES, PREPARATION THEREOF AND ANISOTROPIC CONDUCTIVE ADHESIVE FILM USED THEREOF}",null,"원문이미지","KR20060113534A","2006.11.16","KR0787381B1","2007.12.13","본 발명은 도전성 금속 입자 또는 도전성 금속층으로 피복된 고분자 입자 등의 도전성 입자 표면에, 상기 금속과 화학적 친화력을 갖는 관능기가 표면에 존재하고 경화성 수지용 저온속경화형 경화제 유기 화합물이 내부에 충진된 미세 캡슐을 부착시킨 미세 캡슐-도전성 입자 복합체, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 이방 도전성 필름에 관한 것이다. 본 발명에서는, 미세 캡슐 표면의 관능기와 도전성 입자 표면 간의 화학적 작용을 이용하므로, 미세 캡슐의 선택적 표면 흡착 및 흡착 밀도 제어가 가능하고, 도전성 입자 또는 미세 캡슐의 표면 개질, 입자 간 응집 현상 방지, 단층(mono-layer) 흡착 등의 효과를 얻을 수 있다. 특히 미세 캡슐-도전성 입자 복합체를 이용한 이방 도전성 필름(anisotropic conductive film, ACF)의 경우, 경화성 수지용 저온속경화형 경화제 유기 화합물이 미세 캡슐 내에 충진되어 있다가 ACF 실장 압력에 의하여 미세 캡슐 외부로 방출되어 ACF 절연 바인더 수지층의 경화 반응을 저온에서 신속히 유발시켜 접착층을 안정화함으로써, 도전성 입자 간의 응집에 의한 전기적 단락을 막으면서 기존보다 훨씬 낮은 실장 온도 조건에서 ACF의 저온속경화 반응을 유발할 수 있으므로, 높은 생산성과 열에 대한 내구성 문제를 동시에 해결할 수 있다.","1 (1) 도전성 금속 입자 또는 고분자 입자 표면에 도전성 금속층이 피복되어 있는 도전성 입자와, (2) 상기 금속과 친화력을 갖는 표면 관능기가 존재하고, 코어 부분과 쉘 부분으로 이루어지며, 상기 코어 부분은 저온속경화형 경화제 유기화합물로 이루어진 것인 미세 캡슐을 포함하고, 도전성 입자 표면에 미세 캡슐이 흡착되어 있는 것이거나, 미세 캡슐 표면에 도전성 입자가 흡착되어 있는 것인 미세 캡슐-도전성 입자 복합체.","이상수, 김준경, 정해은, 임순호, 박민, 이현정","C09J-009/02,C09J-007/02,C09J-009/00",null,null,null,"2026.11.16","1 (1) 도전성 금속 입자 또는 고분자 입자 표면에 도전성 금속층이 피복되어 있는 도전성 입자와, (2) 상기 금속과 친화력을 갖는 표면 관능기가 존재하고, 코어 부분과 쉘 부분으로 이루어지며, 상기 코어 부분은 저온속경화형 경화제 유기화합물로 이루어진 것인 미세 캡슐을 포함하고, 도전성 입자 표면에 미세 캡슐이 흡착되어 있는 것이거나, 미세 캡슐 표면에 도전성 입자가 흡착되어 있는 것인 미세 캡슐-도전성 입자 복합체. 2 제1항에 있어서, 상기 도전성 금속 입자 및 도전성 금속층의 금속은 금, 은, 구리 및 니켈 중 어느 하나인 것인 미세 캡슐-도전성 입자 복합체. 3 제1항에 있어서, 상기 표면 관능기는 카르복실기 또는 카르복실산의 유도체인 것인 미세 캡슐-도전성 입자 복합체. 4 제1항에 있어서, 상기 미세 캡슐의 쉘 부분은 스티렌 계열, 아크릴레이트 계열 열가소성 비닐계 중합체 또는 이들의 열가소성 비닐계 공중합체인 것인 미세 캡슐-도전성 입자 복합체. 5 제4항에 있어서, 상기 미세 캡슐의 쉘 부분은 가교된 중합체인 것인 미세 캡슐-도전성 입자 복합체. 6 제1항에 있어서, 상기 저온속경화형 경화제 유기화합물은 이미다졸 유도체; 3차 아민 유도체; 및 소수성의 에폭시 부가물 중에서 선택된 1개 이상의 경화제인 것인 미세 캡슐-도전성 입자 복합체. 7 제1항에 있어서, 상기 도전성 입자와 미세 캡슐을 흡착시키는 힘은 반데르발스힘, 정전기적 상호 작용 및 화학 결합 중 어느 하나에 의하는 것인 미세 캡슐-도전성 입자 복합체. 8 (1) 금속과 친화력을 갖는 표면 관능기가 존재하고, 코어 부분 및 쉘 부분으로 이루어지며, 코어 부분은 저온속경화형 경화제 유기화합물인 미세 캡슐을 제조하는 단계, (2) 도전성 금속 입자 또는 고분자 입자 표면에 도전성 금속층이 피복되어 있는 도전성 입자를 미세 캡슐에 흡착시키는 단계 를 포함하는 미세 캡슐-도전성 입자 복합체의 제조 방법. 9 제8항에 있어서, 상기 단계 (1)은 (A) 탈이온수에 계면활성제를 첨가하여 미셀을 형성시키는 단계; (B) 탈이온수에 단량체, 가교제, 지용성 개시제, 캡슐 내에 위치할 코어 물질을 적가, 교반하여 상기 미셀 내로 도입하는 단계; (C) 초음파기를 이용하여 미니 드롭을 형성시키는 단계; (D) 열을 가해 중합을 하는 단계; 및 (E) 잔여 단량체를 세척한 후 건조시키는 단계를 포함하는 것인 미세 캡슐-도전성 입자 복합체의 제조 방법. 10 제8항에 있어서, 상기 단계 (2)는 표면 관능기를 포함한 미세 캡슐을 용매에 분산시키고, 도전성 입자를 투입하여 교반시킨 후, 세정 용매를 사용하여 세정, 건조시키는 것을 포함하는 것인 미세 캡슐-도전성 입자 복합체의 제조 방법. 11<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 12 제9항에 있어서, 상기 (B) 단계의 단량체는 카르복실산기가 내재되어 있는 비닐계 단량체군에서 선발된 단량체, 그리고 이와 공중합할 수 있는 스티렌 계열 또는 아크릴레이트 계열의 비닐계 단량체군에서 1종 이상 선발된 단량체를 사용하는 것인 미세 캡슐-도전성 입자 복합체의 제조 방법. 13 제9항 또는 제10항에 있어서, 상기 저온속경화형 경화제 유기화합물은 이미다졸 유도체; 3차 아민 유도체; 및 소수성의 에폭시 부가물 중에서 선택된 1개 이상의 경화제인 것인 미세 캡슐-도전성 입자 복합체의 제조 방법. 14 제9항 또는 제10항에 있어서, 상기 도전성 금속 입자 및 도전성 금속층의 금속은 금, 은, 구리 및 니켈 중 어느 하나인 것인 미세 캡슐-도전성 입자 복합체의 제조 방법. 15 절연 바인더 수지에 제1항 내지 제7항 중 어느 하나의 항에 따른 미세 캡슐-도전성 입자 복합체가 분산되어 있는 것인 이방 도전성 접착 필름. 16 제15항에 있어서, 상기 절연 바인더 수지는 스티렌 부타디엔 수지, 에틸렌 비닐 수지, 에스테르계 수지, 실리콘 수지, 페녹시 수지, 아크릴계 수지, 아미드계 수지, 아크릴레이트계 수지, 폴리비닐부티랄 수지, 에폭시 수지, 페놀 수지, 멜라민 수지 및 이들 각각의 변성 수지 중 어느 하나인 것인 이방 도전성 접착 필름.","JP2008153201A, JP4732424B2, KR100787381B1, US2008131685A1",null,1]
["K03878","재료","KR","고분자 미세 캡슐-도전성 입자 복합체 및 이의 제조 방법{CONDUCTING PARTICLE COMPLEX WITH POLYMER MICROCAPSULES AND PREPARATION THEREOF}",null,"원문이미지","KR20060109108A","2006.11.06","KR0752533B1","2007.08.21","본 발명은 도전성 금속 입자 또는 도전성 금속층으로 피복된 고분자 입자 등의 전도성 입자 표면에, 상기 금속과 화학적 친화력을 갖는 관능기가 표면에 존재하고 내부에 경화성 유기 화합물이 충진된 고분자 미세 캡슐을 부착시킨 고분자 미세 캡슐-도전성 입자 복합체 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 고분자 미세 캡슐 표면의 관능기와 금속 간의 화학적 작용을 이용함으로써, 고분자 미세 캡슐의 선택적 표면 흡착 및 흡착 밀도 제어가 가능하고, 도전성 금속 입자 또는 고분자 입자의 표면 개질, 입자 간 응집 현상 방지, 단층(mono-layer) 흡착 등의 효과를 얻을 수 있으며, 고분자 미세 캡슐 내에 충진된, 경화성 유기 화합물은 고분자 미세 캡슐의 파괴시 방출되어 경화됨으로써 고분자 미세 캡슐이 함유된 매질에 존재하는 미세 공극 등 기계적 안정성이 손상된 부분을 회복시킬 수 있으므로, 이러한 고분자 미세 캡슐-도전성 입자 복합체를 이방 도전성 필름(Anisotropic Conductive adhesive Film, ACF)에 적용할 경우, 도전성 입자 간의 응집에 의한 전기적 단락을 막으면서 ACF에 존재하는 기계적 결함의 확산을 효과적으로 억제할 수 있어, 전기적 및 기계적 접속 신뢰성을 동시에 높일 수 있다.","1 (1) 도전성 금속 입자 또는 고분자 입자 표면에 도전성 금속층이 피복되어 있는 도전성 입자와, (2) 상기 금속과 친화력을 갖는 표면 관능기가 존재하고, 코어 부분과 쉘 부분으로 이루어지며, 상기 코어 부분은 경화성 물질로 이루어진 것인 고분자 미세 캡슐 을 포함하는 고분자 미세 캡슐-도전성 입자 복합체.","이상수, 김준경, 정해은, 박민, 임순호, 이현정","H01B-001/22",null,null,null,"2026.11.06","1 (1) 도전성 금속 입자 또는 고분자 입자 표면에 도전성 금속층이 피복되어 있는 도전성 입자와, (2) 상기 금속과 친화력을 갖는 표면 관능기가 존재하고, 코어 부분과 쉘 부분으로 이루어지며, 상기 코어 부분은 경화성 물질로 이루어진 것인 고분자 미세 캡슐 을 포함하는 고분자 미세 캡슐-도전성 입자 복합체. 2 제1항에 있어서, 도전성 입자 표면에 고분자 미세 캡슐이 흡착되어 있는 것인 고분자 미세 캡슐-도전성 입자 복합체. 3 제1항에 있어서, 고분자 미세 캡슐 표면에 도전성 입자가 흡착되어 있는 것인 고분자 미세 캡슐-도전성 입자 복합체. 4 제2항 또는 제3항에 있어서, 도전성 금속 입자 및 도전성 금속층의 금속은 금, 은, 구리 및 니켈 중 어느 하나인 것인 고분자 미세 캡슐-도전성 입자 복합체. 5 제2항 또는 제3항에 있어서, 표면 관능기는 카르복실기 또는 카르복실산의 유도체인 것인 고분자 미세 캡슐-도전성 입자 복합체. 6 제2항 또는 제3항에 있어서, 고분자 미세 캡슐의 쉘 부분은 스티렌 계열, 아크릴레이트 계열 열가소성 비닐계 중합체 또는 이들의 열가소성 비닐계 공중합체인 것인 고분자 미세 캡슐-도전성 입자 복합체. 7 제6항에 있어서, 고분자 미세 캡슐의 쉘 부분은 가교된 중합체인 것인 고분자 미세 캡슐-도전성 입자 복합체. 8 제2항 또는 제3항에 있어서, 고분자 미세 캡슐의 코어 부분은 화학적 가교 반응을 일으키는 에폭시 계열 또는 아크릴레이트계 가교성 수지 단량체인 것인 고분자 미세 캡슐-도전성 입자 복합체. 9 제2항 또는 제3항에 있어서, 도전성 입자와 고분자 미세 캡슐을 흡착시키는 힘은 반데르발스힘, 정전기적 상호 작용 및 화학 결합 중 어느 하나에 의하는 것인 고분자 미세 캡슐-도전성 입자 복합체. 10 (1) 금속과 친화력을 갖는 표면 관능기가 존재하고, 코어 부분 및 쉘 부분으로 이루어지며, 코어 부분은 경화성 물질인 고분자 미세 캡슐을 제조하는 단계, (2) 도전성 금속 입자 또는 고분자 입자 표면에 도전성 금속층이 피복되어 있는 도전성 입자를 고분자 미세 캡슐에 흡착시키는 단계 를 포함하는 고분자 미세 캡슐-도전성 입자 복합체의 제조 방법. 11 제10항에 있어서, 고분자 미세 캡슐을 제조하는 단계는 (A) 탈이온수에 계면활성제를 첨가하여 미셀을 형성하는 단계; (B) 탈이온수에 단량체를 비롯하여 가교제, 지용성 개시제, 캡슐 내에 위치할 코어 물질을 적가, 교반하여 상기 미셀 내로 도입하는 단계; (C) 초음파기를 이용하여 미니 드롭을 형성하는 단계; (D) 열을 가해 중합을 하는 단계; 및 (E) 잔여 단량체를 세척한 후 건조시키는 단계를 포함하는 것인 고분자 미세 캡슐-도전성 입자 복합체의 제조 방법. 12 제10항 또는 제11항에 있어서, 도전성 입자를 고분자 미세 캡슐에 흡착시키는 단계는 표면 관능기를 포함한 고분자 미세 캡슐을 용매에 분산시키고, 도전성 입자를 투입하여 교반시킨 후, 세정 용매를 사용하여 세정, 건조시키는 것을 포함하는 것인 고분자 미세 캡슐-도전성 입자 복합체의 제조 방법. 13 제11항 또는 제12항에 있어서, (B) 단계에서 지용성 개시제를 첨가하지 않고, (D) 단계 바로 직전 수용성 개시제를 첨가하는 것인 고분자 미세 캡슐-도전성 입자 복합체의 제조 방법. 14 제11항 또는 제12항에 있어서, (B) 단계의 단량체는 카르복실산기가 내재되어 있는 비닐계 단량체군에서 선발된 단량체, 그리고 이와 공중합할 수 있는 스티렌 계열 또는 아크릴레이트 계열의 비닐계 단량체군에서 1종 이상 선발된 단량체를 사용하는 것인 고분자 미세 캡슐-도전성 입자 복합체의 제조 방법. 15 제11항 또는 제12항에 있어서, 고분자 미세 캡슐의 코어 물질은 에폭시 계열 또는 아크릴레이트계 가교성 수지 단량체인 것인 고분자 미세 캡슐-도전성 입자 복합체의 제조 방법. 16 제11항 또는 제12항에 있어서, 도전성 금속 입자 및 도전성 금속층의 금속은 금, 은, 구리 및 니켈 중 어느 하나인 것인 고분자 미세 캡슐-도전성 입자 복합체의 제조 방법.","JP2008117744A, JP4842116B2, KR100752533B1",null,1]
["K03874","반도체","KR","상변화 메모리 소자 및 그 제조방법{PHASE-CHANGE RAM AND FABRICATION METHOD THEREOF}",null,"원문이미지","KR20060128888A","2006.12.15","KR0830060B1","2008.05.09","본 발명은 상변화 메모리 소자에 있어서, 상변화 재료를 U-groove 안에 채워 넣어 상변화 재료의 부피를 최소화함으로써 전류에 의한 상변화시 발생할 수 있는 조성 변화를 방지하고, 이와 함께 상변화 재료 주위의 열을 외부로 방출할 수 있는 구조를 통해 상변화 메모리 소자가 열에 의해 변형되는 것을 방지하도록 구조적 안정성을 확보하며, 상변화 메모리 소자 내의 상변화 재료가 차지하는 부피를 줄여 고집적화를 가능하게 하고, 상변화 재료 내의 상변화 영역을 항상 일정하게 유지하도록 하여 전기적으로 우수한 특성을 갖는 U-groove 형태의 상변화 메모리 소자 및 그 제조방법에 관한 것이다.","1 기판; 기판 위에 형성되며, 상면에 하방으로 파여 진 그루브가 형성된 제1절연층; 상기 제1절연층 위에 증착되어 상기 그루브의 형상을 따라 하방으로 움푹 꺼진 오목부가 존재하는 하부 전극; 상기 오목부에 채워진 상변화 재료; 상기 상변화 재료 위에 형성되며, 상기 상변화 재료의 상면 중 일부가 노출되도록 개구부가 형성된 제2절연층; 및 상기 개구부를 통해 상기 상변화 재료 상면과 접촉하는 상부 전극;을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자.","김용태, 염민수","H01L-027/115",null,null,null,"2026.12.15","1 기판; 기판 위에 형성되며, 상면에 하방으로 파여 진 그루브가 형성된 제1절연층; 상기 제1절연층 위에 증착되어 상기 그루브의 형상을 따라 하방으로 움푹 꺼진 오목부가 존재하는 하부 전극; 상기 오목부에 채워진 상변화 재료; 상기 상변화 재료 위에 형성되며, 상기 상변화 재료의 상면 중 일부가 노출되도록 개구부가 형성된 제2절연층; 및 상기 개구부를 통해 상기 상변화 재료 상면과 접촉하는 상부 전극;을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자. 2 제 1 항에 있어서, 상기 상변화 재료의 부피는 상변화가 일어나는 영역과 같은 부피인 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자. 3 제 1 항에 있어서, 상기 상변화 재료의 상면을 제외한 나머지 부분은 상기 하부 전극과 접촉하여 있는 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자. 4 제 1 항에 있어서, 상기 오목부의 최대 깊이는 상기 상변화 재료의 하방 길이보다 큰 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자. 5 제 1 항에 있어서, 상기 상변화 재료는 Ge, Sb, Te, Sn, Ag, In, Bi, Se, Pb, As, S의 원소들 중 적어도 2개의 원소의 조합으로 이루어진 물질인 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자. 6 제 1 항에 있어서, 상기 하부 전극은 W, WN, WCN, TiN 또는 TiAlN으로 이루어진 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자. 7 제 1 항에 있어서, 상기 상부 전극은 상기 상변화 재료의 상변화를 유도하는 열을 발생시키는 열전극으로, W, WN, WCN, TiN 또는 TiAlN으로 이루어진 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자. 8 제 1 항에 있어서, 상기 상부 전극과 상기 제2절연층 사이에 개재된 스페이서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자. 9 제 1 항에 있어서, 상기 상부 전극의 상면과 전기 접속하는 상부 전극 접촉과, 상기 하부 전극의 상면과 전기 접속하는 하부 전극 접촉을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자. 10 제 1 항에 있어서, 상기 그루브의 일 단면은 U-자형인 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자. 11 기판 위에 제1절연층을 형성하는 단계; 상기 제1절연층의 상면에 하방으로 그루브를 형성하는 단계; 상기 그루브가 형성된 영역을 포함한 제1절연층 위에 전도성 재료를 증착하여 상기 그루브의 형상을 따라 하방으로 움푹 꺼진 오목부가 존재하는 하부 전극을 형성하는 단계; 상기 하부 전극이 형성하는 상기 오목부에 상변화 재료를 형성하는 단계; 상기 하부 전극 및 상기 상변화 재료 위에 제2절연층을 형성하는 단계; 상기 상변화 재료의 상면 중 일부가 노출되도록 상기 제2절연층에 개구부를 형성하는 단계; 및 상기 개구부를 통해 상기 상변화 재료의 상면과 접촉하는 상부 전극을 형성하는 단계;를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자의 제조방법. 12 제 11 항에 있어서, 상기 그루브는 포토리소그래피 공정 및 습식 식각 공정으로 형성하는 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자의 제조방법. 13 제 11 항에 있어서, 상기 상변화 재료는 상기 오목부가 형성된 영역 내에 한정되도록 형성하는 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자의 제조방법. 14 제 13 항에 있어서, 상기 하부 전극 위에 상기 상변화 재료 물질을 증착시킨 후, 상기 오목부가 형성된 영역 내에만 상기 상변화 재료가 남아있도록 연마 공정 및 습식 식각 공정을 수행하는 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자의 제조방법. 15 제 11 항에 있어서, 상기 제2절연층에 개구부를 형성한 후, 스페이서 물질을 증착하고 비등방성 에칭을 통해 상기 상변화 재료의 상면 중 일부를 노출시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자의 제조방법. 16 제 11 항에 있어서, 상기 상부 전극 및 제2절연층 위에 제3절연층을 형성한 후, 포토리소그래피 및 식각 공정을 이용해 상기 상부 전극 및 하부 전극에 각각 전기 접속하는 상부 전극 접촉 및 하부 전극 접촉을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자의 제조방법.","KR100830060B1",null,1]
["K03865","화학","KR","소결성이 우수한 질화알루미늄 분말 및 그 제조방법{SINTERABLE ALUMINUM NITRIDE POWDERS AND THE FABRICATION METHOD THEREOF}",null,"원문이미지","KR20060080746A","2006.08.24","KR0788196B1","2007.12.17","본 발명의 질화알루미늄 분말 제조방법은 보헤마이트(AlOOH) 분말과 탄소 함유 분말을 혼합하는 단계; 상기 혼합 분말을 노에 장입하는 단계; 수소 가스 또는 질소 함유 가스 분위기하에서 상기 노를 1차 가열함으로써 보헤마이트 분말을 분해하여 중간생성물로서 저온에서 환원이 가능한 산화알루미늄(Al2O3)을 형성하는 단계; 및 암모니아 가스 분위기하에서 상기 1차 가열 단계보다 높은 온도로 상기 노를 2차 가열함으로써 상기 중간생성물이 탄소 성분과 반응하여 환원되고 환원된 알루미늄을 질화시키는 단계;를 포함한다. 이에 따라, 낮은 온도에서 짧은 시간 동안에 결정성이 우수하고 응집도가 낮은 나노 크기의 질화알루미늄 분말을 제조할 수 있다.","1 보헤마이트(AlOOH) 분말과 탄소 함유 분말을 혼합하는 1 단계; 상기 혼합 분말을 노에 장입하는 2 단계; 수소 가스 또는 질소 함유 가스 분위기하에서 상기 노를 중간 공정온도까지 계속해서 가열함으로써 보헤마이트 분말을 분해하여 중간생성물로서 저온에서 환원이 가능한 산화알루미늄(Al2O3)을 형성하는 3 단계; 및 상기 3 단계의 가스 분위기보다 암모니아 가스량이 많은 분위기하에서 상기 노를 상기 중간 공정온도에서 등온 처리 없이 최종 공정온도까지 계속해서 가열함으로써 상기 중간생성물이 탄소 성분과 반응하여 알루미늄으로 환원됨과 동시에 알루미늄을 질화알루미늄으로 질화시키는 4 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 질화알루미늄 분말의 제조방법.","박종구, 서경원, 이승용","C01B-021/072,C04B-035/58,B22F-009/00",null,null,null,"2026.08.24","1 보헤마이트(AlOOH) 분말과 탄소 함유 분말을 혼합하는 1 단계; 상기 혼합 분말을 노에 장입하는 2 단계; 수소 가스 또는 질소 함유 가스 분위기하에서 상기 노를 중간 공정온도까지 계속해서 가열함으로써 보헤마이트 분말을 분해하여 중간생성물로서 저온에서 환원이 가능한 산화알루미늄(Al2O3)을 형성하는 3 단계; 및 상기 3 단계의 가스 분위기보다 암모니아 가스량이 많은 분위기하에서 상기 노를 상기 중간 공정온도에서 등온 처리 없이 최종 공정온도까지 계속해서 가열함으로써 상기 중간생성물이 탄소 성분과 반응하여 알루미늄으로 환원됨과 동시에 알루미늄을 질화알루미늄으로 질화시키는 4 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 질화알루미늄 분말의 제조방법. 2 제1항에 있어서, 상기 최종 공정온도에서 1∼3시간 동안 온도를 유지시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 질화알루미늄 분말의 제조방법. 3 제1항에 있어서, 상기 중간 공정온도는 900℃인 것을 특징으로 하는 질화알루미늄 분말의 제조방법. 4 제1항에 있어서, 상기 최종 공정온도는 900℃ 초과 1400℃ 이하의 온도 범위 내에 있는 것을 특징으로 하는 질화알루미늄 분말의 제조방법. 5 제1항에 있어서, 상기 3 단계의 가열은 수소 가스 혹은 질소 가스 분위기하에서 이루어지고, 상기 4 단계의 가열은 순수 암모니아 가스 분위기하에서 이루어지거나 혹은 상기 3 단계에서 사용하던 가스에 암모니아 가스를 혼합한 분위기하에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 질화알루미늄 분말의 제조방법. 6 제1항에 있어서, 상기 3 단계의 가열과 상기 4 단계의 가열 모두 순수 암모니아 가스 혹은 혼합 암모니아 가스를 사용하되, 상기 4 단계의 가열은 상기 3 단계의 가열에서보다 암모니아 가스의 유량을 높이는 것을 특징으로 하는 질화알루미늄 분말의 제조방법. 7 제1항에 있어서, 상기 보헤마이트 분말과 상기 탄소 함유 분말의 무게 혼합비율은 1:0.3 ∼ 1:5의 범위 내인 것을 특징으로 하는 질화알루미늄 분말의 제조방법. 8 제1항에 있어서, 상기 보헤마이트 분말과 상기 탄소 함유 분말의 혼합시 혼합 분말을 습식으로 밀링하는 것을 특징으로 하는 질화알루미늄 분말의 제조방법. 9 제1항에 있어서, 상기 탄소 함유 분말은 카본블랙 분말인 것을 특징으로 하는 질화알루미늄 분말의 제조방법. 10 제1항에 있어서, 상기 질화알루미늄은 평균 직경이 20∼100 나노미터인 것을 특징으로 하는 질화알루미늄 분말의 제조방법.","KR100788196B1",null,1]
["K03858","연료전지","KR","밀봉재의 수평 방향으로의 변형을 억제하는 장벽 구조를갖는 평판형 고체전해질 연료전지 스택{FLAT SOLID ELECTROLYTIC FUEL CELL STACK WITH A BARRIER STRUCTURE PROTECTING HORIZONTAL DEFORMATION OF SEALING MATERIAL}",null,"원문이미지","KR20060081975A","2006.08.28","KR0737828B1","2007.07.04","본 발명은 높은 압력의 연료 및 공기 기체를 사용하여 고체전해질 연료전지 스택을 가압운전할 때, 스택의 내부와 외부 사이에 발생하는 압력차 하에서도 스택의 기밀성과 성능을 유지할 수 있는 압축형 복합재료 밀봉재와, 이를 보다 효과적으로 적용할 수 있는 접속자의 형상 설계를 포함하는 밀봉 시스템을 구비한 평판형 고체전해질 연료전지 스택에 관한 것이다. 이러한 밀봉 시스템의 일 예는 섬유상 입자나 판상 입자를 보강재로 포함하는 압축형 유리 기지상 복합재료 밀봉재와, 유리 기지상의 점성유동에 의한 불필요한 수평 변형을 제한할 수 있는 억제장벽을 가진 접속자로 구성되어 있다.","1 수평 방향으로 배치된 제 1 및 제 2 전극과 이들 두 전극 사이에 개재된 고체전해질을 구비하는 단위전지; 상기 단위전지를 직렬연결하며, 상기 제 1 및 제 2 전극과 각각 전기 접속하는 제 1 및 제 2 접속자; 및 상기 제 1 접속자와 제 2 접속자 사이 및 상기 제 1 접속자와 상기 고체전해질 사이의 기밀을 유지하는 밀봉재;를 포함하며, 상기 제 1 및 제 2 접속자 중 적어도 하나는 상기 밀봉재의 수평 방향으로의 변형을 억제하는 장벽 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 평판형 고체전해질 연료전지 스택.","이종호, 이해원, 송휴섭, 김주선, 손지원, 김혜령, 김형철, 김성문, 정화영","H01M-008/10",null,null,null,"2026.08.28","1 수평 방향으로 배치된 제 1 및 제 2 전극과 이들 두 전극 사이에 개재된 고체전해질을 구비하는 단위전지; 상기 단위전지를 직렬연결하며, 상기 제 1 및 제 2 전극과 각각 전기 접속하는 제 1 및 제 2 접속자; 및 상기 제 1 접속자와 제 2 접속자 사이 및 상기 제 1 접속자와 상기 고체전해질 사이의 기밀을 유지하는 밀봉재;를 포함하며, 상기 제 1 및 제 2 접속자 중 적어도 하나는 상기 밀봉재의 수평 방향으로의 변형을 억제하는 장벽 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 평판형 고체전해질 연료전지 스택. 2 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 접속자 중 적어도 하나에 홈부 또는 요철부가 형성되고, 상기 밀봉재는 상기 홈부 또는 요철부에 상보적인 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 평판형 고체전해질 연료전지 스택. 3 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 접속자는 상기 밀봉재의 상기 단위전지 내측 방향으로의 이동을 억제하는 장벽 구조를 구비하고, 상기 제 2 접속자는 상기 밀봉재의 상기 단위전지 외측 방향으로의 이동을 억제하는 장벽 구조를 구비하는 것을 특징으로 하는 평판형 고체전해질 연료전지 스택. 4 수평 방향으로 배치된 제 1 및 제 2 전극과 이들 두 전극 사이에 개재된 고체전해질을 구비하는 단위전지; 상기 단위전지를 직렬연결하며, 상기 제 1 및 제 2 전극과 각각 전기 접속하는 제 1 및 제 2 접속자; 상기 제 1 접속자와 제 2 접속자 사이 및 상기 제 1 접속자와 상기 고체전해질 사이의 기밀을 유지하는 밀봉재; 및 상기 밀봉재와 결합하며, 상기 밀봉재의 수평 방향으로의 변형을 억제하는 장벽 구조를 갖는 보조기구;를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판형 고체전해질 연료전지 스택. 5 제 4 항에 있어서, 상기 보조기구는 상기 밀봉재 내부에 수평 방향으로 삽입 결합된 결합부와, 상기 결합부와 연결되며 상기 밀봉재의 수직 방향 측벽과 밀착된 장벽부를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 평판형 고체전해질 연료전지 스택. 6 제 4 항에 있어서, 상기 보조기구는 상기 밀봉재의 수평 방향 측벽과 밀착된 결합부와, 상기 결합부와 연결되며 상기 밀봉재의 수직 방향 측벽과 밀착된 장벽부를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 평판형 고체전해질 연료전지 스택. 7 수평 방향으로 배치된 제 1 및 제 2 전극과 이들 두 전극 사이에 개재된 고체전해질을 구비하는 단위전지; 상기 단위전지를 직렬연결하며, 상기 제 1 및 제 2 전극과 각각 전기 접속하는 제 1 및 제 2 접속자; 상기 제 1 접속자와 제 2 접속자 사이 및 상기 제 1 접속자와 상기 고체전해질 사이의 기밀을 유지하는 밀봉재; 및 상기 밀봉재와 결합하며, 상기 밀봉재의 수평 방향으로의 변형을 억제하는 장벽 구조를 갖는 보조기구;를 포함하며, 상기 제 1 및 제 2 접속자 중 적어도 하나는 상기 밀봉재의 수평 방향으로의 변형을 억제하는 장벽 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 평판형 고체전해질 연료전지 스택. 8 제 7 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 접속자 중 적어도 하나에 홈부 또는 요철부가 형성되고, 상기 밀봉재는 상기 홈부 또는 요철부에 상보적인 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 평판형 고체전해질 연료전지 스택. 9 제 1 항, 제 4 항 또는 제 7 항에 있어서, 상기 밀봉재는 유리 기지상에 기하 이방성 보강재를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 평판형 고체전해질 연료전지 스택. 10 제 9 항에 있어서, 상기 기하 이방성 보강재는 섬유상 보강재를 포함하고, 상기 섬유상 보강재는 상기 장벽에 평행한 방향으로 배향되어 있는 것을 특징으로 하는 평판형 고체전해질 연료전지 스택. 11 제 9 항에 있어서, 상기 밀봉재의 내부층은 5∼55 부피%의 섬유상 보강재를 포함하고, 상기 내부층의 한쪽 또는 양쪽 표면에 적층된 표면층은 5∼60 부피%의 판상 보강재를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판형 고체전해질 연료전지 스택. 12 제 11 항에 있어서, 상기 판상 보강재의 두께는 0.2∼1㎛ 범위 내이고, 직경 대 두께의 비인 종횡비가 5∼50 범위 내인 것을 특징으로 하는 평판형 고체전해질 연료전지 스택. 13 제 11 항에 있어서, 상기 섬유상 보강재의 직경은 0.5∼2㎛ 범위 내이고, 길이 대 직경의 비인 종횡비가 5∼100 범위 내인 것을 특징으로 하는 평판형 고체전해질 연료전지 스택. 14 제 11 항에 있어서, 상기 표면층의 두께는 적어도 10㎛이고, 상기 내부층에 대한 상기 표면층의 두께 비는 5∼50 범위 내인 것을 특징으로 하는 평판형 고체전해질 연료전지 스택. 15 제 11 항에 있어서, 상기 내부층은 등방형 입자상 보강재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평판형 고체전해질 연료전지 스택. 16 제 15 항에 있어서, 상기 표면층은 상기 내부층에 포함된 입자상 보강재의 크기보다 큰 등방형 입자상 보강재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평판형 고체전해질 연료전지 스택. 17 제 9 항에 있어서, 상기 유리 기지상의 조성은 B2O3-SiO2, Al2O3-B2O3-SiO2, CaO-B2O3-SiO2 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 평판형 고체전해질 연료전지 스택. 18 제 4 항 또는 제 7 항에 있어서, 상기 밀봉재의 내부층은 5∼55 부피%의 섬유상 보강재를 포함하고, 상기 내부층의 한쪽 또는 양쪽 표면에 적층된 표면층은 5∼60 부피%의 판상 보강재를 포함하며, 상기 내부층과 표면층 사이에 상기 보조기구의 적어도 일부가 도입된 것을 특징으로 하는 평판형 고체전해질 연료전지 스택.","KR100737828B1, WO2008026802A1",null,1]
["F02518","섬유","JP","압축 기체를 이용한 필라멘트 및 시트상의 생분해성 폴리에스테르 재료의 제조 방법",null,"원문이미지","JP2007030420A","2007.02.09","JP4499119B9","2010.04.23","(57)【요약】 【과제】압축 기체(compressed gas)을 이용한 필라멘트 및 시트상의 생분해성 폴리에스테르 재료를 제공한다.【해결 수단】a)압축 기체를 반응 용매로서 이용하고, 촉매의 존재하 환상 단량체를 액상 중합하고 생분해성 폴리에스테르를 제조하는 단계;b)상 기록 생분해성 폴리에스테르를 플래시 방사하고 필라멘트 재료를 제조하는 단계;및 c)상기 필라멘트 재료를 캘린더 링 하고 점 결합한 형태의 시트재료를 제조하는 단계를 포함한다. 안정화제의 첨가를 필요로 하지 않은 압축 기체를 반응 용매로서 이용하고, 액상 중합 반응과 플래시 방사가 단일 연속 공정으로 이루어지기 위해(때문에), 의학, 화학, 농학, 환경 등의 분야로 유용한 생분해성 및 생체 적합성 재료로서 사용되는 생분해성 폴리에스테르 재료의 제조에 유용한다.【선택도】그림 1","【청구항 1】 a)압축 기체를 반응 용매로서 이용하고, 촉매의 존재하에, 환상 단량체를 액상 중합하게 하고 생분해성 폴리에스테르를 제조하는 단계와; b)사키 노리오 분해성 폴리에스테르를 플래시 방사하고 필라멘트 재료를 제조하는 단계와; c)전기록 필라멘트 재료를 캘린더 링 하고 점 결합한 형태의 시트재료를 제조하는 단계와; 을 포함한다, 압축 기체를 이용한 필라멘트 및 시트상의 생분해성 폴리에스테르 재료의 제조 방법.","キム·スヒョン, キム·サンホン, ユン·チョルス, キム·セユン, イ·ハンス","D04H-001/72,D01F-006/62,C08G-063/81,C08G-063/82,D01D-005/11,D04H-001/42,C08L-101/16","JP2008002048A","2008.01.10","2006-06-23 (KR 10-2006-0056831)","2027.02.09","【특허청구의 범위】 【청구항 1】 a)압축 기체를 반응 용매로서 이용하고, 촉매의 존재하에, 환상 단량체를 액상 중합하게 하고 생분해성 폴리에스테르를 제조하는 단계와; b)사키 노리오 분해성 폴리에스테르를 플래시 방사하고 필라멘트 재료를 제조하는 단계와; c)전기록 필라멘트 재료를 캘린더 링 하고 점 결합한 형태의 시트재료를 제조하는 단계와; 을 포함한다, 압축 기체를 이용한 필라멘트 및 시트상의 생분해성 폴리에스테르 재료의 제조 방법. 【청구항 2】 상기 압축 기체가, HFC-23,HFC-32,HFC-152a,HFC-143a,HFC-134a,HFC-125,HFC-227ea,HFC-236fa,HFC-245fa,HFC-254cb,SF6,HFC-4-10-mee,C-318(퍼플루오로 시클로 부탄), HCFC-22,HCFC-1416,HCFC-1426,HCFC-225ca/cb, 디메틸에틸, 아산화 질소, 프로판, 부탄, 및 이러한 혼합물 및 이것들과 이산화탄소의 혼합물으로 되는 무리 보다(에서) 선택하게 되는 것을 특징으로 한다, 청구항 1 기재의 제조 방법. 【청구항 3】 상기 압축 기체가, 이산화탄소라는 혼합물 인 경우에, 혼합물 전체의 반응 용매에 대한 이산화탄소의 중량분 률이 20%이하 인 것을 특징으로 한다, 청구항 2 기재의 제조 방법. 【청구항 4】 상기 압축 기체가, 냉각 과정을 거치고 완전히 액화한 뒤, 가압하게 되고 액체 상태로 첨가하게 되는 것을 특징으로 한다, 청구항 1 기재의 제조 방법. 【청구항 5】 상기 환상 단량체가, 라쿠치도 류, 락톤 류, 바퀴장 카보네이트 류, 환상 무수물 류 및 치오라쿠톤 류로 되는 무리 보다(에서) 선택하게 되는 1 이상의 단량체 인 것을 특징으로 한다, 청구항 1 기재의 제조 방법. 【청구항 6】 상기 환상 단량체가, 하기 화학식(I) (식중, R1 및 R2은, 각각 수요일 밑천 원자 또는 C1∼C4의 알킬기 이다) 으로 나타나는 화합물 A 및 화학식(II) (식중, n은 2∼5 있다) 이고 나타나는 화합물 B으로부터 선택하게 되는 1 이상의 화합물 인 것을 특징으로 한다, 청구항 5 기재의 제조 방법. 【청구항 7】 상기 화학식(I)의 화합물 A이, L-라쿠치도, D-라쿠치도, D,L-라쿠치도 또는 글리코리드 인 것을 특징으로 한다, 청구항 6 기재의 제조 방법. 【청구항 8】 상기 화학식(II)의 화합물 B이,ε-카프로락톤 인 것을 특징으로 한다, 청구항 6 기재의 제조 방법. 【청구항 9】 상기 압축 기체에 대한 환상 단량체의 비율이, 1 중량%∼50 중량%로 있는 것을 특징으로 한다, 청구항 1 기재의 제조 방법. 【청구항 10】 상기 촉매가, 옥틸 산 주석(II), 염화 주석(II), 산화 주석(II), 주석 옥틸 에스테르(II), 염화 주석(II)이 수화물, 테트라 페닐 주석, 디에틸 아연, 옥틸산 아연, 염화 아연, 산화 아연, 염화 알루미늄 및 알미니움에토키시도로 되는 무리 보다(에서) 선택하게 된다, 청구항 1 기재의 제조 방법. 【청구항 11】 상기 촉매의 몰 농도가, 1.0×10-4mol/l∼5.0×10-1mol/l 있는 것을 특징으로 한다, 청구항 1 기재의 제조 방법. 【청구항 12】 단계 a)의 액상 중합 반응에 있어서, 또한 개시제가 첨가하게 되는 것을 특징으로 한다, 청구항 1 기재의 제조 방법. 【청구항 13】 상기 개시제가 1,6-헥산디올 또는 1-도데카놀 있는 것을 특징으로 한다, 청구항 12 기재의 제조 방법. 【청구항 14】 상기 개시제의 몰 농도가, 1.0×10-5mol/l∼1.0×10-3mol/l 있는 것을 특징으로 한다, 청구항 12 기재의 제조 방법. 【청구항 15】 단계 a)의 액상 중합 반응이, 40∼700bar의 반응 압력의 아래로 행하게 되는 것을 특징으로 한다, 청구항 1 기재의 제조 방법. 【청구항 16】 단계 a)의 액상 중합 반응이, 0.2∼50 시간의 변화 률이 70%이상이 되게 하고 행하게 되는 것을 특징으로 한다, 청구항 1 기재의 제조 방법. 【청구항 17】 단계 b)의 플래시 방사가, 단계 a)의 액상 중합 반응의 실시시와 동일한 온도 및 압력의 아래로 행하게 되는 것을 특징으로 한다, 청구항 1 기재의 제조 방법.","JP2008002048A, JP4499119B2, KR100701552B1, US2007299236A1, US7511115B2",null,1]
["K03857","연료전지","KR","평판형 고체산화물 연료전지 스택용 하이브리드 복합밀봉재{HYBRID SEALING COMPOSITE FOR FLAT SOLID OXIDE FUEL CELL STACK}",null,"원문이미지","KR20060081974A","2006.08.28","KR0737827B1","2007.07.04","본 발명은 유리 조성을 기지상으로 하는 평판형 고체산화물 연료전지 스택용 하이브리드 복합 밀봉재에 관한 것으로서, 섬유상의 보강재 강화 내부층의 한쪽 또는 양쪽 표면에 판상의 보강재 강화 표면층이 적층된 구조를 가진다. 따라서, 본 발명의 복합 밀봉재를 고체산화물 연료전지 스택에 적용하면, 낮은 체결압력에서도 우수한 스택 기밀성을 얻을 수 있고, 밀봉대상 접촉 면과의 결합강도가 낮아서 열싸이클 내구성이 향상되며, 스택 내부 부품의 고장시 스택을 해체하고 유지보수를 용이하게 수행할 수 있고, 스택 내부와 외부의 압력차가 5기압(0.5 MPa)에 이르는 가압운전 조건에서 스택의 성능 향상은 물론 스택의 안정성을 유지할 수 있게 된다.","1 유리 조성을 기지상으로 하는 평판형 고체산화물 연료전지 스택용 밀봉재에 있어서, 섬유상의 보강재 강화 내부층의 한쪽 또는 양쪽 표면에 판상의 보강재 강화 표면층이 적층된 것을 특징으로 하는 하이브리드 복합 밀봉재.","이종호, 이해원, 김주선, 송휴섭, 손지원, 김혜령, 김형철, 김성문, 정화영","H01M-008/02",null,null,null,"2026.08.28","1 유리 조성을 기지상으로 하는 평판형 고체산화물 연료전지 스택용 밀봉재에 있어서, 섬유상의 보강재 강화 내부층의 한쪽 또는 양쪽 표면에 판상의 보강재 강화 표면층이 적층된 것을 특징으로 하는 하이브리드 복합 밀봉재. 2 제 1 항에 있어서, 상기 표면층 내 상기 판상의 보강재의 함량은 5∼60 부피% 범위 내인 것을 특징으로 하는 하이브리드 복합 밀봉재. 3 제 1 항에 있어서, 상기 판상의 보강재의 두께는 0.2∼1㎛ 범위 내이고, 직경 대 두께의 비인 종횡비가 5∼50 범위 내인 것을 특징으로 하는 하이브리드 복합 밀봉재. 4 제 1 항에 있어서, 상기 내부층 내 상기 섬유상의 보강재의 함량은 5∼55 부피% 범위 내인 것을 특징으로 하는 하이브리드 복합 밀봉재. 5 제 1 항에 있어서, 상기 섬유상 보강재의 직경은 0.5∼2㎛ 범위 내이고, 길이 대 직경의 비인 종횡비가 5∼100 범위 내인 것을 특징으로 하는 하이브리드 복합 밀봉재. 6 제 1 항에 있어서, 상기 표면층의 두께는 적어도 10㎛이고, 상기 내부층에 대한 상기 표면층의 두께 비는 5∼50 범위 내인 것을 특징으로 하는 하이브리드 복합 밀봉재. 7 제 1 항에 있어서, 상기 내부층에 등방형 입자상 보강재가 더 포함된 것을 특징으로 하는 하이브리드 복합 밀봉재. 8 제 7 항에 있어서, 상기 표면층에, 상기 내부층에 포함된 입자상 보강재의 크기보다 큰 등방형 입자상 보강재가 더 포함된 것을 특징으로 하는 하이브리드 복합 밀봉재. 9 제 1 항에 있어서, 상기 유리 기지상의 조성은 B2O3-SiO2, Al2O3-B2O3-SiO2, CaO-B2O3-SiO2 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 하이브리드 복합 밀봉재. 10 제 1 항에 있어서, 상기 판상의 보강재는 상기 표면층 내 수평 배열된 것을 특징으로 하는 하이브리드 복합 밀봉재. 11 평판형 고체산화물 연료전지 스택용 밀봉재에 있어서, 상기 밀봉재의 표층부에는 유리 기지상에 판상의 보강재가 포함되어 있는 것을 특징으로 하는 복합 밀봉재. 12 평판형 고체산화물 연료전지 스택용 밀봉재에 있어서, 상기 밀봉재의 내층부에는 유리 기지상에 섬유상 보강재가 포함되어 있고, 상기 내층부의 한쪽 또는 양쪽의 표층부에는 유리 기지상에 판상의 보강재가 포함되어 있으며, 상기 내층부와 상기 표층부는 일체로 형성된 것을 특징으로 하는 하이브리드 복합 밀봉재.","DE112006004007T5, KR100737827B1, US2010285394A1, WO2008026801A1",null,1]
["K03859","연료전지","KR","파괴저항성이 높은 평판형 고체산화물 연료전지 스택용복합 밀봉재 및 그 제조방법{SEALING COMPOSITE FOR FLAT SOLID OXIDE FUEL CELL STACK HAVING HIGH BREAKING-RESISTANCE AND THE FABRICATION METHOD THEREOF}",null,"원문이미지","KR20060081976A","2006.08.28","KR0812105B1","2008.03.04","본 발명의 복합 밀봉재는, 기밀성은 우수하지만 파괴저항성이 낮은 유리의 파괴인성을 증가시켜 스택의 기밀성을 유지하면서 열싸이클 안정성을 향상시킨다. 이를 위해, 유리 기지상에 알파 알루미나 섬유상 입자, 알파 알루미나 입자상 입자, 금속 입자를 혼합하여 첨가함으로써, 섬유상 및 입자상 알루미나 입자에 의한 균열편향 및 균열가교 효과와, 금속 입자에 의한 균열유인 및 소성변형 효과를 통해 파괴인성을 0.5 MPa·m0.5에서 6 MPa·m0.5까지 현저히 증가시킬 수 있다.본 발명의 고 파괴인성 복합 밀봉재를 사용하는 경우, 스택 내의 불균일 온도 분포나 열싸이클 운전에서 발생하는 열응력 하에서도 스택의 기밀성과 안정성을 유지할 수 있기 때문에, 복합 밀봉재의 파괴인성 증가는 대면적 스택의 신뢰성 향상을 위한 가장 중요한 요소로 작용한다.","1 유리 기지상에 평균 결정립 (grain)의 크기가 0.2㎛ 이하인 알파 알루미나 섬유상 보강재가 포함되어 있는 것을 특징으로 하는 평판형 고체산화물 연료전지 스택용 복합 밀봉재.","이종호, 이해원, 김주선, 송휴섭, 손지원, 김혜령, 김형철, 김성문, 정화영","H01M-008/02,H01M-002/08","KR20080019506A","2008.03.04",null,"2026.08.28","1 유리 기지상에 평균 결정립 (grain)의 크기가 0.2㎛ 이하인 알파 알루미나 섬유상 보강재가 포함되어 있는 것을 특징으로 하는 평판형 고체산화물 연료전지 스택용 복합 밀봉재. 2 제 1 항에 있어서, 상기 밀봉재 내 상기 알파 알루미나 섬유상 보강재의 함량은 5∼50 부피% 범위 내인 것을 특징으로 하는 평판형 고체산화물 연료전지 스택용 복합 밀봉재. 3 제 1 항에 있어서, 상기 알파 알루미나 섬유상 보강재의 길이 대 직경의 비인 종횡비가 10∼100 범위 내인 것을 특징으로 하는 평판형 고체산화물 연료전지 스택용 복합 밀봉재. 4 제 1 항에 있어서, 상기 알파 알루미나 섬유상 보강재는 일 방향으로 배향된 것을 특징으로 하는 평판형 고체산화물 연료전지 스택용 복합 밀봉재. 5 제 1 항에 있어서, 상기 밀봉재는 입상 알파 알루미나 분말을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평판형 고체산화물 연료전지 스택용 복합 밀봉재. 6 제 5 항에 있어서, 상기 밀봉재는 금속 분말 입자를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평판형 고체산화물 연료전지 스택용 복합 밀봉재. 7 제 6 항에 있어서, 상기 금속 분말 입자는 은(Ag), 팔라듐(Pd), 금(Au), 백금(Pt), 니켈(Ni), Fe-Ni 합금, 몰리브데늄(Mo) 중 선택된 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판형 고체산화물 연료전지 스택용 복합 밀봉재. 8 제 6 항에 있어서, 상기 금속 분말 입자는 상기 입상 알파 알루미나 분말의 표면에 결합되어 있는 것을 특징으로 하는 평판형 고체산화물 연료전지 스택용 복합 밀봉재. 9 제 8 항에 있어서, 상기 밀봉재 내 상기 입상 알파 알루미나 분말과 상기 금속 분말 입자의 결합체인 복합 분말의 함량은 20 부피% 이하인 것을 특징으로 하는 평판형 고체산화물 연료전지 스택용 복합 밀봉재. 10 붕규산 유리 기지상에, 상기 유리 기지상의 결정화를 억제하는 억제제인 알파 알루미나 입자와, 상기 유리 기지상의 파괴인성을 증가시키는 보강재인 알파 알루미나 섬유상 보강재 및 금속 입자상 보강재가 포함된 것을 특징으로 하는 평판형 고체산화물 연료전지 스택용 복합 밀봉재. 11 알루미나 섬유상을 1200∼1400℃에서 열처리하여 평균 결정립의 크기가 0.2㎛ 이하인 알파 알루미나 섬유상 입자를 준비하고, 유리 기지상에 상기 알파 알루미나 섬유상 입자를 첨가하는 것을 특징으로 하는 평판형 고체산화물 연료전지 스택용 복합 밀봉재의 제조방법. 12 제 11 항에 있어서, 상기 알파 알루미나 섬유상 입자를 압출성형하여 일 방향으로 배향시키는 것을 특징으로 하는 평판형 고체산화물 연료전지 스택용 복합 밀봉재의 제조방법. 13 제 11 항에 있어서, 입상 알파 알루미나 입자와 금속 입자를 건식 밀링하여 제조된 복합 분말 입자를 상기 유리 기지상에 균일하게 분포시키는 것을 특징으로 하는 평판형 고체산화물 연료전지 스택용 복합 밀봉재의 제조방법. 14 제 13 항에 있어서, 상기 복합 분말 입자와 상기 알파 알루미나 섬유상 입자를 습식 밀링하는 것을 특징으로 하는 평판형 고체산화물 연료전지 스택용 복합 밀봉재의 제조방법.","DE112006004006T5, KR100812105B1, KR20080019506A, US2010331165A1, WO2008026803A1",null,1]
["K03841","연료전지","KR","분리장벽을 갖는 단실형 고체산화물 연료전지 및 그제조방법{SINGLE CHAMBER SOLID OXIDE FUEL CELL WITH BARRIER RIB AND THE FABRICATION METHOD THEREOF}",null,"원문이미지","KR20060078430A","2006.08.18","KR0724120B1","2007.05.25","본 발명은 분리장벽을 갖는 단실형 고체산화물 연료전지와 박막공정을 이용하여 분리장벽을 갖는 단실형 고체산화물 연료전지를 제조하는 방법에 관한 것으로서, 전극의 분리 배치를 통하여 효과적인 기체상 혼합 저지가 가능하도록 함으로써 반응 가스의 혼합에 의한 개회로 전압 손실을 막아줄 수 있는 다양한 구조 및 방법을 기술한다. 즉, 본 발명에서 제공하는 디자인을 통해 박막공정을 이용한 고출력의 단실형 마이크로 고체산화물 연료전지를 제조할 수 있고, 이러한 단위셀들의 고집적화 통해서 고전압, 고전류를 발생시키는 마이크로 연료전지를 구현할 수 있다.","1 전해질의 일면에 애노드 전극과 캐쏘드 전극이 함께 배치된 타입의 단실형 고체산화물 연료전지에 있어서, 상기 전해질의 상기 일면에 형성되고, 동종 또는 이종의 두 전극 사이에 위치하는 분리장벽을 포함하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지.","이해원, 김은경, 손지원, 김형철, 김혜령, 김주선, 이종호, 송휴섭","H01M-008/02,H01M-008/10,H01M-004/86",null,null,null,"2026.08.18","1 전해질의 일면에 애노드 전극과 캐쏘드 전극이 함께 배치된 타입의 단실형 고체산화물 연료전지에 있어서, 상기 전해질의 상기 일면에 형성되고, 동종 또는 이종의 두 전극 사이에 위치하는 분리장벽을 포함하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 2 제 1 항에 있어서, 상기 애노드 전극과 상기 캐쏘드 전극이 교대로 배치된 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 3 제 1 항에 있어서, 상기 애노드 전극과 상기 캐쏘드 전극은 동일 제 2 전극개를 한 묶음으로 해서 교대로 배치된 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 4 제 1 항에 있어서, 상기 분리장벽의 높이는 상기 애노드 및 캐쏘드 전극의 높이보다 높거나 혹은 같은 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 5 제 1 항에 있어서, 상기 분리장벽은 상기 전해질과 동종의 물질로 이루어지거나, 혹은 상기 전해질과 이종의 물질로서 실리콘 산화물(SiOx), 실리콘 질화물(SixNy), 알루미늄 산화물(AlxOy), 마그네슘 산화물(MgxOy), 티타늄 산화물(TixOy), 지르코늄 산화물(ZrxOy), 세륨 산화물(CexOy), 란타늄 갈레이트(Lanthanum Gallate), 바륨 세레이트(Barium Cerate), 바륨 지르코네이트(Barium Zirconate) 또는 상기 재료들의 여러 도핑상을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 6 상면에 트렌치(trench)가 형성된 기판; 상기 트렌치의 중앙부에 위치하는 전해질; 상기 트렌치 내에 위치하며, 상기 전해질을 기준으로 좌·우로 분리 배치된 서로 다른 두 전극; 및 적어도 상기 전해질 위에 형성된 분리장벽을 포함하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 7 제 6 항에 있어서, 상기 분리장벽은 상기 전극 중 상기 전해질과 인접한 부분 위에도 형성된 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 8 제 6 항에 있어서, 상기 기판 중 적어도 상기 전극의 하부는 기공 구조인 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 9 제 6 항에 있어서, 상기 기판 중 상기 전극의 하면과 접촉한 부분은 적어도 일부 제거되어 있는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 10 제 6 항에 있어서, 상기 전극 위에 상기 분리장벽과 이격되어 형성된 집전체를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 11 제 10 항에 있어서, 상기 기판 위에 다수의 단전지(unti cell)가 위치하고, 각 단전지는 각 집전체 사이를 이어주는 연결선을 통해 직렬 또는 병렬 연결된 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 12 제 6 항에 있어서, 상기 기판과 상기 전극 사이에 실리콘 산화물, 실리콘 질화물, 또는 silicon oxy-nitride가 개재되어 있는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 13 기판; 상기 기판 위에 서로 이격되도록 배치된 서로 다른 두 전극; 및 상기 두 전극 위에 형성된 전해질;을 포함하며, 상기 기판 중 적어도 상기 전극의 하부는 기공 구조이거나, 혹은 상기 기판 중 상기 전극의 하면과 접촉한 부분은 적어도 일부 제거되어 있는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 14 제 13 항에 있어서, 상기 기판의 상기 제거된 부분에 기공성 프리트(frit)가 채워져 있는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 15 제 13 항에 있어서, 상기 기판은 기공성 실리콘 기판인 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 16 제 13 항에 있어서, 상기 기판 위에 상기 전극의 하면 외측 가장자리부와 접촉하도록 형성된 집전체를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 17 제 16 항에 있어서, 상기 기판 위에 다수의 단전지(unti cell)가 위치하고, 각 단전지는 각 집전체 사이를 이어주는 연결선을 통해 직렬 또는 병렬 연결된 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 18 제 13 항에 있어서, 상기 두 전극 사이에 형성된 전해질 아래에 형성된 절연분리구조를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 19 기판, 유전체, 제 1 전극, 전해질, 제 2 전극이 아래부터 순차적으로 적층된 구조를 포함하며, 상기 유전체 중 상기 제 1 전극과 접촉하는 일부분이 제거되어 에어갭(air gap)이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 20 제 19 항에 있어서, 상기 에어갭은 일정 간격으로 규칙적으로 형성된 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 21 전해질층 위에 분리장벽 재료층을 형성하는 단계; 상기 분리장벽 재료층을 포토리지스트를 이용하여 패터닝함으로써 분리장벽을 형성하는 단계; 상기 분리장벽의 일 측에 제 1 전극을 형성하는 단계; 및 상기 분리장벽의 상기 일 측의 반대 측에 제 2 전극을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지의 제조방법. 22 전해질층 위에 포토리지스트층을 형성하는 단계; 상기 포토리지스트층를 패터닝하여 트렌치(trench)를 형성하는 단계; 상기 트렌치에 분리장벽 재료를 증착하여 분리장벽을 형성하는 단계; 상기 포토리지스트층을 제거하는 단계; 상기 분리장벽의 일 측에 제 1 전극을 형성하는 단계; 및 상기 분리장벽의 상기 일 측의 반대 측에 제 2 전극을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지의 제조방법. 23 전해질층 위에 분리장벽 재료층을 형성하는 단계; 상기 분리장벽 재료층을 포토리지스트를 이용하여 패터닝함으로써 제 1 트렌치를 형성하는 단계; 상기 제 1 트렌치에 제 1 전극을 형성하는 단계; 상기 제 1 전극과 이격된 위치에 포토리지스트를 이용하여 패터닝함으로써 제 2 트렌치를 형성하는 단계; 상기 제 2 트렌치에 제 2 전극을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지의 제조방법. 24 제 23 항에 있어서, 상기 제 2 전극 형성 단계 후 남은 분리장벽 재료층을 포토리지스트를 이용하여 패터닝함으로써 개별 분리장벽을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지의 제조방법. 25 제 21 항 또는 제 22 항 또는 제 23 항에 있어서, 상기 전해질층과, 상기 분리장벽 재료층과, 상기 제 1 및 제 2 전극은 화학기상증착법, 스퍼터링법, 솔-젤법, 스프레잉법, 또는 스핀-온 공정으로 형성하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지의 제조방법. 26 기판의 상면에 트렌치를 형성하는 단계; 상기 트렌치 내에 제 1 전극-전해질-제 2 전극을 수평방향으로 나란히 형성하는 단계; 상기 전해질과 상기 제 1 및 제 2 전극 위에 유전체층을 형성하는 단계; 및 상기 유전체층 가운데, 상기 전해질 윗부분은 남겨놓고 상기 제 1 및 제 2 전극 윗부분의 적어도 일부는 오픈(open)하여 상부 기체 통로를 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지의 제조방법. 27 제 26 항에 있어서, 상기 전해질과 상기 제 1 및 제 2 전극의 형성 단계는, 상기 트렌치의 중앙부에 포토리지스트 패터닝을 이용하여 전해질을 형성하는 단계; 상기 트렌치 내 상기 전해질의 일 측에 포토리지스트 패터닝을 이용하여 제 1 전극을 형성하는 단계; 및 상기 트렌치 내 상기 전해질의 상기 일 측의 반대 측에 포토리지스트 패터닝을 이용하여 제 2 전극을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지의 제조방법. 28 제 26 항에 있어서, 상기 전해질과 상기 제 1 및 제 2 전극의 형성 단계는, 상기 트렌치 내 일 측에 포토리지스트 패터닝을 이용하여 제 1 전극을 형성하는 단계; 상기 트렌치 내 상기 제 1 전극과 이격된 위치에 포토리지스트 패터닝을 이용하여 제 2 전극을 형성하는 단계; 및 상기 제 1 전극과 상기 제 2 전극 사이에 포토리지스트 패터닝을 이용하여 전해질을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지의 제조방법. 29 제 26 항에 있어서, 상기 전해질과 상기 제 1 및 제 2 전극의 형성 단계는, 상기 트렌치 내 일 측에 포토리지스트 패터닝을 이용하여 제 1 전극을 형성하는 단계; 상기 트렌치 내 상기 제 1 전극 옆에 포토리지스트 패터닝을 이용하여 전해질을 형성하는 단계; 및 상기 트렌치 내 상기 전해질 옆에 포토리지스트 패터닝을 이용하여 제 2 전극을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지의 제조방법. 30 제 26 항에 있어서, 상기 제 1 전극-전해질-제 2 전극을 형성하는 단계 이후에, 상기 기판 가운데, 상기 전해질 아랫부분은 남겨놓고 상기 제 1 및 제 2 전극 아랫부분을 오픈하여 하부 기체 통로를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지의 제조방법. 31 제 30 항에 있어서, 상기 하부 기체 통로를 형성하기 전에, 상기 기판의 두께를 전체적으로 얇게 하는 과정을 거치는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지의 제조방법. 32 제 26 항에 있어서, 상기 기판의 상면에 트렌치를 형성한 후에, 상기 트렌치를 형성하는 기판 내면에 실리콘 산화물, 실리콘 질화물, 또는 silicon oxy-nitride를 증착하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지의 제조방법. 33 제 26 항에 있어서, 상부 기체 통로 형성시 상기 제 1 및 제 2 전극 윗부분에 각각 접촉하는 집전체가 증착될 공간을 함께 형성하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지의 제조방법. 34 기판의 적어도 일부를 기공 구조로 형성하는 단계; 상기 기공 구조를 갖는 기판 부분 위에 제 1 전극을 형성하는 단계; 상기 기공 구조를 갖는 기판 부분 위에, 상기 제 1 전극과 이격되도록 제 2 전극을 형성하는 단계; 및 상기 두 전극 위에 전해질을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지의 제조방법. 35 제 34 항에 있어서, 상기 기판의 일부를 기공 구조로 형성하는 방법은, 상기 기판에서 기공 구조로 만들 부분을 포토리지스트로 규정하고, 이 규정된 부분을 전기화학적으로 식각하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지의 제조방법. 36 제 34 항에 있어서, 상기 기판의 일부를 기공 구조로 형성하는 방법은, 상기 기판의 상면에 트렌치를 형성하고, 상기 트렌치에 기공성 프리트(frit)를 채우는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지의 제조방법. 37 제 34 항에 있어서, 상기 제 1 전극을 형성하기 전에 상기 기판 위에 집전체를 형성하고, 상기 집전체의 일부 위에 상기 제 1 전극 및 상기 제 2 전극을 형성하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지의 제조방법. 38 제 34 항에 있어서, 상기 제 1 전극 아래 기판의 기공 구조 부분과 상기 제 2 전극 아래 기판의 기공 구조 부분은 서로 분리되도록 형성하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지의 제조방법. 39 기판 위에 유전체층을 형성하는 단계; 상기 유전체층에 트렌치를 형성하는 단계; 상기 트렌치에 희생물질(sacrificial substance)을 채우는 단계; 상기 유전체층 및 상기 희생물질 위에 제 1 전극을 형성하는 단계; 상기 제 1 전극 위에 전해질층을 형성하는 단계; 및 상기 전해질층 위에 제 2 전극을 형성하는 단계;를 포함하며, 상기 제 1 전극의 열처리나 그 이후의 열처리를 통해 상기 희생물질을 열 분해시켜 에어갭(air gap)을 형성하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지의 제조방법. 40 기판 위에 희생물질층을 형성하는 단계; 상기 희생물질층을 패터닝하여 소정 간격의 희생물질을 형성하는 단계; 상기 희생물질 사이 및 위에 유전체층을 형성하는 단계; 상기 유전체층을 평탄화하는 단계; 상기 유전체층 및 상기 희생물질 위에 제 1 전극을 형성하는 단계; 상기 제 1 전극 위에 전해질층을 형성하는 단계; 및 상기 전해질층 위에 제 2 전극을 형성하는 단계;를 포함하며, 상기 제 1 전극의 열처리나 그 이후의 열처리를 통해 상기 희생물질을 열 분해시켜 에어갭(air gap)을 형성하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지의 제조방법.","KR100724120B1",null,1]
["K03836","연료전지","KR","분리장벽을 이용한 단실형 고체 산화물 연료전지{SINGLE CHAMBER SOLID OXIDE FUEL CELL WITH BARRIER RIB}",null,"원문이미지","KR20060078429A","2006.08.18","KR0724119B1","2007.05.25","본 발명은 단실형 고체 산화물 연료전지에 관한 것으로, 전극을 전해질과 동일 평면상에 배치하고 단위 셀을 집적화하는 과정에서 발생하는 반응 가스의 혼합에 의한 개회로 전압 손실을 막아준다. 즉, 본 발명에서 제공하는 분리장벽을 가진 디자인을 통해 동일 평면상에 전극을 배치하고도 고출력의 단실형 마이크로 고체 산화물 연료전지를 제조할 수 있고, 이러한 단위 셀들의 고집적화를 통해서 고전압, 고전류를 발생시키는 마이크로 연료전지를 구현할 수 있다.","1 전해질의 일면(一面)에 애노드 전극과 캐쏘드 전극이 함께 배치된 타입의 단실형 고체산화물 연료전지에 있어서, 상기 전해질의 상기 일면에 형성되고, 동종 또는 이종의 두 전극 사이에 위치하는 분리장벽을 포함하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지.","김형철, 이해원, 김성문, 송휴섭, 이종호, 김주선, 손지원, 안성진","H01M-008/02",null,null,null,"2026.08.18","1 전해질의 일면(一面)에 애노드 전극과 캐쏘드 전극이 함께 배치된 타입의 단실형 고체산화물 연료전지에 있어서, 상기 전해질의 상기 일면에 형성되고, 동종 또는 이종의 두 전극 사이에 위치하는 분리장벽을 포함하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 2 제1항에 있어서, 상기 분리장벽은 다수 개 형성되고, 상기 애노드 전극 또는 상기 캐쏘드 전극은 이웃하는 두 분리장벽 사이에 형성된 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 3 제1항에 있어서, 상기 애노드 전극 또는 상기 캐쏘드 전극은 상기 분리장벽의 측벽에 형성된 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 4 제1항에 있어서, 상기 분리장벽은 다수 개 형성되고, 상기 애노드 전극 또는 상기 캐쏘드 전극은 이웃하는 두 분리장벽 사이 및 상기 분리장벽의 측벽에 형성된 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 5 제1항에 있어서, 상기 분리장벽은 상기 전해질과 일체로 형성된 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 6 제5항에 있어서, 상기 전해질의 일 단면은 요철 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 7 제1항에 있어서, 상기 분리장벽은 상기 전해질과 별개의 물질로 이루어져 있고, 상기 분리장벽과 상기 전해질은 요철 형상의 단면을 이루는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 8 제1항에 있어서, 상기 분리장벽은 다수 개 형성되고, 상기 분리장벽은 평면상 스트라이프형인 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 9 제8항에 있어서, 상기 애노드 전극과 상기 캐쏘드 전극이 교대로 배치된 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 10 제8항에 있어서, 상기 애노드 전극과 상기 캐쏘드 전극은 동일 전극 2개를 한 묶음으로 해서 교대로 배치된 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 11 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 전해질의 상기 일면(一面)의 반대 면에도 애노드 전극과 캐쏘드 전극이 함께 배치되며, 상기 반대 면에 형성되고 동종 또는 이종의 두 전극 사이에 위치하는 분리장벽을 포함하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 12 제1항에 있어서, 상기 전해질을 지지하는 지지체를 더 포함하고, 상기 지지체는 도전체, 절연체, 산소 이온 전도체 또는 프로톤 전도체를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 13 제12항에 있어서, 상기 지지체 위에 절연 및 열팽창 버퍼층을 더 포함하고, 상기 버퍼층은 실리콘 산화물(SiOx), 실리콘 질화물(SixNy), 알루미늄 산화물(AlxOy), 마그네슘 산화물(MgxOy), 티타늄 산화물(TixOy), 지르코늄 산화물(ZrxOy), 세륨 산화물(CexOy), 란타늄 갈레이트(Lanthanum Gallate), 바륨 세레이트(Barium Cerate), 바륨 지르코네이트(Barium Zirconate) 또는 상기 재료들의 여러 도핑상을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 14 제1항에 있어서, 상기 분리장벽은 상기 전해질과 동종의 물질로 이루어지거나, 혹은 상기 전해질과 이종의 물질로서 실리콘 산화물(SiOx), 실리콘 질화물(SixNy), 알루미늄 산화물(AlxOy), 마그네슘 산화물(MgxOy), 티타늄 산화물(TixOy), 지르코늄 산화물(ZrxOy), 세륨 산화물(CexOy), 란타늄 갈레이트(Lanthanum Gallate), 바륨 세레이트(Barium Cerate), 바륨 지르코네이트(Barium Zirconate) 또는 상기 재료들의 여러 도핑상을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 15 제1항에 있어서, 상기 전극에 연결되며, 상기 애노드 전극, 캐쏘드 전극 및 전해질을 구비하여 이루어진 단위 셀을 직렬 또는 병렬 연결하는 집전체를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 16 전해질의 일면(一面)에 애노드 전극과 캐쏘드 전극이 함께 배치된 타입의 단실형 고체산화물 연료전지에 있어서, 상기 전해질의 상기 일면에 다수의 분리장벽이 형성되어 요철 구조를 가지며, 상기 요철 구조 중 볼록부위에 해당하는 상기 분리장벽의 상면에 상기 두 전극 중 어느 한 전극이 형성되고, 상기 요철 구조 중 오목부위에 다른 한 전극이 형성된 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지.","KR100724119B1",null,1]
["K03846","연료전지","KR","이동형 연료전지 장치 및 그 구동 방법{Apparatus for portable fuel cells and operating method thereof}",null,"원문이미지","KR20060104568A","2006.10.26","KR0783047B1","2007.11.30","본 발명은 OCV 값을 이용한 초기 구동 후 안정화 상태를 결정하는 이동형 연료전지 장치 및 그 구동 방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 초기 구동 감지, 구동 전위의 효율적 변환, 연료전지에서의 최소 연료 농도 사용과 연료전지 작동 정지 시 2차 전지 사용의 최대화 등을 통하여 생산된 에너지 손실을 최소화하고, 안정적이고 효율적인 에너지 관리를 수행할 수 있다. 또한, 이러한 에너지 관리의 측면에서 이동형 연료전지 장치 내의 부품의 선택과 배치를 수행하여 장치의 경제성 및 상용성을 높일 수 있다.","1 단위 전지 또는 단위 전지의 스택으로 구성되는 연료전지; 충전 및 방전이 가능한 2차 전지; 상기 연료전지로부터 생산된 전력을 공급받아 응용 기기에 공급하고, 상기 2차 전지와 상호 연결되어 전력을 공급받거나 공급하고, 상기 연료전지의 구동을 위하여 전력을 공급하며, DC-DC 변환기를 포함하고, 상기 연료전지의 전압을 측정하고 이를 기초로 상기 전력의 공급을 각각 조절하는 전력 조절 장치;를 포함하는 것이고, 상기 전력 조절 장치는 상기 연료전지의 초기 구동 후 상기 연료전지로부터 측정되는 전압이 일정한 상태에 이르는 안정화 상태에서 상기 연료전지로부터 전력을 공급받도록 하는 것을 특징으로 하는 이동형 연료전지 장치.","이재영, 남석우, 임태훈, 오인환, 윤성필, 홍성안, 한종희, 김형준, 조은애, 함형철, 김영천","H01M-012/08",null,null,null,"2026.10.26","1 단위 전지 또는 단위 전지의 스택으로 구성되는 연료전지; 충전 및 방전이 가능한 2차 전지; 상기 연료전지로부터 생산된 전력을 공급받아 응용 기기에 공급하고, 상기 2차 전지와 상호 연결되어 전력을 공급받거나 공급하고, 상기 연료전지의 구동을 위하여 전력을 공급하며, DC-DC 변환기를 포함하고, 상기 연료전지의 전압을 측정하고 이를 기초로 상기 전력의 공급을 각각 조절하는 전력 조절 장치;를 포함하는 것이고, 상기 전력 조절 장치는 상기 연료전지의 초기 구동 후 상기 연료전지로부터 측정되는 전압이 일정한 상태에 이르는 안정화 상태에서 상기 연료전지로부터 전력을 공급받도록 하는 것을 특징으로 하는 이동형 연료전지 장치. 2 제 1 항에 있어서, 상기 전력 조절 장치는 상기 연료전지의 단위 전지 또는 그 스택이 나타내는 OCV를 기초로 하여 초기 구동 시 상기 연료전지의 전압이 상승할 때 상기 OCV 값을 넘는지를 측정하고, 일정 시간이 지난 후 상기 연료전지의 전압이 다시 상기 OCV 값에 도달하는지의 여부를 측정한 후, 상기 두 번의 측정 후, 상기 연료전지로부터 전력을 공급받도록 하는 것을 특징으로 하는 이동형 연료전지 장치. 3 제 2 항에 있어서, 상기 일정 시간이 지난 후에 상기 전압이 OCV 값의 ±5% 내에 도달하는 경우 OCV 값에 도달한 것으로 보아 상기 연료전지로부터 전력을 공급받도록 하는 것을 특징으로 하는 이동형 연료전지 장치. 4 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 2차 전지는 상기 연료전지 생산 총 전력의 10 내지 15%를 초기 연료전지 구동 전력으로 공급하는 것을 특징으로 하는 이동형 연료전지 장치. 5 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 2차 전지는 초기 연료전지 구동 전력으로 소모된 전력을 상기 전력 조절 장치로부터 완전 충전 시까지 공급받은 후, 상기 전력 조절 장치와 상기 2차 전지 간에 연결이 차단되는 것을 특징으로 하는 이동형 연료전지 장치. 6 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 전력 조절 장치는 상기 연료전지가 정상 상태 후 성능 감소 단계에 이르러 그 전위가 제한 전위 이하에 이르는 경우 상기 연료전지 구동이 정지되도록 상기 연료전지로의 전력 공급을 중단하고, 이때 상기 2차 전지로부터 전력을 공급받도록 하는 것을 특징으로 하는 이동형 연료전지 장치. 7 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 전력 조절 장치는 상기 DC-DC 변환기의 효율을 85 내지 90%이상으로 하도록 상기 연료전지의 작동 전위를 응용기기 사용전위의 40 내지 60%로 유지하는 것을 특징으로 하는 이동형 연료전지 장치. 8 제 7 항에 있어서, 상기 연료전지는 상기 작동 전위가 60%를 넘지 않도록 분리판의 갯수 또는 MEA의 면적이 조절되는 것을 특징으로 하는 이동형 연료전지 장치. 9 단위 전지 또는 그 스택으로 구성되는 연료전지; 충전 및 방전이 가능한 2차 전지; 상기 연료전지로부터 생산된 전력을 공급받아 응용 기기에 공급하고, 상기 2차 전지와 상호 연결되어 전력을 공급받거나 공급하고, 상기 연료전지의 구동을 위한 구동 장치에 전력을 공급하며, DC-DC 변환기를 포함하고, 상기 연료전지의 전압을 측정하고 이를 기초로 상기 전력의 공급을 각각 조절하는 전력 조절 장치;를 포함하는 이동형 연료전지 장치의 구동 방법으로서, 상기 2차 전지로부터 상기 연료전지에 초기 구동 전력을 공급하는 단계(S1); 상기 연료전지의 초기 구동 후 상기 연료전지로부터 측정되는 전압이 일정한 상태에 이르는 안정화 상태에서 상기 연료전지로부터 상기 전력 조절 장치에 전력을 공급하는 단계(S2); 상기 전력을 공급받은 상기 전력 조절 장치로부터 상기 응용 기기, 상기 연료전지, 상기 2차 전지에 각각 전력을 공급하는 단계(S3); 및 상기 전력 조절 장치로부터 상기 연료전지에 전력이 공급되면 상기 2차 전지로부터 상기 연료전지로의 전력 공급을 중단하는 단계(S4);를 포함하는 것을 특징으로 하는 이동형 연료전지 장치의 구동 방법. 10 제 9 항에 있어서, 상기 S2 단계에서는 상기 연료전지의 단위 전지 또는 그 스택이 나타내는 OCV를 기초로 하여 초기 구동 시 상기 연료전지의 전압이 상승할 때 상기 OCV 값을 넘는지를 측정하고, 일정 시간이 지난 후 상기 연료전지의 전압이 다시 상기 OCV 값에 도달하는지의 여부를 측정한 후, 상기 두 번의 측정 후, 상기 연료전지로부터 상기 전력 조절 장치에 전력을 공급하는 것을 특징으로 하는 이동형 연료전지 장치의 구동 방법. 11 제 10 항에 있어서, 상기 S2 단계에서 일정 시간이 지난 후에 상기 전압이 OCV 값의 ±5% 내에 도달하는 경우 OCV 값에 도달한 것으로 보아 상기 연료전지로부터 상기 전력 조절 장치에 전력을 공급하는 것을 특징으로 하는 이동형 연료전지 장치의 구동 방법. 12 제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 S1 단계에서는 상기 2차 전지가 상기 연료전지 총 생산 전력의 10 내지 15%를 초기 연료전지 구동 전력으로 공급하는 것을 특징으로 하는 이동형 연료전지 장치의 구동 방법. 13 제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 S3 단계에서는 상기 응용 기기, 상기 연료전지에 전력을 공급하고 남은 잉여 전력으로 상기 2차 전지를 충전하는 것을 특징으로 하는 이동형 연료전지 장치의 구동 방법. 14 제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 방법에서는 상기 전력 조절 장치의 상기 DC-DC 변환기의 효율을 85 내지 90%이상으로 하도록 상기 연료전지의 작동 전위를 응용기기 사용전위의 40 내지 60%로 유지하는 것을 특징으로 하는 이동형 연료전지 장치의 구동 방법. 15 제 14 항에 있어서, 상기 방법에서는 상기 작동 전위가 60%를 넘지 않도록 상기 연료전지 내의 분리판의 갯수 또는 MEA의 면적을 조절하는 것을 특징으로 하는 이동형 연료전지 장치의 구동 방법. 16 제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 방법은 상기 2차 전지가 완전 충전되는 경우 상기 전력 조절 장치로부터 상기 2차 전지로의 전력 공급을 중단하는 단계(S5);를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이동형 연료전지 장치의 구동 방법. 17 제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 방법은 상기 연료전지가 정상 상태 후 성능 감소 단계에 이르러 그 전위가 제한 전위 이하로 되는 경우, 상기 연료전지 구동이 정지되도록 상기 전력 조절 장치로부터 상기 연료전지로의 전력 공급을 중단하고, 상기 전력 조절 장치는 상기 2차 전지로부터 전력을 공급받도록 하는 단계(S6)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이동형 연료전지 장치의 구동 방법.","DE112006004093T5, JP2010507894A, KR100783047B1, US2010021775A1, WO2008050933A1",null,1]
["K03837","전자상거래","KR","개인영역 네트워크를 이용한 이동 단말기의 전자 상거래시스템과 전자 상거래를 수행하는 프로그램이 저장된 기록매체{ELECTRONIC COMMERCE SYSTEM AND RECORDONG MEDIUM FOR STORING PROGRAM OF MOBILE TERMINALS USING PERSONAL AREA NETWORK}",null,"원문이미지","KR20060118998A","2006.11.29","KR0866991B1","2008.10.29","판매자와 구매자에게 협상의 부담을 줄여주는 모바일 쇼핑 에이전트와 상점 에이전트가 개시된다.모바일 쇼핑 에이전트는 상점 에이전트의 개인영역네트워크(Personal Area Network; Bluetooth, Ultra Wide-Band, Zigbee 등)의 무선 접속 영역에의 진입을 파악하여, 개인영역네트워크의 무선 접속 영역으로의 진입이 이루어진 경우 개인영역네트워크의 무선 접속 영역을 통하여 상점 에이전트에 관심 상품의 상점 상품 정보를 요청하여 수신한다. 그리고, 모바일 쇼핑 에이전트는 통신망을 통하여 상품 정보 서버로부터 관심 상품의 온라인 상품 정보를 요청하여 수신한다. 그리고 나서, 모바일 쇼핑 에이전트는 상점 상품 정보 및 온라인 상품 정보를 기초로 관심 상품의 구매 조건을 결정하고 게임 이론(game theory)을 사용하여 상점 에이전트와 협상을 수행한다.","1 사용자의 관심 상품이 등록된 관심 상품 저장 모듈; 상점 에이전트의 개인영역네트워크의 무선 접속 영역에의 진입을 파악하고, 상기 개인영역네트워크의 무선 접속 영역으로의 진입이 이루어진 경우 상기 개인영역네트워크의 무선 접속 영역을 통하여 상기 상점 에이전트에 상기 관심 상품의 상점 상품 정보를 요청하여 수신하는 제1 통신 모듈; 통신망을 통하여 상품 정보 서버로부터 상기 관심 상품의 온라인 상품 정보를 요청하여 수신하는 제2 통신 모듈; 상기 상점 상품 정보 및 상기 온라인 상품 정보를 기초로 상기 관심 상품의 구매 조건을 결정하고 상기 결정한 구매 조건을 상기 개인영역네트워크의 무선 접속 영역을 통하여 상기 상점 에이전트에 제공하여 상기 상점 에이전트와 상기 관심 상품의 구매에 대하여 협상을 수행하는 하는 구매 협상 모듈; 상기 협상이 성공한 경우 사용자에 협상된 구매 조건을 알리는 사용자 인터페이스 모듈을 포함하는 전자 상거래 시스템.","정재헌, 박지형","G06Q-030/00","KR20080048699A","2008.06.03",null,"2026.11.29","1 사용자의 관심 상품이 등록된 관심 상품 저장 모듈; 상점 에이전트의 개인영역네트워크의 무선 접속 영역에의 진입을 파악하고, 상기 개인영역네트워크의 무선 접속 영역으로의 진입이 이루어진 경우 상기 개인영역네트워크의 무선 접속 영역을 통하여 상기 상점 에이전트에 상기 관심 상품의 상점 상품 정보를 요청하여 수신하는 제1 통신 모듈; 통신망을 통하여 상품 정보 서버로부터 상기 관심 상품의 온라인 상품 정보를 요청하여 수신하는 제2 통신 모듈; 상기 상점 상품 정보 및 상기 온라인 상품 정보를 기초로 상기 관심 상품의 구매 조건을 결정하고 상기 결정한 구매 조건을 상기 개인영역네트워크의 무선 접속 영역을 통하여 상기 상점 에이전트에 제공하여 상기 상점 에이전트와 상기 관심 상품의 구매에 대하여 협상을 수행하는 하는 구매 협상 모듈; 상기 협상이 성공한 경우 사용자에 협상된 구매 조건을 알리는 사용자 인터페이스 모듈을 포함하는 전자 상거래 시스템. 2 제1항에 있어서, 상기 관심 상품에 대한 구매 전략이 등록된 구매 전략 저장 모듈을 더 포함하고, 상기 구매 협상 모듈은 상기 구매 전략을 더 고려하여 상기 구매 조건을 결정하는 전자 상거래 시스템. 3 제2항에 있어서, 상기 구매 전략은 협상 항목의 변경을 포함하는 전자 상거래 시스템. 4 제3항에 있어서, 상기 협상 항목은 가격, 배송 방법, 결제 방법, 색상, 브랜드, 구매 수량, 쿠폰, 포인트, 마일리지, 적립금 중 적어도 하나를 포함하는 전자 상거래 시스템. 5 제4항에 있어서, 상기 온라인 상품 정보는 상기 관심 상품의 최저가, 상기 관심 상품의 최고가, 배송 방법, 결제 방법, 색상, 브랜드, 구매 수량, 쿠폰, 포인트, 마일리지, 적립금 중 적어도 하나를 포함하는 전자 상거래 시스템. 6 제5항에 있어서, 상기 구매 협상 모듈은 상기 온라인 상품 정보를 기초로 상기 구매 전략을 만족할 만한 제1 협상안을 결정하고, 상기 제1 협상안의 가치가 상기 상점 상품 정보에 따른 제2 협상안의 가치보다 작은 경우 상기 제2 협상안을 상기 상점 에이전트에 제공하는 전자 상거래 시스템. 7 제6항에 있어서, 상기 구매 협상 모듈은 상기 제1 협상안의 가치가 상기 제2 협상안의 가치보다 큰 경우 상기 제2 협상안의 협상 항목의 값을 변경하여 제3 협상안을 결정하고, 상기 제3 협상안을 상기 상점 에이전트에 제공하는 전자 상거래 시스템. 8 제7항에 있어서, 상기 구매 협상 모듈은 상기 협상안의 조정 과정을 소정의 횟수 만큼 반복해서 수행하고 상기 소정의 횟수 내에 협상이 성공하지 못할 경우 상점 에이전트에 협상 결렬을 통보하는 전자 상거래 시스템. 9 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 사용자로부터 구매 결정 정보를 수신하는 경우 상기 통신망을 통해 결제 서버와 온라인 결제를 수행하는 결제 모듈을 더 포함하는 전자 상거래 시스템. 10 상점 에이전트의 개인영역네트워크의 무선 접속 영역에의 진입을 파악하는 기능; 상기 개인영역네트워크의 무선 접속 영역으로의 진입이 이루어진 경우 상기 개인영역네트워크의 무선 접속 영역을 통하여 상기 상점 에이전트에 관심 상품의 상점 상품 정보를 요청하여 수신하는 기능; 통신망을 통하여 상품 정보 서버로부터 상기 관심 상품의 온라인 상품 정보를 요청하여 수신하는 기능; 상기 상점 상품 정보 및 상기 온라인 상품 정보를 기초로 상기 관심 상품의 구매 조건을 결정하는 기능; 상기 결정한 구매 조건을 상기 개인영역네트워크의 무선 접속 영역을 통하여 상기 상점 에이전트에 제공하여 상기 상점 에이전트와 상기 관심 상품에 대하여 구매를 협상하는 기능; 상기 협상이 성공한 경우 사용자에 협상된 구매 조건을 알리는 기능을 포함하는 프로그램이 저장된 기록 매체. 11 제10항에 있어서, 상기 구매 전략은 가격, 배송 방법, 결제 방법, 색상, 브랜드, 구매 수량, 쿠폰, 포인트, 마일리지, 적립금 중 적어도 하나를 포함하는 협상 항목의 변경을 포함하고, 상기 온라인 상품 정보는 상기 관심 상품의 최저가, 상기 관심 상품의 최고가, 배송 방법, 결제 방법, 색상, 브랜드, 구매 수량, 쿠폰, 포인트, 마일리지, 적립금 중 적어도 하나를 포함하는 기록 매체. 12<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 13 상점에 입고된 상품에 대한 정보인 상점 상품 정보가 등록된 상점 상품 정보 저장 모듈; 개인영역네트워크의 무선 접속 영역을 형성하며 상기 개인영역네트워크의 무선 접속 영역으로 진입한 모바일 쇼핑 에이전트로부터 관심 상품에 대한 정보를 요청받는 제1 통신 모듈; 상기 상점 상품 정보 저장 모듈을 조회하여 상기 관심 상품에 대한 정보가 등록되어 있는 경우 상기 관심 상품에 대한 상점 상품 정보를 상기 제1 통신 모듈을 통해 상기 모바일 쇼핑 에이전트에 제공하는 조회 모듈; 상기 제1 통신 모듈을 통해 상기 모바일 쇼핑 에이전트로부터 구매 조건을 수신하고, 상기 모바일 쇼핑 에이전트와 상기 관심 상품의 구매에 대하여 협상을 수행하여 상기 관심 상품에 대한 판매를 결정하는 판매 협상 모듈; 상기 협상이 성공한 경우 사용자에 협상된 구매 조건을 알리는 사용자 인터페이스 모듈을 포함하는 전자 상거래 시스템. 14 제13항에 있어서, 상기 상점에 입고된 상품에 대한 판매 전략이 등록된 판매 전략 저장 모듈을 더 포함하고, 상기 판매 협상 모듈은 상기 구매 조건 및 상기 판매 전략을 고려하여 상기 관심 상품에 대한 판매를 결정하는 전자 상거래 시스템. 15 제14항에 있어서, 상기 구매 조건은 가격, 배송 방법, 결제 방법, 색상, 브랜드, 구매 수량, 쿠폰, 포인트, 마일리지, 적립금 중 적어도 하나를 포함하고, 상기 판매 전략은 가격, 배송 방법, 결제 방법, 색상, 브랜드, 구매 수량, 쿠폰, 포인트, 마일리지, 적립금 중 적어도 하나를 포함하는 협상 상목의 변경을 포함하는 전자 상거래 시스템. 16 제15항에 있어서, 상기 판매 협상 모듈은 판매 전략을 만족할 만한 제1 협상안을 결정하고, 상기 제1 협상안의 가치가 상기 모바일 쇼핑 에이전트의 제2 협상안의 가치보다 작은 경우 상기 제2 협상안을 상기 모바일 쇼핑 에이전트에 제시하는 전자 상거래 시스템. 17 제16항에 있어서, 상기 판매 협상 모듈은 상기 제1 협상안의 가치가 상기 모바일 쇼핑 에이전트의 제2 협상안의 가치보다 큰 경우 협상 항목의 값을 변경하여 제3 협상안을 만들고, 상기 제3 협상안을 상기 모바일 쇼핑 에이전트에 제시하는 전자 상거래 시스템. 18 제16항에 있어서, 상기 판매 협상 모듈은 상기 협상안 조정과정을 소정의 횟수 만큼 반복해서 협상이 성공하지 못할 경우 모바일 쇼핑에이전트에 협상 결렬을 통보하는 전자 상거래 시스템. 19<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 20 개인영역네트워크의 무선 접속 영역을 형성하는 기능; 상기 개인영역네트워크의 무선 접속 영역으로 진입한 모바일 쇼핑 에이전트로부터 관심 상품에 대한 정보를 요청받는 경우 상기 관심 상품에 대한 상점 상품 정보를 상기 개인영역네트워크의 무선 접속 영역을 통해 상기 모바일 쇼핑 에이전트에 제공하는 기능; 상기 개인영역네트워크의 무선 접속 영역을 통해 상기 모바일 쇼핑 에이전트로부터 구매 조건을 수신하는 기능; 상기 구매 조건에 따라 상기 모바일 쇼핑 에이전트와 상기 관심 상품의 구매에 대하여 협상을 수행하여 상기 관심 상품에 대한 판매를 결정하는 기능; 상기 협상이 성공한 경우 사용자에 협상된 구매 조건을 알리는 기능을 포함하는 프로그램이 저장된 기록 매체. 21 제20항에 있어서, 상기 관심 상품에 대한 판매를 결정하는 기능은 구매 조건 및 판매 전략을 고려하여 상기 관심 상품에 대한 판매를 결정하는 기능을 포함하는 프로그램이 저장된 기록 매체.","KR100866991B1, KR20080048699A",null,1]
["K03824","로봇","KR","휴머노이드용 음원 위치 측정 장치{Sound Source Localization Device for Humanoids}",null,"원문이미지","KR20060053825A","2006.06.15","KR0831936B1","2008.05.19","본 발명은 휴머노이드용 음원 위치 측정 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 휴머노이드용 음원 위치 측정 장치는 휴머노이드 머리의 양측면에 각각 장착되어 음원으로부터 발생하는 음파를 수신하는 제1 및 제2 마이크로폰 유닛; 및 상기 제1 및 제2 마이크로폰 유닛에 각각 수신되는 음파의 도착시간지연에 의해 상기 음원의 위치를 연산하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이러한 휴머노이드용 음원 위치 측정 장치에 의하면, 인간의 귀와 같이 배치된 마이크로폰 유닛에 의해 음원의 위치를 3차원 좌표형태로 측정하는 것이 가능하다.","2 휴머노이드용 음원 위치 측정 장치에 있어서, 상기 휴머노이드 머리의 양측면에 각각 장착되어 음원으로부터 발생하는 음파를 수신하며, 각각 세 개의 마이크로폰을 포함하는 제1 및 제2 마이크로폰 유닛; 및 상기 제1 및 제2 마이크로폰 유닛에 각각 수신되는 음파의 도착시간지연에 의해 상기 음원의 위치를 연산하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 휴머노이드용 음원 위치 측정 장치.","유범재, 김진성","G01S-003/808,G01S-003/80","KR20070119327A","2007.12.20",null,"2026.06.15","1<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 2 휴머노이드용 음원 위치 측정 장치에 있어서, 상기 휴머노이드 머리의 양측면에 각각 장착되어 음원으로부터 발생하는 음파를 수신하며, 각각 세 개의 마이크로폰을 포함하는 제1 및 제2 마이크로폰 유닛; 및 상기 제1 및 제2 마이크로폰 유닛에 각각 수신되는 음파의 도착시간지연에 의해 상기 음원의 위치를 연산하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 휴머노이드용 음원 위치 측정 장치. 3 제2항에 있어서, 상기 제어부는, 상기 제1 마이크로폰 유닛의 전면 마이크로폰을 기준 마이크로폰으로 하여 상기 제2 마이크로폰 유닛의 각 마이크로폰에 수신되는 음파와의 도착시간지연에 의해 상기 음원의 제1 위치를 연산하고, 상기 제2 마이크로폰 유닛의 전면 마이크로폰을 기준 마이크로폰으로 하여 상기 제1 마이크로폰 유닛의 각 마이크로폰에 수신되는 음파와의 도착시간지연에 의해 상기 음원의 제2 위치를 연산하여, 상기 음원의 제1 위치 및 제2 위치가 서로 일치하는 위치를 상기 음원의 위치로 결정하는 것을 특징으로 하는 휴머노이드용 음원 위치 측정 장치.","KR100831936B1, KR20070119327A",null,1]
["K03822","컴퓨터","KR","스트리밍 스테레오 영상을 처리하여 깊이-지도를 실시간으로 생성하는 장치{APPARATUS FOR REALTIME-GENERATING A DEPTH-MAP BY PROCESSING STREAMING STEREO IMAGES}",null,"원문이미지","KR20060040192A","2006.05.03","KR0795974B1","2008.01.11","본 발명은 양안시를 사용해 획득되어진 스테레오 영상을 처리하여 깊이-지도를 생성하는 장치에 관한 것으로서, 스트리밍 스테레오 영상을 처리하여 깊이-지도를 실시간으로 생성하는 장치에 있어서, 스트리밍되는 영상의 픽셀값을 비교하기 위해 상기 픽셀값이 파이프라이닝 처리되도록 하는 시프트 레지스터 블록과; 매칭 윈도우 단위의 차이(Difference) 연산 알고리즘을 수행하는 차이 연산 유닛들로 이루어진 차이 연산 블록으로서, 상기 차이 연산 유닛들의 수는 병렬 처리를 가능하게 하기 위해 디스페리티 범위의 수와 동일하거나 그 이상인 차이 연산 블록과; 상기 차이 연산 유닛들에서 제공되는 차이 결과값을 버퍼링하고 비교하여 디스페리티 (Disparity)를 계산하는 디스페리티 연산 블록과; 상기 각 블록의 동작을 제어하는 제어 블록을 포함하여 구성된다.","1 스트리밍 스테레오 영상을 처리하여 깊이-지도를 실시간으로 생성하는 장치에 있어서, 스트리밍되는 영상의 픽셀값을 비교하기 위해 상기 픽셀값이 파이프라이닝 처리되도록 하는 디스페리티 범위의 수와 동일한 크기를 가지는 시프트 레지스터 블록과; 매칭 윈도우 단위의 차이(Difference) 연산 알고리즘을 수행하는 차이 연산 유닛들로 이루어진 차이 연산 블록으로서, 상기 차이 연산 유닛들의 수는 병렬 처리를 가능하게 하기 위해 디스페리티 범위의 수와 동일한 차이 연산 블록과; 상기 차이 연산 유닛들에서 제공되는 차이 결과값을 버퍼링하고 비교하여 디스페리티 (Disparity)를 계산하는 디스페리티 연산 블록과; 상기 각 블록의 동작을 제어하는 제어 블록을 포함하고, 여기서, 별도의 클록(Clock)없이 입력 영상의 픽셀 클록(Pixel clock)을 사용하여 상기 픽셀 클록마다 하나의 깊이-지도 영상 픽셀이 생성되는 것을 특징으로 하는 깊이-지도 생성 장치.","조성제, 정문호, 유범재","G06T-017/50,G06T-007/60,G06T-001/00","KR20070107543A","2007.11.07",null,"2026.05.03","1 스트리밍 스테레오 영상을 처리하여 깊이-지도를 실시간으로 생성하는 장치에 있어서, 스트리밍되는 영상의 픽셀값을 비교하기 위해 상기 픽셀값이 파이프라이닝 처리되도록 하는 디스페리티 범위의 수와 동일한 크기를 가지는 시프트 레지스터 블록과; 매칭 윈도우 단위의 차이(Difference) 연산 알고리즘을 수행하는 차이 연산 유닛들로 이루어진 차이 연산 블록으로서, 상기 차이 연산 유닛들의 수는 병렬 처리를 가능하게 하기 위해 디스페리티 범위의 수와 동일한 차이 연산 블록과; 상기 차이 연산 유닛들에서 제공되는 차이 결과값을 버퍼링하고 비교하여 디스페리티 (Disparity)를 계산하는 디스페리티 연산 블록과; 상기 각 블록의 동작을 제어하는 제어 블록을 포함하고, 여기서, 별도의 클록(Clock)없이 입력 영상의 픽셀 클록(Pixel clock)을 사용하여 상기 픽셀 클록마다 하나의 깊이-지도 영상 픽셀이 생성되는 것을 특징으로 하는 깊이-지도 생성 장치. 2 제 1항에 있어서, 입력 영상의 크기, 매칭 윈도우의 크기, 디스페리티 범위, 또는 이들의 조합에 따라 스트리밍 스테레오 영상 처리의 변형 및 확장이 가능한 것을 특징으로 하는 깊이-지도 생성 장치. 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4 제 1 항에 있어서, 상기 차이 연산 블록은, 픽셀단위의 차이연산을 수행하는 ABSDIFF 블록과; 라인단위 연산결과를 위해 픽셀단위 차이 연산 결과를 누적 연산하는 ADD_A, REG_A 블록과; 매칭 윈도우의 너비 만큼의 데이터를 버퍼링하는 FIFO_A 블록과; 라인 단위의 차이 연산 결과가 연속적으로 출력되도록 SUB_A의 연산 결과를 REG_A로 귀환 입력(Feedback)시켜 소정 형태의 데이터를 출력하는 SUB_A 블록과; 윈도우 단위의 연산결과를 위해, 라인 단위의 차이 연산 결과를 누적 연산하는 ADD_B, FIFO_B 블록과; 매칭 윈도우의 폭 만큼의 데이터를 버퍼링하는 FIFO_C 블록과; 윈도우 단위의 차이 연산 결과가 연속적으로 출력되도록 SUB_B의 연산결과를 FIFO_B로 귀환 입력시켜 소정 형태의 데이터를 출력하는 SUB_B 블록을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 깊이-지도 생성 장치. 5 제 1 항에 있어서, 상기 디스페리티 연산 블록은, 각 유닛의 연산결과값을 순차적으로 비교하기 위해 계단형으로 구성된 CMP 블록들의 그룹과; 비교기에서 순차적으로 출력되는 디스페리티 정보의 시차를 정합하는 SR_C 블록들의 그룹과; 상기 SR_C 블록에서 출력되는 디스페리티 비교 정보를 영상으로 변환시키기 위한 DISPARITY_ENCODER 블록을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 깊이-지도 생성 장치. 6 제 5 항에 있어서, 상기 DISPARITY_ENCODER 블록은, 깊이(depth)가 가장 큰 SR_C를 최상위 비트로 하여 만든 튜플(tuple)에서, 유효한 최상위 비트의 위치가 순차적으로 감소하고 유효한 최상위 비트가 1이며 그 위치 이하의 비트는 모두 0인 것을 입력으로 할 때, 최상위 비트의 위치에 따라 그 값을 순차적으로 출력하는 방식을 가지는 인코더를 특징으로 하는 깊이-지도 생성 장치.","KR100795974B1, KR20070107543A",null,1]
["F02463","재료","JP","전기 분해를 이용한 은나노 분말의 제조 방법",null,"원문이미지","JP2006342122A","2006.12.20","JP4395506B9","2009.10.23","(57)【요약】 【과제】본 발명은, 전기 분해를 이용한 은나노 분말의 제조 방법에 관한 것이다.【해결 수단】은 이온 함유 전해질 수용액에 분산제 인 나프탈렌 술폰산 나트륨을 첨가하고, 전기 분해를 행하는 본 발명의 방법에 의하면, 입자 분포가 균일한 100nm 이하의 크기의 은나노 분말을 간단하고, 이기는 저죄인 비용으로 대량 생산할 수 있다.【선택도】그림 1","【청구항 1】 은 이온 함유 전해액에 분산제 인 나프탈렌 술폰산 나트륨을 첨가하고, 정극과 음극을 설치한 뒤, 전류를 인가하는 것을 포함한다, 전기 분해를 이용한 은나노 분말의 제조 방법.","イ·ファヨン","C25C-001/20,C25C-005/02","JP2007327134A","2007.12.20","2006-06-07 (KR 10-2006-0050904)","2026.12.20","【특허청구의 범위】 【청구항 1】 은 이온 함유 전해액에 분산제 인 나프탈렌 술폰산 나트륨을 첨가하고, 정극과 음극을 설치한 뒤, 전류를 인가하는 것을 포함한다, 전기 분해를 이용한 은나노 분말의 제조 방법. 【청구항 2】 전해액중의 은 이온 농도가 5∼50g/리터의 범위 인 것을 특징으로 한다, 청구항 1 기재의 방법. 【청구항 3】 은 이온 함유 전해액이, 질산은 수용액 인 것을 특징으로 한다, 청구항 1 기재의 방법. 【청구항 4】 나프탈렌 술폰산 나트륨의 첨가량이, 은 이온 함유 전해액의 중량을 기준에 1∼5 중량%의 범위 인 것을 특징으로 한다, 청구항 1 기재의 방법. 【청구항 5】 정극이, 백금판 또는 은판 있고, 음극이 스테인리스 강판 인 것을 특징으로 한다, 청구항 1 기재의 방법. 【청구항 6】 음극의 전류 밀도가, 20∼200mA/cm2의 범위가 되도록 전류를 인가하는 것을 특징으로 한다, 청구항 1 기재의 방법.","JP2007327134A, JP4395506B2, KR100767703B1",null,1]
["K03820","생화학","KR","모세관 전기영동 장치를 이용한 포스파타아제 활성 측정방법{Analytical method of activity of phosphatase by capillary electrophoresis}",null,"원문이미지","KR20060057580A","2006.06.26","KR0754528B1","2007.08.27","본 발명은 모세관 전기영동을 이용한 단백질 포스파타아제 2B(칼시뉴린)의 활성 측정방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 단백질 포스파타아제 2B를 형광 라벨링된 포스포펩티드와 반응시키고, 상기 반응물을 모세관 전기영동법을 이용하여 기질 및 산물로 분리시키고, 이를 레이저 유도 형광 검출기(laser induced fluorescent detector)로 기질 및 산물의 양을 정량 분석하여 단백질 포스파타아제 2B의 활성 측정하는 방법에 관한 것이다.","1 단백질 포스파타아제 2B와 기질로 형광 라벨링된 포스포펩티드를 포함하는 반응 혼합물을 제조한 후 반응시키는 단계; 상기 반응물을 모세관 전기영동법을 이용하여 기질 및 산물로 분리하는 단계; 상기 분리된 기질 및 산물을 레이저 유도 형광 검출기(laser induced fluorescent detector)로 검출하는 단계; 및 상기 검출된 기질 및 산물의 양을 정량 분석하여 단백질 포스파타아제 2B의 활성 측정하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 단백질 포스파타아제 2B의 활성 측정 방법.","유영숙, 송은주, 위문형, 바바르","G01N-033/533,G01N-033/53,G01N-033/50",null,null,null,"2026.06.26","1 단백질 포스파타아제 2B와 기질로 형광 라벨링된 포스포펩티드를 포함하는 반응 혼합물을 제조한 후 반응시키는 단계; 상기 반응물을 모세관 전기영동법을 이용하여 기질 및 산물로 분리하는 단계; 상기 분리된 기질 및 산물을 레이저 유도 형광 검출기(laser induced fluorescent detector)로 검출하는 단계; 및 상기 검출된 기질 및 산물의 양을 정량 분석하여 단백질 포스파타아제 2B의 활성 측정하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 단백질 포스파타아제 2B의 활성 측정 방법. 2 청구항 1에 있어서, 상기 형광 라벨링된 포스포펩티드는 플루오레신 이소티오시아네이트(fluorescein isothiocyanate)로 유도체화되고, 서열번호 1의 아미노산 서열을 가진 포스포펩티드인 것을 특징으로 하는 단백질 포스파타아제 2B의 활성 측정 방법. 3 청구항 1에 있어서, 상기 반응 혼합물에 칼모듈린 및 칼슘 이온을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 단백질 포스파타아제 2B의 활성 측정 방법. 4 청구항 1에 있어서, 상기 반응의 반응온도는 30 ~ 40 ℃이고, 반응시간은 10 ~ 30 분인 것을 특징으로 하는 단백질 포스파타아제 2B의 활성 측정 방법. 5 청구항 1에 있어서, 상기 모세관 전기영동법에 사용되는 분리 완충액(running buffer)은 붕산 완충액이고, 상기 붕산 완충액의 pH는7 ~ 12 이고, 농도가 80 ~ 150 mM 인 것을 특징으로 하는 단백질 포스파타아제 2B의 활성 측정 방법. 6 청구항 1에 있어서, 상기 모세관 전기영동법에 적용하는 전압은 7 ~ 25 kV 인 것을 특징으로 하는 단백질 포스파타아제 2B의 활성 측정 방법.","KR100754528B1",null,1]
["K03798","반도체","KR","가열 냉각용 및 발전용 박막형 열전모듈 제조방법{Method for manufacturing a Thin Film Thermoelectric module for Heater, Cooler and Generator}",null,"원문이미지","KR20060051350A","2006.06.08","KR0795374B1","2008.01.10","기판위에 p형 및 n형 열전 반도체 중 하나의 열전 반도체인 제1 열전 반도체층을 형성하는 단계; 상기 제1 열전 반도체층 위에 제1 절연층을 형성하는 단계; 상기 제1 절연층 위에 p형 및 n형 열전 반도체 중 나머지 다른 하나의 열전 반도체인 제2 열전 반도체층을 형성하는 단계; 상기 제1 열전 반도체층, 상기 제1 절연층 및 상기 제2 열전 반도체층으로 형성된 수직 배열층이 서로 이격된 다수의 셀로 분리되어 배열되도록 어레이 패터닝하는 단계; 상기 셀 배열에서 교호적으로 위치하는 셀의 적어도 양단에서 상기 제1 열전 반도체층이 드러나도록 상기 제1 절연층 및 상기 제2 열전 반도체층을 제거하는 단계; 상기 셀과 셀 사이에 제2 절연층을 형성하는 단계; 양단의 제1 열전 반도체층이 드러나 있는 상기 셀의 제1 열전 반도체층을 그와 이웃하는 셀의 상기 제2 열전 반도체층과 전기적으로 연결하는 전극을 형성하는 단계 -상기 양단 중 일 단의 전극은 일 방향으로 이웃하는 셀의 제2 열전 반도체층과 연결되고 타 단의 전극은 타 방향으로 이웃하는 셀의 제2 열전 반도체층과 연결됨- 를 포함하는 박막형 열전모듈 제조방법이 제공된다.","1 a) 기판위에 p형 및 n형 열전 반도체 중 하나의 열전 반도체인 제1 열전 반도체층을 형성하는 단계; b) 상기 제1 열전 반도체층 위에 제1 절연층을 형성하는 단계; c) 상기 제1 절연층 위에 p형 및 n형 열전 반도체 중 나머지 다른 하나의 열전 반도체인 제2 열전 반도체층을 형성하는 단계; d) 상기 제1 열전 반도체층, 상기 제1 절연층 및 상기 제2 열전 반도체층으로 형성된 수직 배열층이 서로 이격된 다수의 셀로 분리되어 배열되도록 어레이 패터닝하는 단계; 그리고 e) 상기 셀의 제1 열전 반도체층과 제2 열전 반도체층 중 하나의 열전 반도체층과 상기 셀과 이웃하는 셀의 제1 열전 반도체층과 제2 열전 반도체층 중 다른 하나의 열전 반도체층을 전기적으로 연결하는 전극을 형성하는 단계 를 포함하는 박막형 열전모듈 제조방법.","김진상, 윤석진, 정대용, 최지원, 강종윤","H01L-035/02,H01L-035/34","KR20070117291A","2007.12.12",null,"2026.06.08","1 a) 기판위에 p형 및 n형 열전 반도체 중 하나의 열전 반도체인 제1 열전 반도체층을 형성하는 단계; b) 상기 제1 열전 반도체층 위에 제1 절연층을 형성하는 단계; c) 상기 제1 절연층 위에 p형 및 n형 열전 반도체 중 나머지 다른 하나의 열전 반도체인 제2 열전 반도체층을 형성하는 단계; d) 상기 제1 열전 반도체층, 상기 제1 절연층 및 상기 제2 열전 반도체층으로 형성된 수직 배열층이 서로 이격된 다수의 셀로 분리되어 배열되도록 어레이 패터닝하는 단계; 그리고 e) 상기 셀의 제1 열전 반도체층과 제2 열전 반도체층 중 하나의 열전 반도체층과 상기 셀과 이웃하는 셀의 제1 열전 반도체층과 제2 열전 반도체층 중 다른 하나의 열전 반도체층을 전기적으로 연결하는 전극을 형성하는 단계 를 포함하는 박막형 열전모듈 제조방법. 2 제1항에 있어서, 상기 단계 e)는 f) 상기 셀 배열에서 교호적으로 위치하는 셀의 적어도 양단에서 상기 제1 열전 반도체층을 남기고 상기 제1 절연층 및 상기 제2 열전 반도체층을 제거하는 단계; g) 상기 셀과 셀 사이에 제2 절연층을 형성하는 단계; 그리고 h) 양단이 제1 열전 반도체층만 남은 상기 셀의 제1 열전 반도체층을 그와 이웃하는 셀의 상기 제2 열전 반도체층과 전기적으로 연결하는 전극을 형성하는 단계 -상기 양단 중 일 단의 상기 전극은 일 방향으로 이웃하는 셀의 제2 열전 반도체층과 연결되고 타 단의 상기 전극은 타 방향으로 이웃하는 셀의 제2 열전 반도체층과 연결됨; 를 포함하는 박막형 열전모듈 제조방법. 3 제2항에 있어서, 상기 단계 f)에서 상기 제1 절연층 및 상기 제2 열전 반도체층의 제거는 상기 셀의 전체 상면에 걸쳐 수행되는 박막형 열전모듈 제조방법. 4 제1항에 있어서, 상기 단계 a)는 열증착, 금속유기 화학 기상증착법, 분자선에피텍시, 스퍼터링 법 중 선택된 하나의 방법에 의해 수행되는 박막형 열전모듈 제조방법. 5 제1항에 있어서, 상기 단계 b)는 열증착, 금속유기 화학 기상증착법, 분자선에피텍시, 스퍼터링 법 중 선택된 하나의 방법에 의해 수행되는 박막형 열전모듈 제조방법. 6 제1항에 있어서, 상기 단계 c)는 열증착, 금속유기 화학 기상증착법, 분자선에피텍시, 스퍼터링 법 중 선택된 하나의 방법에 의해 수행되는 박막형 열전모듈 제조방법. 7 제1항에 있어서, 상기 기판은 갈륨비소(GaAs), 사파이어, 파이렉스(Pyrex) 및 석영(SiO2) 중에서 선택된 하나의 단결정 웨이퍼인 박막형 열전모듈 제조방법. 8 제1항에 있어서, 상기 n형 열전 반도체층은 Bi-Te 합금 및 Bi-Te 합금에 Se를 첨가한 재료 중 선택된 하나의 재료인 박막형 열전모듈 제조방법. 9 제1항에 있어서, 상기 p형 열전 반도체층은 Bi-Te 합금 및 Bi-Te 합금에 Sb를 첨가한 재료 중 선택된 하나의 재료인 박막형 열전모듈 제조방법. 10 제1항에 있어서, 상기 제1 절연층은 CdTe, ZnS 및 Si 중 선택된 하나의 재료인 박막형 열전모듈 제조방법. 11 제1항에 있어서, 상기 전극은 다수의 금속 재료를 차례로 증착하여 형성되는 박막형 열전모듈 제조방법.","KR100795374B1, KR20070117291A",null,1]
["K03814","영상처리","KR","3차원 계측을 위한 다수 교정 영상을 이용한 카메라 교정방법{CAMERA CALIBRATION METHOD USING A PLURALITY OF CALIBRATION IMAGES FOR 3 DIMENSIONAL MEASUREMENT}",null,"원문이미지","KR20060040191A","2006.05.03","KR0823070B1","2008.04.11","본 발명은 카메라의 교정 방법에 대한 것으로서, 본 발명에 따른 3차원 계측을 위한 다수 교정 영상을 이용한 카메라 교정 방법은, 동일한 카메라가 동일한 교정 상자를 각도 및 거리 중 적어도 하나가 상이한 다수의 위치에서 촬영하여, 얻어진 다수의 교정 영상에 대해 상기 카메라의 내부 및 외부 변수를 포함하는 상기 카메라에 대한 다수의 내부 행렬을 계산하는 단계와; 상기 카메라에 대한 상기 다수의 내부 행렬에 대해 각각의 중간값 계산을 수행하여, 상기 카메라에 대한 상기 다수의 내부 행렬을 갱신하는 단계와; 상기 갱신된 다수의 내부 행렬을 이용하여, 상기 다수의 내부 행렬의 외부 변수들에 대해 비선형 최적화를 수행하는 단계와; 상기 최적화된 외부 변수들을 이용하여, 상기 갱신된 다수의 내부 행렬을 재 갱신하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.","1 동일한 카메라가 동일한 교정 상자를 각도 및 거리 중 적어도 하나가 상이한 다수의 위치에서 촬영하여, 얻어진 다수의 교정 영상에 대해 상기 카메라의 내부 및 외부 변수를 포함하는 상기 카메라에 대한 다수의 내부 행렬 A 을 계산하는 단계와; 상기 카메라에 대한 상기 다수의 내부 행렬에 대해 각각의 중간값 계산을 수행하여, 상기 카메라에 대한 상기 다수의 내부 행렬을 갱신하는 단계와, 여기서, 상기 중간값 계산은 을 통해 이루어지며, 상기 A1, A2, An은 상기 다수의 내부 행렬을 나타내고; 상기 갱신된 다수의 내부 행렬을 이용하여, 상기 다수의 내부 행렬의 외부 변수들에 대해 비선형 최적화를 수행하는 단계와; 상기 최적화된 외부 변수들을 이용하여, 상기 갱신된 다수의 내부 행렬을 재 갱신하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 계측을 위한 다수 교정 영상을 이용한 카메라 교정 방법.","정문호, 강동중, 유범재, 하종은","H04N-017/00","KR20070107542A","2007.11.07",null,"2026.05.03","1 동일한 카메라가 동일한 교정 상자를 각도 및 거리 중 적어도 하나가 상이한 다수의 위치에서 촬영하여, 얻어진 다수의 교정 영상에 대해 상기 카메라의 내부 및 외부 변수를 포함하는 상기 카메라에 대한 다수의 내부 행렬 A 을 계산하는 단계와; 상기 카메라에 대한 상기 다수의 내부 행렬에 대해 각각의 중간값 계산을 수행하여, 상기 카메라에 대한 상기 다수의 내부 행렬을 갱신하는 단계와, 여기서, 상기 중간값 계산은 을 통해 이루어지며, 상기 A1, A2, An은 상기 다수의 내부 행렬을 나타내고; 상기 갱신된 다수의 내부 행렬을 이용하여, 상기 다수의 내부 행렬의 외부 변수들에 대해 비선형 최적화를 수행하는 단계와; 상기 최적화된 외부 변수들을 이용하여, 상기 갱신된 다수의 내부 행렬을 재 갱신하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 계측을 위한 다수 교정 영상을 이용한 카메라 교정 방법. 2 제 1항에 있어서, 상기 재 갱신된 카메라 내부 행렬의 내부 및 외부 변수들에 의해 표현되는 영상 교정점과 영상 기준점 사이의 오차를 연산하는 단계와; 상기 연산된 오차와 미리 설정된 기준값을 비교하는 단계를 추가로 포함하고, 상기 연산된 오차가 상기 미리 설정된 기준값 이하가 될 때까지 상기 카메라 내부 행렬 갱신 단계, 상기 비선형 최적화 수행 단계 및 상기 카메라 내부 행렬 재 갱신 단계를 반복하는 것을 특징으로 하는 3차원 계측을 위한 다수 교정 영상을 이용한 카메라 교정 방법.","KR100823070B1, KR20070107542A",null,1]
["K03789","의료","KR","조직공학용 다공성 뼈-연골 복합 지지체의 제조 방법{METHOD FOR PREPARING OF A POROUS OSTEOCHONDRAL COMPOSITE SCAFFOLD}",null,"원문이미지","KR20060054236A","2006.06.16","KR0737167B1","2007.07.03","본 발명은 다공성 뼈-연골 복합 지지체 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. 구체적으로, 본 발명의 뼈-연골 복합 지지체는 뼈 재생층과 연골 재생층이 다층 구조를 이룬 형태의 다공성 지지체로서, 생체적합성 고분자, 생리활성형 세라믹과 공극형성물질을 혼합, 압착 및 가열하여 제조한 뼈 재생층과 용매에 생체적합성 탄성 고분자를 용해시킨 후 공극형성물질을 첨가한 후 겔화시킨 연골 재생층 형성용 혼합물을 함께 압착 성형한 후, 용매와 공극형성물질을 제거하는 공정으로 제조된다. 본 발명에 따르면 뼈와 연골의 재생에 적합한 생리활성과 기계적 강도를 가지는 다층 구조의 다공성 복합 지지체를 간단한 공정으로 얻을 수 있고, 얻어진 지지체는 공극 형태가 균일하고 공극간 상호 연결도가 우수한 특징을 가진다.","1 (i) 생체적합성 고분자와 생리활성형 세라믹을 포함하고 상기 세라믹이 표면에 노출되어 있는 다공성 뼈 재생층, 및 (ⅱ) 생체적합성 탄성 고분자를 포함하는 다공성 연골 재생층 을 포함하는, 조직공학용 다공성 뼈-연골 복합 지지체.","김수현, 정영미, 정기철, 김상헌","A61F-002/28,A61F-002/00",null,null,null,"2026.06.16","1 (i) 생체적합성 고분자와 생리활성형 세라믹을 포함하고 상기 세라믹이 표면에 노출되어 있는 다공성 뼈 재생층, 및 (ⅱ) 생체적합성 탄성 고분자를 포함하는 다공성 연골 재생층 을 포함하는, 조직공학용 다공성 뼈-연골 복합 지지체. 2 제1항에 있어서, 뼈 재생층의 공극 크기가 1 내지 800 ㎛이고 다공도가 40 내지 97 %인 것을 특징으로 하는, 뼈-연골 복합 지지체. 3 제1항에 있어서, 연골 재생층의 공극 크기가 1 내지 800 ㎛이고 다공도가 40 내지 97 %인 것을 특징으로 하는, 뼈-연골 복합 지지체. 4 제1항에 있어서, 생체적합성 고분자가 폴리락타이드, 폴리글리콜리드, 폴리카프로락톤, 폴리트리메틸렌카보렌카보네이트, 폴리아미노산, 폴리오르토에스테르, 폴리에틸렌옥사이드 및 이들의 공중합체로 이루어진 군 중에서 선택된 것임을 특징으로 하는, 뼈-연골 복합 지지체. 5 제1항에 있어서, 생리활성형 세라믹이 트리칼슘포스페이트, 모노칼슘포스페이트, 칼슘메타포스페이트, 하이드록시아파타이드, 옥시아파타이드 및 이들의 혼합물로 이루어진 군 중에서 선택된 것임을 특징으로 하는, 뼈-연골 복합 지지체. 6 제1항에 있어서, 뼈 재생층이 생체적합성 고분자와 생리활성형 세라믹을 95:5 내지 20:80의 중량비로 포함된 것을 특징으로 하는, 뼈-연골 복합 지지체. 7 제1항에 있어서, 생체적합성 탄성 고분자가 락타이드/ε-카프로락톤 공중합체 또는 글리콜라이드/ε-카프로락톤 공중합체인 것을 특징으로 하는, 뼈-연골 복합 지지체. 8 제7항에 있어서, 생체적합성 탄성 고분자가 락타이드와 ε-카프로락톤의 혼합 몰비가 2:8 내지 8:2인 락타이드/ε-카프로락톤 공중합체, 또는 글리콜라이드와 ε-카프로락톤의 혼합 몰비가 2:8 내지 8:2인 글리콜라이드/ε-카프로락톤 공중합체인 것을 특징으로 하는 뼈-연골 복합 지지체. 9 (ⅰ) 생체적합성 고분자, 생리활성형 세라믹 및 공극형성물질을 혼합하는 단계, (ⅱ) 단계 (ⅰ)에서 얻어진 혼합물을 주형에서 압착 성형하는 단계, (ⅲ) 단계 (ⅱ)에서 얻어진 성형물을 가열 접합하여 다공성 뼈 재생층을 형성하는 단계, (ⅳ) 단계 (ⅲ)에서 형성된 뼈 재생층의 한쪽 면에, 용매에 생체적합성 탄성 고분자를 용해시키고 공극형성물질을 첨가한 후 겔화시킨 연골 재생층 형성용 혼합물을 부어준 후 압착 성형하여 복합 성형물을 얻는 단계, 및 (ⅴ) 단계 (ⅳ)에서 얻어진 복합 성형물 내의 용매와 공극형성물질을 제거하는 단계 를 포함하는, 제1항에 따른 조직공학용 다공성 뼈-연골 복합 지지체의 제조 방법. 10 제9항에 있어서, 단계 (ⅳ)를 수행하기 전, 단계 (ⅲ)에서 형성된 뼈 재생층에 공극형성물질을 첨가하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 방법. 11 제9항에 있어서, 생체적합성 고분자가 폴리락타이드, 폴리글리콜리드, 폴리카프로락톤, 폴리트리메틸렌카보렌카보네이트, 폴리아미노산, 폴리오르토에스테르, 폴리에틸렌옥사이드 및 이들의 공중합체로 이루어진 군 중에서 선택된 것임을 특징으로 하는 방법. 12 제9항에 있어서, 생리활성형 세라믹이 트리칼슘포스페이트, 모노칼슘포스페이트, 칼슘메타포스페이트, 하이드록시아파타이드, 옥시아파타이드 및 이들의 혼합물로 이루어진 군 중에서 선택된 것임을 특징으로 하는 방법. 13 제9항에 있어서, 단계 (ⅰ)에서 생체적합성 고분자와 세라믹을 95:5 내지 20:80의 중량비로 혼합하는 것을 특징으로 하는 방법. 14 제9항에 있어서, 공극형성물질이 결정성 염, 결정성 수산화물 및 수용성 다량류로 이루어진 군 중에서 선택된 것임을 특징으로 하는 방법. 15 제14항에 있어서, 결정성 염이 염화나트륨, 염화칼륨 및 염화마그네슘으로 이루어진 군 중에서 선택된 것임을 특징으로 하는 방법. 16 제14항에 있어서, 결정성 수산화물이 수산화나트륨 또는 수산화칼슘인 것을 특징으로 하는 방법. 17 제14항에 있어서, 수용성 다량류가 설탕 또는 녹말인 것을 특징으로 하는 방법. 18 제9항에 있어서, 생체적합성 탄성 고분자가 락타이드/ε-카프로락톤 공중합체 또는 글리콜라이드/ε-카프로락톤 공중합체인 것을 특징으로 하는 방법 19 제18항에 있어서, 생체적합성 탄성 고분자가 락타이드와 ε-카프로락톤의 혼합 몰비가 2:8 내지 8:2인 락타이드/ε-카프로락톤 공중합체, 또는 글리콜라이드와 ε-카프로락톤의 혼합 몰비가 2:8 내지 8:2인 글리콜라이드/ε-카프로락톤 공중합체인 것을 특징으로 하는 방법. 20 제9항에 있어서, 용매가 클로로포름, 메틸 클로라이드, 테트라하이드로퓨란, 아세트산 및 이들의 혼합물로 이루어진 군 중에서 선택된 것임을 특징으로 하는 방법. 21 제9항에 있어서, 단계 (ⅳ)에서 용매를 겔 상태의 혼합물의 총 중량을 기준으로 10 내지 50 중량%의 범위로 첨가하는 것을 특징으로 하는 방법.","KR100737167B1",null,1]
["K03919","광학","KR","어븀 광섬유에서 증폭된 자기 발광 기반의 초광대역 광원발생기 및 이를 이용한 파장분할다중 수동광네트워크{Super Broadband Light Source Generator based on Erbium Fiber Amplified Spontaneous Emission(ASE) and Wave Division Multiplexing Passive Optical Network(WDM-PON) using the same}",null,"원문이미지","KR20060084664A","2006.09.04","KR0767725B1","2007.10.10","어븀 광섬유에서 증폭된 자기 발광(ASE) 기반의 초광대역 광원 발생기 및 이를 이용한 파장분할다중 수동광네트워크(WDM-PON)에 관하여 개시한다. 본 발명은 제 1 펌핑광을 입력받아 결맞음성이 없는 증폭된 자기 발광(ASE) 시드(seed) 광원을 출력하는 어븀 첨가 광섬유; 제 2 펌핑광에 의해 순방향 펌핑되고 제 3 펌핑광에 의해 역방향 펌핑되어, 상기 어븀 첨가 광섬유로부터 입력받은 시드 광원을 증폭하여 출력하는 광섬유 증폭기; 및 상기 광섬유 증폭기로부터 입력받은 증폭된 광원을 비선형 현상을 이용하여 초광대역의 광원으로 변환하는 고비선형 광섬유를 포함한다. 따라서, 1백 nm 이상의 대역폭과 1백 mW 이상의 출력 광세기를 갖는 고출력 광대역의 광원을 생성하여 간단한 구성으로 광센서 또는 파장분할다중 수동광네트워크에 응용할 수 있다.","1 고출력의 결맞음성이 없는 증폭된 자기 발광(ASE) 시드(seed) 광원을 출력하는 어븀 첨가 광섬유; 상기 어븀 첨가 광섬유로부터 입력받은 시드 광원을 증폭하여 출력하는 광섬유 증폭기; 및 상기 광섬유 증폭기에서 증폭된 광원을 비선형 현상을 이용하여 고출력 초광대역의 광원으로 변환하는 고비선형 광섬유를 포함하는 초광대역 광원 발생기.","이주한, 한영근, 이상배, 김철한","H04B-010/13,H04B-010/28,H04B-010/12","KR20070100086A","2007.10.10","2006-04-05 (KR 1020060030860)","2026.09.04","1 고출력의 결맞음성이 없는 증폭된 자기 발광(ASE) 시드(seed) 광원을 출력하는 어븀 첨가 광섬유; 상기 어븀 첨가 광섬유로부터 입력받은 시드 광원을 증폭하여 출력하는 광섬유 증폭기; 및 상기 광섬유 증폭기에서 증폭된 광원을 비선형 현상을 이용하여 고출력 초광대역의 광원으로 변환하는 고비선형 광섬유를 포함하는 초광대역 광원 발생기. 2 제 1 펌핑광을 입력받아 결맞음성이 없는 증폭된 자기 발광(ASE) 시드(seed) 광원을 출력하는 어븀 첨가 광섬유; 제 2 펌핑광에 의해 순방향 펌핑되거나 제 3 펌핑광에 의해 역방향 펌핑되며, 또는 양방향 펌핑되어, 상기 어븀 첨가 광섬유로부터 입력받은 시드 광원을 증폭하여 출력하는 광섬유 증폭기; 및 상기 광섬유 증폭기로부터 입력받은 증폭된 광원을 비선형 현상을 이용하여 초광대역의 광원으로 변환하는 고비선형 광섬유를 포함하는 것을 특징으로 하는 초광대역 광원 발생기. 3 제 2 항에 있어서, 상기 어븀 첨가 광섬유와 상기 광섬유 증폭기 사이에 레이징 현상이 일어나 협대역의광결맞음성 레이저 출력이 나오는 것을 억제하기 위한 제 1 아이솔레이터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초광대역 광원 발생기. 4 제 3 항에 있어서, 상기 광섬유 증폭기와 상기 고비선형 광섬유 사이에 레이징 현상이 일어나 협대역의광결맞음성 레이저 출력이 나오는 것을 억제하기 위한 제 2 아이솔레이터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초광대역 광원 발생기. 5 제 4 항에 있어서, 상기 광섬유 증폭기는, 어븀 첨가 광섬유 증폭기 또는 희토류 첨가 광섬유 증폭기인 것을 특징으로 하는 초광대역 광원 발생기. 6 제 2 항에 있어서, 상기 고비선형 광섬유는, 실리카에 기반한 고비선형 분산 천이 광섬유, 포토닉 크리스탈 광섬유(PCF), 비스무쓰 비선형 광섬유(Bismuth Nonlinear Fiber) 및 찰코지나이드 광섬유(Chalcogenide Fiber) 중 선택된 하나인 것을 특징으로 하는 초광대역 광원 발생기. 7 제 1 펌핑광을 입력받아 결맞음성이 없는 증폭된 자기 발광(ASE) 시드(seed) 광원을 출력하는 어븀 첨가 광섬유; 제 2 펌핑광에 의해 순방향 펌핑되고 제 3 펌핑광에 의해 역방향 펌핑되어, 상기 어븀 첨가 광섬유로부터 입력받은 시드 광원을 증폭하여 출력하는 광섬유 증폭기; 상기 광섬유 증폭기로부터 입력받은 증폭된 광원을 비선형 현상을 이용하여 초광대역의 광원으로 변환하는 고비선형 광섬유; 상기 초광대역의 광원을 다파장 신호로 분할시키는 다중파장필터; 상기 다파장 신호를 데이터 변조시키는 변조기; 상기 변조된 다파장 신호가 전송된 단일 모드 광섬유; 및 상기 전송된 다파장 신호를 역다중화시키는 역다중화기를 포함하는 것을 특징으로 하는 파장분할다중 수동광네트워크. 8 인젝션 록킹(Injection Locking)용 패브리-페롯 레이저 다이오드(Fabry-Perot Laser Diode:FP-LD) 또는 반사형 반도체 광증폭기(Reflective Semiconductor Optical Amplifier:RSOA) 기반의 파장분할다중 수동광네트워크에 있어서, 상기 인젝션 록킹용 광원으로 어븀 첨가 광섬유 ASE 기반의 슈퍼콘티뉴엄 광원을 사용하는 것을 특징으로 하는 파장분할다중 수동광네트워크. 9 중앙 기지국과 가입자망 사이에 데이터를 송수신하기 위한 인젝션 록킹(Injection Locking)용 패브리-페롯 레이저 다이오드(Fabry-Perot Laser Diode:FP-LD) 또는 반사형 반도체 광증폭기(Reflective Semiconductor Optical Amplifier:RSOA) 기반의 파장분할다중 수동광네트워크에 있어서, 상기 중앙 기지국은, 어븀 첨가 광섬유 ASE 기반의 슈퍼콘티뉴엄 광원; 상기 슈퍼콘티뉴엄 광원을 다수의 파장대역으로 분할하는 파장분할다중화기; 및 상기 분할된 파장을 상기 중앙 기지국 또는 상기 가입자망으로 전달하는 커플러를 포함하며, 상기 다수의 파장대로 분할된 슈퍼콘티뉴엄 광원 중 1530nm ~ 1565nm의 C-band 광원은 상기 중앙 기지국에 존재하는 하향신호 발생을 위한 인젝션-록킹용 광원으로 사용되고, 상기 다수의 파장대로 분할된 슈퍼콘티뉴엄 광원 중 1565nm ~ 1610nm의 L-band 광원은 상기 가입자망에 존재하는 상향신호 발생을 위한 인젝션-록킹용 광원으로 사용되는 것을 특징으로 하는 파장분할다중 수동광네트워크. 10 제 9 항에 있어서, 상기 다수의 파장대로 분할된 슈퍼콘티뉴엄 광원 중 1610nm 이상의 U-band 광원은 상기 광원들이 정상적으로 동작하는지 여부를 확인하는 모니터링 신호로 사용되는 것을 특징으로 하는 파장분할다중 수동광네트워크. 11 중앙 기지국과 가입자망 사이에 데이터를 송수신하기 위한 인젝션 록킹(Injection Locking)용 패브리-페롯 레이저 다이오드(Fabry-Perot Laser Diode:FP-LD) 또는 반사형 반도체 광증폭기(Reflective Semiconductor Optical Amplifier:RSOA) 기반의 파장분할다중 수동광네트워크에 있어서, 상기 중앙 기지국은, 어븀 첨가 광섬유 ASE 기반의 슈퍼콘티뉴엄 광원; 상기 슈퍼콘티뉴엄 광원을 다수의 파장대역으로 분할하는 파장분할다중화기; 및 상기 분할된 파장을 상기 중앙 기지국 또는 상기 가입자망으로 전달하는 커플러를 포함하며, 상기 다수의 파장대로 분할된 슈퍼콘티뉴엄 광원 중 1530nm ~ 1565nm의 C-band 광원은 상기 가입자망에 존재하는 상향신호 발생을 위한 인젝션-록킹용 광원으로 사용되고, 상기 다수의 파장대로 분할된 슈퍼콘티뉴엄 광원 중 1565nm ~ 1610nm의 L-band 광원은 상기 중앙 기지국에 존재하는 하향신호 발생을 위한 인젝션-록킹용 광원으로 사용되는 것을 특징으로 하는 파장분할다중 수동광네트워크. 12 제 11 항에 있어서, 상기 다수의 파장대로 분할된 슈퍼콘티뉴엄 광원 중 1610nm 이상의 U-band 광원은 상기 광원들이 정상적으로 동작하는지 여부를 확인하는 모니터링 신호로 사용되는 것을 특징으로 하는 파장분할다중 수동광네트워크.","KR100767725B1, KR20070100086A",null,1]
["K03790","광학","KR","잉여 라만 펌핑광을 재활용하여 펌핑된 가입자용 ＡＳＥ광원을 사용하는 라만 증폭 기반의 양방향 파장분할다중수동광네트워크{A Bidirectional Wavelength Division Multiplexing Passive Optical Network(WDM-PON) based in Raman Amplification using Spectrum Sliced Amplified Spontaneous Emission(ASE) Upstream Source Pumped by Residual Raman Pump}",null,"원문이미지","KR20060031359A","2006.04.06","KR0757074B1","2007.09.03","잉여 라만 펌핑광을 재활용하여 펌핑된 가입자용 ASE 광원을 사용하는 라만 증폭 기반의 양방향 파장분할다중 수동광네트워크에 관하여 개시한다. 양방향 파장분할다중 수동광네트워크는 중앙 기지국에 라만 펌핑 광원을 형성하고 여기서 나오는 라만 펌핑광을 사용하여 신호 전송용 광섬유에서 라만 증폭을 한다. 따라서, 신호 전송용 광섬유 상에서의 신호 손실을 보상하여 낮은 세기의 광신호를 사용하더라도 20Km 이상의 장거리 전송이 가능하다. 또한, 라만 증폭 후 남은 잉여 라만 펌핑광을 재활용하여 지역국에 설치된 어븀 첨가 광섬유를 기반으로 ASE 광원을 만들어 내므로 기존과 달리 지역국 또는 가입자 댁내에 능동 광소자를 설치할 필요가 없어 저가의 파장분할다중 수동광네트워크(WDM-PON)를 구현할 수 있다.","1 소정 파장의 펌핑광을 출력하는 라만 펌핑 광원 및 서로 다른 파장을 가지는 광원들 각각에 데이터를 가해준 후 이들을 다중화(multiplexing)한 하향 신호를 상기 라만 펌핑광과 함께 전송하는 펌프/신호 파장분할다중화기를 포함하는 중앙 기지국; 상기 중앙 기지국에서 전송되는 신호를 라만 증폭을 이용하여 양방향 신호 증폭하여 전송하는 신호 전송용 광섬유; 상기 신호 전송용 광섬유에서 라만 증폭 후 남은 잉여 라만 펌핑광과 하향 신호를 분리하여 출력하는 펌프/신호 파장분할역다중화기, 상기 하향 신호를 역다중화(demultiplexing) 하여 출력하는 사이클릭 배열 도파로 격자(Cyclic Arrayed Waveguide Grating), 상기 잉여 라만 펌핑광을 재활용하여 증폭된 자기 발광(ASE) 광원을 생성하는 어븀 첨가 광섬유 및 상기 증폭된 자기 발광(ASE) 광원을 다수개의 파장으로 분할하여 출력하는 배열 도파로 격자(AWG:Arrayed Waveguide Grating)를 포함하는 지역국; 및 상기 지역국에서 전송된 하향 신호 및 증폭된 자기 발광(ASE) 광원을 수신하는 가입자망을 포함하는 것을 특징으로 하는 양방향 파장분할다중 수동광네트워크.","이주한, 한영근, 이상배, 김철한","H04B-010/12,H04B-010/24,H04B-010/26",null,null,null,"2026.04.06","1 소정 파장의 펌핑광을 출력하는 라만 펌핑 광원 및 서로 다른 파장을 가지는 광원들 각각에 데이터를 가해준 후 이들을 다중화(multiplexing)한 하향 신호를 상기 라만 펌핑광과 함께 전송하는 펌프/신호 파장분할다중화기를 포함하는 중앙 기지국; 상기 중앙 기지국에서 전송되는 신호를 라만 증폭을 이용하여 양방향 신호 증폭하여 전송하는 신호 전송용 광섬유; 상기 신호 전송용 광섬유에서 라만 증폭 후 남은 잉여 라만 펌핑광과 하향 신호를 분리하여 출력하는 펌프/신호 파장분할역다중화기, 상기 하향 신호를 역다중화(demultiplexing) 하여 출력하는 사이클릭 배열 도파로 격자(Cyclic Arrayed Waveguide Grating), 상기 잉여 라만 펌핑광을 재활용하여 증폭된 자기 발광(ASE) 광원을 생성하는 어븀 첨가 광섬유 및 상기 증폭된 자기 발광(ASE) 광원을 다수개의 파장으로 분할하여 출력하는 배열 도파로 격자(AWG:Arrayed Waveguide Grating)를 포함하는 지역국; 및 상기 지역국에서 전송된 하향 신호 및 증폭된 자기 발광(ASE) 광원을 수신하는 가입자망을 포함하는 것을 특징으로 하는 양방향 파장분할다중 수동광네트워크. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5 제 1 항에 있어서, 상기 가입자망은, 상기 지역국의 배열 도파로 격자(AWG)에서 전송된 상기 증폭된 자기 발광(ASE) 광원에 데이터 변조를 가해 상향 신호를 만들어 상기 지역국으로 전송하는 것을 특징으로 하는 양방향 파장분할다중 수동광네트워크. 6 제 1 항에 있어서, 상기 지역국은, 상기 증폭된 자기 발광(ASE) 광원을 상기 하향 신호와 다시 결합시켜주는 커플러; 및 상기 결합된 신호를 역다중화(demultiplexing)하여 상기 가입자망으로 각각 전달하는 사이클릭 배열 도파로 격자(Cyclic AWG)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 양방향 파장분할다중 수동광네트워크. 7 제 6 항에 있어서, 상기 가입자망은, 상기 하향 신호를 수신하는 수신기와 상기 증폭된 자기 발광(ASE) 광을 수신하여 이를 구동 전류 직접 변조 방식을 이용하여 데이터를 가해준 후 신호를 반사시켜 상향 신호를 만들어 상기 지역국으로 전송하는 인젝션 록킹(Injection Locking)용 패브리-페롯 레이저(Fabry-Perot Laser)을 포함하는 것을 특징으로 하는 양방향 파장분할다중 수동광네트워크. 8 제 6 항에 있어서, 상기 가입자망은, 상기 하향 신호를 수신하는 수신기와 상기 증폭된 자기 발광(ASE) 광을 수신하여 이를 구동 전류 직접 변조 방식을 이용하여 데이터를 가해준 후 신호를 반사시켜 상향 신호를 만들어 상기 지역국으로 전송하는 반사형 반도체 광증폭기(Reflective Semiconductor Optical Amplifier)를 포함하는 것을 특징으로 하는 양방향 파장분할다중 수동광네트워크.","KR100757074B1",null,1]
["K03788","화학","KR","(시클로펜테닐)알킬디알콕시실란 유도체와 그의 제조방법{(Cyclopentenyl)alkyldialkoxysilanes and their preparation methods}",null,"원문이미지","KR20060036294A","2006.04.21","KR0757068B1","2007.09.03","본 발명은 (시클로펜테닐)알킬디알콕시실란 유도체와 그의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 (시클로펜테닐)알킬디클로로실란을 알코올화 반응시키거나, (시클로펜테닐)트리알콕시실란을 알킬화 반응시킴으로써, 다음 화학식 1로 표시되는 신규 (시클로펜테닐)알킬디알콕시실란 유도체를 제조할 수 있으며, 본 발명에 의하여 제시된 (시클로펜테닐)알킬디알콕시실란 유도체는 입체장애가 큰 불포화 시클로펜테닐기와 포화 유기기를 포함하는 디알콕시실란 계열로서 그 자체가 외부전자주게로 사용 가능할 것으로 믿어지고, 이들을 수소로 환원하면 기존 상품과 같은 구조의 외부전자주게를 합성할 수 있는 전구체로 유용하다.[화학식 1]상기 화학식 1에서, R1 및 R2는 각각 발명의 상세한 설명에 나타낸 바와 같다.","1 다음 화학식 1로 표시되는 신규 (시클로펜테닐)알킬디알콕시실란 유도체; [화학식 1] 상기 화학식 1에서, R1은 탄소수 3 ∼ 6의 알킬기, 탄소수 5 ∼ 7의 시클로알킬기 또는 페닐기이고; 각각의 R2는 서로 같거나 다를 수 있고 탄소수 1 ∼ 3의 알킬기이다.","유복렬, 한준수, 임원철","C07F-007/18,C07F-007/08",null,null,null,"2026.04.21","1 다음 화학식 1로 표시되는 신규 (시클로펜테닐)알킬디알콕시실란 유도체; [화학식 1] 상기 화학식 1에서, R1은 탄소수 3 ∼ 6의 알킬기, 탄소수 5 ∼ 7의 시클로알킬기 또는 페닐기이고; 각각의 R2는 서로 같거나 다를 수 있고 탄소수 1 ∼ 3의 알킬기이다. 2 다음 화학식 2로 표시되는 화합물과 다음 화학식 3으로 표시되는 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속의 알콕시 염화합물을, 알코올화 반응시켜 제조하는 것을 특징으로 하는 다음 화학식 1로 표시되는 (시클로펜테닐)알킬디알콕시실란 유도체의 제조방법 : [화학식 2] [화학식 3] [화학식 1] 상기 화학식 1 내지 3에서, R1은 탄소수 3 ∼ 6의 알킬기, 탄소수 5 ∼ 7의 시클로알킬기 또는 페닐기이고; R2는 서로 같거나 다른 것으로 탄소수 1 ∼ 3의 알킬기이며, M은 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속 중에서 선택되고, n은 1 또는 2의 정수이다. 3 제 2 항에 있어서, 상기 알코올화 반응은 무용매 조건에서 수행하거나, 또는 상기 화학식 3으로 표시되는 알콕시 염화합물의 R2그룹과 동일한 구조의 탄소고리를 갖는 알코올, 에틸에테르, 펜탄, 헥산 및 톨루엔 중에서 선택된 용매의 존재 하에서 수행하는 것을 특징으로 하는 (시클로펜테닐)알킬디알콕시실란 유도체의 제조방법. 4 제 2 항에 있어서, 상기 알코올화 반응은 -10 ∼ 100 ℃ 범위에서 수행되는 것을 특징으로 하는 (시클로펜테닐)알킬디알콕시실란 유도체의 제조방법. 5 다음 화학식 4로 표시되는 화합물과, 다음 화학식 5로 표시되는 화합물을 알킬화 반응시켜 제조하는 것을 특징으로 하는 다음 화학식 1로 표시되는 (시클로펜테닐)알킬디알콕시실란 유도체의 제조방법 : [화학식 4] [화학식 5] [화학식 1] 상기 화학식 1, 4 및 5에서, R1은 탄소수 3 ∼ 6의 알킬기, 탄소수 5 ∼ 7의 시클로알킬기 또는 페닐기이고; R2는 서로 같거나 다른 것으로 탄소수 1 ∼ 3의 알킬기이며; m은 1 또는 2이고; X는 할로겐 원소이다. 6 제 5 항에 있어서, 상기 알킬화 반응은 50 ∼ 100 ℃ 범위에서 수행되는 것을 특징으로 하는 (시클로펜테닐)알킬디알콕시실란 유도체의 제조방법. 7 제 5 항에 있어서, 상기 알킬화 반응은 유기용매 존재하에 수행되는 것을 특징으로 하는 (시클로펜테닐)알킬디알콕시실란 유도체의 제조방법. 8 제 7 항에 있어서, 상기 유기용매는 지방족 또는 방향족 탄화수소 화합물, 선형(디에틸에테르) 또는 고리형 에테르 화합물인 것을 특징으로 하는 (시클로펜테닐)알킬디알콕시실란 유도체의 제조방법.","KR100757068B1",null,1]
["K03809","의료","KR","유연성을 갖는 뼈 고정용 고강도 생분해성 고분자 소재 및그의 제조방법{BIODEGRADABLE POLYMER MATERIAL FOR FIXING BONE WHICH HAS HIGH FLEXIBILITY AND STRENGTH AND METHOD FOR THE PREPARATION THEREOF}",null,"원문이미지","KR20060049711A","2006.06.02","KR0772966B1","2007.10.29","본 발명은 유연성을 갖는 고강도의 두개골 및 악안면 뼈 고정용 생분해성 고분자 소재 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 구체적으로는 1) 결정성 생분해성 고분자인 PLLA(poly-L-lactide)와 유연성 생분해성 고분자인 PCL(poly-L-caprolactone)을 공중합하여 합성 생분해성 고분자인 PLCL(Poly-L-lactide-co-ε-caprolacton) 공중합체를 제조하는 단계; 2) 상기 PLCL 공중합체를 진공 압축 성형한 후 냉각시키는 단계; 3) 상기 진공 압축 성형물을 고상 압출하는 단계; 및 4) 상기 고상 압출물을 열고정시키는 단계를 포함하는, 뼈 고정용 생분해성 고분자 소재의 제조방법 및 이 방법에 의해 제조된 굴곡강도 및 굴곡탄성률이 개선되고 변형이 용이한 두개골 및 악안면 뼈 고정용 고강도 생분해성 고분자 소재에 관한 것이다.","1 1) PLLA(poly-L-lactide)와 PCL(poly-L-caprolactone)을 중합하여 100,000 Da 이상의 중량 평균 분자량을 갖는 PLCL(Poly-L-lactide-co-ε-caprolacton) 공중합체를 제조하는 단계; 2) 상기 PLCL 공중합체를 150 내지 280℃에서 10분 내지 5시간 동안 진공 압축 성형한 후 1℃/분 내지 100℃/분의 냉각 속도로 60 내지 150℃까지 냉각시킨 다음 상온까지 급속 냉각시키는 단계; 3) 상기 진공 압축 성형물을 고상 압출하는 단계; 및 4) 상기 고상 압출물을 열고정하는 단계를 포함하는, 상온에서 유연성을 갖는 고강도 생분해성 고분자 소재의 제조방법.","김수현, 김상헌, 이선영, 김영하","A61F-002/28",null,null,null,"2026.06.02","1 1) PLLA(poly-L-lactide)와 PCL(poly-L-caprolactone)을 중합하여 100,000 Da 이상의 중량 평균 분자량을 갖는 PLCL(Poly-L-lactide-co-ε-caprolacton) 공중합체를 제조하는 단계; 2) 상기 PLCL 공중합체를 150 내지 280℃에서 10분 내지 5시간 동안 진공 압축 성형한 후 1℃/분 내지 100℃/분의 냉각 속도로 60 내지 150℃까지 냉각시킨 다음 상온까지 급속 냉각시키는 단계; 3) 상기 진공 압축 성형물을 고상 압출하는 단계; 및 4) 상기 고상 압출물을 열고정하는 단계를 포함하는, 상온에서 유연성을 갖는 고강도 생분해성 고분자 소재의 제조방법. 2 제 1항에 있어서, 단계 1)에서 PLCL 공중합체가 100,000 Da 내지 800,000 Da의 중량 평균 분자량을 갖는 것을 특징으로 하는 방법. 3 제 2항에 있어서, 단계 1)에서 PLLA와 PCL의 공중합비가 95:5 내지 75:25인 것을 특징으로 하는 방법. 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 6<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 7 제 1항에 있어서, 단계 3)에서 고상 압출 다이의 입사각(중심축으로부터의 각도)이 5°내지 60°인 것을 특징으로 하는 방법. 8 제 1항에 있어서, 단계 3)에서 고상 압출 온도가 30℃ 내지 160℃인 것을 특징으로 하는 방법. 9 제 1항에 있어서, 단계 3)에서 고상 압출 온도까지의 승온 속도가 1℃/분 내지 20℃/분인 것을 특징으로 하는 방법. 10 제 1항에 있어서, 단계 3)에서 고상 압출 압력이 5,000 lb/in2 내지 30,000 lb/in2인 것을 특징으로 하는 방법. 11 제 1항에 있어서, 단계 3)에서 고상 압출 연신비가 2배 내지 8배인 것을 특징으로 하는 방법. 12 제 1항에 있어서, 단계 3)에서 고상 압출 연신속도가 5 ㎜/분 내지 300 ㎜/분인 것을 특징으로 하는 방법. 13 제 1항에 있어서, 단계 4)에서 열고정이 60℃ 내지 150℃의 온도 범위에서 5분 내지 1시간 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 방법. 14<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100772966B1",null,1]
["K03784","의료","KR","Ｔ-형 칼슘 채널 길항제로서의3-(4-클로로벤질)-4-옥소-2-티옥소-1,2,3,4-테트라히드로-퀴나졸린 유도체{3-(4-CHLORO)-4-OXO-2-THIOXO-1,2,3,4-TETRAHYDRO-QUINAZOLINE DERIVATIVES AS T-TYPE CALCIUM CHANNEL ANTAGONISTS}",null,"원문이미지","KR20060052759A","2006.06.12","KR0754325B1","2007.08.27","본 발명은 일반식 I의 3-(4-클로로-벤질)-4-옥소-2-티옥소-1,2,3,4-테트라히드로-퀴나졸린 계열 화합물의 새로운 용도에 관한 것으로서, 상기 화합물은 T-형 칼슘 채널에 선택적인 길항제로서 신경성 통증, 간질, 고혈압 또는 협심증의 치료 또는 예방제로서 사용될 수 있다. [일반식 I] 상기 식에서, X는 (3-피페리딘-1-일-프로필)-아미드, [3-(2-에틸-피페리딘-1-일)-프로필]-아미드, [3-(4-메틸-피페리딘-1-일)-프로필]-아미드, [2-(부틸-메틸-아미노)-에틸-아미드, (3-피롤리딘-1-일-프로필)-아미드, (3-아제판-1-일-프로필)-아미드, [3-(4-에틸-피페라진-1-일)-프로필]-아미드, [3-(벤질-메틸-아미노)-프로필]-아미드, (2-디메틸아미노-에틸)-아미드 등 이며, 또한, 일반식 I의 화합물은 3-(4-클로로-벤질)-7-(4-메틸-피페라진-1-카보닐)-2-티옥소-2,3-디히드로-1H-퀴나졸린-4-온을 포함한다.","1 다음으로 이루어진 군에서 선택되는 화합물 또는 이들의 염을 포함하는, T형 칼슘 채널을 길항 작용에 의한 신경성 통증, 간질, 고혈압 또는 협심증의 치료 또는 예방을 위한 약제학적 조성물. (1) 3-(4-클로로-벤질)-4-옥소-2-티옥소-1,2,3,4-테트라히드로-퀴나졸린-7-카르복실 산 (3-피페리딘-1-일-프로필)-아미드, (2) 3-(4-클로로-벤질)-4-옥소-2-티옥소-1,2,3,4-테트라히드로-퀴나졸린-7-카르복실 산 [3-(2-에틸-피페리딘-1-일)-프로필]-아미드, (3) 3-(4-클로로-벤질)-4-옥소-2-티옥소-1,2,3,4-테트라히드로-퀴나졸린-7-카르복실 산 [3-(4-메틸-피페리딘-1-일)-프로필]-아미드, (4)3-(4-클로로-벤질)-4-옥소-2-티옥소-1,2,3,4-테트라히드로-퀴나졸린-7-카르복실 산 [2-(부틸-메틸-아미노)-에틸]-아미드, (5) 3-(4-클로로-벤질)-4-옥소-2-티옥소-1,2,3,4-테트라히드로-퀴나졸린-7-카르복실 산 (3-피롤리딘-1-일-프로필)-아미드, (6) 3-(4-클로로-벤질)-4-옥소-2-티옥소-1,2,3,4-테트라히드로-퀴나졸린-7-카르복실 산 (3-아제판-1-일-프로필)-아미드, (7) 3-(4-클로로-벤질)-4-옥소-2-티옥소-1,2,3,4-테트라히드로-퀴나졸린-7-카르복실 산 [3-(4-에틸-피페라진-1-일)-프로필]-아미드, (8) 3-(4-클로로-벤질)-4-옥소-2-티옥소-1,2,3,4-테트라히드로-퀴나졸린-7-카르복실 산 [3-(벤질-메칠-아미노)-프로필]-아미드, (9) 3-(4-클로로-벤질)-4-옥소-2-티옥소-1,2,3,4-테트라히드로-퀴나졸린-7-카르복실 산 (2-디메틸아미노-에틸)-아미드, 및 (10) 3-(4-클로로-벤질)-7-(4-메틸-피페라진-1-카보닐)-2-티옥소-2,3-디히드로-1H-퀴나졸린-4-온.","배애님, 조용서, 차주환, 추현아, 임혜원, 레디 도다레디 무니 크말, 고훈영","A61K-031/517,A61P-025/04",null,null,null,"2026.06.12","1 다음으로 이루어진 군에서 선택되는 화합물 또는 이들의 염을 포함하는, T형 칼슘 채널을 길항 작용에 의한 신경성 통증, 간질, 고혈압 또는 협심증의 치료 또는 예방을 위한 약제학적 조성물. (1) 3-(4-클로로-벤질)-4-옥소-2-티옥소-1,2,3,4-테트라히드로-퀴나졸린-7-카르복실 산 (3-피페리딘-1-일-프로필)-아미드, (2) 3-(4-클로로-벤질)-4-옥소-2-티옥소-1,2,3,4-테트라히드로-퀴나졸린-7-카르복실 산 [3-(2-에틸-피페리딘-1-일)-프로필]-아미드, (3) 3-(4-클로로-벤질)-4-옥소-2-티옥소-1,2,3,4-테트라히드로-퀴나졸린-7-카르복실 산 [3-(4-메틸-피페리딘-1-일)-프로필]-아미드, (4)3-(4-클로로-벤질)-4-옥소-2-티옥소-1,2,3,4-테트라히드로-퀴나졸린-7-카르복실 산 [2-(부틸-메틸-아미노)-에틸]-아미드, (5) 3-(4-클로로-벤질)-4-옥소-2-티옥소-1,2,3,4-테트라히드로-퀴나졸린-7-카르복실 산 (3-피롤리딘-1-일-프로필)-아미드, (6) 3-(4-클로로-벤질)-4-옥소-2-티옥소-1,2,3,4-테트라히드로-퀴나졸린-7-카르복실 산 (3-아제판-1-일-프로필)-아미드, (7) 3-(4-클로로-벤질)-4-옥소-2-티옥소-1,2,3,4-테트라히드로-퀴나졸린-7-카르복실 산 [3-(4-에틸-피페라진-1-일)-프로필]-아미드, (8) 3-(4-클로로-벤질)-4-옥소-2-티옥소-1,2,3,4-테트라히드로-퀴나졸린-7-카르복실 산 [3-(벤질-메칠-아미노)-프로필]-아미드, (9) 3-(4-클로로-벤질)-4-옥소-2-티옥소-1,2,3,4-테트라히드로-퀴나졸린-7-카르복실 산 (2-디메틸아미노-에틸)-아미드, 및 (10) 3-(4-클로로-벤질)-7-(4-메틸-피페라진-1-카보닐)-2-티옥소-2,3-디히드로-1H-퀴나졸린-4-온. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100754325B1",null,1]
["K03786","화학","KR","Ｔ-타입 칼슘 채널에 억제 활성을 지닌 신규 2,4-디옥소-퀴나졸린 유도체 및 이의 제조방법{2,4-QUINAZOLINE DEIVATIVES HAVING ACTIVITY TO T-TYPE CALCIUM CHANNEL AND PREPARATION METHOD THEREOF} {2,4-QUINAZOLINE DERIVATIVES HAVING INHIBITORY ACTIVITY AGAINST T-TYPE CALCIUM CHANNEL AND BEING USEFUL FOR TREATMENT OF NEURONAL PAIN, EPILEPSY OR HYPERTENSION, AND PREPARATION METHOD THEREOF}",null,"원문이미지","KR20060065975A","2006.07.13","KR0749843B1","2007.08.09","본 발명은 T-타입 칼슘 채널에 대한 선택적 길항제로서, 신경성 통증, 간질 또는 고혈압 치료제로서의 개발 가능성이 있는 하기 화학식 1의 2,4-디옥소-퀴나졸린 유도체 화합물 및 이의 제조방법에 관한 것이다. [화학식 1]식 중에서, n은 1 또는 2이고, R1은 각각 1개 이상의 할로겐 원자, 탄소 수 1 내지 15개의 알킬, 탄소 수 1 내지 15개의 알콕시 및 페녹시로 구성된 군에서 선택되는 치환기로 치환되거나 또는 치환되지 않은 탄소 수 6 내지 10개의 아릴기, 탄소 수 1 내지 15개의 알킬기 또는 탄소 수 1 내지 15개의 시클로알킬기이고, R2는 N, O 및 S 중에서 선택되는 헤테로 원자 1 내지 3개를 포함하고, 탄소 수 1 내지 15개의 알킬, 아미노, 탄소 수 1 내지 15개의 알킬아미노, 할로겐 원자로 치환되거나 또는 치환되지 않은 5 내지 7원 포화 또는 불포화 헤테로 고리이다.","1 하기 화학식 1로 표시되는 2,4-디옥소-퀴나졸린 유도체 화합물: [화학식 1] 식 중에서, n은 1 또는 2이고, R1은 탄소 수 1 내지 15개의 알킬기, 탄소 수 1 내지 15개의 시클로알킬기, 또는 1개 이상의 할로겐 원자, 탄소 수 1 내지 15개의 알킬, 탄소 수 1 내지 15개의 알콕시 및 페녹시로 구성된 군에서 선택되는 치환기로 치환되거나 또는 치환되지 않은 탄소 수 6 내지 10개의 아릴기이고, R2는 N, O 및 S 중에서 선택되는 헤테로 원자 1 내지 3개를 포함하고, 탄소 수 1 내지 15개의 알킬, 아미노, 탄소 수 1 내지 15개의 알킬아미노, 할로겐 원자로 치환되거나 또는 치환되지 않은 5 내지 7원 포화 또는 불포화 헤테로 고리이다.","배애님, 조용서, 차주환, 추현아, 임혜원, 서희정, 조미나, 고훈영","C07D-403/12,C07D-401/12,C07D-405/12,C07D-409/12",null,null,null,"2026.07.13","1 하기 화학식 1로 표시되는 2,4-디옥소-퀴나졸린 유도체 화합물: [화학식 1] 식 중에서, n은 1 또는 2이고, R1은 탄소 수 1 내지 15개의 알킬기, 탄소 수 1 내지 15개의 시클로알킬기, 또는 1개 이상의 할로겐 원자, 탄소 수 1 내지 15개의 알킬, 탄소 수 1 내지 15개의 알콕시 및 페녹시로 구성된 군에서 선택되는 치환기로 치환되거나 또는 치환되지 않은 탄소 수 6 내지 10개의 아릴기이고, R2는 N, O 및 S 중에서 선택되는 헤테로 원자 1 내지 3개를 포함하고, 탄소 수 1 내지 15개의 알킬, 아미노, 탄소 수 1 내지 15개의 알킬아미노, 할로겐 원자로 치환되거나 또는 치환되지 않은 5 내지 7원 포화 또는 불포화 헤테로 고리이다. 2 제1항에 있어서, 상기 알킬은 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸 또는 t-부틸이고, 상기 알콕시는 메톡시이며, 상기 시클로알킬은 시클로펜틸 또는 시클로헥실이고, 상기 아릴은 페닐 또는 나프틸인 화합물. 3 제1항에 있어서, 상기 할로겐 원자는 불소, 염소, 브롬 및 요오드 중에서 선택되는 것인 화합물. 4 제1항에 있어서, 상기 헤테로 고리는 탄소 수 1 내지 15개의 알킬기로 치환되거나 또는 치환되지 않은 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피리다진, 트리아진, 이미다졸, 트리아졸, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 퀴나졸린, 퀴녹살린, 프탈라진, 옥사졸, 이소옥사졸, 티아졸, 이소티아졸, 티아디아졸, 옥사디아졸, 피롤, 퓨란, 티오펜, 피페리딘, 피롤리딘, 아제티딘 및 테트라하이드로퓨란으로 구성된 군에서 선택되는 것인 화합물. 5 제4항에 있어서, 상기 헤테로 고리가 1개 이상의 질소 원자를 함유하는 것으로서, N-옥사이드 구조를 갖는 것인 화합물. 6 제1항에 있어서, 상기 R1은 아래와 같은 구조를 갖는 기 중에서 선택되는 것인 화합물. 7 제1항에 있어서, 상기 R2는 아래와 같은 구조를 갖는 기 중에서 선택되는 것인 화합물. 8 하기 화학식 2로 표시되는 아민 화합물과 화학식 3으로 표시되는 카르복실산 화합물의 환원성 아실화 반응시키는 것을 포함하는, 화학식 1로 표시되는 2,4-디옥소-퀴나졸린 유도체 화합물의 제조 방법: [화학식 1] [화학식 2] [화학식 3] 화학식 1 내지 3에 있어서, n은 1 또는 2이고, R1은 탄소 수 1 내지 15개의 알킬기, 탄소 수 1 내지 15개의 시클로알킬기, 또는 1개 이상의 할로겐 원자, 탄소 수 1 내지 15개의 알킬, 탄소 수 1 내지 15개의 알콕시 및 페녹시로 구성된 군에서 선택되는 치환기로 치환되거나 또는 치환되지 않은 탄소 수 6 내지 10개의 아릴기이고, R2는 N, O 및 S 중에서 선택되는 헤테로 원자 1 내지 3개를 포함하고, 탄소 수 1 내지 15개의 알킬, 아미노, 탄소 수 1 내지 15개의 알킬아미노, 할로겐 원자로 치환되거나 또는 치환되지 않은 5 내지 7원 포화 또는 불포화 헤테로 고리이다. 9 제8항에 있어서, 화학식 3으로 표시되는 카르복실산 화합물을 티오닐 클로라이드, 옥살릴 클로라이드 또는 포스포러스 옥시클로라이드를 사용하여 산염화물 형태로 활성화한 다음 화학식 2 화합물과 반응시키는 것인 제조 방법. 10 제8항 또는 제9항에 있어서, R1 및 R2가 각각 상이한 다수의 화학식 2 및 화학식 3 화합물을 하나의 반응기 내에서 용액상으로 동시에 반응시켜 서로 상이한 화학 구조를 갖는 다수의 화학식 1 화합물을 동시에 생성시키는 것을 포함하는 것인 제조 방법. 11 제10항에 있어서, 반응 용매로서 디메틸 포름아미드, 테트라하이드로퓨란, 1,2-디클로로에탄, 아세토니트릴 또는 디클로로메탄을 사용하는 것인 제조 방법. 12 제10항에 있어서, 반응 온도는 0 내지 40℃ 범위인 제조 방법.","KR100749843B1, WO2008007835A1",null,1]
["K03774","화학","KR","아릴우레이도아세테이트계 화합물, 및 이를 함유하는 퇴행성 뇌질환 예방 또는 치료용 조성물{ARYL UREIDO ACETATE-BASED COMPOUND, AND COMPOSITION FOR PREVENTION OR TREATMENT OF NEURODEGENERATIVE DISEASE CONTAINING THE SAME}",null,"원문이미지","KR20060053585A","2006.06.14","KR0758214B1","2007.09.06","본 발명은 신규한 아릴 우 레이도 아세테이트 계 화합물, 및 이의 퇴행성 뇌질환 예방 또는 치료에 있어서의 용도에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 소정의 화학식 1, 화학식 2 또는 화학식 3의 구조를 갖는 아릴 우 레이도 아세테이트 계 화합물, 및 이를 유효성분으로 함유하는 퇴행성 뇌질환의 예방 또는 치료용 조성물에 관한 것이다. 상기 퇴행성 뇌질환은 알츠하이머, 치매 또는 파킨슨 병일 수 있다.","1 하기의 화학식 1, 화학식 2 또는 화학식 3의 구조를 갖는 아릴우레이도아세테이트계 화합물: (화학식 1) (화학식 2) (화학식 3) X는 S이고, R1은 수소, 탄소수 1 내지 5의 알킬기 및 니트로기로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며, R2는 수소, 탄소수 1 내지 5의 알킬기 및 탄소수 1 내지 5의 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택된 것이고, R3은 수소, 탄소수 1 내지 5의 알킬기 및 할로겐 원자로 이루어진 군 중에서 선택된 것이다.","한호규, 신동윤, 남기달, 조성우, 최명민, 김은아","C07D-277/82,C07D-277/68,C07D-277/56,C07D-317/68",null,null,null,"2026.06.14","1 하기의 화학식 1, 화학식 2 또는 화학식 3의 구조를 갖는 아릴우레이도아세테이트계 화합물: (화학식 1) (화학식 2) (화학식 3) X는 S이고, R1은 수소, 탄소수 1 내지 5의 알킬기 및 니트로기로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며, R2는 수소, 탄소수 1 내지 5의 알킬기 및 탄소수 1 내지 5의 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택된 것이고, R3은 수소, 탄소수 1 내지 5의 알킬기 및 할로겐 원자로 이루어진 군 중에서 선택된 것이다. 2 제1항에 있어서, 에틸 2-[3-(벤조[d]티아졸-2-일)우레이도]아세테이트, 에틸 2-[3-(6-메틸벤조[d]티아졸-2-일)우레이도]아세테이트, 에틸 2-[3-(6-니트로벤졸[d]티아졸-2-일)우레이도]아세테이트, 에틸 2-[3-(4-(4-클로로페닐)티아졸-2-일)우레이도]아세테이트, 에틸 2-[3-(4-메톡시벤조[d]티아졸-2-일)우레이도]아세테이트, 에틸 2-[3-(4-메틸벤조[d]티아졸-2-일)우레이도]아세테이트, 에틸 2-[3-(4-p-톨릴티아졸-2-일)우레이도]아세테이트, 에틸 2-[3-(4-(4-브로모페닐)티아졸-2-일)우레이도]아세테이트, 및 에틸 2-[3-(벤조[d][1,3]디옥솔-5-일)우레이도]아세테이트] 로 이루어진 군 중에서 선택된 것인, 아릴우레이도아세테이트계 화합물. 3 유효성분으로서 하기 화학식 1, 화학식 2 또는 화학식 3의 구조를 갖는 아릴우레이도아세테이트계 화합물 또는 이의 약학적으로 허용 가능한 염을 함유하는 알츠하이머, 치매 및 파킨슨병으로 이루어진 군에서 선택되는 퇴행성 뇌질환 예방 또는 치료용 조성물: (화학식 1) (화학식 2) (화학식 3) X는 S 또는 NH이고, R1은 수소, 탄소수 1 내지 5의 알킬기 및 니트로기로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며, R2는 수소, 탄소수 1 내지 5의 알킬기 및 탄소수 1 내지 5의 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택된 것이고, R3은 수소, 탄소수 1 내지 5의 알킬기 및 할로겐 원자로 이루어진 군 중에서 선택된 것이다. 4 제3항에 있어서, 에틸 2-[3-(벤조[d]티아졸-2-일)우레이도]아세테이트, 에틸 2-[3-(6-메틸벤조[d]티아졸-2-일)우레이도]아세테이트, 에틸 2-[3-(6-니트로벤졸[d]티아졸-2-일)우레이도]아세테이트, 에틸 2-(3-벤조[d]이미다졸-2-일우레이도)아세테이트, 에틸 2-[3-(4-(4-클로로페닐)티아졸-2-일)우레이도]아세테이트, 에틸 2-[3-(4-메톡시벤조[d]티아졸-2-일)우레이도]아세테이트, 에틸 2-[3-(4-메틸벤조[d]티아졸-2-일)우레이도]아세테이트, 에틸 2-[3-(4-p-톨릴티아졸-2-일)우레이도]아세테이트, 에틸 2-[3-(4-(4-브로모페닐)티아졸-2-일)우레이도]아세테이트, 및 에틸 2-[3-(벤조[d][1,3]디옥솔-5-일)우레이도]아세테이트] 로 이루어진 군 중에서 선택된 것인, 퇴행성 뇌질환 예방 또는 치료용 조성물. 5 제3항에 있어서, 상기 화학식 1, 화학식 2 또는 화학식 3의 구조를 갖는 화합물 또는 이의 약학적으로 허용 가능한 염의 함량이 전체 조성물에 대하여 0.1 내지 99 중량%인 퇴행성 뇌질환 예방 또는 치료용 조성물. 6 제3항에 있어서, 상기 조성물이 경고제, 과립제, 로션제, 산제, 시럽제, 액제, 에어로솔제, 연고제, 유동엑스제, 유제, 현탁제, 침제, 정제, 주사제, 캅셀제 및 환제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 제형인 것인, 퇴행성 뇌질환 예방 또는 치료용 조성물. 7<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 8 하기 화학식 1, 화학식 2 또는 화학식 3의 구조를 갖는 아릴우레이도아세테이트계 화합물 또는 이의 약학적으로 허용 가능한 염을 유효성분으로 포함하는 퇴행성 뇌질환 예방 또는 개선용 건강기능식품: (화학식 1) (화학식 2) (화학식 3) X는 S 또는 NH이고, R1은 수소, 탄소수 1 내지 5의 알킬기 및 니트로기로 이루어진 군 중에서 선택된 것이며, R2는 수소, 탄소수 1 내지 5의 알킬기 및 탄소수 1 내지 5의 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택된 것이고, R3은 수소, 탄소수 1 내지 5의 알킬기 및 할로겐 원자로 이루어진 군 중에서 선택된 것이다.","KR100758214B1",null,1]
["K03777","화학","KR","반응압출을 이용한 폐 고밀도 폴리에틸렌의 재활용 방법{METHOD OF RECYCLING WASTE HIGH-DENSITY POLYETHYLENE USING REACTIVE EXTRUSION}",null,"원문이미지","KR20060023802A","2006.03.15","KR0728087B1","2007.06.07","본 발명은 반응압출(reactive extrusion)을 이용한 폐(waste) 고밀도 폴리에틸렌의 재활용 방법에 관한 것으로, 폐 고밀도 폴리에틸렌을 신재 고밀도 폴리에틸렌과 용융 혼합하고 용융 혼합시 과산화물 가교제를 넣어 반응압출시키는 본 발명의 방법에 따르면, 폐 고밀도 폴리에틸렌으로부터 신재 고밀도 폴리에틸렌에 상응하는 우수한 기계적 특성을 갖는 재생 고밀도 폴리에틸렌을 얻을 수 있다.","1 폐 고밀도 폴리에틸렌 20 내지 40 중량%와 바이모달(bimodal) 분자량 분포를 나타내는 신재 고밀도 폴리에틸렌 60 내지 80 중량%의 혼합물에 과산화물 가교제를 첨가한 후 용융 혼합하는 것을 포함하는, 재생 고밀도 폴리에틸렌의 제조방법.","홍순만, 황승상, 남영완, 김광호, 강호종, 이종록, 정우현","C08L-023/06,B29B-017/00",null,null,null,"2026.03.15","1 폐 고밀도 폴리에틸렌 20 내지 40 중량%와 바이모달(bimodal) 분자량 분포를 나타내는 신재 고밀도 폴리에틸렌 60 내지 80 중량%의 혼합물에 과산화물 가교제를 첨가한 후 용융 혼합하는 것을 포함하는, 재생 고밀도 폴리에틸렌의 제조방법. 2 제1항에 있어서, 바이모달(bimodal) 분자량 분포를 나타내는 신재 고밀도 폴리에틸렌이, 분포가 최대인 분자량이 16,000 내지 24,000 및 120,000 내지 140,000의 두 군데서 나타나는 것임을 특징으로 하는 방법. 3 제1항에 있어서, 용융 혼합 공정을 165 내지 175 ℃ 범위의 온도에서 35 내지 45 RPM의 속도로 8 내지 12분간 수행하는 것을 특징으로 하는 방법. 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5 제1항에 있어서, 과산화물 가교제가 디큐밀 퍼옥사이드(DCP) 또는 퍼부틸 퍼옥사이드(PBP)인 것을 특징으로 하는 방법. 6 제5항에 있어서, 과산화물 가교제가 디큐밀 퍼옥사이드(DCP)인 것을 특징으로 하는 방법. 7 제1항에 있어서, 과산화물 가교제를 폐 고밀도 폴리에틸렌과 신재 고밀도 폴리에틸렌 혼합물의 총 중량을 기준으로 0.01 내지 0.5 중량% 첨가하는 것을 특징으로 하는 방법. 8 제7항에 있어서, 과산화물 가교제를 폐 고밀도 폴리에틸렌과 신재 고밀도 폴리에틸렌 혼합물의 총 중량을 기준으로 0.05 내지 0.2 중량% 첨가하는 것을 특징으로 하는 방법. 9 제1항의 방법에 따라 제조된, 재생 고밀도 폴리에틸렌. 10 제9항의 재생 고밀도 폴리에틸렌을 이용하여 제조된 성형품.","KR100728087B1",null,1]
["K03768","재료","KR","알루미늄이 증착된 폐 포장 필름의 재생 방법{METHOD FOR RECYCLING OF WASTE-PACKAGING FILMS VAPORIZED WITH ALUMINUM}",null,"원문이미지","KR20060027716A","2006.03.28","KR0733941B1","2007.06.25","본 발명은 알루미늄이 증착된 다층 폐 포장 필름의 재생 방법에 관한 것으로, 알루미늄-증착 다층 폐 포장 필름을 포함하는 폐 필름 혼합물을 용융 혼합시킨 후 상용화제와 기능성 수지를 첨가하여 반응 압출시키는 본 발명의 방법에 따르면, 혼화성과 내충격성이 우수한 재생소재를 저렴한 비용으로 얻을 수 있다.","1 (i) 알루미늄이 증착된 폐 포장 필름을 포함하는 폐 필름 혼합물을 용융 혼합하는 단계; 및 (ii) 단계 (i)에서 얻은 용융 혼합물에, 상용화제와, 16,000 내지 24,000 및 120,000 내지 140,000 범위의 두 군데에서 분자량 분포가 최대값을 나타내는 바이모달 구조의 분자량 분포를 갖는 고밀도 폴리에틸렌 수지를 첨가하여 반응 압출시키는 단계 를 포함하는, 알루미늄-증착 다층 폐 포장 필름의 재생 방법.","홍순만, 황승상, 남영완, 조봉규, 백성기","B29B-017/00,B29D-007/01",null,null,null,"2026.03.28","1 (i) 알루미늄이 증착된 폐 포장 필름을 포함하는 폐 필름 혼합물을 용융 혼합하는 단계; 및 (ii) 단계 (i)에서 얻은 용융 혼합물에, 상용화제와, 16,000 내지 24,000 및 120,000 내지 140,000 범위의 두 군데에서 분자량 분포가 최대값을 나타내는 바이모달 구조의 분자량 분포를 갖는 고밀도 폴리에틸렌 수지를 첨가하여 반응 압출시키는 단계 를 포함하는, 알루미늄-증착 다층 폐 포장 필름의 재생 방법. 2 제1항에 있어서, 폐 필름 혼합물이 알루미늄-증착 폴리프로필렌계 폐 포장 필름과 나일론계 폐 포장 필름의 혼합물인 것을 특징으로 하는 방법. 3 제2항에 있어서, 알루미늄-증착 폴리프로필렌계 폐 포장 필름이, 폴리프로필렌층; 폴리에틸렌층 및 폴리에스테르층 중에서 선택되는 1 층 이상의 필름층; 및 알루미늄 증착층을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법. 4 제2항에 있어서, 나일론계 폐 포장 필름이, 나일론층; 및 폴리에틸렌층 및 폴리에스테르층 중에서 선택되는 1층 이상의 필름층을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법. 5 제2항에 있어서, 폐 필름 혼합물이 알루미늄 증착된 폴리프로필렌/폴리에틸렌 필름과 나일론/폴리에틸렌 필름의 혼합물인 것을 특징으로 하는 방법. 6 제5항에 있어서, 폐 필름 혼합물이, 폐 필름 혼합물의 총 중량을 기준으로 0.1 내지 2 중량%의 알루미늄, 50 내지 80 중량%의 폴리프로필렌, 10 내지 30 중량%의 나일론 및 5 내지 30 중량%의 폴리에틸렌을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법. 7 제1항에 있어서, 상용화제가, 무수말레인산 그래프트된 폴리에틸렌, 무수말레인산 그래프트된 폴리프로필렌, 무수말레인산-함유 수소화된 폴리스티렌-폴리부타티엔-폴리스티렌 공중합체 및 이들의 혼합물로 이루어지는 군 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법. 8<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 9<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 10 제1항에 있어서, 단계 (ii)에서 상용화제 및 폴리올레핀계 수지를 용융 혼합물의 총 중량을 기준으로 10 내지 30 중량% 첨가하는 것을 특징으로 하는 방법. 11 제10항에 있어서, 상용화제 및 폴리올레핀계 수지를 10:1 내지 4:1의 중량비로 첨가하는 것을 특징으로 하는 방법. 12 제1항에 있어서, 단계 (i)의 용융 혼합 공정을 260 내지 290 ℃ 범위의 온도에서 3 내지 5분 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 방법. 13 제1항에 있어서, 단계 (ii)의 반응 압출 공정을 230 내지 260℃ 범위의 온도에서 2 내지 3분 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 방법. 14<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 15<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100733941B1",null,1]
["K03762","미용","KR","구상의 ＣＶＤ 다이아몬드 입자로 제조된 피부미용기구{APPARATUS FOR BEUTIFYING SKIN FABRICATED WITH SPHERICAL CVD DIAMOND PARTICLES}",null,"원문이미지","KR20060009353U","2006.04.07","KR0418987Y1","2006.06.08","본 고안은 피부미용기구에 관한 것으로, 구상의 CVD다이아몬드 입자가 고착되며 피부미용의 대상이 되는 부위에 직접 접촉되는 팁부와; 일단에는 상기 팁부가 착탈가능하게 결합되며, 타단에는 본체와 연결된 연결호스가 결합되는 몸체부;를 포함하여 구성되도록 함으로써, 생체적으로 안전할 뿐만 아니라 삭피면의 균일성이 향상되어 민감한 피부를 할큄 없이 삭피할 수 있도록 하는데 그 목적이 있다.","1 일측에 구상의 CVD다이아몬드 입자가 고착되며 피부미용의 대상이 되는 부위에 직접 접촉되는 팁부(10); 일단에는 상기 팁부(10)가 착탈가능하게 결합되며, 타단에는 본체와 연결된 연결호스(30)가 결합되는 몸체부(20); 를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 피부미용기구.","이재갑, 최원국","A45D-044/22",null,null,null,"2016.04.07","1 일측에 구상의 CVD다이아몬드 입자가 고착되며 피부미용의 대상이 되는 부위에 직접 접촉되는 팁부(10); 일단에는 상기 팁부(10)가 착탈가능하게 결합되며, 타단에는 본체와 연결된 연결호스(30)가 결합되는 몸체부(20); 를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 피부미용기구. 2 제 1 항에 있어서, 상기 팁부(10)의 일단에는, 구상의 CVD다이아몬드 입자가 고착되어 피부에 직접 접촉되는 전착부(11)가 구비되고, 상기 팁부(10)의 타단에는, 상기 몸체부(20)와 착탈가능하게 결합되는 결합부(12)가 구비되는 것을 특징으로 하는 피부미용기구. 3 제 1 항에 있어서, 상기 몸체부(20)는, 그 몸체부(20)의 일단에 함몰형성되어 상기 팁부(10)를 수용하는 수용홈(22); 그 몸체부(20)의 내부를 관통하도록 구비되며, 일단이 상기 수용홈(22)과 연통되고 타단이 상기 연결호스(30)와 결합되어, 미용기구의 작동시 진공상태가 유지되면서 흡입력을 전달하는 흡입관(21); 제거된 각질등이 상기 흡입관(21)을 통하여 본체로 유입되는 것을 방지하기 위하여 상기 수용홈(22)에 삽입되는 필터(23); 상기 수용홈(22)에 삽입되며, 상기 수용홈(22)과 상기 팁부(10)사이로 공기가 누출되는 것을 차단하여 흡입능력을 향상시키기 위한 오링(24); 을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 피부미용기구.","KR200418987Y1",null,1]
["F02400","재료","JP","다공성 금속 유리 및 그 제조 방법",null,"원문이미지","JP2006318986A","2006.11.27","JP4782662B9","2011.07.15","(57)【요약】 【과제】본 발명은 나노 사이즈의 다공성 금속 유리 및 그 제조 방법에 관한다.【해결 수단】본 발명에 의한 다공성 금속 유리는 50.0at% 내지 70.0at%의 Ti,0.5at% 내지 10.0at%의 Y,10.0at% 내지 30.0at%의 Al,10.0at% 내지 30.0at%의 Co 및 그 밖의 불순물을 포함하고, Ti+Y+Al+Co+ 그 밖의 불순물=100.0at%로 있다.【선택도】그림 9","【청구항 1】 50. 0at% 내지 70. 0at%의 Ti,0.5at% 내지 10.0at%의 Y,10.0at% 내지 30.0at%의 Al,10.0at% 내지 30.0at%의 Co 및 그 밖의 불순물을 포함하고, Ti+Y+Al+Co+그 밖의 불순물=100.0at%로 있는 것을 특징으로 하는 다공성 금속 유리.","エリック  フル­リ­, 金  有  燦, 金  基  培, ジャヤマニ  ジャヤラジ, 金  道  鄕, 朴  秉  柱","C22C-045/10,C22C-001/00,C22C-001/02,C22C-001/08,C22C-014/00,C22C-016/00","JP2007308790A","2007.11.29","2006-05-19 (KR 10-2006-0045204)","2026.11.27","【특허청구의 범위】 【청구항 1】 50. 0at% 내지 70. 0at%의 Ti,0.5at% 내지 10.0at%의 Y,10.0at% 내지 30.0at%의 Al,10.0at% 내지 30.0at%의 Co 및 그 밖의 불순물을 포함하고, Ti+Y+Al+Co+그 밖의 불순물=100.0at%로 있는 것을 특징으로 하는 다공성 금속 유리. 【청구항 2】 상기 다공성 금속 유리는 서로 격리하게 되고 인접한 2 개 이상의 비정질상을 포함하고, 상기 2 개 이상의 비정질상의 집의 제1 비정질상은 Ti56Al24Co20 비정질상 있고, 제2 비정질상은 Y56Al24Co20 비정질상 있는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 다공성 금속 유리. 【청구항 3】 상기 Ti56Al24Co20 비정질상은 50.0at% 내지 80.0at%로 있고, 상기 Y56Al24Co20 비정질상은 20.0at% 내지 50.0at%로 있는 것을 특징으로 하는 청구항 2에 기재의 다공성 금속 유리. 【청구항 4】 상기 다공성 금속 유리에 형성하게 되는 다수의 기공은, 상기 Y56Al24Co20 비정질상으로부터 상기 Y을 제거하고 형성하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 2에 기재의 다공성 금속 유리. 【청구항 5】 상기 다공성 금속 유리의 기공 치수가, 10nm내지 500nm 있는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 다공성 금속 유리. 【청구항 6】 50.0at% 내지 70.0at%의 Zr,0.5at% 내지 10.0at%의 Y,10.0at% 내지 30.0at%의 Al,10.0at% 내지 30.0at%의 Co 및 그 밖의 불순물을 포함하고, Zr+Y+Al+Co+그 밖의 불순물=100.0at%로 있는 것을 특징으로 하는 다공성 금속 유리. 【청구항 7】 상기 다공성 금속 유리는 서로 연결하게 되는 2 개 이상의 비정질상을 포함하고, 상기 2 개 이상의 비정질상의 집의 제1 비정질상은 Zr55Al20Co25 비정질상 있고, 제2 비정질상은 Y56Al24Co20 비정질상 있는 것을 특징으로 하는 청구항 6에 기재의 다공성 금속 유리. 【청구항 8】 상기 Zr55Al20Co25 비정질상은 45.0at% 내지 55.0at%로 있고, 상기 Y56Al24Co20 비정질상은 45.0at% 내지 55.0at%로 있는 것을 특징으로 하는 청구항 7에 기재의 다공성 금속 유리. 【청구항 9】 상기 다공성 금속 유리에 형성하게 되는 다수의 기공은, 상기 Y56Al24Co20 비정질상으로부터 상기 Y을 제거하고 형성하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 7에 기재의 다공성 금속 유리. 【청구항 10】 상기 다공성 금속 유리의 기공 치수가, 10nm내지 500nm 있는 것을 특징으로 하는 청구항 6에 기재의 다공성 금속 유리. 【청구항 11】 청구항 1에 기재의 다공성 금속 유리의 제조 방법 이고, Ti,Y,Al,Co 및 그 밖의 불순물을 포함하는 다공성 금속 유리를 용융하는 단계, 상기 다공성 금속 유리를 급냉시키게 하고 비정질상을 형성하는 단계, 이르고 전기 화학적 방법에 따라서, 상기 다공성 금속 유리를 선택 부식되고, 다공성망 구조를 형성하는 단계 을 포함하는 것을 특징으로 하는 다공성 금속 유리의 제조 방법. 【청구항 12】 상기 비정질상을 형성하는 단계는, 상기 다공성 금속 유리에 2 개 이상의 비정질상을 형성하고, 상기 2 개 이상의 비정질상은 Ti56Al24Co20 비정질상 및 Y56Al24Co20 비정질상을 포함하는 것을 특징으로 하는 청구항 11에 기재의 다공성 금속 유리의 제조 방법. 【청구항 13】 상기 Ti56Al24Co20 비정질상은 50.0at% 내지 80.0at%로 있고, 상기 Y56Al24Co20 비정질상은 20.0at% 내지 50.0at%로 있는 것을 특징으로 하는 청구항 12에 기재의 다공성 금속 유리의 제조 방법. 【청구항 14】 상기 다공성망 구조를 형성하는 단계에 있어서, 상기 선택 부식에 따라서, 상기 Y56Al24Co20 비정질상으로부터 상기 Y을 제거하는 것을 특징으로 하는 청구항 12에 기재의 다공성 금속 유리의 제조 방법. 【청구항 15】 청구항 6에 기재의 다공성 금속 유리의 제조 방법 이고, Zr,Y,Al,Co 및 그 밖의 불순물을 포함하는 다공성 금속 유리를 용융하는 단계, 상기 다공성 금속 유리를 급냉시키게 하고 비정질상을 형성하는 단계, 이르고 전기 화학적 방법에 따라서, 상기 다공성 금속 유리를 선택 부식되고, 다공성망 구조를 형성하는 단계 을 포함하는 것을 특징으로 하는 다공성 금속 유리의 제조 방법. 【청구항 16】 상기 비정질상을 형성하는 단계는, 상기 다공성 금속 유리에 2 개 이상의 비정질상을 형성하고, 상기 2 개 이상의 비정질상의 집의 제1 비정질상은 Zr55Al20Co25 비정질상 있고, 제2 비정질상은 Y56Al24Co20 비정질상 있는 것을 특징으로 하는 청구항 15에 기재의 다공성 금속 유리의 제조 방법. 【청구항 17】 상기 Zr55Al20Co25 비정질상은 45.0at% 내지 55.0at%로 있고, 상기 Y56Al24Co20 비정질상은 45.0at% 내지 55.0at%로 있는 것을 특징으로 하는 청구항 16에 기재의 다공성 금속 유리의 제조 방법. 【청구항 18】 상기 다공성망 구조를 형성하는 단계에 있어서, 전기 화학적 방법에 따라서, 상기 Y56Al24Co20 비정질상으로부터 상기 Y을 선택 부식되는 것을 특징으로 하는 청구항 16에 기재의 다공성 유리의 제조 방법.","JP2007308790A, JP4782662B2, KR100760339B1, US2007267111A1, US7563332B2, US2009250143A1, US8034200B2",null,1]
["K03759","의료","KR","가변 첩 광섬유 격자 기반 단층 촬영용 광간섭 신호 발생기{Optical Interferogram Generator based on Tunable Optical Chirped Fiber Grating for an Optical Coherent Tomography}",null,"원문이미지","KR20060031976A","2006.04.07","KR0724020B1","2007.05.25","가변 첩 광섬유 격자 기반의 단층 촬영용 광간섭신호 발생기에 관하여 개시한다. 본 발명의 광간섭신호 발생기는 광대역폭을 가지는 광신호를 출력하는 광대역 광원; 상기 광대역 광원으로부터 광신호를 입력받아 가우시안(gaussian) 형태의 스펙트럼으로 변환하는 광필터; 상기 광필터로부터 광신호를 입력받아 이를 두 개의 신호로 나누어 출력하며, 그 중 제 1 광신호를 단층 촬영하기 위한 샘플로 전달하는 광커플러; 3개의 포트(port)를 구비하며, 제 1 포트가 상기 광커플러와 연결되어 상기 광커플러에서 출력되는 제 2 광신호를 입력받아 제 2 포트 및 제 3 포트로 전달하고 다시 반사된 제 2 광신호를 상기 광커플러로 출력하는 서큘레이터; 상기 서큘레이터의 제 2 포트와 연결되고, 일정 격자 주기를 가지며, 상기 제 2 광신호를 입력받아 소정의 시간 지연을 가지고 반사하는 제 1 가변 첩 광섬유 격자; 및 상기 서큘레이터의 제 3 포트와 연결되고, 상기 제 1 가변 첩 광섬유 격자와 비대칭적인 격자 주기를 가지며, 상기 제 1 가변 첩 광섬유 격자에서 반사된 제 2 광신호를 입력받아 상기 제 1 가변 첩 광섬유 격자와 상보적인 시간 지연을 가지고 반사하는 제 2 가변 첩 광섬유 격자를 포함한다. 상기 제 2 가변 첩 광섬유 격자에서 반사된 제 2 광신호는 상기 광커플러에서 상기 샘플에서 반사된 제 1 광신호와 간섭현상을 일으킨다.","1 광대역폭을 가지는 광신호를 출력하는 광대역 광원; 상기 광대역 광원으로부터 광신호를 입력받아 가우시안(gaussian) 형태의 스펙트럼으로 변환하는 광필터; 상기 광필터로부터 광신호를 입력받아 이를 두 개의 신호로 나누어 출력하며, 그 중 제 1 광신호를 단층 촬영하기 위한 샘플로 전달하는 광커플러; 3개의 포트(port)를 구비하며, 제 1 포트가 상기 광커플러와 연결되어 상기 광커플러에서 출력되는 제 2 광신호를 입력받아 제 2 포트 및 제 3 포트로 전달하고 다시 반사된 제 2 광신호를 상기 광커플러로 출력하는 서큘레이터; 상기 서큘레이터의 제 2 포트와 연결되고, 일정 격자 주기를 가지며, 상기 제 2 광신호를 입력받아 소정의 시간 지연을 가지고 반사하는 제 1 가변 첩 광섬유 격자; 및 상기 서큘레이터의 제 3 포트와 연결되고, 상기 제 1 가변 첩 광섬유 격자와 비대칭적인 격자 주기를 가지며, 상기 제 1 가변 첩 광섬유 격자에서 반사된 제 2 광신호를 입력받아 상기 제 1 가변 첩 광섬유 격자와 상보적인 시간 지연을 가지고 반사하는 제 2 가변 첩 광섬유 격자를 포함하며, 상기 제 2 가변 첩 광섬유 격자에서 반사된 제 2 광신호는 상기 광커플러에서 상기 샘플에서 반사된 제 1 광신호와 간섭현상을 일으키는 것을 특징으로 하는 가변 첩 광섬유 격자 기반 단층 촬영용 광간섭신호 발생기.","한영근, 이주한, 이상배, 김창석","A61B-005/00",null,null,null,"2026.04.07","1 광대역폭을 가지는 광신호를 출력하는 광대역 광원; 상기 광대역 광원으로부터 광신호를 입력받아 가우시안(gaussian) 형태의 스펙트럼으로 변환하는 광필터; 상기 광필터로부터 광신호를 입력받아 이를 두 개의 신호로 나누어 출력하며, 그 중 제 1 광신호를 단층 촬영하기 위한 샘플로 전달하는 광커플러; 3개의 포트(port)를 구비하며, 제 1 포트가 상기 광커플러와 연결되어 상기 광커플러에서 출력되는 제 2 광신호를 입력받아 제 2 포트 및 제 3 포트로 전달하고 다시 반사된 제 2 광신호를 상기 광커플러로 출력하는 서큘레이터; 상기 서큘레이터의 제 2 포트와 연결되고, 일정 격자 주기를 가지며, 상기 제 2 광신호를 입력받아 소정의 시간 지연을 가지고 반사하는 제 1 가변 첩 광섬유 격자; 및 상기 서큘레이터의 제 3 포트와 연결되고, 상기 제 1 가변 첩 광섬유 격자와 비대칭적인 격자 주기를 가지며, 상기 제 1 가변 첩 광섬유 격자에서 반사된 제 2 광신호를 입력받아 상기 제 1 가변 첩 광섬유 격자와 상보적인 시간 지연을 가지고 반사하는 제 2 가변 첩 광섬유 격자를 포함하며, 상기 제 2 가변 첩 광섬유 격자에서 반사된 제 2 광신호는 상기 광커플러에서 상기 샘플에서 반사된 제 1 광신호와 간섭현상을 일으키는 것을 특징으로 하는 가변 첩 광섬유 격자 기반 단층 촬영용 광간섭신호 발생기. 2 제 1 항에 있어서, 상기 광커플러에서 발생된 광간섭신호를 입력받아 전기적 신호로 변환하는 광전 변환기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 가변 첩 광섬유 격자 기반 단층 촬영용 광간섭신호 발생기. 3 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 광대역 광원은, 슈퍼콘티뉴엄(supercontinuum) 광원, LED(Light Emitting Diode) 광원, 초발광 다이오드(SLD:Super-Luminescent Diode), 솔리톤 광원 및 어븀 첨가 광섬유 광원의 증폭된 자기 발광(ASE:Amplified Spontaneous Emission) 광원 중 어느 하나의 광원인 것을 특징으로 하는 가변 첩 광섬유 격자 기반 단층 촬영용 광간섭신호 발생기. 4 제 3 항에 있어서, 상기 광필터는, 장주기 및 단주기 광섬유 격자, MEMS(Micro Electro Mechanical System) 필터, 패브리-페롯(Fabry-Perot) 필터, 광섬유 루프 필터 및 에탈론 필터 중 어느 하나의 필터인 것을 특징으로 하는 가변 첩 광섬유 격자 기반 단층 촬영용 광간섭신호 발생기. 5 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 가변 첩 광섬유 격자의 시간 지연과 상기 제 2 가변 첩 광섬유 격자의 시간 지연의 합은 0(zero)인 것을 특징으로 하는 가변 첩 광섬유 격자 기반 단층 촬영용 광간섭신호 발생기.","KR100724020B1",null,1]
["K03757","광학","KR","회전체의 이상감지장치{MONITORING DEVICE FOR ROTATING BODY}",null,"원문이미지","KR20060047393A","2006.05.26","KR0760510B1","2007.09.14","본 발명은 광섬유 브래그 격자 센서를 사용하는 회전체의 이상감지장치에서 회전체의 회전각도에 따른 센서 신호 전달손실의 변화와 온도 변화에 의한 센서 신호의 왜곡을 보상하여 회전체 상의 브래그 격자 센서의 신호를 정확하게 측정할 수 있는 회전체의 이상감지장치에 관한 것이다. 고정체로부터 이격되어 회전가능하게 설치되는 회전체의 이상을 감지함에 있어서, 광원과; 회전체의 변형 측정 대상 부위에 부착되고, 그 일단이 회전체의 회전중심축 상에 위치하도록 회전체의 단부로 연장되는 회전측 광섬유와; 회전체의 변형 측정 대상 부위에 부착된 회전측 광섬유의 일부에 길이방향으로 다수의 브래그 격자를 형성하여 이루어지는 적어도 하나의 변형 센서와; 회전체의 단부에 위치하는 회전측 광섬유의 일단 부근에 길이방향으로 브래그 격자를 형성하여 이루어지는 기준 센서와; 광원에 연결되고, 회전측 광섬유의 일단과 대향하도록 고정체에 설치되는 고정측 광섬유와; 고정측 광섬유와 연결되어 변형 센서와 기준 센서로부터 반사된 빛을 전달받고, 변형 센서로부터 반사된 빛에 대응하는 신호로부터 기준 센서로부터 반사된 빛에 대응하는 신호를 감하여 회전체의 변형을 검출하기 위한 신호 처리부로 이루어진다.","1 고정체로부터 이격되어 회전가능하게 설치되는 회전체의 이상을 감지하는 감지장치에 있어서, 빛을 방사하는 광원과; 상기 회전체의 변형 측정 대상 부위에 부착되고, 그 일단이 상기 회전체의 회전중심축 상에 위치하도록 상기 회전체의 단부로 연장되는 회전측 광섬유와; 상기 회전체의 변형 측정 대상 부위에 부착된 상기 회전측 광섬유의 일부에 길이방향으로 다수의 브래그 격자를 형성하여 이루어지는 적어도 하나의 변형 센서와; 상기 회전체의 단부에 위치하는 상기 회전측 광섬유의 일단 부근에 길이방향으로 브래그 격자를 형성하여 이루어지는 기준 센서와; 상기 광원에 연결되고, 상기 회전측 광섬유의 일단과 대향하도록 상기 고정체에 설치되는 고정측 광섬유와; 상기 고정측 광섬유와 연결되어 상기 변형 센서와 기준 센서로부터 반사된 빛을 전달받고, 상기 변형 센서로부터 반사된 빛에 대응하는 신호로부터 상기 기준 센서로부터 반사된 빛에 대응하는 신호를 감하여 상기 회전체의 변형을 검출하기 위한 신호 처리부로 이루어지는 것을 특징으로 하는 회전체의 이상감지장치.","황요하, 이상배, 이종민","G01B-011/16,G01B-011/00",null,null,null,"2026.05.26","1 고정체로부터 이격되어 회전가능하게 설치되는 회전체의 이상을 감지하는 감지장치에 있어서, 빛을 방사하는 광원과; 상기 회전체의 변형 측정 대상 부위에 부착되고, 그 일단이 상기 회전체의 회전중심축 상에 위치하도록 상기 회전체의 단부로 연장되는 회전측 광섬유와; 상기 회전체의 변형 측정 대상 부위에 부착된 상기 회전측 광섬유의 일부에 길이방향으로 다수의 브래그 격자를 형성하여 이루어지는 적어도 하나의 변형 센서와; 상기 회전체의 단부에 위치하는 상기 회전측 광섬유의 일단 부근에 길이방향으로 브래그 격자를 형성하여 이루어지는 기준 센서와; 상기 광원에 연결되고, 상기 회전측 광섬유의 일단과 대향하도록 상기 고정체에 설치되는 고정측 광섬유와; 상기 고정측 광섬유와 연결되어 상기 변형 센서와 기준 센서로부터 반사된 빛을 전달받고, 상기 변형 센서로부터 반사된 빛에 대응하는 신호로부터 상기 기준 센서로부터 반사된 빛에 대응하는 신호를 감하여 상기 회전체의 변형을 검출하기 위한 신호 처리부로 이루어지는 것을 특징으로 하는 회전체의 이상감지장치. 2 제1항에 있어서, 상기 기준 센서는 상기 회전체의 회전중심축 상에 위치하는 것을 특징으로 하는 회전체의 이상감지장치. 3 제1항에 있어서, 상기 기준 센서는 상기 회전체의 표면 상에 위치하는 것을 특징으로 하는 회전체의 이상감지장치. 4 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 기준 센서는 상기 회전체의 회전에 의해 상기 기준 센서가 변형되는 것을 방지하기 위한 패킹부재에 의해 감싸져 있는 것을 특징으로 하는 회전체의 이상감지장치. 5 제1항에 있어서, 상기 신호 처리부는 상기 변형 센서와 기준 센서로부터 반사된 빛을 수신하는 광 커플러와, 상기 광 커플러와 연결되고 상기 변형 센서 및 기준 센서로부터 반사된 빛에 대응하는 신호를 각각 처리하기 위한 복수의 신호 처리 라인과, 상기 복수의 신호 처리 라인으로부터 출력되는 상기 변형 센서의 신호로부터 상기 기준 센서의 신호를 감하여 상기 회전체의 응력을 계산하기 위한 연산부를 포함하는 것을 특징으로 하는 회전체의 이상감지장치. 6 제1항에 있어서, 상기 회전측 광섬유의 일부에 길이방향으로 다수의 브래그 격자를 형성하여 이루어지는 적어도 하나의 온도 센서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 회전체의 이상감지장치. 7 제6항에 있어서, 상기 기준 센서가 온도 센서를 겸하는 것을 특징으로 하는 회전체의 이상감지장치. 8 제6항에 있어서, 상기 온도 센서는 상기 회전체의 회전중심축 상에 위치하는 것을 특징으로 하는 회전체의 이상감지장치. 9 제6항에 있어서, 상기 온도 센서는 상기 회전체의 표면 상에서 상기 변형 센서에 인접하여 위치하는 것을 특징으로 하는 회전체의 이상감지장치. 10 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 온도 센서는 상기 회전체의 회전에 의해 상기 온도 센서가 변형되는 것을 방지하기 위한 패킹부재에 의해 감싸져 있는 것을 특징으로 하는 회전체의 이상감지장치. 11 제6항에 있어서, 상기 신호 처리부는 상기 변형 센서, 기준 센서 및 온도 센서로부터 반사된 빛을 수신하는 광 커플러와, 상기 광 커플러와 연결되고 상기 변형 센서, 기준 센서 및 온도 센서로부터 반사된 빛에 대응하는 신호를 각각 처리하기 위한 복수의 신호 처리 라인과, 상기 복수의 신호 처리 라인으로부터 출력되는 상기 변형 센서의 신호로부터 상기 기준 센서의 신호와 상기 온도 센서의 신호를 감하여 상기 회전체의 응력을 계산하기 위한 연산부를 포함하는 것을 특징으로 하는 회전체의 이상감지장치. 12 제5항 또는 제11항에 있어서, 상기 신호 처리 라인은 상기 각각의 센서의 파장 변화를 광량의 변화로 바꾸기 위한 튜너블 필터와, 상기 튜너블 필터로부터 출력되는 광량의 변화를 전기 신호로 바꾸기 위한 포토 다이오드와, 상기 전기 신호를 증폭하기 위한 앰프와, 증폭된 상기 신호를 디지털 신호로 변환하여 상기 연산부로 출력하기 위한 A/D 컨버터를 포함하는 것을 특징으로 하는 회전체의 이상감지장치.","DE112006003144B4, DE112006003144T5, GB0807376D0, GB2445697A, GB2445697B, KR100760510B1, US2008204707A1, US7495750B2, WO2007139262A1","J",3]
["F02730","광학","DE","A monitoring device for a rotating body",null,"원문이미지","DE200611003144T","2006.11.17","DE112006003144B4","2012.03.15","The present invention relates to a monitoring device for a rotating body, which can accurately measure signals from a fiber Bragg grating sensor provided on the rotating body by compensating a transmission loss variation and a distortion of the sensor signals. A rotation-side optical fiber has at least one deformation sensor at a portion thereof and a reference sensor at one end thereof. The sensors are made by forming a Bragg grating in the rotation-side optical fiber. A fixed-side optical fiber is mounted to the fixed body so as to be opposed to the one end of the rotation-side optical fiber. A signal processing unit detects a deformation of the rotating body by subtracting a signal corresponding to the light reflected from the reference sensor from a signal corresponding to the light reflected from the deformation sensor.",null,"HWANG YOHA, LEE SANG BAE, LEE JONG MIN","G01B-011/16,G01D-005/353",null,null,"2006.05.26 (KR 20060047393), 2006.11.17 (WO 2006KR04850)",null,null,"DE112006003144B4, DE112006003144T5, GB0807376D0, GB2445697A, GB2445697B, KR100760510B1, US2008204707A1, US7495750B2, WO2007139262A1","J",3]
["F02729","광학","GB","Monitoring device for rotating body",null,"원문이미지","GB20080007376","2006.11.17","GB2445697B","2009.09.23","The present invention relates to a monitoring device for a rotating body, which can accurately measure signals from a fiber Bragg grating sensor provided on the rotating body by compensating a transmission loss variation and a distortion of the sensor signals. A rotation-side optical fiber has at least one deformation sensor at a portion thereof and a reference sensor at one end thereof. The sensors are made by forming a Bragg grating in the rotation-side optical fiber. A fixed-side optical fiber is mounted to the fixed body so as to be opposed to the one end of the rotation-side optical fiber. A signal processing unit detects a deformation of the rotating body by subtracting a signal corresponding to the light reflected from the reference sensor from a signal corresponding to the light reflected from the deformation sensor.",null,"HWANG YOHA, LEE SANG BAE, LEE JONG MIN","G01B-011/16,G01M-011/08",null,null,"20061117(WO 2006KR04850), 20060526(KR 20060047393)",null,null,"DE112006003144B4, DE112006003144T5, GB0807376D0, GB2445697A, GB2445697B, KR100760510B1, US2008204707A1, US7495750B2, WO2007139262A1","J",3]
["F02357","재료","JP","겔 방사 성형법을 이용한 조직 공학용 다공성 고분자 지지체의 제조 방법",null,"원문이미지","JP2006185126A","2006.07.05","JP4555800B9","2010.07.23","(57)【요약】 【과제】빈틈의 크기가 균일하다 , 빈틈간의 상호 연결성에 우수하고, 세포 주입 효율이 높은 뿐만 아니라, 기계적 강도에도 뛰어난다, 조직 공학용에 적당한 다공성 고분자 지지체의 간편한 제조의 제공.【해결 수단】고분자를 유기 용매에 용해하게 하고, 이것을, 회전하고 있는 주형 샤프트(shaft)에 보다 교반하게 되는 비용매에 방사하고 상분 떨어지는 겔 상태의 고분자 섬유를 회전하고 있는 주형 샤프트에 휘감으면서 성형하고 다공성 고분자 지지체를 제조한다. 본 발명의 다공성 고분자 지지체의 제조 방법에 의하면, 빈틈간의 상호 연결성에 우수하고, 기계적 강도 및 세포 주입 효율이 높기 때문에, 조직 공학용에 적당한 다공성 고분자 지지체를 얻을 수 있다.【선택도】그림 3","【청구항 1】 (i)생체 적합성 고분자를 유기 용매에 용해하게 하고 고분자 용액을 제조하는 단계, (ii)단계(i)으로 얻어지는 고분자 용액을, 회전하고 있는 샤프트에 의하여 교반하게 되는 비용매에 방사하고, 비용매 액중에서 고분자 겔을 형성하는 단계, (iii)단계(ii)으로 형성하게 되는 고분자 겔을, 회전하고 있는 샤프트에 휘감게 하고, 다공성 고분자 지지체에 성형하는 단계, 이르고 (iv)단계(iii)으로 얻어지는 다공성 고분자 지지체를 건조하게 하고 유기 용매를 제거하는 단계 을 포함한다, 다공성 고분자 지지체의 제조 방법.","キム·サンホン, キム·スヒョン, キム·ヨンハ, クォン·ジェヒョン, チョン·ミンソプ","A61L-027/00","JP2007014773A","2007.01.25","2005-07-07 (KR 10-2005-0061080), 2006-04-17 (KR 10-2006-0034400)","2026.07.05","【특허청구의 범위】 【청구항 1】 (i)생체 적합성 고분자를 유기 용매에 용해하게 하고 고분자 용액을 제조하는 단계, (ii)단계(i)으로 얻어지는 고분자 용액을, 회전하고 있는 샤프트에 의하여 교반하게 되는 비용매에 방사하고, 비용매 액중에서 고분자 겔을 형성하는 단계, (iii)단계(ii)으로 형성하게 되는 고분자 겔을, 회전하고 있는 샤프트에 휘감게 하고, 다공성 고분자 지지체에 성형하는 단계, 이르고 (iv)단계(iii)으로 얻어지는 다공성 고분자 지지체를 건조하게 하고 유기 용매를 제거하는 단계 을 포함한다, 다공성 고분자 지지체의 제조 방법. 【청구항 2】 고분자 겔 형성 단계(ii)과 성형 단계(iii)이라고를 동시에 행하는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 방법. 【청구항 3】 생체 적합성 고분자가, 생분해성 합성 고분자, 비분해성 합성 고분자, 생분해성 천연 고분자, 이러한 공중합체 및 이러한 혼합물으로 되는 무리로부터 선택하게 되는 것이는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 방법. 【청구항 4】 생분해성 합성 고분자가, 폴리(L-유산), 폴리(D,L-유산), 폴리 글리콜 산(PGA), 폴리카프로락톤(PCL), 포리토리메치렌칼보네토, 폴리 디옥사논, 포리히도로키시알카노에토, 포리올토에스텔, 포리히도로키시에스텔, 폴리프로필렌 후마레이트, 폴리 포스파젠, 포리안히도리도 및 이러한 공중합체로 되는 무리로부터 선택하게 되는 것이는 것을 특징으로 하는 청구항 3에 기재의 방법. 【청구항 5】 비분해성 합성 고분자가, 폴리우레탄, 폴리에틸렌, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌 옥시드 및 이러한 공중합체로 되는 무리로부터 선택하게 되는 것이는 것을 특징으로 하는 청구항 3에 기재의 방법. 【청구항 6】 생분해성 천연 고분자가, 콜라겐, 피부린, 키토산, 히알론산, 셀룰로오스, 폴리 망의 산, 피브로인, 세리신 및 이러한 유도체로 되는 무리로부터 선택하게 되는 것이는 것을 특징으로 하는 청구항 3에 기재의 방법. 【청구항 7】 유기 용매가, 클로로포름, 메틸렌 염화물, 초산, 에틸 아세테이트, 지메칠칼보네토, 테트라하이드로푸란 및 이러한 혼합물으로 되는 무리로부터 선택하게 되는 것이는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 방법. 【청구항 8】 비용매가, 물, 메탄올, 에탄올, 헥산, 헤푸탄 및 이러한 혼합물으로 되는 무리로부터 선택하게 되는 것이는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 방법. 【청구항 9】 샤프트가, 공전과 자전 운동한 것과 동시에 상하에 이동하면서 회전하고 있는 것이는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 방법. 【청구항 10】 청구항 1에 의하여 제조하게 됐다, 1∼800미크론의 빈틈의 크기 및 40∼99%의 공극률을 가지는 다공성 고분자 지지체.","JP2007014773A, JP4555800B2, KR100751733B1, KR20070006551A, US2007009570A1",null,1]
["K03758","광학","KR","초협대역 대역투과 필터 기반 광섬유 레이저 광원을 이용한마이크로파 신호 발생기{A Microwave Generator Using Optical Fiber Laser Incorporating a Ultra-narrow Bandpass Filter}",null,"원문이미지","KR20060027867A","2006.03.28","KR0767722B1","2007.10.10","초협대역 대역투과 필터 기반 광섬유 레이저 광원을 이용한 마이크로파 신호 발생기에 관하여 개시한다. 본 발명의 마이크로파 신호 발생기는 선형 또는 링 공진기를 이용하여 광섬유 레이저 광원을 구현하여 이를 광전 변환기를 통해서 마이크로파 신호를 발생한다. 상기 선형 또는 링 공진기 내부에 초협대역 대역투과 필터를 삽입하여 광섬유 레이저 광원이 단일 종파 모드 주파수(single longitudinal mode frequency)에서 동작할 수 있도록 한다. 이때, 초협대역 대역투과 필터의 대역폭은 광섬유 레이저 광원의 종파 모드 주파수 공간보다 좁은 대역폭을 갖는 것이므로 고차 성분의 종파 모드 주파수 성분은 제거되고 한 성분의 주파수만 필터링되어서 투과되므로 광섬유 레이저 광원이 단일 종파 모드로 동작할 수 있도록 해 준다.","1 소정의 파장을 가지는 신호를 생성하는 펌프 레이저 다이오드; 상기 펌프 레이저 다이오드와 연결되어 상기 신호를 분할 또는 결합하여 공진기로 입력시키는 파장 분할 광커플러; 상기 신호에 의해 활성화되어 고파장의 증폭된 광신호를 생성하는 이득 매질; 상기 이득 매질을 통과한 광신호를 초협대역폭으로 필터링하는 초협대역 대역투과 필터; 상기 이득 매질과 상기 초협대역 대역투과 필터 사이에 형성되어 상기 광신호를 회전시키고 상기 초협대역 대역투과 필터에서의 반사 신호를 제거하는 서큘레이터; 상기 이득 매질과 상기 파장 분할 광커플러 사이에 형성되어 초협대역폭을 가지는 광신호를 소정의 파장대에서 필터링하여 광섬유 레이저 광원을 생성하는 가변 미러용 필터; 및 상기 광섬유 레이저 광원을 전기신호로 변환하는 광전 변환기를 포함하는 것을 특징으로 하는 광섬유 레이저 광원을 이용한 마이크로파 신호 발생기.","한영근, 이주한, 이상배","G02B-006/00,G02B-006/26","KR20070097671A","2007.10.05",null,"2026.03.28","1 소정의 파장을 가지는 신호를 생성하는 펌프 레이저 다이오드; 상기 펌프 레이저 다이오드와 연결되어 상기 신호를 분할 또는 결합하여 공진기로 입력시키는 파장 분할 광커플러; 상기 신호에 의해 활성화되어 고파장의 증폭된 광신호를 생성하는 이득 매질; 상기 이득 매질을 통과한 광신호를 초협대역폭으로 필터링하는 초협대역 대역투과 필터; 상기 이득 매질과 상기 초협대역 대역투과 필터 사이에 형성되어 상기 광신호를 회전시키고 상기 초협대역 대역투과 필터에서의 반사 신호를 제거하는 서큘레이터; 상기 이득 매질과 상기 파장 분할 광커플러 사이에 형성되어 초협대역폭을 가지는 광신호를 소정의 파장대에서 필터링하여 광섬유 레이저 광원을 생성하는 가변 미러용 필터; 및 상기 광섬유 레이저 광원을 전기신호로 변환하는 광전 변환기를 포함하는 것을 특징으로 하는 광섬유 레이저 광원을 이용한 마이크로파 신호 발생기. 2 제 1 항에 있어서, 상기 이득 매질과 상기 가변 미러용 필터 사이에 형성되어 상기 광신호의 편광 상태를 안정화시키는 편광 조절기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광섬유 레이저 광원을 이용한 마이크로파 신호 발생기. 3 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 이득 매질은, 어븀(Er) 또는 이터븀(Yb) 첨가 광섬유, 실리카 기반 일반 단일모드 광섬유, 비선형 광섬유, 포토닉 크리스탈 광섬유 및 비스무트(bismuth) 광섬유 중 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 광섬유 레이저 광원을 이용한 마이크로파 신호 발생기. 4 제 3 항에 있어서, 상기 초협대역 대역투과 필터는, 위상 천이 광섬유 격자, MEMS(Micro Electro Mechanical System) 소자, 패브리-페로(Fabry-perot) 필터 및 새그낵 루프(Sagnac loop) 필터 중 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 광섬유 레이저 광원을 이용한 마이크로파 신호 발생기. 5 제 4 항에 있어서, 상기 가변 미러용 필터는, 광섬유 격자, 첩 광섬유 격자 및 벌크(bulk) 미러 중 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 광섬유 레이저 광원을 이용한 마이크로파 신호 발생기. 6 소정의 신호를 증폭시키는 반도체 증폭기; 상기 반도체 증폭기에서 증폭된 신호를 초협대역폭으로 필터링하는 초협대역 대역투과 필터; 상기 반도체 증폭기와 상기 초협대역 대역투과 필터 사이에 형성되어 상기 초협대역폭을 가지는 신호를 회전시키고 상기 초협대역 대역투과 필터에서의 반사 신호를 제거하는 서큘레이터; 상기 서큘레이터를 통해 상기 반도체 증폭기에서 증폭된 초협대역폭을 가지는 신호를 소정의 파장대에서 필터링하여 반도체 레이저 광원을 생성하는 가변 미러용 필터; 및 상기 반도체 레이저 광원을 전기신호로 변환하는 광전 변환기를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 레이저 광원을 이용한 마이크로파 신호 발생기. 7 제 6 항에 있어서, 상기 반도체 증폭기와 상기 가변 미러용 필터 사이에 형성되어 상기 광신호의 편광 상태를 안정화시키는 편광 조절기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 레이저 광원을 이용한 마이크로파 신호 발생기. 8 제 6 항 또는 제 7 항에 있어서, 상기 초협대역 대역투과 필터는, 위상 천이 광섬유 격자, MEMS(Micro Electro Mechanical System) 소자, 패브리-페로(Fabry-perot) 필터 및 새그낵 루프(Sagnac loop) 필터 중 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 반도체 레이저 광원을 이용한 마이크로파 신호 발생기. 9 제 8 항에 있어서, 상기 가변 미러용 필터는, 광섬유 격자, 첩 광섬유 격자 및 벌크(bulk) 미러 중 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 반도체 레이저 광원을 이용한 마이크로파 신호 발생기. 10 소정의 파장을 가지는 신호를 생성하는 펌프 레이저 다이오드; 상기 펌프 레이저 다이오드와 연결되어 상기 신호를 분할 또는 결합하여 공진기로 입력시키는 파장 분할 광커플러; 상기 신호에 의해 활성화되어 고파장의 증폭된 광신호를 생성하는 이득 매질; 상기 이득 매질을 통과한 광신호를 초협대역폭으로 필터링하는 초협대역 대역투과 필터; 3개의 포트를 가지며, 제 1 포트가 상기 초협대역 대역투과 필터에 연결되어 상기 초협대역폭을 가지는 광신호를 전달하는 서큘레이터; 상기 서큘레이터의 제 2 포트와 연결되어 상기 제 2 포트로 전달된 초협대역폭을 가지는 광신호를 소정의 파장대에서 필터링하여 광섬유 레이저 광원을 생성하는 가변 미러용 필터; 상기 파장 분할 광커플러 및 상기 서큘레이터의 제 3포트 사이에 연결되고 상기 광섬유 레이저 광원을 일정비율로 나누어 출력하는 광커플러; 및 상기 광커플러에서 출력된 광섬유 레이저 광원을 전기신호로 변환하여 출력하는 광전 변환기를 포함하는 것을 특징으로 하는 광섬유 레이저 광원을 이용한 마이크로파 신호 발생기. 11 제 10 항에 있어서, 상기 이득 매질과 상기 초협대역 대역투과 필터 사이에 형성되어 상기 초협대역 대역투과 필터에서 반사되는 신호를 제거하는 아이솔레이터; 및 상기 초협대역 대역투과 필터와 상기 서큘레이터 사이에 형성되어 상기 광신호의 편광 상태를 안정화시키는 편광 조절기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광섬유 레이저 광원을 이용한 마이크로파 신호 발생기. 12 제 10 항 또는 제 11 항에 있어서, 상기 이득 매질은, 어븀(Er) 또는 이터븀(Yb) 첨가 광섬유, 실리카 기반 일반 단일모드 광섬유, 비선형 광섬유, 포토닉 크리스탈 광섬유 및 비스무트(bismuth) 광섬유 중 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 광섬유 레이저 광원을 이용한 마이크로파 신호 발생기. 13 제 12 항에 있어서, 상기 초협대역 대역투과 필터는, 위상 천이 광섬유 격자, MEMS(Micro Electro Mechanical System) 소자, 패브리-페로(Fabry-perot) 필터 및 새그낵 루프(Sagnac loop) 필터 중 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 광섬유 레이저 광원을 이용한 마이크로파 신호 발생기. 14 제 13 항에 있어서, 상기 가변 미러용 필터는, 광섬유 격자, 첩 광섬유 격자 및 벌크(bulk) 미러 중 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 광섬유 레이저 광원을 이용한 마이크로파 신호 발생기. 15 소정의 신호를 증폭시키는 반도체 증폭기; 상기 반도체 증폭기에서 증폭된 신호를 초협대역폭으로 필터링하는 초협대역 대역투과 필터; 3개의 포트를 가지며, 제 1 포트가 상기 초협대역 대역투과 필터에 연결되어 상기 초협대역폭을 가지는 신호를 전달하는 서큘레이터; 상기 서큘레이터의 제 2 포트와 연결되어 상기 제 2 포트로 전달된 초협대역폭을 가지는 광신호를 소정의 파장대에서 필터링하여 반도체 레이저 광원을 생성하는 가변 미러용 필터; 상기 반도체 증폭기 및 상기 서큘레이터의 제 3 포트 사이에 연결되고 상기 반도체 레이저 광원을 일정비율로 나누어 출력하는 광커플러; 및 상기 광커플러에서 출력된 광섬유 레이저 광원을 전기신호로 변환하여 출력하는 광전 변환기를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 레이저 광원을 이용한 마이크로파 신호 발생기. 16 제 15 항에 있어서, 상기 반도체 증폭기와 상기 초협대역 대역투과 필터 사이에 형성되어 상기 초협대역 대역투과 필터에서 반사되는 신호를 제거하는 아이솔레이터; 및 상기 초협대역 대역투과 필터와 상기 서큘레이터 사이에 형성되어 상기 광신호의 편광 상태를 안정화시키는 편광 조절기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 레이저 광원을 이용한 마이크로파 신호 발생기. 17 제 15 항 또는 제 16 항에 있어서, 상기 초협대역 대역투과 필터는, 위상 천이 광섬유 격자, MEMS(Micro Electro Mechanical System) 소자, 패브리-페로(Fabry-perot) 필터 및 새그낵 루프(Sagnac loop) 필터 중 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 반도체 레이저 광원을 이용한 마이크로파 신호 발생기. 18 제 17 항에 있어서, 상기 가변 미러용 필터는, 광섬유 격자, 첩 광섬유 격자 및 벌크(bulk) 미러 중 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 반도체 레이저 광원을 이용한 마이크로파 신호 발생기.","KR100767722B1, KR20070097671A",null,1]
["K03750","의료","KR","몰폴린-2-온 유도체를 포함하는 Ｔ-형 칼슘 채널 차단용조성물{COMPOSITIONS FOR BLOCKING T-TYPE CALCIUM CHANNEL COMPRISING MORPHOLIN-2-ONE DERIVATIVES}",null,"원문이미지","KR20060039225A","2006.05.01","KR0758317B1","2007.09.06","본 발명은 신경세포내 T-형 칼슘 채널(T-type calcium channel)의 차단제로 유용한, 하기 화학식 1의 몰폴린-2-온(morpholin-2-one) 유도체를 포함하는 T-형 칼슘 채널 차단용 조성물에 관한 것으로, 본 발명의 조성물은 세포막의 칼슘 채널을 억제하여 심근질환, 통증, 협심증, 고혈압, 간질 등과 같은 다수의 질환의 치료 및 예방에 유용하게 사용될 수 있다. 상기 식에서, R1, R2, R3 및 R4는 명세서 중에서 정의한 바와 같다.","1 하기 화학식 1로 표시되는 몰폴린-2-온(morpholin-2-one) 유도체, 또는 약제학적으로 허용되는 그의 염을 유효성분으로 함유하는, T-형 칼슘 채널을 억제함으로써, T-형 칼슘 채널의 과발현으로 인한 협심증, 고혈압, 심근질환, 통증 및 간질로 이루어진 군 중에서 선택되는 질환을 예방 또는 치료하기 위한 약학 조성물: 화학식 1 상기 식에서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, C1-C6 알킬, C1-C6 시클로알킬, 또는 비치환되거나 치환된 페닐, 여기서 치환기는 할로겐, 니트로, 하이드록시 또는 C1-C6 알콕시이고, R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소, C1-C4 알킬, C1-C6 티오알킬, 아미노, 또는 비치환되거나 치환된 페닐, 여기서 치환기는 할로겐, 니트로, 하이드록시 또는 C1-C6 알콕시이다.","금교창, 김유승, 강순방, 임혜원, 장민석, 구일회","A61K-031/5375,A61P-009/04",null,null,null,"2026.05.01","1 하기 화학식 1로 표시되는 몰폴린-2-온(morpholin-2-one) 유도체, 또는 약제학적으로 허용되는 그의 염을 유효성분으로 함유하는, T-형 칼슘 채널을 억제함으로써, T-형 칼슘 채널의 과발현으로 인한 협심증, 고혈압, 심근질환, 통증 및 간질로 이루어진 군 중에서 선택되는 질환을 예방 또는 치료하기 위한 약학 조성물: 화학식 1 상기 식에서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, C1-C6 알킬, C1-C6 시클로알킬, 또는 비치환되거나 치환된 페닐, 여기서 치환기는 할로겐, 니트로, 하이드록시 또는 C1-C6 알콕시이고, R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소, C1-C4 알킬, C1-C6 티오알킬, 아미노, 또는 비치환되거나 치환된 페닐, 여기서 치환기는 할로겐, 니트로, 하이드록시 또는 C1-C6 알콕시이다. 2 제1항에 있어서, 화학식 1의 화합물이 하기 화합물로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, T-형 칼슘 채널을 억제함으로써, T-형 칼슘 채널의 과발현으로 인한 협심증, 고혈압, 심근질환, 통증 및 간질로 이루어진 군 중에서 선택되는 질환을 예방 또는 치료하기 위한 약학 조성물: 3-아이소프로필-2-옥소-몰폴린-5-카복시산 벤질아마이드, 3-벤질-2-옥소-몰폴린-5-카복시산 벤질아마이드, 3-벤질-2-옥소-몰폴린-5-카복시산 시클로헥실아마이드, 3-이차-부틸-2-옥소-몰폴린-5-카복시산 벤질아마이드, 3-(2-메틸설파닐-에틸)-2-옥소-몰폴린-5-카복시산 벤질아마이드, 3-(4-플루오로-벤질)-2-옥소-몰폴린-5-카복시산 벤질아마이드, 3-(4-메톡시-벤질)-2-옥소-몰폴린-5-카복시산 벤질아마이드, 3-(4-니트로-벤질)-2-옥소-몰폴린-5-카복시산 벤질아마이드, 3-(4-클로로-벤질)-2-옥소-몰폴린-5-카복시산 벤질아마이드, 3-(4-하이드록시-벤질)-2-옥소-몰폴린-5-카복시산 (1-페닐-에틸)-아마이드, 3-(4-니트로-벤질)-2-옥소-몰폴린-5-카복시산 (1-페닐-에틸)-아마이드, 3-(4-플루오르-벤질)-2-옥소-몰폴린-5-카복시산 (1-페닐-에틸)-아마이드, 3-(4-클로로-벤질)-2-옥소-몰폴린-5-카복시산 (1-페닐-에틸)-아마이드 및 3-(4-클로로-벤질)-2-옥소-몰폴린-5-카복시산 (1-페닐-에틸)-아마이드.","KR100758317B1",null,1]
["K03740","연료전지","KR","벌집형 고체산화물연료전지 및 그 제조방법{Honeycomb-type solid oxide fuel cell and method for manufacturing the same}",null,"원문이미지","KR20060032365A","2006.04.10","KR0699074B1","2007.03.16","본 발명에서는 전극 채널 및 상기 전극에 접합되는 집전체를 포함하는 벌집형 SOFC로서, 상기 집전체가 접합된 전극 채널 내에는 각 전극 분위기에서 산화물 형성이 가능한 재료로서 상변화 시 밀도가 작아지는 제1 재료가 충전되거나 또는 상기 전극 지지체의 재료보다 열팽창 계수가 큰 제2 재료가 충전되거나 또는 상기 제1 재료 및 상기 제2 재료의 복합 재료가 충전되는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC 및 그 제조방법을 제공한다. 본 발명에 따르면, 벌집형 SOFC의 전극 채널 내에서 다공성 충전재의 상변화 또는 열팽창계수 차에 의한 재료 특성을 이용하여 물리적으로 충분한 힘으로 전기 집전체를 전극과 접합되도록 하여 집전을 효율적으로 수행할 수 있다. 나아가, 본 발명은 다공성을 용이하게 확보함으로써 연료전지 전극으로 연료 및 공기 기체가 원활하게 확산될 수 있는 통로를 제공해 줄 수 있다는 장점을 가진다.","1 전극 채널 및 상기 전극에 접합되는 집전체를 포함하는 벌집형 SOFC로서, 상기 집전체가 접합된 전극 채널 내에는 각 전극 분위기에서 산화물 형성이 가능한 재료로서 상변화 시 밀도가 작아지는 제1 재료가 충전되거나 또는 상기 전극 지지체의 재료보다 열팽창 계수가 큰 제2 재료가 충전되거나 또는 상기 제1 재료 및 상기 제2 재료의 복합 재료가 충전되는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC.","윤성필, 임태훈, 남석우, 하흥용, 한종희, 김형준, 조은애, 이재영, 함형철","H01M-008/02,H01M-008/24",null,null,null,"2026.04.10","1 전극 채널 및 상기 전극에 접합되는 집전체를 포함하는 벌집형 SOFC로서, 상기 집전체가 접합된 전극 채널 내에는 각 전극 분위기에서 산화물 형성이 가능한 재료로서 상변화 시 밀도가 작아지는 제1 재료가 충전되거나 또는 상기 전극 지지체의 재료보다 열팽창 계수가 큰 제2 재료가 충전되거나 또는 상기 제1 재료 및 상기 제2 재료의 복합 재료가 충전되는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC. 2 제 1 항에 있어서, 상기 제1 재료 또는 제2 재료는 구형, 체인(chain)형 또는 휘스커(whisker)형 입자 분말인 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC. 3 제 1 항에 있어서, 상기 제1 재료 또는 제2 재료는 기공 형성제와 함께 혼합되어 충전되는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC. 4 제 1 항에 있어서, 상기 제1 재료는 산화물 형성시 밀도가 작아지는 금속인 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC. 5 제 1 항에 있어서, 상기 제1 재료는 Cr, Fe, Co, Ni, Cu 및 Zn으로 구성된 그룹으로부터 선택되는 하나 이상의 금속인 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC. 6 제 1 항에 있어서, 상기 제2 재료는, 상기 전극 지지체 재료가 YSZ(yttria-stabilized zirconia)인 경우, NiO, Fe2O3, CoO, CuO, ZnO 등으로 구성된 그룹으로부터 선택되는 하나 이상의 금속산화물인 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC. 7 제 1 항에 있어서, 상기 제2 재료는, 상기 전극 지지체 재료가 NiO 및 YSZ 또는 세리아(ceria)의 복합 재료인 경우, Pt; Ag; Au; Rh; Ir; Pd; Ru; x가 0.5 이하인 (La1-XSrX)MnO3; x가 0.5 이하인 (La1-XCarX)MnO3; x가 0.6 이하인 (La1-XSrX)CoO3; x가 0.4 이하 그리고 y가 0.8 이하인 (La1-XSrX)(Co1-yFey)O3;으로 구성된 그룹으로부터 선택되는 하나 이상의 금속 또는 산화물인 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC. 8 제 1 항에 있어서, 상기 제2 재료는 열팽창성 세라믹인 질석인 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC. 9 제 1 항에 있어서, 상기 집전체는 Pt, Ag, Au, Ni 또는 Cu이거나 또는 이들 금속의 합금인 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC. 10 전극 채널 및 상기 전극에 접합되는 집전체를 포함하는 벌집형 SOFC의 제조 방법으로서, 상기 전극 채널 내에 각 전극 분위기에서 산화물 형성이 가능한 재료로서 상변화 시 밀도가 작아지는 제1 재료를 충전하거나 또는 상기 전극 지지체의 재료보다 열팽창 계수가 큰 제2 재료를 충전하거나 또는 상기 제1 재료 및 상기 제2 재료의 복합 재료를 충전하는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC의 제조 방법. 11 제 10 항에 있어서, 상기 제1 재료 또는 제2 재료로서, 구형, 체인(chain)형 또는 휘스커(whisker)형 입자 분말을 사용하는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC의 제조 방법. 12 제 10 항에 있어서, 상기 제1 재료 또는 제2 재료를 기공형성제와 함께 혼합하여 충전하는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC의 제조 방법. 13 제 10 항에 있어서, 상기 제1 재료로서 산화물 형성시 밀도가 작아지는 금속을 사용하는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC의 제조 방법. 14 제 10 항에 있어서, 상기 제1 재료로서 Cr, Fe, Co, Ni, Cu 및 Zn으로 구성된 그룹으로부터 선택되는 하나 이상의 금속을 사용하는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC의 제조 방법. 15 제 10 항에 있어서, 상기 제2 재료로서, 상기 전극 지지체 재료가 YSZ(yttria-stabilized zirconia)인 경우, NiO, Fe2O3, CoO, CuO, ZnO 등으로 구성된 그룹으로부터 선택되는 하나 이상의 금속산화물을 사용하는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC의 제조 방법. 16 제 10 항에 있어서, 상기 제2 재료로서, 상기 전극 지지체 재료가 NiO 및 YSZ 또는 세리아(ceria)의 복합 재료인 경우, Pt; Ag; Au; Rh; Ir; Pd; Ru; x가 0.5 이하인 (La1-XSrX)MnO3; x가 0.5 이하인 (La1-XCarX)MnO3; x가 0.6 이하인 (La1-XSrX)CoO3; x가 0.4 이하 그리고 y가 0.8 이하인 (La1-XSrX)(Co1-yFey)O3;으로 구성된 그룹으로부터 선택되는 하나 이상의 금속 또는 산화물을 사용하는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC의 제조 방법. 17 제 10 항에 있어서, 상기 제2 재료로서 열팽창성 세라믹인 질석을 사용하는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC의 제조 방법. 18 제 10 항에 있어서, 상기 집전체로서 Pt, Ag, Au, Ni 또는 Cu를 사용하거나 또는 이들 금속의 합금을 사용하는 것을 특징으로 하는 벌집형 SOFC의 제조 방법.","KR100699074B1, US2009208814A1, WO2007117069A1",null,1]
["K03733","건강식품","KR","숙취 해소 및 항산화 활성을 가지는 개느삼 추출물{Extract of Echinosophora koreensis removing hangover and having anti-oxidant activity}",null,"원문이미지","KR20060034574A","2006.04.17","KR0768830B1","2007.10.15","본 발명은 물, 알코올 또는 이들의 혼합물로 추출되는 개느삼 추출물의 용도에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 개느삼 추출물은 알코올탈수소효소와 아세트알데히드탈수소 효소의 활성을 증가시켜 생체 내 알코올 대사를 촉진하여 혈중 알코올 농도와 아세트알데히드 농도를 감소시키므로 숙취 해소제로 사용될 수 있으며, 또한, 라디칼 소거 능력을 보여 항산화제로 사용될 수 있다. 본 발명의 개느삼 추출물은 시중에 판매되고 있는 숙취해소용 음료보다 효율적으로 숙취 제거를 할 수 있으며, 효과적인 라디칼 소거에 의해 항산화 활성제로서 부작용 없이 유용하게 사용할 수 있다.","1 개느삼(Echinosophora koreensis)을 물, C1 내지 C3의 저급 알코올 또는 이들의 혼합용매로 추출하여 획득되는 개느삼 추출물을 유효성분으로 포함하는 숙취해소용 조성물.","양현옥, 문길주, 이샛별, 김수남, 차광현, 남춘우, 유기억, 김원배","A23L-001/30,A23L-001/29,A23L-002/38",null,null,null,"2026.04.17","1 개느삼(Echinosophora koreensis)을 물, C1 내지 C3의 저급 알코올 또는 이들의 혼합용매로 추출하여 획득되는 개느삼 추출물을 유효성분으로 포함하는 숙취해소용 조성물. 2 제 1항에 있어서, 상기 저급 알코올은 메탄올 또는 에탄올이고, 2 ~ 4 시간 동안 환류 추출하는 것을 특징으로 하는 조성물. 3 제 1항에 있어서, 상기 혼합용매를 구성하는 물 및 저급 알코올의 혼합비는 2 : 8인 것을 특징으로 하는 조성물. 4 제 1항에 있어서, 알코올탈수소효소의 활성 증대를 통해 숙취를 해소하는 것을 특징으로 하는 조성물. 5 제 1항에 있어서, 아세트알데히드탈수소효소의 활성 증대를 통해 숙취를 해소하는 것을 특징으로 하는 조성물. 6<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 7<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 8<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 9<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 10 제 1항의 개느삼 추출물을 유효성분으로 포함하는 숙취 해소용 건강식품. 11<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100768830B1, WO2007120007A1",null,1]
["K03728","화학","KR","(2-시클로펜테닐)클로로실란 유도체와 이의 제조방법{(2-Cyclopentenyl)chlorosilanes and their preparation methods}",null,"원문이미지","KR20060014587A","2006.02.15","KR0744823B1","2007.07.25","본 발명은 (2-시클로펜테닐)클로로실란 유도체와 이의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 공업적으로 얻어지는 저가의 디시클로펜타디엔과 규소-수소 결합을 가지는 실란화합물을 특정 비점 범위의 탄화수소 화합물 존재하에 가열반응시킴으로써, 종래의 제법에서 사용했던 실온에서 불안정한 시클로펜타디엔 대신에 저가의 디시클로펜타디엔을 사용하고 공업적으로 생산되는 유기실란 화합물을 사용하는 전체적으로 경제적인 공정으로 구성되며, 상기한 탄화수소 화합물 사용으로 디시클로펜타디엔이 중합체를 형성하는 문제점을 해결할 수 있고, 여기에 촉매로서 10족 금속화합물을 사용할 경우에는 입체장애가 큰 알킬디클로로실란을 낮은 온도에서 합성할 수 있어 불포화 고리형 화합물인 시클로펜테닐기를 함유하는 유기실란을 선택적으로 제조할 수 있으므로, 불포화기를 함유하는 유기규소화합물 합성 및 이들을 이용한 기능성 실리콘 고분자를 산업적으로 생산하거나 표면개질이나 박막을 만드는 데 유용하게 사용되어질 수 있는 (2-시클로펜테닐)클로로실란 유도체와 이의 제조방법에 관한 것이다.","1 다음 화학식 1로 표시되는 신규 시클로펜테닐클로로실란 유도체; [화학식 1] 상기 화학식 1에서, R1는 수소원자, 탄소수 2 ∼ 6 범위의 알킬기, 탄소수 4 ∼ 7 범위의 시클로알킬기, 및 페닐기 중에서 선택된다.","유복렬, 한준수, 임원철","C07F-007/12,C07F-007/14",null,null,null,"2026.02.15","1 다음 화학식 1로 표시되는 신규 시클로펜테닐클로로실란 유도체; [화학식 1] 상기 화학식 1에서, R1는 수소원자, 탄소수 2 ∼ 6 범위의 알킬기, 탄소수 4 ∼ 7 범위의 시클로알킬기, 및 페닐기 중에서 선택된다. 2 무촉매 조건하에서 그리고 비점 30 ∼ 400 ℃ 범위의 탄화수소 화합물 1 종 또는 2 종 이상의 혼합물이 존재하는 조건하에서, 디시클로펜타디엔과 다음 화학식 2로 표시되는 유기실란 화합물을 가열반응시켜 다음 화학식 1로 표시되는 시클로펜테닐클로로실란 유도체를 제조하는 것을 특징으로 하는 시클로펜테닐클로로실란 유도체의 제조방법; [화학식 1] [화학식 2] 상기 화학식 1 또는 2에서, R1는 수소원자, 할로겐원자, 탄소수 1 ∼ 6 범위의 알킬기, 탄소수 4 ∼ 7 범위의 시클로알킬기, 및 페닐기 중에서 선택된다. 3 제 2 항에 있어서, 상기 가열반응이 150 ∼ 350 ℃ 범위에서 수행되는 것을 특징으로 하는 시클로펜테닐클로로실란 유도체의 제조방법. 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5 제 2 항에 있어서, 상기 탄화수소 화합물은 탄소수 5 ∼ 20 범위의 지방족 탄화수소; 탄소수 6 ∼ 12 범위의 방향족 탄화수소; 페닐기가 치환된 탄소수 1 ∼ 5 범위의 지방족 탄화수소; 탄소수 1 ∼ 5 범위의 알킬기가 치환된 방향족 탄화수소; 탄소수 1 ∼ 5 범위의 알킬기가 치환된 비페닐; 탄소수 1 ∼ 5 범위의 알킬기가 치환된 트리페닐; 및 탄소수 1 ∼ 5 범위의 알킬기가 치환된 나프탈렌 중에서 선택 사용하는 것을 특징으로 하는 시클로펜테닐클로로실란 유도체의 제조방법. 6 제 2 항에 있어서, 상기 탄화수소 화합물은 디시클로펜타디엔에 대하여 0.5 ∼ 30 부피비(vol/vol) 범위로 사용되는 것을 특징으로 하는 시클로펜테닐클로로실란 유도체의 제조방법. 7 10족 금속 촉매가 존재하는 조건하에서 그리고 비점 30 ∼ 400 ℃ 범위의 탄화수소 화합물 1 종 또는 2 종 이상의 혼합물이 존재하는 조건하에서, 디시클로펜타디엔과 다음 화학식 2로 표시되는 유기실란 화합물을 가열반응시켜 다음 화학식 1로 표시되는 시클로펜테닐클로로실란 유도체를 제조하는 것을 특징으로 하는 시클로펜테닐클로로실란 유도체의 제조방법; [화학식 1] [화학식 2] 상기 화학식 1 또는 2에서, R1는 수소원자, 할로겐원자, 탄소수 1 ∼ 6 범위의 알킬기, 탄소수 4 ∼ 7 범위의 시클로알킬기, 및 페닐기 중에서 선택된다.. 8 제 7 항에 있어서, 상기 촉매는 10족 금속원자, 10족 금속의 염화물, 및 10족 금속의 포스핀 화합물 중에서 선택된 것을 특징으로 하는 시클로펜테닐클로로실란 유도체의 제조방법. 9 제 8 항에 있어서, 상기 포스핀 화합물은 다음 화학식 3 또는 4로 표시되는 것을 특징으로 하는 시클로펜테닐클로로실란 유도체의 제조방법; [화학식 3] P(R2R3R4) 상기 화학식 3에서, R2, R3 및R4는탄소수 1 ∼ 12 범위의 알킬기, 페닐기, 또는 탄소수 1 ∼ 6 범위의 알킬기가 치환된 방향족기를 나타내고, 또한 R2,R3 및R4 중에서 선택된 2개의 기가 서로 공유결합으로 연결되어 5 ∼ 7각형의 환형 구조를 가질 수 있다 ; [화학식 4] (R2R3)P-Y-P(R4R5) 상기 화학식 4에서, Y는 탄소수 1 ∼ 12 범위의 알킬렌기, 방향족기, 또는 탄소수 1 ∼ 6 범위의 알킬기가 치환된 방향족기를 나타내며; R2,R3,R4 및 R5는탄소수 1 ∼ 12 범위의 알킬기, 페닐기, 또는 탄소수 1 ∼ 6 범위의 알킬기가 포함된 방향족기를 나타내고; R2,R3,R4 및 R5 중에서 선택된 2개의 기가 서로 공유결합으로 연결되어 5 ∼ 7각형의 환형 구조를 가질 수 있다. 10 제 7 항에 있어서, 상기 촉매는 무담지 촉매 또는 담지 촉매인 것을 특징으로 하는 시클로펜테닐클로로실란 유도체의 제조방법. 11 제 10 항에 있어서, 상기 담체는 실리콘 레진, 실리카, 제올라이트, 무기착제 및 유기 고분자 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 시클로펜테닐클로로실란 유도체의 제조방법. 12 제 7 항 또는 제 10 항에 있어서, 상기 촉매는 상기 화학식 2로 표시되는 유기실란 화합물에 대해 0.01 내지 10 몰% 범위로 사용하는 것을 특징으로 하는 시클로펜테닐클로로실란 유도체의 제조방법. 13 제 7 항에 있어서, 상기 가열반응이 150 ∼ 350 ℃ 범위에서 수행되는 것을 특징으로 하는 시클로펜테닐클로로실란 유도체의 제조방법. 14 제 7 항에 있어서, 상기 탄화수소 화합물은 탄소수 5 ∼ 20 범위의 지방족 탄화수소; 탄소수 6 ∼ 12 범위의 방향족 탄화수소; 페닐기가 치환된 탄소수 1 ∼ 5 범위의 지방족 탄화수소; 탄소수 1 ∼ 5 범위의 알킬기가 치환된 방향족 탄화수소; 탄소수 1 ∼ 5 범위의 알킬기가 치환된 비페닐; 탄소수 1 ∼ 5 범위의 알킬기가 치환된 트리페닐; 및 탄소수 1 ∼ 5 범위의 알킬기가 치환된 나프탈렌 중에서 선택 사용하는 것을 특징으로 하는 시클로펜테닐클로로실란 유도체의 제조방법. 15 제 14 항에 있어서, 상기 탄화수소 화합물은 디시클로펜타디엔에 대하여 0.5 ∼ 30 부피비(vol/vol) 범위로 사용되는 것을 특징으로 하는 시클로펜테닐클로로실란 유도체의 제조방법.","JP2007217400A, KR100744823B1, US2007191622A1, US7314946B2",null,1]
["K03721","기계","KR","컨벡션 오븐{CONVECTION OVEN}",null,"원문이미지","KR20060012243A","2006.02.08","KR0727480B1","2007.06.05","본원발명은 컨벡션 오븐에 관한 것으로, 열원에 의해 가열되는 가열실을 갖는 오븐바디와; 오븐바디의 일측에 장착되어 가열실 내의 가열된 공기가 고르게 분포되도록 공기를 진동시키는 진동부를 포함하는 컨벡션 오븐을 개시한다. 이에 의하여, 진동부에 의하여 가열실 내부의 공기에 시간주기적인 요동을 주어서 가열된 고온의 공기와 덜 가열된 저온의 공기 사이의 혼합을 촉진하여 온도를 균일하게 할 수 있다. 따라서, 조리 대상물이나 재료에 균일한 열 분배가 가능해지므로 조리의 질을 향상될 뿐만 아니라 조리 시간을 단축하여 오븐의 성능 향상에 기여하는 효과가 있다","1 열원에 의해 가열되는 가열실을 가지며 일측면에 공기가 유동할 수 있도록 다수의 에어홀이 형성된 오븐바디; 상기 오븐바디에 장착되어 상기 가열실 내의 가열된 공기를 상기 에어홀을 통하여 유출입시켜 상기 가열실 내의 공기를 진동시키는 진동부; 및 상기 진동부의 주위에 상기 진동부의 진동시 상기 진동부의 안쪽에 배치되는 에어홀의 공기유동과 상기 진동부의 바깥쪽에 배치되는 에어홀의 공기유동이 서로 반대되게 일어나도록 상기 진동부의 주위를 감쌀 수 있게 설치되는 커버가 구비된 것을 특징으로 하는 컨벡션 오븐.","김서영, 지태호","F24C-007/00",null,null,null,"2026.02.08","1 열원에 의해 가열되는 가열실을 가지며 일측면에 공기가 유동할 수 있도록 다수의 에어홀이 형성된 오븐바디; 상기 오븐바디에 장착되어 상기 가열실 내의 가열된 공기를 상기 에어홀을 통하여 유출입시켜 상기 가열실 내의 공기를 진동시키는 진동부; 및 상기 진동부의 주위에 상기 진동부의 진동시 상기 진동부의 안쪽에 배치되는 에어홀의 공기유동과 상기 진동부의 바깥쪽에 배치되는 에어홀의 공기유동이 서로 반대되게 일어나도록 상기 진동부의 주위를 감쌀 수 있게 설치되는 커버가 구비된 것을 특징으로 하는 컨벡션 오븐. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3 제1항에 있어서, 상기 진동부는, 상기 가열실을 향하게 설치되어 가열된 공기에 파동(wave)을 발생시키는 진동판과; 상기 진동판을 구동하는 액츄에이터로 구성되는 것을 특징으로 하는 컨벡션 오븐. 4 제3항에 있어서, 상기 액츄에이터는, 상기 진동판에 고정되는 보이스 코일과; 상기 보이스 코일과 일정거리로 이격되게 설치되어 상기 보이스 코일에 자기적인 힘을 가하는 고정 마그넷으로 구성되는 것을 특징으로 하는 컨벡션 오븐. 5 제3항에 있어서, 상기 진동판은 콘(cone) 형태로 형성된 것을 특징으로 하는 컨벡션 오븐. 6<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 7 제3항에 있어서, 상기 오븐바디에는 가열된 공기를 강제로 대류시키는 팬이 더 구비된 것을 특징으로 하는 컨벡션 오븐.","KR100727480B1, US2007181558A1, US7288743B1","K",2]
["F02308","기계","US","Convection oven",null,"원문이미지","US11/533511","2006.09.20","US7288743","2007.10.30","A convection oven includes an oven body having a heating chamber heated by a heat source, and a vibration unit mounted at one side of the oven body and vibrating heated air so as to be uniformly distributed within the heating chamber. As the vibration unit vibrates, air within the heating chamber can be fluctuated periodically to promote mixing between more heated air and less heated air to make temperature of air uniform. Accordingly, heat can be uniformly distributed to a cooking target or material, quality of cooking can be improved, and in addition, because cooking time can be shortened, the performance of the oven can be enhanced.","1. A convection oven comprising: an oven body having a heating chamber heated by a heat source; and a vibration unit mounted at one side of the oven body and vibrating heated air so as to be uniformly distributed within the heating chamber.","Kim; Seo-Young, Ji; Tae-Ho","A21B-001/00","US20070181558A1","2007.08.09","2006.02.08 (KR 10-2006-0012243)","2026.09.20","1. A convection oven comprising: an oven body having a heating chamber heated by a heat source; and a vibration unit mounted at one side of the oven body and vibrating heated air so as to be uniformly distributed within the heating chamber. 2. The oven of claim 1, wherein a plurality of air holes are formed at the side of the oven body to allow heated air within the heating chamber to flow in and out therethrough according to vibration of the vibration unit. 3. The oven of claim 1, wherein the vibration unit comprises: a vibration plate installed to face the heating chamber and generating waves of heated air; and an actuator for driving the vibration plate. 4. The oven of claim 3, wherein the actuator comprises: a voice coil fixed at the vibration plate; and a fixed magnet installed to be separated from the voice coil at a certain distance and applying a magnetic force to the voice coil. 5. The oven of claim 3, wherein the vibration plate has a corn shape. 6. The oven of claim 3, wherein the vibration unit further comprises a cover for covering the periphery of the vibration plate so that when the vibration plate vibrates, an air flow that passes through the air holes disposed at the inner side of the vibration plate and an air flow that passes through the air holes disposed at the outer side of the vibration plate are opposed to each other. 7. The oven of claim 3, wherein the oven body further comprises a fan for forcibly convect heated air.","KR100727480B1, US2007181558A1, US7288743B1","K",2]
["K03726","연료전지","KR","피에이치 값을 이용하여 실시간으로 포름산 농도 측정 및 제어를 수행하는 직접 포름산 연료전지 및 그 운전 방법{Direct formic acid fuel cell carrying out real time evaluation and control of formic acid using pH value}",null,"원문이미지","KR20060018927A","2006.02.27","KR0749909B1","2007.08.09","본 발명에서는 직접 포름산 연료전지에 있어서, 애노드, 고분자 전해질막 및 캐소드로 이루어지는 단위 전지 또는 상기 단위 전지의 스택; 상기 단위 전지의 애노드에 연료인 포름산을 공급하는 포름산 공급부; 상기 단위 전지의 캐소드에 공기 또는 산소를 공급하는 공기 또는 산소 공급부; 상기 포름산 공급부에 연결되고 애노드로 제공될 포름산의 일부를 해리시켜 생성된 수소 이온의 pH 값을 실시간으로 측정하는 pH 측정기; 및 상기 pH 측정기로부터의 측정된 pH 값을 수신하고, 이를 미리 설정된 pH 값의 범위와 대비하여, 상기 측정된 pH 값이 상기 설정된 pH 값의 범위를 벗어나지 않도록, 상기 pH 측정기의 실시간 측정에 대응하여, 애노드로 제공될 포름산의 농도를 실시간으로 제어하는 제어부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 포름산 연료전지 및 그 운전방법이 제공된다. 본 발명에서 사용되는 포름산 농도 측정용 마이크로 pH 측정기는 강산에 내구성을 지니고 있으며 온도변화 및 농도변화에 95% 이상의 신뢰성을 가진다. 또한, 이를 이용하여 포름산의 수소 이온의 pH 값을 실시간으로 측정하고 측정된 pH 값을 바탕으로 애노드로 제공되는 포름산의 농도를 실시간으로 제어하는 구성에 의하여, 직접 포름산 연료전지의 성능을 일정하게 유지할 수 있다.","1 직접 포름산 연료전지에 있어서, 애노드, 고분자 전해질막 및 캐소드로 이루어지는 단위 전지 또는 상기 단위 전지의 스택; 상기 단위 전지의 애노드에 연료인 포름산을 공급하는 포름산 공급부; 상기 단위 전지의 캐소드에 공기 또는 산소를 공급하는 공기 또는 산소 공급부; 상기 포름산 공급부에 연결되고 애노드로 제공될 포름산의 일부를 해리시켜 생성된 수소 이온의 pH 값을 실시간으로 측정하는 pH 측정기; 및 상기 pH 측정기로부터의 측정된 pH 값을 수신하고, 이를 미리 설정된 pH 값의 범위와 대비하여, 상기 측정된 pH 값이 상기 설정된 pH 값의 범위를 벗어나지 않도록, 상기 pH 측정기의 실시간 측정에 대응하여, 애노드로 제공될 포름산의 농도를 실시간으로 제어하는 제어부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 포름산 연료전지.","이재영, 한종희, 임태훈, 남석우, 홍성안, 오인환, 윤성필, 김형준, 조은애, 함형철, 이광수, 하흥용","G01N-033/22,G01N-031/00,G01N-031/10,G01N-031/16",null,null,null,"2026.02.27","1 직접 포름산 연료전지에 있어서, 애노드, 고분자 전해질막 및 캐소드로 이루어지는 단위 전지 또는 상기 단위 전지의 스택; 상기 단위 전지의 애노드에 연료인 포름산을 공급하는 포름산 공급부; 상기 단위 전지의 캐소드에 공기 또는 산소를 공급하는 공기 또는 산소 공급부; 상기 포름산 공급부에 연결되고 애노드로 제공될 포름산의 일부를 해리시켜 생성된 수소 이온의 pH 값을 실시간으로 측정하는 pH 측정기; 및 상기 pH 측정기로부터의 측정된 pH 값을 수신하고, 이를 미리 설정된 pH 값의 범위와 대비하여, 상기 측정된 pH 값이 상기 설정된 pH 값의 범위를 벗어나지 않도록, 상기 pH 측정기의 실시간 측정에 대응하여, 애노드로 제공될 포름산의 농도를 실시간으로 제어하는 제어부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 포름산 연료전지. 2 제 1 항에 있어서, 상기 포름산 공급부는, 순수 포름산 저장부; 캐소드로부터 배출된 물 또는 별도의 물 공급부로터의 물이 공급되고, 상기 순수 포름산 저장부와 연결되며 농도가 조절된 포름산을 저장하는 적정 농도 포름산 저장부; 상기 제어부의 제어 신호에 따라 상기 순수 포름산 저장부로부터 상기 적정 농도 포름산 저장부로 순수 포름산을 공급하도록 개폐되는 밸브; 및 상기 적정 농도 포름산 저장부로부터 애노드로 적정 농도의 포름산을 공급하는 펌프;를 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 포름산 연료전지. 3 제 2 항에 있어서, 상기 적정 농도 포름산 저장부에 애노드로부터 배출된 포름산이 공급되는 것을 특징으로 하는 직접 포름산 연료전지. 4 제 1 항에 있어서, 상기 포름산 공급부는, 순수 포름산 저장부; 캐소드로부터 배출된 물 또는 별도의 물 공급부로터 공급된 물이 저장되는 물 저장부; 상기 순수 포름산 저장부로부터 공급된 순수 포름산 및 상기 물 저장부로부터 공급된 물을 혼합하여 적정 농도의 포름산을 제공하는 혼합기; 상기 제어부의 제어 신호에 따라서, 상기 물 저장부로부터 상기 혼합기로 물을 공급하는 펌프; 상기 제어부의 제어 신호에 따라서, 상기 순수 포름산 저장부로부터 순수 포름산을 상기 혼합기로 공급하는 펌프; 및 상기 혼합기로부터 애노드로 적정 농도의 포름산을 공급하는 펌프로 구성되는 것을 특징으로 하는 직접 포름산 연료전지. 5 제 4 항에 있어서, 상기 혼합기에 애노드로부터 배출된 포름산이 공급되어 함께 혼합되는 것을 특징으로 하는 직접 포름산 연료전지. 6 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 pH 측정기의 참조 전극이 칼로멜 전극, Ag/AgCl로 이루어진 전극 또는 Hg/Hg2SO4로 이루어진 전극이며, 상기 pH 측정기의 본체 전극이 불소수지 및 에폭시로 이루어진 전극인 것을 특징으로 하는 직접 포름산 연료전지. 7 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 pH 측정기의 외부 덮개가 폴리프로필렌(PP), 폴리비닐클로라이드(PVC), 폴리페닐렌설파이드(PPS), 탄소, 폴리테트라플루오르에틸렌(PFTE), 에틸렌-프로필렌-디엔-터폴리머(EPDM), 알루미나, 니켈, SUS 316 또는 유리로 제조된 것을 특징으로 하는 직접 포름산 연료전지. 8 직접 포름산 연료전지의 운전 방법에 있어서, 애노드로 제공될 포름산의 일부를 애노드로 제공되기 전 해리시켜 생성된 수소이온의 pH 값을 실시간으로 측정하는 단계(S1); 및 상기 측정된 pH 값을 설정된 pH 값의 범위와 대비하여, 상기 측정된 pH 값이 상기 설정된 pH 값의 범위를 벗어나지 않도록, 애노드로 제공될 포름산의 농도를 상기 pH의 실시간 측정에 대응하여 실시간으로 조절한 상태에서, 포름산을 애노드로 제공하는 단계(S2);를 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 포름산 연료전지의 운전 방법. 9 제 8 항에 있어서, 상기 방법은, 포름산 농도 변화에 대응하여 95% 이상의 신뢰성을 가지도록 pH를 측정하되, 상기 포름산의 농도 변화 시 상기 측정된 pH 값이 5 내지 10초 내에 일정한 값으로 안정되도록 측정을 수행하는 것을 특징으로 하는 직접 포름산 연료전지의 운전 방법. 10 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서, 상기 방법은, 상기 pH의 설정된 범위를 pH 1.34 ~ 0.42로 하는 것을 특징으로 하는 직접 포름산 연료전지의 운전 방법.","JP2007234576A, KR100749909B1, KR100699073B1, US2007202369A1, US2011217614A1",null,1]
["K03717","광학","KR","연속 파형 초광대역 레이저 광원 공진기 및 이를 이용한 의료용 진단기기{Continnuous Wave Supercontinuum Laser Source Resonator and Medical diagnostic Apparatus using the same}",null,"원문이미지","KR20060003011A","2006.01.11","KR0749910B1","2007.08.09","저가형 멀티모드 반도체 레이저를 펌핑광으로 사용하며, 희토류 첨가 광섬유와 고비선형 광섬유를 링 공진기 구조에 적용함으로서 연속 파형 초광대역 광원을 구현할 수 있는 연속 파형 초광대역 레이저 광원 공진기 및 이를 이용한 의료용 진단기기에 관하여 개시한다. 본 발명은 펌핑광을 공진기 내로 입력하는 펌핑광 결합기와 상기 펌핑광을 받아 소정 파장 대역의 시드 빛으로 변환하는 희토류 첨가 광섬유와 상기 희토류 첨가 광섬유에 의해 변환되어 공진기 내에서 오실레이션되는 빛을 연속 파형 초광대역의 레이저 광원으로 변환시키는 고비선형 광섬유 및 상기 고비선형 광섬유에서 발생되는 초광대역의 레이저 광원을 출력하는 커플러를 포함하여 형성되는 연속 파형 초광대역 레이저 광원 공진기로 구성된다. 따라서, 간단하고 저가형이면서도 연속 파형의 초광대역 레이저 광원을 구현할 수 있다.","1 펌핑광을 고리형 광섬유 공진기 내로 입력하는 펌핑광 결합기; 상기 펌핑광을 받아 소정 파장 대역의 시드 빛으로 변환하는 희토류 첨가 광섬유; 상기 펌핑광 결합기와 상기 희토류 첨가 광섬유 사이에 형성되어 상기 시드 빛이 상기 고리형 광섬유 공진기 내에서 방향성을 가지고 오실레이션되도록 하는 아이솔레이터; 상기 희토류 첨가 광섬유와 상기 아이솔레이터 사이에 형성되어 상기 고리형 광섬유 공진기 내에서 오실레이션 되는 빛을 연속 파형 초광대역의 레이저 광원으로 변환시키는 고비선형 광섬유; 및 상기 고비선형 광섬유에서 발생되는 초광대역 레이저 광원을 출력시키는 커플러를 포함하는 연속 파형 초광대역 레이저 광원 공진기.","이주한, 한영근, 이상배, 김창석","H01S-003/10,H01S-003/067","KR20070074900A","2007.07.18",null,"2026.01.11","1 펌핑광을 고리형 광섬유 공진기 내로 입력하는 펌핑광 결합기; 상기 펌핑광을 받아 소정 파장 대역의 시드 빛으로 변환하는 희토류 첨가 광섬유; 상기 펌핑광 결합기와 상기 희토류 첨가 광섬유 사이에 형성되어 상기 시드 빛이 상기 고리형 광섬유 공진기 내에서 방향성을 가지고 오실레이션되도록 하는 아이솔레이터; 상기 희토류 첨가 광섬유와 상기 아이솔레이터 사이에 형성되어 상기 고리형 광섬유 공진기 내에서 오실레이션 되는 빛을 연속 파형 초광대역의 레이저 광원으로 변환시키는 고비선형 광섬유; 및 상기 고비선형 광섬유에서 발생되는 초광대역 레이저 광원을 출력시키는 커플러를 포함하는 연속 파형 초광대역 레이저 광원 공진기. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3 제 1 항에 있어서, 상기 연속 파형 초광대역 레이저 광원 공진기는, 상기 펌핑광 결합기에 연결된 미러를 더 포함하여 형성되는 패브리페로(Fabry-Perot)형 공진기인 것을 특징으로 하는 연속 파형 초광대역 레이저 광원 공진기. 4 제 1 항 또는 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 희토류 첨가 광섬유는 더블 클래드 섬유(Double Clad Fiber)구조 또는 싱글 클래드 섬유(Single Clad Fiber) 구조인 것을 특징으로 하는 연속 파형 초광대역 레이저 광원 공진기. 5 제 4 항에 있어서, 상기 희토류 첨가 광섬유로 입사되는 펌핑광은 멀티모드 레이저 다이오드(multimode laser diodes) 또는 싱글모드 레이저 다이오드(singlemode laser diode)에서 펌핑되는 광인 것을 특징으로 하는 연속 파형 초광대역 레이저 광원 공진기. 6 제 1 항 또는 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 고비선형 광섬유는 실리카 기반 작은 코아 스텝 인텍스 타입 비선형 광섬유, 실리카 기반의 포토닉 크리스탈 광섬유, 비스무쓰 기반 스텝 인텍스 타입 광섬유, 비스무쓰 기반의 포토닉 크리스탈 광섬유, 찰코지나이드 기반 스텝 인텍스 타입 광섬유, 찰코지나이드 기반 포토닉 크리스탈 광섬유, 텔루라이트 기반 스텝 인텍스 타입 광섬유 또는 텔루라이트 기반 포토닉 크리스탈 광섬유 중 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 연속 파형 초광대역 레이저 광원 공진기. 7 펌핑광을 고리형 광섬유 공진기 내로 입력하는 펌핑광 결합기; 상기 펌핑광을 받아 소정 파장 대역의 시드 빛으로 변환하는 희토류 첨가 광섬유; 상기 펌핑광 결합기와 상기 희토류 첨가 광섬유 사이에 형성되어 상기 시드 빛이 상기 고리형 광섬유 공진기 내에서 방향성을 가지고 오실레이션되도록 하는 아이솔레이터; 상기 희토류 첨가 광섬유와 상기 아이솔레이터 사이에 형성되어 상기 고리형 광섬유 공진기 내에서 오실레이션 되는 빛을 연속 파형 초광대역의 레이저 광원으로 변환시키는 고비선형 광섬유; 및 상기 고비선형 광섬유에서 발생되는 초광대역 레이저 광원을 출력시키는 커플러를 포함하여 형성되는 연속 파형 초광대역 레이저 광원 공진기를 포함하는 의료용 진단 기기. 8 제 7 항에 있어서, 상기 희토류 첨가 광섬유는 더블 클래드 섬유(Double Clad Fiber)구조 또는 싱글 클래드 섬유(Single Clad Fiber) 구조인 것을 특징으로 하는 의료용 진단 기기. 9 제 8 항에 있어서, 상기 희토류 첨가 광섬유로 입사되는 펌핑광은 멀티모드 레이저 다이오드(multimode laser diodes) 또는 싱글모드 레이저 다이오드(singlemode laser diode)에서 펌핑되는 광인 것을 특징으로 하는 의료용 진단 기기. 10 제 7 항에 있어서, 상기 고비선형 광섬유는 실리카 기반 작은 코아 스텝 인텍스 타입 비선형 광섬유, 실리카 기반의 포토닉 크리스탈 광섬유, 비스무쓰 기반 스텝 인텍스 타입 광섬유, 비스무쓰 기반의 포토닉 크리스탈 광섬유, 찰코지나이드 기반 스텝 인텍스 타입 광섬유, 찰코지나이드 기반 포토닉 크리스탈 광섬유, 텔루라이트 기반 스텝 인텍스 타입 광섬유 또는 텔루라이트 기반 포토닉 크리스탈 광섬유 중 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 의료용 진단 기기.","JP2007189190A, KR100749910B1, KR20070074900A, US2007160091A1",null,1]
["K03691","화학","KR","소목으로부터 브라질레인의 대량 제조 방법{A mass production method of brazilein from Caesalpinia sappan L.}",null,"원문이미지","KR20050120665A","2005.12.09","KR0742265B1","2007.07.18","본 발명은 소목으로부터 브라질레인의 대량 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 1) 물, 알콜 또는 이의 혼합물을 이용하여 소목으로부터 추출물을 획득하는 단계; 2) 단계 1)의 추출물을 농축하여 조결정체를 획득하는 단계; 3) 단계 2)의 조결정체를 알콜로 용해하는 단계; 4) 단계 3)의 용액을 농축하는 단계; 및 5) 단계 4)의 농축액을 재결정화시키는 단계를 포함하는 소목으로부터 브라질레인의 대량 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 소목으로부터 브라질레인의 대량 분리 방법은 기존의 분리 과정에서 필수적으로 실시되는 컬럼 크로마토그래피 과정을 거치지 않고도 고순도의 브라질레인을 대량으로 분리할 수 있으며, 또한 컬럼 크로마토그래피 과정에 필요한 컬럼 크로마토그래피, 초임계 추출기, HPLC 등 고가의 장비가 필요하지 않아 브라질레인을 대량으로 분리하기에 효율적이므로, 브라질레인의 상업적 생산을 가능하게 한다.","1 1) 물, 알콜 또는 이의 혼합물을 이용하여 소목으로부터 추출물을 획득하는 단계; 2) 단계 1)의 추출물을 농축하여 조결정체를 획득하는 단계; 3) 단계 2)의 조결정체를 알콜로 용해하는 단계; 4) 단계 3)의 용액을 워터배스(water bath)의 온도 30 ℃ ~ 40 ℃, 회전속도 40 rpm ~ 180 rpm의 조건하에서 1/3 ~ 1/30의 양으로 농축하는 단계; 및 5) 단계 4)의 농축액을 15 ℃ ~ 30 ℃의 조건하에서 6 ~ 72 시간 동안 방치하여 증발시킴으로써 재결정화시키는 단계를 포함하는 소목으로부터 브라질레인의 대량 제조 방법.","양현옥, 최연희","C07D-311/78,A61K-036/48","KR20070060714A","2007.06.13",null,"2025.12.09","1 1) 물, 알콜 또는 이의 혼합물을 이용하여 소목으로부터 추출물을 획득하는 단계; 2) 단계 1)의 추출물을 농축하여 조결정체를 획득하는 단계; 3) 단계 2)의 조결정체를 알콜로 용해하는 단계; 4) 단계 3)의 용액을 워터배스(water bath)의 온도 30 ℃ ~ 40 ℃, 회전속도 40 rpm ~ 180 rpm의 조건하에서 1/3 ~ 1/30의 양으로 농축하는 단계; 및 5) 단계 4)의 농축액을 15 ℃ ~ 30 ℃의 조건하에서 6 ~ 72 시간 동안 방치하여 증발시킴으로써 재결정화시키는 단계를 포함하는 소목으로부터 브라질레인의 대량 제조 방법. 2 제 1항에 있어서, 단계 1) 및 단계 3)의 알콜은 C1 내지 C3의 저급 알콜인 것을 특징으로 하는 브라질레인의 대량 제조 방법. 3 제 2항에 있어서, 알콜은 메탄올인 것을 특징으로 하는 브라질레인의 대량 제조 방법. 4 제 1항에 있어서, 단계 3)의 알콜은 40 ℃ ~ 64 ℃ 인 것을 특징으로 하는 브라질레인의 대량 제조 방법. 5 제 1항에 있어서, 단계 4)의 농축은 1/10 ~ 1/20의 양으로 농축하는 것을 특징으로 하는 브라질레인의 대량 제조 방법. 6 제 1항에 있어서, 단계 5)의 재결정화는 단계 4)의 농축액을 20 ~ 28 시간 동안 증발시키는 것을 특징으로 하는 브라질레인의 대량 제조 방법. 7 제 1항에 있어서, 단계 3)의 용해는 조결정체 : 알콜의 비가 1g: 0.1~1L의 비율로 용해하는 것을 특징으로 하는 브라질레인의 대량 제조 방법. 8 제 1항에 있어서, 단계 5)의 재결정화는 단계 4)의 용액을 20 ℃ ~ 27 ℃에 방치하여 증발시키는 것을 특징으로 하는 브라질레인의 대량 제조 방법. 9 제 8항에 있어서, 재결정화는 25 ℃에 방치하여 증발시키는 것을 특징으로 하는 브라질레인의 대량 제조 방법.","KR100742265B1, KR20070060714A, WO2007066926A1",null,1]
["K03692","의료","KR","소목 추출물 및 이로부터 분리된 화합물의 용도{Use of the extract of Caesalpinia sappan L. and compounds therefrom}",null,"원문이미지","KR20050120666A","2005.12.09","KR0750657B1","2007.08.13","본 발명은 혈관신생(angiogenesis) 억제 활성을 가지는 소목 추출물 및 이로부터 분리된 화합물의 용도에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 물, 알콜 또는 이들의 혼합물로 추출되는 추출물, 상기 추출물로부터 분리한 브라질린, 사판칼콘, 브라질레인의 혈관신생 억제 용도에 관한 것이다. 본 발명의 소목 추출물 및 이로부터 분리된 화합물은 혈관신생을 억제하는 활성을 가지므로, 혈관 질환, 심혈관계 질환, 안과 질환, 만성 염증성 질환, 피부과 질환, 알츠하이머, 비만 및 암 등의 혈관 신생 관련 질환의 예방 또는 치료에 유용하게 사용될 수 있다.","3 브라질린 또는 그의 약학적으로 허용되는 염을 포함하는 혈관신생 억제제.","양현옥, 김민영, 권영근, 최연희","A61K-036/48,A61P-035/00","KR20070060715A","2007.06.13",null,"2025.12.09","1<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3 브라질린 또는 그의 약학적으로 허용되는 염을 포함하는 혈관신생 억제제. 4 사판칼콘 또는 그의 약학적으로 허용되는 염을 포함하는 혈관신생 억제제. 5 브라질레인 또는 그의 약학적으로 허용되는 염을 포함하는 혈관신생 억제제. 6 제 3항 내지 제 5항 중 어느 한 항의 화합물을 유효성분으로 포함하는 혈관신생 관련의, 혈관 질환, 심혈관계 질환, 안과 질환, 만성 염증성 질환, 피부과 질환, 알츠하이머, 비만 또는 암 질환의 예방 또는 치료용 조성물. 7 제 6항에 있어서, 혈관 질환은 혈관종, 혈관섬유종, 혈관기형으로 구성되는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 질환의 예방 또는 치료용 조성물. 8 제 6항에 있어서, 심혈관계 질환은 동맥경화, 혈관유착, 부종성 경화증으로 구성되는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 질환의 예방 또는 치료용 조성물. 9 제 6항에 있어서, 안과 질환은 각막이식성 혈관신생, 혈관신생성 녹내장, 당뇨병성 망막증, 신생혈관에 의한 각막 질환, 반점의 변성, 익상편, 망막 변성, 후수정체 섬유 증식증, 과립성 결막염으로 구성되는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 질환의 예방 또는 치료용 조성물. 10 제 6항에 있어서, 만성 염증성 질환은 관절염인 것을 특징으로 하는 질환의 예방 또는 치료용 조성물. 11 제 6항에 있어서, 피부과 질환은 건선, 모세관 확장증, 화농성 육아종, 지루성 피부염, 여드름으로 구성되는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 질환의 예방 또는 치료용 조성물. 12 제 6항에 있어서, 암은 폐암, 비소세포성폐암, 간암, 결장암, 골암, 췌장암, 피부암, 두부 또는 경부 암, 피부 또는 안구내 흑색종, 자궁암, 난소암, 직장암, 위암, 항문부근암, 결장암, 유방암, 나팔관암종, 자궁내막암종, 자궁경부암종, 질암종, 음문암종, 호지킨병(Hodgkin's disease), 식도암, 소장암, 내분비선암, 갑상선암, 부갑상선암, 부신암, 연조직 육종, 요도암, 음경암, 전립선암, 방광암, 신장 또는 수뇨관 암, 신장세포 암종, 신장골반 암종, 중추신경계(CNS: central nervous system) 종양, 1차 CNS 림프종, 척수 종양, 뇌간 신경교종, 뇌하수체 선종으로 구성되는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 질환의 예방 또는 치료용 조성물. 13 제 3항 내지 제 5항 중 어느 한 항의 화합물을 유효성분으로 포함하는 혈관신생 관련의, 혈관 질환, 심혈관계 질환, 안과 질환, 만성 염증성 질환, 피부과 질환, 알츠하이머, 비만 또는 암 질환의 예방 또는 개선용 건강 기능 식품.","KR100750657B1, KR20070060715A, WO2007066928A1",null,1]
["K03697","기계","KR","지하수를 이용한 히트펌프 시스템{HEAT PUMP SYSTEM USING GROUND WATER}",null,"원문이미지","KR20060002148A","2006.01.09","KR0670082B1","2007.01.10","본 발명은 기존의 취수정과 주입정을 하나의 정(井)으로 통합하여 시공을 단순화한 지하수를 이용한 히트펌프 시스템에 관한 것이다. 본 발명의 히트펌프 시스템은 히트펌프; 지중으로 시추되어 형성되고 지하수를 수용하는 정; 유입단을 가지고, 정 내의 지하수를 히트펌프로 공급하기 위한 양수관; 양수관의 유입단보다 높은 위치에서 배출단을 가지고, 히트펌프로부터 배출되는 지하수를 정 내로 복귀시키기 위한 귀수관으로 이루어진다. 양수관의 유입단과 귀수관의 배출단 사이의 지점에서 차단막이 양수관의 길이방향 일부를 둘러싸도록 구비되고, 차단막에 의해 둘러싸여지는 양수관의 측벽에 구멍이 형성되어 양수관을 따라 흐르는 지하수의 일부가 구멍을 통해 차단막의 내면을 가압한다. 지하수 압력에 의해 차단막이 정의 측벽까지 팽창하여 밀착됨으로써 귀수관의 배출단을 통해 배출되는 지하수가 바로 양수관의 유입단측으로 흐르지 못하고, 지층으로 흡수되어 지중과 열교환된다.","1 히트펌프; 지중으로 시추되어 형성되고 지하수를 수용하는 정; 유입단을 가지고, 상기 정 내의 지하수를 상기 히트펌프로 공급하기 위한 양수관; 상기 양수관의 유입단보다 높은 위치에서 배출단을 가지고, 상기 히트펌프로부터 배출되는 지하수를 상기 정 내로 복귀시키기 위한 귀수관; 상기 양수관의 유입단과 상기 귀수관의 배출단 사이의 지점에서 상기 정의 내부에 구비되고, 상기 귀수관의 배출단을 통해 배출되는 지하수가 바로 상기 양수관의 유입단측으로 흐르는 것을 방지하기 위한 차단막 으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 지하수를 이용한 히트펌프 시스템.","김광호, 신유환, 남현규, 이명택, 신영기, 이성재","F25B-030/06,F25B-027/00",null,null,null,"2026.01.09","1 히트펌프; 지중으로 시추되어 형성되고 지하수를 수용하는 정; 유입단을 가지고, 상기 정 내의 지하수를 상기 히트펌프로 공급하기 위한 양수관; 상기 양수관의 유입단보다 높은 위치에서 배출단을 가지고, 상기 히트펌프로부터 배출되는 지하수를 상기 정 내로 복귀시키기 위한 귀수관; 상기 양수관의 유입단과 상기 귀수관의 배출단 사이의 지점에서 상기 정의 내부에 구비되고, 상기 귀수관의 배출단을 통해 배출되는 지하수가 바로 상기 양수관의 유입단측으로 흐르는 것을 방지하기 위한 차단막 으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 지하수를 이용한 히트펌프 시스템. 2 제 1항에 있어서, 상기 차단막은 상기 양수관을 따라 흐르는 지하수의 압력에 의해 그 일부가 상기 정의 측벽까지 팽창가능하도록 형성된 것을 특징으로 하는 지하수를 이용한 히트펌프 시스템. 3 제 2항에 있어서, 상기 차단막은 상기 양수관의 길이방향 일부를 둘러싸고, 상기 차단막에 의해 둘러싸여지는 상기 양수관의 측벽에 구멍이 형성되어 상기 양수관을 따라 흐르는 지하수의 일부가 상기 구멍을 통해 상기 차단막의 내면을 가압하는 것을 특징으로 하는 지하수를 이용한 히트펌프 시스템. 4 제 1항에 있어서, 상기 차단막은 상기 양수관의 외면에 결합되는 강성의 고정판과, 상기 고정판의 테두리를 따라 상기 정의 측벽까지 상측으로 경사져 연장되는 유연성의 변형판을 포함하는 것을 특징으로 하는 지하수를 이용한 히트펌프 시스템. 5 제 1항에 있어서, 상기 정은 지면으로부터 지중으로 시추되어 형성되고 상기 귀수관의 배출단이 위치하는 상층부와, 상기 상층부의 바닥면으로부터 상기 상층부보다 작은 단면적으로 지중으로 시추되어 형성되고 상기 양수관의 유입단이 위치하는 하층부를 포함하고, 상기 차단막은 상기 상층부의 바닥면에 놓여 상기 상층부와 상기 하층부를 상호 구획하는 것을 특징으로 하는 지하수를 이용한 히트펌프 시스템. 6 제 5항에 있어서, 상기 차단막은 판형상으로 이루어지고, 상기 양수관의 외면에 결합되는 것을 특징으로 하는 지하수를 이용한 히트펌프 시스템. 7 제 6항에 있어서, 상기 차단막의 테두리는 상기 상층부의 측벽으로부터 이격되어 있는 것을 특징으로 하는 지하수를 이용한 히트펌프 시스템.","KR100670082B1",null,1]
["F02792","화학","CA","생분해성 온도 감응성 폴리포스파젠계 고분자, 그 제조방법 및 이의 용도",null,"http://brevets-patents.ic.gc.ca/opic-cipo/cpd/eng/patent/2637285/summary.html?type=number_search","PCT/KR2006/004573","2006.11.03","CA 2637285 ","2012.09.11","The present invention relates to a biodegradable and thermosensitive \npoly(organophosphazene) with a functional group, a preparation method thereof, \nand a use thereof for delivery of bioactive substances. According to the \npresent invention, poly(organophosphazene) is a phosphagen-based polymer \nshowing biodegradability, thermosensitivity, and sol-gel phase transition \ndepending on temperature change, whereby when administered into a living body \nwith bioactive substances such as drugs, the poly(organophosphazene) forms a \ngel-phase at body temperature to be capable of controlled release of the \nbioactive substances. Further, the poly(organophosphazene) has functional \ngroups to chemically bind with bioactive substances through an ionic bond, \ncovalent bond, or coordinate covalent bond to be capable of a sustained \nrelease of the bioactive substances due to its good binding property. \nTherefore, the poly(organophosphazene) is useful as a delivery material for \nbioactive substances.","1. A poly(organophosphazene) represented by the following \nChemical Formula 1:\n\nImage \nwherein,\np is an integer between 7 and 50;\n R1 is selected from the group consisting of H, HCH2, CH3, CH2SH, \nCH(CH3)2, CH2CH(CH3)2, CH(CH3)C2H5, CH2CH2SCH3, CH2C6H5, \nCH2C6H4OH, CH2C2NH2C6H4, OCOC4N+H9, CO2C2H5, CH2CO2C2H5, \n(CH2)2CO2C2H5, and HCONHCH(CH2C6H5), and\n R2 is selected from the group consisting of CH3, C3H7, C4H9, C2H5, \nCH2C6H5, and CH2CHCH2;\n R3 is CH(W),\n R4 is selected from the group consisting Of CO2, CO2CH2CO2, \nCO2CH(CH3)CO2, and CONHCH(X)CO2,\n R5 is selected from the group consisting of H, CH3, and C2H5, and\n W and X are independently selected from the group consisting of H, \nHCH2, CH3, CH(CH3)2, CH2CH(CH3)2, CH(CH3)C2H5, CH2CH2SCH3, \nCH2C6H5, CH2C2NH2C6H4, OCOC4N+H9, CO2C2H5, (CH2)2CO2C2H5, CH2OH, \nCH(CH3)OH, CH2C6H4OH, CH2COOH, CH2CH2COOH, CH2CONH2, \nC4H8NH2, C3H6NHC(=NH)NH2, CH2C3N2H3, and CH2SH;\n R6 is CH(Y),\n R7 is selected from the group consisting of C2H4, C3H6, C4H8, \nCH2C6H4, CH2CO2, O, CONHCH(Z)O, CO, CO2, S, CONHCH(Z)S, N, \nCONHCH(Z)N, CON, COCHNH(Z)CON, CONHCH(Z)CO, and \nCONHCH(Z)CO2,","SONG, SOO-CHANG (Republic of Korea)\nLEE, SUN-MI (Republic of Korea)\nKIM, CHANG-WON (Republic of Korea)\nPARK, MI-RAN (Republic of Korea)\n","C08G 79/02 (2006.01) \nA61K 47/34 (2006.01) \nC08J 3/075 (2006.01) \nC08L 85/02 (2006.01) \n","WO2007/083875 ","2007.07.26","10-2006-0005579  Republic of Korea 2006-01-18 \n10-2006-0030730  Republic of Korea 2006-04-04 \n10-2006-0107230  Republic of Korea 2006-11-01 \n",null,{"$cut":{"chars":21919,"head":"WHAT IS CLAIMED IS:\n\n\n1. A poly(organophosphazene) represented by the following \nChemical Formula 1:\n\nImage \nwherein,\np is an integer between 7 and 50;\n R1 is selected from the group consisting of H, HCH2, CH3, CH2SH, \nCH(CH3)2, CH2CH(CH3)2, CH(CH3)C2H5, CH2CH2SCH3, CH2C6H5, \nCH2C6H4OH, CH2C2NH2C6H4, OCOC4N+H9, CO2C2H5, CH2CO2C2H5, \n(CH2)2CO2C2H5, and HCONHCH(CH2C6H5), and\n R2 is selected from the group consisting of CH3, C3H7, C4H9, C2H5, \nCH2C6H5, and CH2CHCH2;\n R3 is CH(W),\n R4 is selected from the group consisting Of CO2, CO2CH2CO2, \nCO2CH(CH3)CO2, and CONHCH(X)CO2,\n R5 is selected from the group consisting of H, CH3, and C2H5, and\n W and X are independently selected from the group consisting of H, \nHCH2, CH3, CH(CH3)2, CH2CH(CH3)2, CH(CH3)C2H5, CH2CH2SCH3, \nCH2C6H5, CH2C2NH2C6H4, OCOC4N+H9, CO2C2H5, (CH2)2CO2C2H5, CH2OH, \nCH(CH3)OH, CH2C6H4OH, CH2COOH, CH2CH2COOH, CH2CONH2, \nC4H8NH2, C3H6NHC(=NH)NH2, CH2C3N2H3, and CH2SH;\n R6 is CH(Y),\n R7 is selected from the group consisting of C2H4, C3H6, C4H8, \nCH2C6H4, CH2CO2, O, CONHCH(Z)O, CO, CO2, S, CONHCH(Z)S, N, \nCONHCH(Z)N, CON, COCHNH(Z)CON, CONHCH(Z)CO, and \nCONHCH(Z)CO2,\n\n 61\n\n\n\n\n R8 is selected from the group consisting of OH, SH, H, CH3, C2H5, \nC3H7, C4H9, CH2C6H5, CH2CHCH2, and protecting groups,\n Y and Z are independently selected from the group consisting of H, \nHCH2, CH3, CH(CH3)2, CH2CH(CH3)2, CH(CH3)C2H5, CH2CH2SCH3, \nCH2C6H5, CH2C2NH2C6H4, OCOC4NH9, CO2C2H5, (CH2)2CO2C2H5,CH2OH, \nCH(CH3)OH, CH2C6H4OH, CH2COOH, CH2CH2COOH, CH2CONH2, \nC4H8NH2, C3H6NHC(=NH)NH2, CH2C3N2H3, and CH2SH,\n R9 is selected from the group consisting of OH, SH, H, NH2, CH3, \nC2H5, C3H7, C4H9, CH2C6H5, CH2CHCH2, NHCH(SH)CO2H, NH(CH2)q SH, \nNH(CH2CH2NH)r H, [NHCH(C4H8NH2)CO]r OH, \n[NHCH[(CH2)3C(=NH)(NH2)]CO]r OH, and protamines,\n q is an integer between 1 and 20,\nr is an integer between 1 and 18000;\na1, a2, b, c, d, and e respectively represent the content of each \nsubstituent, wherein a1, a2, b, and d are independently from 0.01 to 1.9, c \nand e \nare independently from 0 to 1.9, and a1 +a2 +b +c +d +e =2.0; and\nn is from 5 to 100000.\n\n2. The poly(organophosphazene) according to Claim 1, selected \nfrom the group consisting of \npoly[(phenylalanineethylester)(aminomethoxypolyethyleneglycol350)(lysine \nethylester)phosphazene],\npoly[(isoleucineethylester)(aminomethoxypolyethyleneglycol550)(lysineethy \nlester)phosphazene], poly[(phenylalanineethylester)(ethyl-2-(O-\nglycyl)lactate)(aminomethoxypolyethyleneglycol550)] ,\npoly[(isoleucineethylester)(ethyl-2-(O-\nglycyl)glycolate)(aminomethoxyethyleneglycol550)(lysineethylester)phosph \nazene],\npoly[(isoleucineethylester)(aminomethoxypolyethyleneglycol350)(glycine)p \nhosphazene],\npoly[(isoleucineethylester)(aminomethoxypolyethyleneglycol350)(glycylglyc \n62\n\n\n\n\nine)phosphazene], \npoly[(isoleucineethylester)(aminomethoxypolyethyleneglycol550)(glycylglyc \nine)phosphazene],\npoly[(isoleucineethylester)(aminomethoxypolyethyleneglycol550)(glycylglyc \nine)phosphazene],\npoly[(isoleucineethylester)(aminomethoxypolyethyleneglycol550)(glycylglyc \nine)phosphazene],\npoly[(isoleucineethylester)(aminomethoxypolyethyleneglycol550)(glycylglyc \nine)phosphazene],\npoly[(isoleucineethylester)(aminomethoxypolyethyleneglycol550)(glycine)p \nhosphazene], poly[(isoleucineethylester)(ethyl-2-(O-\nglycyl)lactate)(aminomethoxypolyethyleneglycol750)(glycylglycine)phospha \nzene], and \npoly[(isoleucineethylester)(aminomethoxypolyethyleneglycol550)(glycylglyc \nine)(glycylglycylpolyethyleneimine)phosphazene].\n\n3. A method for preparing the poly(organophosphazene) \naccording to Claim 1, comprising the steps of:\n(1) thermopolymerizing a phosphazene trimer represented by the \nfollowing Chemical Formula 2, to prepare a linear polymer of dichloro \nphosphazene represented by the following Chemical Formula 3\n(Chemical Formula 2) \nImage\n\n(Chemical Formula 3) \nImage\n\nwherein n is an integer between 7 and 100,000;\n(2) reacting the compound prepared in step (1) of Chemical Formula 3 \nwith 0.01 to 1.9 equivalents of an amino acid ester represented by the \nfollowing Chemical Formula 4 or a salt there"}},null,null,1]
["K03670","재료","KR","노이즈 감쇄필름, 노이즈 감쇄 회로기판 및 이들의제조방법{NOISE SUPPRESSING FILM, NOISE-SUPPRESSED CIRCUIT SUBSTRATE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}",null,"원문이미지","KR20050102927A","2005.10.31","KR0652860B1","2006.11.24","본 발명은 전자기기에서의 불필요한 전자기파를 차단하거나 감소시키기 위하여 저항체 및 자성체가 스트라이프 또는 모자이크 형태로 배치한 패턴층과 자성층 및 저유전성 고분자 기지층을 구비하는 다층 필름 내지 회로기판 및 이의 효과적인 제조방법에 관한 것으로, 휴대전화, 무선 전화기, 사무용 기기 내부에 장착하거나 실장하여 전자파 노이즈에 의한 내부간섭, 누화에 의한 불요신호방해, 또는 오작동을 방지하기 위해 제안된 것이다.불필요한 전자기파의 제거를 위한 다층 필름은 기능이 서로 다른 저항체와 자성체가 스트라이프 또는 모자이크 형태로 배열된 패턴층과 자성층을 적층한 다층체로써 회로기판 또는 전자기기 등의 노이즈원에 배치함으로써 효과적으로 전자기파를 감소할 수 있다.","1 자성체와 저항체가 교차하여 형성되는 패턴층과, 상기 패턴층에 적층되어 형성되는 자성층을 포함하며, 상기 자성체 및 저항체는 두께방향으로 배향되어 있으며, 상기 패턴층은 전자기파를 흡수하고, 상기 자성층은 상기 패턴층을 보호하며 잔류 전자기파를 흡수하는 노이즈 감쇄필름.","김상우, 김윤배, 김광윤","H05K-009/00",null,null,null,"2025.10.31","1 자성체와 저항체가 교차하여 형성되는 패턴층과, 상기 패턴층에 적층되어 형성되는 자성층을 포함하며, 상기 자성체 및 저항체는 두께방향으로 배향되어 있으며, 상기 패턴층은 전자기파를 흡수하고, 상기 자성층은 상기 패턴층을 보호하며 잔류 전자기파를 흡수하는 노이즈 감쇄필름. 2 제 1 항에 있어서, 상기 자성체와 상기 저항체는 모자이크 패턴 또는 스트라이프 패턴으로 교차형성되는 노이즈 감쇄필름. 3 제 2 항에 있어서, 상기 자성체는 샌더스트, Fe계 비정질 합금, 또는 퍼멀로이(permalloy)를 포함하는 노이즈 감쇄필름. 4 제 2 항에 있어서, 상기 저항체는 결정질 탄소 또는 흑연을 포함하는 노이즈 감쇄필름. 5 육각 판상의 저항체 분말을 포함하는 저항체 슬러리 및 육각 판상의 자성 분말을 포함하는 자성체 슬러리를 생성하는 단계와, 상기 저항체 슬러리 및 상기 자성체 슬러리를 이용하여 저항체와 자성체가 교차하는 패턴층을 형성하는 단계와, 상기 자성체 슬러리를 이용하여 상기 패턴층에 적층하여 자성층을 형성하는 단계와, 상기 패턴층과 상기 자성층을 열간 압축하는 단계를 포함하는 노이즈 감쇄필름의 제조방법. 6 제 5 항에 있어서, 상기 저항체 분말 및 상기 자성 분말에 고분자 결합제 및 상기 고분자 결합제를 용해하는 용매를 혼합 교반하여 저항체 슬러리 및 자성체 슬러리를 각각 생성하는 노이즈 감쇄필름의 제조방법. 7 제 6 항에 있어서, 상기 고분자 결합제는 열경화성 우레탄, 에폭시 수지, 열가소성 아크릴 수지, 폴리 염화비닐, 폴리 염화비닐리덴, 폴리 불소화 비닐리덴, 프로필렌, 폴리에스테르, 폴리이미드, 실리콘 또는 에틸렌-비닐 아세테이트 수지를 포함하거나, 상기 용매는 톨루엔을 포함하는 노이즈 감쇄필름의 제조방법. 8 제 5 항에 있어서, 상기 자성체와 상기 저항체는 모자이크 패턴 또는 스트라이프 패턴으로 교차형성되는 노이즈 감쇄필름의 제조방법. 9 제 8 항에 있어서, 상기 자성체는 샌더스트, Fe계 비정질 합금, 또는 퍼멀로이(permalloy)를 포함하는 노이즈 감쇄필름의 제조방법. 10 제 8 항에 있어서, 상기 저항체는 결정질 탄소 또는 흑연을 포함하는 노이즈 감쇄필름의 제조방법. 11 제 8 항에 있어서, 상기 자성체 및 상기 저항체를 두께 방향으로 배향하는 단계를 더 포함하는 노이즈 감쇄필름의 제조방법. 12 기판 상부에 형성된 배선층과, 상기 배선층 상부에 형성된 노이즈 감쇄필름을 포함하며, 상기 노이즈 감쇄필름은, 자성체와 저항체가 교차하여 형성되는 패턴층과, 상기 패턴층에 적층되어 형성되는 자성층을 포함하며, 상기 패턴층은 상기 배선층을 전자기파로부터 차폐하고, 상기 자성층은 상기 패턴층을 보호하며 잔류 전자기파를 흡수하는 노이즈 감쇄 회로기판. 13 제 12 항에 있어서, 상기 자성체와 상기 저항체는 모자이크 패턴 또는 스트라이프 패턴으로 교차형성되는 노이즈 감쇄 회로기판. 14 제 13 항에 있어서, 상기 자성체는 샌더스트, Fe계 비정질 합금, 또는 퍼멀로이를 포함하는 노이즈 감쇄 회로기판. 15 제 13 항에 있어서, 상기 저항체는 결정질 탄소 또는 흑연을 포함하는 노이즈 감쇄 회로기판. 16 기판상에 배선층을 형성하는 단계와, 육각 판상의 저항체 분말을 포함하는 저항체 슬러리 및 육각 판상의 자성 분말을 포함하는 자성체 슬러리를 생성하는 단계와, 상기 저항체 슬러리 및 상기 자성체 슬러리를 이용하여 저항체와 자성체가 교차하는 패턴층을 상기 배선층 상부에 형성하는 단계와, 상기 자성체 슬러리를 이용하여 상기 패턴층에 자성층을 적층하여 형성하는 단계와, 상기 패턴층과 상기 자성층을 열간 압축하는 단계를 포함하는 노이즈 감쇄 회로기판의 제조방법. 17 제 16 항에 있어서, 상기 저항체 분말 및 상기 자성 분말에 고분자 결합제 및 상기 고분자 결합제를 용해하는 용매를 혼합 교반하여 저항체 슬러리 및 자성체 슬러리를 각각 생성하는 노이즈 감쇄 회로기판의 제조방법. 18 제 17 항에 있어서, 상기 고분자 결합제는 열경화성 우레탄, 에폭시 수지, 열가소성 아크릴 수지, 폴리 염화비닐, 폴리 염화비닐리덴, 폴리 불소화 비닐리덴, 프로필렌, 폴리에스테르, 폴리이미드, 실리콘 또는 에틸렌-비닐 아세테이트 수지를 포함하거나, 상기 용매는 톨루엔을 포함하는 노이즈 감쇄 회로기판의 제조방법. 19 제 16 항에 있어서, 상기 자성체와 상기 저항체는 모자이크 패턴 또는 스트라이프 패턴으로 교차형성되는 노이즈 감쇄 회로기판의 제조방법. 20 제 19 항에 있어서, 상기 자성체는 샌더스트, Fe계 비정질 합금, 또는 퍼멀로이를 포함하는 노이즈 감쇄 회로기판의 제조방법. 21 제 19 항에 있어서, 상기 저항체는 결정질 탄소 또는 흑연을 포함하는 노이즈 감쇄 회로기판의 제조방법. 22 제 19 항에 있어서, 상기 자성체 및 상기 저항체를 두께 방향으로 배향하는 단계를 더 포함하는 노이즈 감쇄 회로기판의 제조방법.","KR100652860B1",null,1]
["K03664","재료","KR","전자기파 간섭 차폐용 다층 필름 및 이를 포함하는회로기판{MULTI-LAYERED FILM FOR SHIELDING ELECTROMAGNETIC INTERFERENCE AND CIRCUIT BOARD INCLUDING THE SAME}",null,"원문이미지","KR20050104588A","2005.11.02","KR0712836B1","2007.04.24","본 발명은 불필요한 전자기파를 차단하거나 감소시키기 위하여 저항층 및 자성층을 포함하는 다층 필름에 관한 것으로, 이 다층 필름을 회로기판 또는 고분자 필름의 표면에 막 또는 패턴 형태로 형성하거나 내부에 삽입하여 특히 무선주파수 대역에서의 전자기파 감쇄 효과를 향상시킬 수 있다. 뿐만 아니라, 박형화가 용이하여 휴대전화, 무선전화기, 사무용기기 등 각종 전자기기 내부에 장착하거나 실장하기 용이하다. 따라서, 전자기기의 전자파 노이즈에 의한 내부간섭, 누화에 의한 불요신호방해, 오작동을 방지에 효과적이다.","1 저항체층 및 자성체층 또는 저항체층, 제1자성체층 및 제2자성체층의 다층 구조로 구성되는 전자기파 간섭 차폐용 다층 필름.","김상우, 김윤배, 김광윤","H05K-009/00",null,null,null,"2025.11.02","1 저항체층 및 자성체층 또는 저항체층, 제1자성체층 및 제2자성체층의 다층 구조로 구성되는 전자기파 간섭 차폐용 다층 필름. 2 제1항에 있어서, 상기 저항체층은 이방성을 가진 5 내지 100 미크론 크기의 판상 입자로서 결정질 탄소 또는 흑연 분말로 구성되는 전자기파 간섭 차폐용 다층 필름. 3 제1항에 있어서, 상기 자성체층은 장축길이와 두께 비가 10 이상인 높은 형상비를 가진 판상의 자성분말로 구성되는 전자기파 간섭 차폐용 다층 필름. 4 제3항에 있어서, 상기 자성분말은 샌다스트(sandust), Fe계 비정질 합금, 퍼멀로이 중에서 선택되는 어느 하나인 전자기파 간섭 차폐용 다층 필름. 5 제1항에 있어서, 상기 제1자성체층 및 제2자성체층은 샌다스트 자성층 및 Ni-Zn 페라이트 자성층인 것을 특징으로 하는 전자기파 간섭 차폐용 다층 필름. 6 제1항의 다층 필름이 막 또는 패턴 형태로 내부에 삽입되거나 표면에 형성되어 있는 전자기파 간섭 차폐 회로기판. 7 제1항의 다층 필름이 막 또는 패턴 형태로 고분자 필름 내부에 삽입되거나 표면에 형성되어 있는 전자기파 간섭 차폐 필름.","KR100712836B1",null,1]
["K03741","유전공학","KR","줄기세포로부터 배아체를 형성 및 성장시키는 방법 및 장치{Method and apparatus for forming and growing embryoid body}",null,"원문이미지","KR20060003249A","2006.01.11","KR0785049B1","2007.12.05","본 발명은 줄기세포 분화를 위한 것으로, 균일한 크기와 모양의 배아체(EB, embryoid body) 생성과 생성된 EB의 성장 및 그 후의 세포 분화를 할 수 있도록 하는 세포 배양 방법 및 장치에 관한 것이다. 본 세포 배양 장치는 1.0 내지 2.6mm의 작은 지름을 갖고 상하면이 열려진 원통형 용기 (cylinder)에서 EB (embryoid body)를 균일하고 빠르게 형성시키며, 형성된 배아체의 성장을 위한 배양 용기의 하부 바닥은 미세 다공막층(micro-pore layer)이 접합되어 있어서, 형성된 EB (embryoid body)는 밑바닥으로 통과되지 않는 반면 하부로부터의 배양액의 공급은 원활히 이루어지도록 하며 장시간 동안 세포배양을 할 수 있다. 본 발명을 이용하면 신속하고 정량적으로 배아체 형성 및 세포 분화를 진행 할 수 있다.","1 줄기세포로부터 배아체를 형성시키는 방법으로서, 양 말단이 열려진 원통형 용기를 수직으로 세우고 그 원통형 용기 내에 줄기세포를 포함하는 배양액을 채움으로써 수직으로 세워진 원통형 용기의 끝에 배양액이 반구 형태를 유지하면서 표면장력에 의해 매달려 있도록 하고, 중력에 의해 원통형 용기의 끝에 매달린 반구 형태의 배양액 방울의 끝에 줄기세포들이 모이도록 하여 구 형태의 배아체(Embryoid Body, EB)를 형성하는 것을 특징으로 하는 줄기세포로부터 배아체를 형성시키는 방법.","김충, 강지윤, 이진우, 채수경, 이강선, 이인혜, 김태송","C12N-005/08,C12N-005/00,C12M-003/00","KR20070075006A","2007.07.18",null,"2026.01.11","1 줄기세포로부터 배아체를 형성시키는 방법으로서, 양 말단이 열려진 원통형 용기를 수직으로 세우고 그 원통형 용기 내에 줄기세포를 포함하는 배양액을 채움으로써 수직으로 세워진 원통형 용기의 끝에 배양액이 반구 형태를 유지하면서 표면장력에 의해 매달려 있도록 하고, 중력에 의해 원통형 용기의 끝에 매달린 반구 형태의 배양액 방울의 끝에 줄기세포들이 모이도록 하여 구 형태의 배아체(Embryoid Body, EB)를 형성하는 것을 특징으로 하는 줄기세포로부터 배아체를 형성시키는 방법. 2 제1항에 있어서, 상기 원통형 용기의 지름은 1.0 내지 2.6mm인 것을 특징으로 하는 줄기세포로부터 배아체를 형성시키는 방법. 3 제2항에 있어서, 상기 원통형 용기는 둘 이상이고, 모든 원통형 용기가 동일한 지름을 갖도록 조정하여, 형성되는 배아체의 크기를 균일하게 하는 것을 특징으로 하는 줄기세포로부터 배아체를 형성시키는 방법. 4 제2항에 있어서, 상기 원통형 용기는 둘 이상이고, 그 둘 이상의 원통형 용기가 다양한 지름을 갖도록 조정하여, 형성되는 배아체의 크기를 다양하게 하는 것을 특징으로 하는 줄기세포로부터 배아체를 형성시키는 방법. 5 제1항에 있어서, 상기 원통형 용기에 배양액을 보충함으로써 상기 원통형 용기로부터 배양액이 증발되어 소실되는 것을 방지하고 세포 대사에 따른 배양액의 열화를 예방하는 것을 특징으로 하는 줄기세포로부터 배아체를 형성시키는 방법. 6 줄기세포를 분화시키는 방법으로서, 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의해 배아체를 형성시키는 제1단계; 및 상기 제1단계에서 형성된 배아체를 상기 제1단계를 거쳐 배아체가 배양액 방울 끝에 형성된 상태인 원통형 용기를, 배아체 성장을 위한 배양액이 담긴 배양 용기 안으로 넣되, 상기 배양액 방울 끝이 상기 배아체 성장을 위한 배양액과 접촉하도록 하지만 상기 배양 용기 바닥과는 접촉하지 않는 높이로 넣음으로써, 상기 배아체가 배아체 성장을 위한 배양액과의 접촉에 의해 배아체 성장을 위한 배양액 내로 배아체를 떨어뜨리고 떨어진 배아체를 배양 용기 바닥에 부착시킨 상태에서 배아체를 성장시키는 제2단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 줄기세포의 분화방법. 7 제6항에 있어서, 상기 제2단계는 지름이 2.0 내지 4.0mm인 배양 용기 내에서 배아체를 성장시키는 것을 특징으로 하는 줄기세포 분화방법. 8 줄기세포로부터 배아체를 형성시키는 장치로서, 수직으로 설치되어 있는 양 말단이 열려진 다수개의 원통형 용기; 및 상기 원통형 용기의 상부를 둘러싸는 용기로서 원통형 용기에 배양액을 보충 공급하는 보충 용기를 포함하며, 상기 다수개의 원통형 용기는 수직으로 세워진 원통형 용기의 끝에 배양액이 반구 형태를 유지하면서 표면장력에 의해 매달려 있도록 하고, 중력에 의해 원통형 용기의 끝에 매달린 반구 형태의 배양액 방울의 끝에 줄기세포들이 모이도록 하여 구 형태의 배아체(Embryoid Body, EB)를 형성하며 상기 원통형 용기는 지름이 1.0 내지 2.6mm인 것을 특징으로 하는 배아체 형성장치. 9<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 10<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 11<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 12<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 13 줄기세포를 분화시키는 장치로서, 제8항에 따른 배아체 형성장치를 포함하는 배아체 형성층을 포함하는 것을 특징으로 하는 줄기세포 분화장치. 14 제13항에 있어서, 상기 배아체 형성층 아래에 적층되며, 상기 배아체 형성층에서 형성된 배아체의 성장을 위한 배양 용기를 상기 원통형 용기와 동일한 개수로 포함하는 배양 용기 층으로서 상기 배양 용기는 상하가 열려진 튜브 형태인 것을 특징으로 하는 배양 용기 층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 줄기세포 분화장치. 15 제14항에 있어서, 상기 배양 용기 층 아래에 적층되며, 상기 배양 용기와 접촉되는 미세 다공막으로 구성된 미세 다공막 층으로서, 상기 배아체 형성층에서 형성된 배아체를 부착시키고 하부로부터 배양액을 통과시키기 위한 것임을 특징으로 하는 미세 다공막 층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 줄기세포 분화장치. 16 제14항에 있어서, 상기 배양 용기 층의 배양 용기는 지름이 2.0 내지 4.0mm인 것을 특징으로 하는 줄기세포 분화장치. 17 제14항에 있어서, 상기 배아체 형성층의 원통형 용기와 상기 배양 용기 층의 배양 용기가 서로 겹쳐지는 높이로 배치되도록 배아체 형성층과 배양 용기 층이 적층된 것을 특징으로 하는 줄기세포 분화장치. 18 제15항에 있어서, 상기 미세 다공막 층 아래에 적층되며, 상기 배양 용기 층과 상기 미세 다공막 층을 결합시키며 상기 미세 다공막층을 보호하는 바닥 지지층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 줄기세포 분화장치. 19 제15항에 있어서, 상기 미세 다공막 층의 미세 다공막은 ECM 코팅됨으로써 배아체의 부착능이 개선된 것을 특징으로 하는 줄기세포 분화장치.","KR100785049B1, KR20070075006A",null,1]
["K03674","영상처리","KR","ＬｉｆｔＬＴ변환을 이용하여 영상의 크기를 변환시키는영상 처리 시스템 및 방법{IMAGE PROCESSING SYSTEM AND METHOD FOR CHANGING SIZE OF IMAGE USING LIFTLT TRANSFORM}",null,"원문이미지","KR20060004326A","2006.01.16","KR0715743B1","2007.05.01","본 발명은 LiftLT 변환을 이용하여 영상의 크기를 변화시키는 영상 처리 시스템 및 방법에 관한 것으로, 영상에 대해 DCT(Discrete Cosine Transform)를 수행하여 다수의 DCT 계수를 형성하고, 다수의 DCT 계수를 LiftLT 계수로 변환하는 LiftLT 변환을 수행하고, LiftLT 계수에 대해 크기 감소 및/또는 증가 변환을 수행하며, 크기가 감소 및/또는 증가된 LiftLT 계수를 DCT 계수로 변환하는 영상 처리 시스템 및 방법을 제공한다.","1 영상에 대해 DCT(Discrete Cosine Transform)를 수행하여 다수의 DCT 계수를 형성하기 위한 수단; 상기 다수의 DCT 계수를 LiftLT 계수로 변환하는 LiftLT 변환을 수행하기 위한 제 1 영역 변환수단; 상기 제 1 영역 변환수단에 의해 변환된 상기 LiftLT 계수에 대해 크기 감소 변환을 수행하기 위한 크기 감소수단; 및 상기 크기 감소수단에 의해 크기가 감소된 상기 LiftLT 계수를 DCT 계수로 변환하기 위한 제 2 영역 변환수단 을 포함하는 영상 처리 시스템.","고희동, 이창우","H04N-007/30",null,null,null,"2026.01.16","1 영상에 대해 DCT(Discrete Cosine Transform)를 수행하여 다수의 DCT 계수를 형성하기 위한 수단; 상기 다수의 DCT 계수를 LiftLT 계수로 변환하는 LiftLT 변환을 수행하기 위한 제 1 영역 변환수단; 상기 제 1 영역 변환수단에 의해 변환된 상기 LiftLT 계수에 대해 크기 감소 변환을 수행하기 위한 크기 감소수단; 및 상기 크기 감소수단에 의해 크기가 감소된 상기 LiftLT 계수를 DCT 계수로 변환하기 위한 제 2 영역 변환수단 을 포함하는 영상 처리 시스템. 2 제 1항에 있어서, 상기 크기 감소수단은 상기 LiftLT 계수를 절반으로 감소시키는 영상 처리 시스템. 3 영상에 대해 DCT(Discrete Cosine Transform)를 수행하여 다수의 DCT 계수를 형성하기 위한 수단; 상기 다수의 DCT 계수를 LiftLT 계수로 변환하는 LiftLT 변환을 수행하기 위한 제 1 영역 변환수단; 상기 제 1 영역 변환수단에 의해 변환된 상기 LiftLT 계수에 대해 크기 증가 변환을 수행하기 위한 크기 증가수단; 및 상기 크기 증가수단에 의해 크기가 증가된 상기 LiftLT 계수를 DCT 계수로 변환하기 위한 제 2 영역 변환수단 을 포함하는 영상 처리 시스템. 4 제 3항에 있어서, 상기 크기 증가수단은 상기 LiftLT 계수를 2배로 증가시키는 영상 처리 시스템. 5 a) 영상에 대해 DCT(Discrete Cosine Transform)를 수행하여 다수의 DCT 계수를 형성하는 단계; b) 상기 다수의 DCT 계수를 LiftLT 계수로 변환하는 LiftLT 변환을 수행하는 단계; c) 상기 LiftLT 계수에 대해 크기 감소 변환을 수행하는 단계; 및 d) 상기 크기가 감소된 LiftLT 계수를 DCT 계수로 변환하는 단계 를 포함하는 영상 처리 방법. 6 제 5항에 있어서, 상기 단계 c)는 상기 LiftLT 계수에 대해 크기를 절반으로 감소시키는 영상 처리 방법. 7 e) 영상에 대해 DCT(Discrete Cosine Transform)를 수행하여 다수의 DCT 계수를 형성하는 단계; f) 상기 다수의 DCT 계수를 LiftLT 계수로 변환하는 LiftLT 변환을 수행하는 단계; g) 상기 LiftLT 계수에 대해 크기 증가 변환을 수행하는 단계; 및 h) 상기 크기가 증가된 LiftLT 계수를 DCT 계수로 변환하는 단계 를 포함하는 영상 처리 방법. 8 제 7항에 있어서, 상기 단계 g)는 상기 LiftLT 계수에 대해 크기를 2배로 증가시키는 영상 처리 방법.","KR100715743B1",null,1]
["K03652","재료","KR","노이즈 감쇄층, 노이즈 감쇄 회로기판 및 이들의 제조방법{NOISE SUPPRESSING FILM, NOISE-SUPPRESSED CIRCUIT SUBSTRATE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}",null,"원문이미지","KR20050101709A","2005.10.27","KR0716679B1","2007.05.03","본 발명은 불필요한 전자기파를 줄이기 위해 그래뉼라 자성합금층/절연성 고분자층의 노이즈 감쇄층을 실리콘 회로기판 또는 연성회로기판 내부/상부에 형성함으로써 휴대전화, 무선전화, 디지털 카메라 또는 사무자동화기기 내부에 실장하여 전자파 노이즈에 의한 내부간섭, 누화에 의한 불요 신호방해, 또는 오작동을 방지하기 위해 제안된 것이다.Co-Fe/Ni-Fe 자성합금층/폴리이미드층으로 형성된 노이즈 감쇄층을 기판에 적용하여 플렉서블 소자에 응용할 수 있으며 얇은 두께에서도 노이즈 저감특성을 가지는 효과가 있다.","1 Co-Fe 그래뉼라 자성층 및 Ni-Fe 그래뉼라 자성층를 포함하는 그래뉼라 자성합금층과, 상기 그래뉼라 자성합금층에 접촉하여 형성되는 절연성 고분자층을 포함하며, 상기 그래뉼라 자성합금층은 전자기파를 차폐하고, 상기 절연성 고분자층은 폴리이미드를 포함하며, 상기 그래뉼라 자성합금층을 접착시키며 보호하는 노이즈 감쇄층.","김상우, 김광윤, 이성재","H05K-009/00","KR20070045430A","2007.05.02",null,"2025.10.27","1 Co-Fe 그래뉼라 자성층 및 Ni-Fe 그래뉼라 자성층를 포함하는 그래뉼라 자성합금층과, 상기 그래뉼라 자성합금층에 접촉하여 형성되는 절연성 고분자층을 포함하며, 상기 그래뉼라 자성합금층은 전자기파를 차폐하고, 상기 절연성 고분자층은 폴리이미드를 포함하며, 상기 그래뉼라 자성합금층을 접착시키며 보호하는 노이즈 감쇄층. 2 제 1 항에 있어서, 상기 Co-Fe 그래뉼라 자성층의 Co/Fe 몰비는 10% 내지 90% 인 노이즈 감쇄층. 3 제 1 항에 있어서, 상기 Ni-Fe 그래뉼라 자성층의 Ni/Fe 몰비는 10% 내지 90% 인 노이즈 감쇄층. 4 그래뉼라 자성합금층을 형성하는 단계와, 상기 그래뉼라 자성합금층 상부에 절연성 고분자층을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 그래뉼라 자성합금층 및 절연성 고분자층을 형성하는 단계는, 제1 자성박막 및 제2 자성박막을 소정의 두께로 각각 형성하는 단계와 상기 제1 자성박막 및 제2 자성박막 상부에 폴리아미드 산을 형성한 후 건조하는 단계와 상기 제1 자성박막 및 제2 자성박막과 상기 건조된 폴리아미드 산을 소정의 온도에서 소정의 시간동안 열처리하는 단계를 포함하는 노이즈 감쇄층 제조방법. 5 제 4 항에 있어서, 상기 제1 자성 박막은 Co-Fe 자성 박막인 노이즈 감쇄층 제조방법. 6 제 4 항에 있어서, 상기 제2 자성 박막은 Ni-Fe 자성 박막인 노이즈 감쇄층 제조방법. 7 제 4 항에 있어서, 상기 폴리아미드 산을 N-메틸 피로리딘(N-methyl pyrrolidine)에 의해 희석하는 단계를 더 포함하는 노이즈 감쇄층 제조방법. 8 제 4 항에 있어서, 상기 제1 자성박막 및 제2 자성박막 상부에 폴리아미드 산을 스핀코팅하여 형성하는 노이즈 감쇄층 제조방법. 9 기판 상부에 형성된 배선층과, 상기 배선층을 덮는 그래뉼라 자성합금층과, 상기 그래뉼라 자성합금층 상부에 형성되는 절연성 고분자층을 포함하며, 상기 그래뉼라 자성합금층은 상기 배선층을 전자기파로부터 차폐하고, 상기 절연성 고분자층은 상기 그래뉼라 자성합금층을 접착시키며 보호하는 노이즈 감쇄 회로기판. 10 기판 상부에 형성된 배선층과, 상기 배선층을 덮는 절연성 고분자층과, 상기 절연성 고분자층 상부에 형성되는 그래뉼라 자성합금층을 포함하며, 상기 그래뉼라 자성합금층은 상기 배선층을 전자기파로부터 차폐하고, 상기 절연성 고분자층은 상기 그래뉼라 자성합금층을 접착시키며 보호하는 노이즈 감쇄 회로기판. 11 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서, 상기 그래뉼라 자성합금층은 Co-Fe 그래뉼라 자성층 또는 Ni-Fe 그래뉼라 자성층을 포함하는 노이즈 감쇄 회로기판. 12 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서, 상기 절연성 고분자층은 폴리이미드를 포함하는 노이즈 감쇄 회로기판. 13 제 11 항에 있어서, 상기 Co-Fe 그래뉼라 자성층의 Co/Fe 몰비는 10% 내지 90% 인 노이즈 감쇄 회로기판. 14 제 11 항에 있어서, 상기 Ni-Fe 그래뉼라 자성층의 Ni/Fe 몰비는 10% 내지 90% 인 노이즈 감쇄 회로기판. 15 기판 상부에 배선층을 형성하는 단계와, 상기 배선층을 전자기파로부터 차폐하는 형상으로 그래뉼라 자성합금층을 형성하는 단계와, 상기 그래뉼라 자성합금층 상부에 절연성 고분자층을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 그래뉼라 자성합금층 및 절연성 고분자층을 형성하는 단계는, 제1 자성박막 및 제2 자성박막을 소정의 두께로 각각 형성하는 단계와 상기 제1 자성박막 및 제2 자성박막 상부에 폴리아미드 산을 형성한 후 건조하는 단계와 상기 제1 자성박막 및 제2 자성박막과 상기 건조된 폴리아미드 산을 소정의 온도에서 소정의 시간동안 열처리하는 단계를 포함하는 노이즈 감쇄 회로기판 제조방법. 16 제 15 항에 있어서, 상기 그래뉼라 자성합금층을 상기 배선층 상부에 형성하거나 상기 배선층을 에워싸도록 형성하는 노이즈 감쇄 회로기판 제조방법. 17 제 15 항에 있어서, 상기 제1 자성 박막은 Co-Fe 자성 박막인 노이즈 감쇄 회로기판 제조방법. 18 제 15 항에 있어서, 상기 제2 자성 박막은 Ni-Fe 자성 박막인 노이즈 감쇄 회로기판 제조방법. 19 제 15 항에 있어서, 상기 폴리아미드 산을 N-메틸 피로리딘(N-methyl pyrrolidine)에 의해 희석하는 단계를 더 포함하는 노이즈 감쇄 회로기판 제조방법. 20 제 15 항에 있어서, 상기 제1 자성박막 및 제2 자성박막 상부에 폴리아미드 산을 스핀코팅하여 형성하는 노이즈 감쇄 회로기판 제조방법.","KR100716679B1, KR20070045430A",null,1]
["K03651","화학","KR","노이즈 감쇄 연성필름 및 이를 포함하는 전자기파 차폐 회로기판{NOISE-SUPPRESSION FLEXIBLE FILMS, ELECTROMAGNETIC SHIELDED CIRCUIT BOARDS AND INCLUDING THE SAME}",null,"원문이미지","KR20050100462A","2005.10.24","KR0636826B1","2006.10.13","본 발명은 불필요한 전자기파를 제거하기 위한 Co-Fe 혹은 Co-Fe/Ni-Fe 등의 자성층과 절연성 고분자층을 적층한 다층 구조의 노이즈 감쇄 필름을 제공한다. 이 노이즈 감쇄 시트는 실리콘 회로기판, 연성 회로기판, 고분자 필름 등의 표면이나 내부에 내장될 수 있으며, 얇은 두께에서도 노이즈 저감효과를 가질 뿐만 아니라 플렉서블 소자에도 적용할 수 있는 장점이 있다.","1 Co-Fe계 또는 Co-Fe/Ni-Fe계 자성층 및 폴리이미드층을 포함하는 다층 하이브리드 박막으로 된 노이즈 감쇄 필름.","김상우, 김광윤, 박기홍","C08J-005/18,C04B-035/30,C08J-005/22",null,null,null,"2025.10.24","1 Co-Fe계 또는 Co-Fe/Ni-Fe계 자성층 및 폴리이미드층을 포함하는 다층 하이브리드 박막으로 된 노이즈 감쇄 필름. 2 제1항에 있어서, 상기 다층 하이브리드 박막은 폴리이미드층, 자성층 및 고분자층으로 구성되는 노이즈 감쇄 필름. 3 제1항에 있어서, 상기 Co-Fe계 자성층의 Co/Fe 몰비는 10 - 90%의 범위인 노이즈 감쇄 필름. 4 제1항에 있어서, 상기 폴리이미드층은 코팅된 polyamic acid층을 열 혹은 광반응에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 노이즈 감쇄 필름. 5 제1항에 있어서, 상기 Ni-Fe 자성층의 Ni/Fe 몰비는 10 - 90% 범위인 노이즈 감쇄 필름. 6 제1항의 상기 노이즈 감쇄 필름이 표면에 형성되거나 내부에 내장된 회로 기판. 7 제1항의 상기 노이즈 감쇄 필름이 표면에 형성되거나 내부에 내장된 고분자 필름.","KR100636826B1",null,1]
["K03657","화학","KR","이온성 액체를 이용하는 개선된 졸-겔 공정에 의해 제조된아나타제형 결정구조를 갖는 이산화티탄과 이의 제조방법및 이를 이용한 촉매{Preparation of anatase titanium dioxide using ionic liquid by modified sol-gel method and its catalysis applications}",null,"원문이미지","KR20050099374A","2005.10.20","KR0753055B1","2007.08.22","본 발명은 이온성 액체를 이용하여 아나타제형 결정구조를 갖는 이산화티탄과 이의 제조방법 및 이를 이용한 촉매에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 티탄 전구체와 아세트산에, 구조유도체로 이온성 액체를 소량 이용하는 개선된 졸-겔(modified sol-gel)공정은 기존의 티탄 전구체에 아세트산을 단독으로 사용하는 졸-겔(sol-gel)공정에 비해 물성이 우수하며 500 ℃ 이상의 고온에서도 세공부피 및 비표면적의 감소가 적을 뿐만 아니라 촉매 활성에 중요한 아나타제(anatase)상을 유지하기 때문에 촉매 및 지지체로 다양하게 응용될 수 있으며, 특히 수성가스의 전환(water gas shift, WGS)반응에 유용한 담체로서 아나타제형 결정구조를 갖는 이산화티탄과 이의 제조방법 및 이를 이용한 촉매에 관한 것이다.","1 700 ∼ 1000 ℃의 고온 열처리된 후에도, 비표면적 10 ∼ 200 ㎡/g, 다공도 0.28 ∼ 0.54, 입자 크기 10 ∼ 40 nm 및 아나타제형 결정구조를 유지하는 것을 특징으로 하는 이산화티탄.","문동주, 최은형, 류종우, 유계상, 이상득, 안병성","B01J-021/06,C01G-023/047","KR20070043291A","2007.04.25",null,"2025.10.20","1 700 ∼ 1000 ℃의 고온 열처리된 후에도, 비표면적 10 ∼ 200 ㎡/g, 다공도 0.28 ∼ 0.54, 입자 크기 10 ∼ 40 nm 및 아나타제형 결정구조를 유지하는 것을 특징으로 하는 이산화티탄. 2 티탄산 전구체 1몰, 이미다졸리움계, 피리디니움계 및 지방족계 아민 중에서 선택된 이온성 액체 0.03 ∼ 0.3 몰 및 아세트산 0.1 ∼ 1 몰을 이소프로필알콜 20 ∼ 50 몰에 희석시키는 1단계; 상기 희석된 용액에, 염산과 이소프로필알콜을 첨가하여 이산화티탄 졸을 형성하는 2단계; 상기 이산화티탄 졸을 상온에서 방치하여 이산화티탄 겔을 제조하는 3단계; 및 상기 제조된 이산화티탄 겔을 80 ∼ 120 ℃에서 건조하고, 상온에서 250 ∼ 900 ℃까지 승온 및 소성시켜 아나타제형 이산화티탄을 제조하는 4단계 를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 이산화티탄의 제조방법. 3 제 2 항에 있어서, 상기 티탄산 전구체는 티타늄 이소프로폭사이드, 티타늄 에톡사이드, 티타늄 프로폭사이드, 및 티타늄 메톡사이드 중에서 선택된 것을 특징으로 하는 이산화티탄의 제조방법. 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 6 제 2 항에 있어서, 상기 염산은 티탄산 전구체 1몰에 대하여 0.01 ∼ 0.03 몰(1 N 염산기준) 사용되는 것을 특징으로 하는 아나타제형 이산화티탄의 제조방법. 7 상기 청구항 1의 아나타제형 이산화티탄 담체에, 활성금속으로 단일 또는 이성분계 이상의 전이금속이 0.1 ∼ 5 중량% 담지된 것을 특징으로 하는 촉매. 8 상기 청구항 7의 촉매를 사용하여 수성가스의 전환반응을 수행하는 것을 특징으로 하는 수성가스의 전환방법. 9 제 8 항에 있어서, 상기 수성가스의 전환반응은 연료전지 자동차용 수소스테이션, 연료전지용 연료개질기 및 석유화학공정에 활용되는 것을 특징으로 하는 수성가스의 전환방법.","KR100753055B1, KR20070043291A",null,1]
["K03658","연료전지","KR","초임계 유체를 이용한 연료전지용 복합전해질막, 그제조방법, 상기 복합전해질막을 이용한 막-전극 결합체 및상기 막-전극 결합체를 이용한 연료전지{COPOSITE ELECTROLYTE MEMBRANE FOR FUEL CELL USING SUPERCRITICAL FLUID, METHOD FOR PREPARING THE SAME, MEA USING THE COMPOSITE ELECTROLYTE MEMBRANE AND FUEL CELL USING THE MEA}",null,"원문이미지","KR20050102669A","2005.10.29","KR0709553B1","2007.04.13","본 발명에서는 연료전지에 사용되는, 비이온전도성 고분자 지지체 막 내부에 이온전도성 고분자를 구비하는 복합전해질막 및 그 제조방법에 대한 것으로서, 상기 지지체 막이 초임계 유체에 의하여 팽윤된 상태에서 상기 지지체 막 내부에 상기 이온전도성 고분자를 구비하도록 하는, 초임계 유체를 이용한 연료전지용 복합전해질막, 그 제조방법, 상기 복합전해질막을 이용한 막-전극 결합체 및 상기 막-전극 결합체를 이용한 연료전지를 제공한다. 본 발명은 종래의 이온전도성 고분자막을 대체할 수 있는 것으로서, 제조가 쉬우며 초임계 상태에서 중합함에 의하여 지지체 막과 중합된 이온전도성 고분자의 특성을 모두 가지게 됨으로써 복합막의 안정성이 향상되고, 반응물의 투과도를 감소시켜 연료전지의 성능을 향상시킬 수 있다. 또한, 값싼 탄화수소 물질들을 고분자 전해질로 사용할 수 있어 전해질 막의 가격을 낮출 수 있다.","1 비이온전도성 고분자 지지체 막 내부에 이온 전도성 고분자를 구비하는 연료전지용 복합 전해질막에 있어서, 상기 이온전도성 고분자는 초임계 상태의 유체에 의하여 팽윤된 상기 고분자 지지체막 내부로 이온 전도성 고분자의 단량체, 가교제(cross-linking agent) 및 중합 개시제를 함침(含浸 impregnation)하고, 초임계 상태하에서 상기 단량체의 중합 반응을 상기 지지체막 내부에서 수행하여 얻은 고분자를 술폰화(sulphonation)하여 이온 전도성을 가지도록 하는 공정으로 이루어진 것을 특징으로 하는 연료전지용 복합 전해질막.","김화용, 석준호, 강유찬, 변정연, 임태훈, 남석우, 오인환, 홍성안, 하흥용","H01M-008/10,H01M-008/02",null,null,null,"2025.10.29","1 비이온전도성 고분자 지지체 막 내부에 이온 전도성 고분자를 구비하는 연료전지용 복합 전해질막에 있어서, 상기 이온전도성 고분자는 초임계 상태의 유체에 의하여 팽윤된 상기 고분자 지지체막 내부로 이온 전도성 고분자의 단량체, 가교제(cross-linking agent) 및 중합 개시제를 함침(含浸 impregnation)하고, 초임계 상태하에서 상기 단량체의 중합 반응을 상기 지지체막 내부에서 수행하여 얻은 고분자를 술폰화(sulphonation)하여 이온 전도성을 가지도록 하는 공정으로 이루어진 것을 특징으로 하는 연료전지용 복합 전해질막. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3 제 1 항에 있어서, 상기 지지체 막의 비이온전도성 고분자는 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE), 폴리비닐리덴플루오라이드(PVdF), 폴리비닐리덴플루오라이드 및 헥사플루오르프로필렌의 공중합체(PVdF-HFP), 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP), 폴리카보네이트(PC), 폴리아크릴로나이트릴(PAN), 폴리에테르에테르케톤(PEEK), 폴리이미드(PI) 또는 폴리벤지이미다졸(PBI 또는 A-B PBI)의 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 연료전지용 복합전해질막. 4 제 1 항에 있어서, 상기 지지체 막은 다공성 또는 비다공성이고, 5 내지 300㎛의 두께를 가지는 것을 특징으로 하는 연료전지용 복합전해질막. 5 제 1 항에 있어서, 상기 이온전도성 고분자는 술포네이티드 폴리스티렌(sPS), 술포네이티드 폴리트리플루오로스티렌(sPTFS), 술포네이티드 폴리에테르에테르케톤(sPEEK), 술포네이티드 폴리에테르술폰(sPES) 또는 술포네이티드 폴리이미드(sPI)의 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 연료전지용 복합전해질막. 6 제 1 항에 있어서, 상기 초임계 유체는 이산화탄소, 물, 메탄올 또는 에탄올의 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 연료전지용 복합전해질막. 7 비이온전도성 고분자 지지체막 내부에 이온전도성 고분자를 구비하도록 하는 연료전지용 복합전해질막의 제조 방법에 있어서, 비이온전도성 고분자 지지체막의 팽윤 현상을 유발하는 초임계 유체에 의하여 상기 지지체 막의 내부를 팽윤시키며 상기 비이온전도성 고분자 지지체막의 내부로 이온전도성 고분자의 단량체, 가교제 및 중합 개시제를 함침시킨 뒤, 초임계 상태에서 상기 단량체의 중합 반응을 수행하여 얻은 고분자에 술폰화 반응을 일으켜 이온전도성을 부여하는 것을 특징으로 하는 연료전지용 복합 전해질막의 제조 방법. 8<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 9 제 7 항 에 있어서, 상기 S1 단계는 비이온전도성 고분자 분말을 휘발성 유기용매에 용해하여 캐스팅하거나 또는 고온에서 용융시켜 사출하여 상기 지지체막을 제조하는 것을 특징으로 하는 연료전지용 복합 전해질막의 제조 방법. 10 제 1 항과 제 3 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 따른 복합 전해질막을 포함하는 것을 특징으로 하는 막-전극 결합체(membrane-electrode assembly, MEA). 11 제 10 항에 따른 막-전극 결합체를 포함하는 것을 특징으로 하는 연료전지.","KR100709553B1",null,1]
["K03650","영상처리","KR","넓은 생동폭을 갖는 스테레오 카메라 영상처리장치{Apparatus for image processing of stereo camera having wide dynamic range}",null,"원문이미지","KR20050102350A","2005.10.28","KR0680256B1","2007.02.01","본 발명은 넓은 생동폭을 갖는 스테레오 카메라 영상처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 한 대의 마스터 카메라가 슬레이브 카메라에게 영상의 노출 개시시점, 노출량, 생동폭 확장을 위한 파라미터, 전송 개시시점 등을 제어하여 좌우 스테레오 영상의 균일성을 확보할 수 있게 함으로써 다수의 카메라가 피사체에 대해 안정된 넓은 생동폭을 갖는 영상신호들을 획득하는 장치에 관한 것이다.본 발명에 의하면, 마스터(Master) 장치를 구비하며, 피사체 화상의 영상신호를 생성하기 위한 제 1영상신호처리부와; 슬레이브(Slave) 장치를 구비하며, 상기 제 1영상신호처리부와 함께 스테레오 영상을 구성하는 제 2영상신호처리부; 및 상기 제 1영상신호처리부와 제 2영상신호처리부 간에 영상촬영 시점, 노출 시간 정보와 취득된 영상정보를 교환하고 공유하기 위한 고속전용 직렬통신 인터페이스가 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 스테레오 카메라 영상신호 처리장치를 제시한다.","1 마스터(Master) 장치를 구비하며, 피사체의 영상을 생성하기 위한 제 1영상신호처리부와; 슬레이브(Slave) 장치를 구비하며, 상기 제 1영상신호처리부와 함께 스테레오 영상을 구성하는 제 2영상신호처리부; 및 상기 제 1영상신호처리부와 제 2영상신호처리부 간에 영상촬영 시점, 노출 시간 정보와 취득된 영상정보를 교환하고 공유하기 위한 고속전용 직렬통신 인터페이스가 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 스테레오 카메라 영상신호 처리장치.","박성기, 김문상, 김진헌","H04N-005/225,H04N-013/02",null,null,null,"2025.10.28","1 마스터(Master) 장치를 구비하며, 피사체의 영상을 생성하기 위한 제 1영상신호처리부와; 슬레이브(Slave) 장치를 구비하며, 상기 제 1영상신호처리부와 함께 스테레오 영상을 구성하는 제 2영상신호처리부; 및 상기 제 1영상신호처리부와 제 2영상신호처리부 간에 영상촬영 시점, 노출 시간 정보와 취득된 영상정보를 교환하고 공유하기 위한 고속전용 직렬통신 인터페이스가 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 스테레오 카메라 영상신호 처리장치. 2 청구항 1에 있어서, 상기 제 1 및 제 2영상신호처리에는 밝은 영상과 어두운 영상을 합성하기 위한 합성회로와; 상기 합성된 영상을 전송하기 위한 전송회로를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 스테레오 카메라 영상신호 처리장치. 3 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 합성회로 및 전송회로에는 고속동작을 수행하기 위해 데이터 대역폭이 32비트인 고속의 SDRAM 메모리로 구성되는 영상신호 저장부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 스테레오 카메라 영상신호 처리장치. 4 청구항 1에 있어서, 상기 고속전용 직렬통신 인터페이스에는 LVDS 인터페이스를 사용하는 것을 특징으로 하는 스테레오 카메라 영상신호 처리장치. 5 청구항 1에 있어서, 상기 제 1 및 제 2영상신호처리부는 독립적으로 분리 가능하며, 분리된 경우 각각의 독립적인 영상신호처리 기능을 수행하는 것을 스테레오 카메라 영상신호 처리장치.","KR100680256B1",null,1]
["K03646","수처리","KR","활성 슬러지 공법을 이용하는 기존의 하수 처리공정으로부터 개선된 고도처리장치 및 방법{ADVANCED WASTEWATER TREATMENT APPARATUS AND METHOD IMPROVED FROM EXISTING WASTE WATER TREATMENT PROCESS USING ACTIVATED SLUDGE METHOD}",null,"원문이미지","KR20050106858A","2005.11.09","KR0740579B1","2007.07.11","본 발명에서는 반응조, 침전조, 상기 침전조에 대하여 공기를 공급하는 블로워 및 상기 침전조로부터 배출된 반송수를 상기 반응조로 반송하는 반송 펌프를 구비하는 것이고, 상기 반응조 내에는 하나 이상의 격막이 설치되고 상기 격막으로 구분된 각 반응조 구획에는 필요에 따라 교반기가 설치되며, 상기 침전조 내에는 상기 블로워로부터 공급된 공기에 의한 연속적인 폭기와 막여과가 수행되는 침지형 분리막이 설치되는 것을 특징으로 하는 활성 슬러지 공법을 이용하는 기존의 하수 처리 공정으로부터 개선된 고도처리장치 및 방법을 제공한다. 본 발명에 따르면 기존의 활성 슬러지 공법을 사용하는 하수처리공정을 질소와 인을 처리할 수 있는 고도처리공정으로 개선함에 있어서, 기존의 반응조와 설비를 그대로 이용하기 때문에 고도처리공정으로의 개선 비용이 절감되고 추가의 반응조 설치를 위한 소요부지를 요하지 않아서 경제적이며 효과적이다. 또한, 막여과 공정에 의해 처리수를 생산함으로써 완벽한 고액 분리가 이루어지기 때문에 화학적 소독과정 없이 대장균이나 병원성 미생물 등이 제거된 고도로 깨끗한 처리수질을 유지할 수 있으므로 생산되는 처리수를 별도의 추가적인 처리 없이 화장실 용수, 자동차 세척수, 조경용수, 도로 청소수 등 중수로 바로 재이용할 수 있다.","1 반응조, 침전조와 상기 침전조로부터 배출된 반송수를 상기 반응조로 반송하는 반송 펌프를 갖춘, 인과 질소의 제거가 가능한 하폐수의 고도 처리 장치에 있어서, 상기 반응조는 반응조 내에 설치된 적어도 1개 이상의 격막에 의하여 구획들로 나뉘고, 상기 구획들 중에는 하폐수가 유입되고, 상기 반송 펌프와 연결되어 반송수를 받아들이는, 반응조 전단에 위치하는 무산소 구획, 상기 무산소 구획으로부터 하폐수와 반송수를 받아들이며, 처리한 하폐수와 반송수를 상기 침전조로 유월시키는, 반응조 말단에 위치하는 혐기성 구획이 포함되며, 상기 침전조는 반응조로부터 처리수를 받아들여 연속적으로 여과하기 위한 침지형 분리막과 상기 침지형 분리막에 공기를 공급하는 블로워를 포함하며, 받아들인 처리수의 일부를 상기 반송 펌프로 보내는 것을 특징으로 하는, 기존 활성 슬러지 공법의 하수 처리 장치를 개선한 고도 처리 장치.","조진우, 안규홍, 박재성","C02F-003/12","KR20070049751A","2007.05.14",null,"2025.11.09","1 반응조, 침전조와 상기 침전조로부터 배출된 반송수를 상기 반응조로 반송하는 반송 펌프를 갖춘, 인과 질소의 제거가 가능한 하폐수의 고도 처리 장치에 있어서, 상기 반응조는 반응조 내에 설치된 적어도 1개 이상의 격막에 의하여 구획들로 나뉘고, 상기 구획들 중에는 하폐수가 유입되고, 상기 반송 펌프와 연결되어 반송수를 받아들이는, 반응조 전단에 위치하는 무산소 구획, 상기 무산소 구획으로부터 하폐수와 반송수를 받아들이며, 처리한 하폐수와 반송수를 상기 침전조로 유월시키는, 반응조 말단에 위치하는 혐기성 구획이 포함되며, 상기 침전조는 반응조로부터 처리수를 받아들여 연속적으로 여과하기 위한 침지형 분리막과 상기 침지형 분리막에 공기를 공급하는 블로워를 포함하며, 받아들인 처리수의 일부를 상기 반송 펌프로 보내는 것을 특징으로 하는, 기존 활성 슬러지 공법의 하수 처리 장치를 개선한 고도 처리 장치. 2 제 1 항에 있어서, 상기 격막은 상기 반응조 내에 적어도 2개 이상 설치되는 것을 특징으로 하는 고도 처리 장치. 3 제 1 항에 있어서, 상기 침지형 분리막은 평막형, 중공사막형, 관형의 정밀 여과막 또는 한외 여과막인 것을 특징으로 하는 고도처리장치. 4 구획된 반응조로부터 유출된 처리수를 침전조로 유입시키고 상기 침전조로부터 배출된 반송수를 상기 구획된 반응조로 반송시키는 고도 처리 방법에 있어서, 상기 반응조 내에 설치된 하나 이상의 격막에 의하여 구획된 반응조의 전단부 무산소 구획으로 하폐수의 유입수 및 상기 반송수를 보내어 상기 격막에 의한 플러그 흐름을 유도하고, 유입수 및 반송수가 상기 무산소 구획을 거쳐 상기 반응조 내의 말단부 혐기성 구획 방향으로 이동하면서 산소가 고갈되는 단계 (S1); 및 산소가 고갈된 상기 유입수 및 상기 반송수가 상기 반응조내의 무산소 구획에서 혐기성 구획 방향으로 이동하면서 탈질 작용을 일으켜 질산성 질소가 제거되는 단계 (S2); 상기 무산소 구획으로부터 받아들인 상기 유입수 및 반송수 속 미생물이 상기 혐기성 구획 내에서 인을 방출하고 처리된 유입수 및 반송수는 처리수로서 상기 침전조로 이동하는 단계 (S3); 폭기조를 통하여 호기성 조건이 된 상기 침전조 내에서 상기 유입수, 반송수 및 반응조 속 미생물의 인 과잉섭취를 유도하여 처리수 내 인을 제거하고 상기 유입수 속 암모니아성 질소를 호기성 조건하에서 질산성 질소로 질산화하는 한편, 침전조 내에서 처리수를 침지형 분리막으로 연속적으로 흡인 여과하여 고액분리를 통하여 최종 방류수를 배출하고, 상기 인을 과잉섭취한 미생물과 질산성 질소를 상기 반송수에 포함시켜 상기 반응조의 무산소 구획으로 이동시키는 단계 (S4) 및 상기 침전조에서 인이 과잉섭취된 잉여 슬러지의 일부를 외부로 인발하여 최종적으로 인을 제거하는 단계(S5)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 기존 활성 슬러지 공법의 하수 처리 공정을 개선한 고도 처리 방법. 5 제 4 항에 있어서, 상기 S4 단계에서 상기 침지형 분리막을 이용한 막여과시 흡인 여과를 위하여 흡인 펌프를 이용하거나 수두차에 의한 자연적 흡인압을 이용하는 것을 특징으로 하는 고도 처리 방법.","KR100740579B1, KR20070049751A",null,1]
["K03647","광학","KR","광통신 시스템용 가변 시간 지연 조절기{TUNABLE GROUP DELAY CONTROLLER FOR OPTICAL TELECOMMUNICATION SYSTEM}",null,"원문이미지","KR20050099443A","2005.10.21","KR0700478B1","2007.03.21","본 발명은 첩 광섬유 격자의 시간 지연 특성을 간편하고 연속적으로 조절하여 광신호의 왜곡을 억제시킬 수 있는 광통신 시스템용 가변 시간 지연 조절기에 관한 것이다. 베이스 상에 제 1가동판과 제 2가동판이 수평으로 평행하고 직선이동가능하도록 설치된다. 제 1가동판의 이동시 제 2가동판은 제 1가동판의 이동방향과 반대방향으로 상대이동한다. 제 1가동판과 제 2가동판 상에 이동방향과 직각으로 탄성플레이트가 직립 설치되고, 첩 광섬유 격자를 포함하는 광섬유가 탄성플레이트의 일면에 부착된다. 제 1가동판과 제 2가동판의 상대이동에 따라 탄성플레이트와 광섬유는 탄성플레이트의 길이방향 중심에 대해 대칭으로 벤딩된다. 대칭으로 벤딩되는 첩 광섬유 격자의 일측 반부에는 수축력이 유도되고, 타측 반부에는 인장력이 유도된다. 인장력이 유도된 첩 광섬유 격자의 주기는 증가되고, 수축력이 유도된 첩 광섬유 격자의 주기는 감소됨으로써 첩비율의 변화가 유도되고, 광신호의 시간 지연 특성이 변화하므로 분산 특성도 변화시킬 수 있게 된다.","1 베이스와; 상기 베이스 상에 수평으로 평행하고 직선이동가능하도록 설치되는 제 1가동판 및 제 2가동판과; 상기 제 1가동판을 이동시키기 위한 수단과; 상기 베이스 상에 회전가능하게 설치되는 톱니바퀴와, 상기 톱니바퀴에 이물림되고 상기 제 1가동판에 이동방향으로 배치되어 결합되는 제 1직선기어와, 상기 톱니바퀴의 제 1직선기어 반대측에 이물림되고 상기 제 2가동판에 이동방향으로 배치되어 결합되는 제 2직선기어를 구비하여, 상기 제 1가동판의 이동시 상기 제 1가동판의 이동방향과 반대방향으로 상기 제 2가동판을 상대이동시키기 위한 수단과; 상기 제 1가동판과 제 2가동판 상에 이동방향과 직각으로 배치되고, 일면에 첩 광섬유 격자를 포함하는 광섬유가 부착되는 탄성플레이트와; 상기 제 1가동판과 제 2가동판의 상대이동시 상기 탄성플레이트와 상기 광섬유를 상기 탄성플레이트의 길이방향 중심에 대해 대칭으로 벤딩시키기 위한 수단을 포함하고, 대칭으로 벤딩되는 상기 첩 광섬유 격자의 일측 반부에는 수축력이 유도되고, 타측 반부에는 인장력이 유도되는 것을 특징으로 하는 광통신 시스템용 가변 시간 지연 조절기.","한영근, 이상배","G02B-006/02,G02B-026/00",null,null,null,"2025.10.21","1 베이스와; 상기 베이스 상에 수평으로 평행하고 직선이동가능하도록 설치되는 제 1가동판 및 제 2가동판과; 상기 제 1가동판을 이동시키기 위한 수단과; 상기 베이스 상에 회전가능하게 설치되는 톱니바퀴와, 상기 톱니바퀴에 이물림되고 상기 제 1가동판에 이동방향으로 배치되어 결합되는 제 1직선기어와, 상기 톱니바퀴의 제 1직선기어 반대측에 이물림되고 상기 제 2가동판에 이동방향으로 배치되어 결합되는 제 2직선기어를 구비하여, 상기 제 1가동판의 이동시 상기 제 1가동판의 이동방향과 반대방향으로 상기 제 2가동판을 상대이동시키기 위한 수단과; 상기 제 1가동판과 제 2가동판 상에 이동방향과 직각으로 배치되고, 일면에 첩 광섬유 격자를 포함하는 광섬유가 부착되는 탄성플레이트와; 상기 제 1가동판과 제 2가동판의 상대이동시 상기 탄성플레이트와 상기 광섬유를 상기 탄성플레이트의 길이방향 중심에 대해 대칭으로 벤딩시키기 위한 수단을 포함하고, 대칭으로 벤딩되는 상기 첩 광섬유 격자의 일측 반부에는 수축력이 유도되고, 타측 반부에는 인장력이 유도되는 것을 특징으로 하는 광통신 시스템용 가변 시간 지연 조절기. 2 제1항에 있어서, 상기 제 1가동판을 이동시키기 위한 수단은 상기 제 1가동판의 일면에 결합된 마이크로미터인 것을 특징으로 하는 광통신 시스템용 가변 시간 지연 조절기. 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4 제1항에 있어서, 상기 탄성플레이트와 상기 광섬유를 벤딩시키기 위한 수단은 상기 베이스에 설치되고 상기 탄성플레이트의 양단을 고정시키기 위한 홀더와, 상기 제 1가동판과 제 2가동판의 상면에 상기 탄성플레이트의 두 반대표면에 각각 접촉하여 구비되는 제 1고정핀과 제 2고정핀을 포함하는 것을 특징으로 하는 광통신 시스템용 가변 시간 지연 조절기. 5 제4항에 있어서, 상기 제 1가동판과 제 2가동판의 상면에는 상기 제 1고정핀과 제 2고정핀이 선택적으로 삽입설치되는 다수의 핀홀이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 광통신 시스템용 가변 시간 지연 조절기. 6 제5항에 있어서, 상기 다수의 핀홀은 상기 제 1가동판과 제 2가동판의 이동방향에 직각으로 배치되고, 상호 인접하는 핀홀 사이의 간격은 일정한 것을 특징으로 하는 광통신 시스템용 가변 시간 지연 조절기.","KR100700478B1",null,1]
["K03639","발광소자","KR","공액 고분자로부터 에너지 전달을 이용한 백색 발광 고효율형광／인광 복합 전기발광소자{EFFICIENT WHITE-EMITTING FLUORESCENT/PHOSPHORESCENT COMPLEX ELECTROLUMINESCENT DEVICES VIA ENERGY TRANSFER FROM CONJUGATED POLYMER}",null,"원문이미지","KR20050091901A","2005.09.30","KR0646292B1","2006.11.08","본 발명은 발광 고분자와 고효율 인광 물질의 블렌드 시스템을 이용한 백색 전기발광소자를 개발함으로써, 기존의 백색 발광소자에 비해 훨씬 높은 휘도와 발광 효율을 가지며, 소자 구동시 문턱전압이 현저히 낮아진 고분자-베이스의 형광/인광 복합 백색 전기발광소자를 제공한다. 높은 발광 효율을 갖는 공액 고분자를 에너지 제공 물질로서 이용하여, 이 고분자와 인광 물질과의 화학적 혼화성을 좋게 만들고 공액 고분자의 삼중항 에너지를 높여줌으로써, 공액 고분자로부터 인광물질로 효과적인 에너지 전달을 유도하였다. 발광층 내에 청색, 녹색, 적색 발광물질의 농도 조절을 통해 순백색 발광을 유도할 수 있고, 효율적인 에너지 전달로 인해 보다 향상된 전기발광 강도 및 효율을 갖게 된다.","1 투명 기판, 양극 전극층, 정공 수송층, 발광층, 전자 수송층 및 음극 전극층을 포함하는 고분자-베이스 전계 형광/인광 복합 소자로서, 상기 발광층이 1) 발광형 공액 고분자, 2) 인광물질과 3) 발광형 비공액 고분자로서의 폴리(N-비닐카르바졸) (PVK) 또는 그의 유도체의 블렌드로 이루어지는 것인 백색 전기발광 소자.","김재경, 김태호, 이행근, 박오옥, 진병두, 이수형, 유재웅","C09K-011/06,H05B-033/14",null,null,null,"2025.09.30","1 투명 기판, 양극 전극층, 정공 수송층, 발광층, 전자 수송층 및 음극 전극층을 포함하는 고분자-베이스 전계 형광/인광 복합 소자로서, 상기 발광층이 1) 발광형 공액 고분자, 2) 인광물질과 3) 발광형 비공액 고분자로서의 폴리(N-비닐카르바졸) (PVK) 또는 그의 유도체의 블렌드로 이루어지는 것인 백색 전기발광 소자. 2 제1항에 있어서, 발광형 공액 고분자가 폴리(플루오렌) 및 그의 유도체, 폴리(파라-페닐렌) 및 그의 유도체, 폴리(파라-페닐렌비닐렌) 및 그의 유도체로서 400 내지 480 nm 파장의 빛을 발생시키는 청색 계열의 고분자 발광 물질이며, 인광 물질은 이리듐 복합체, 유로퓸 복합체, 백금 복합체 또는 오스뮴 복합체로서 450 내지 700 nm 파장의 빛을 발생시키는 저분자 인광 물질인 백색 전기발광 소자. 3 제1항에 있어서, 투명기판이 유리 또는 플라스틱이며, 양극 전극층이 ITO (인듐 산화 주석), PEDOT (폴리에틸렌 디옥시티오펜), 탄소나노튜브 또는 폴리아닐린인 백색 전기발광소자. 4 제1항에 있어서, 음극 전극층이 알루미늄, 마그네슘, 리튬, 칼슘, 구리, 은, 금 또는 이들의 합금인 백색 전기발광소자. 5 제1항에 있어서, 발광형 공액 고분자로부터 인광물질로 에너지가 전달되거나, 폴리비닐카르바졸 (PVK) 및 그 유도체로부터 발광형 공액 고분자로 에너지를 전달하고 그 공액 고분자로부터 인광물질로 에너지를 전달하는 백색 전기발광 소자. 6 제1항에 있어서, 백색 발광이 디스플레이 및 면광원용으로 사용하기 위한 것인 백색 전기발광 소자. 7 제6항에 있어서, 발광형 공액 고분자가 400 내지 480 nm 파장대의 청색 발광에 이용되고, 인광물질이 490 내지 560 nm 파장대의 녹색 발광과 590 내지 700 nm 파장대의 적색 발광에 각각 이용되어 청색, 녹색, 적색의 동시 발광으로 백색 발광을 구현하여 디스플레이 및 면광원용으로 이용하는 것인 백색 전기발광 소자. 8 제1항에 있어서, 400 내지 480 nm 파장대의 청색 발광 공액 고분자와 490 내지 560 nm 파장대의 녹색 발광 인광 물질을 에너지 전달 물질로서 청색 및 녹색 발광에 이용하고, 590 내지 700 nm 파장대의 적색 발광 인광물질을 에너지 수용 물질로서 적색 발광에 이용하여 삼색 동시발광으로 백색 발광을 구현한 백색 전기발광 소자.","KR100646292B1",null,1]
["K03628","광학","KR","광섬유 라만 증폭기{FIBER RAMAN AMPLIFIER}",null,"원문이미지","KR20050088612A","2005.09.23","KR0701551B1","2007.03.23","본 발명은 펌프광을 순방향 또는 역방향으로만 인가하는 종래의 라만 증폭기의 구조를 개선한 라만 증폭기에 대한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 라만 증폭기는 제1 및 제2 단부를 갖는 라만 이득 광섬유, 제1 펌프광 및 제2 펌프광을 발생시키는 펌프광 발생 수단, 상기 라만 이득 광섬유의 제1 단부에 결합되며, 상기 제1 펌프광 및 입력 광신호를 수신하고 상기 제1 펌프광 및 입력 광신호가 상기 라만 이득 광섬유를 통과하도록 구성된 제1 커플러, 및 상기 라만 이득 광섬유의 제2 단부에 결합되며, 상기 라만 이득 광섬유를 통과한 광신호를 수신하여 출력하고 상기 제2 펌프광을 수신하여 상기 제2 펌프광이 상기 라만 이득 광섬유를 통과하도록 구성된 제2 커플러를 포함한다.","1 제1 및 제2 단부를 갖는 라만 이득 광섬유; 펌프광을 발생시키는 펌프광원; 상기 펌프광을 분리하여 제1 및 제2 펌프광을 형성하고, 상기 제1 및 제2 펌프광의 세기를 조절하는 분리수단; 상기 라만 이득 광섬유의 제1 단부에 결합되며, 상기 제1 펌프광 및 입력 광신호를 수신하고 상기 제1 펌프광 및 상기 입력 광신호가 제1 방향으로 상기 라만 이득 광섬유를 통과하도록 구성된 제1 커플러; 및 상기 라만 이득 광섬유의 제2 단부에 결합되며, 상기 라만 이득 광섬유를 통과한 광신호를 수신하여 출력하고, 상기 제2 펌프광을 수신하여 상기 제2 펌프광이 상기 제1 방향과 반대 방향인 제2 방향으로 상기 라만 이득 광섬유를 통과하도록 구성된 제2 커플러를 포함하는 광섬유 라만 증폭기.","한영근, 이상배, 김철한","G02B-006/00","KR20070034203A","2007.03.28",null,"2025.09.23","1 제1 및 제2 단부를 갖는 라만 이득 광섬유; 펌프광을 발생시키는 펌프광원; 상기 펌프광을 분리하여 제1 및 제2 펌프광을 형성하고, 상기 제1 및 제2 펌프광의 세기를 조절하는 분리수단; 상기 라만 이득 광섬유의 제1 단부에 결합되며, 상기 제1 펌프광 및 입력 광신호를 수신하고 상기 제1 펌프광 및 상기 입력 광신호가 제1 방향으로 상기 라만 이득 광섬유를 통과하도록 구성된 제1 커플러; 및 상기 라만 이득 광섬유의 제2 단부에 결합되며, 상기 라만 이득 광섬유를 통과한 광신호를 수신하여 출력하고, 상기 제2 펌프광을 수신하여 상기 제2 펌프광이 상기 제1 방향과 반대 방향인 제2 방향으로 상기 라만 이득 광섬유를 통과하도록 구성된 제2 커플러를 포함하는 광섬유 라만 증폭기. 2 제1항에 있어서, 상기 라만 이득 광섬유는 싱글모드 광섬유 (SMF), 분산 천이 광섬유 (DSF), 고비선형 광섬유 (highly nonlinear fiber), 분산 보상 광섬유 (DCF), 포토닉 크리스탈 광섬유 (Photonic crystal fiber), 및 화합물 유리 섬유(compound glass fiber)로 구성된 그룹에서 선택되는 광섬유 라만 증폭기. 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4 제1항에 있어서, 상기 분리수단은 가변 커플러를 포함하는 광섬유 라만 증폭기. 5 제1항에 있어서, 상기 펌프광원은 반도체 레이저 다이오드 또는 광섬유 라만 레이저 장비인 광섬유 라만 증폭기. 6 제1항에 있어서, 상기 제1 펌프광의 파워는 상기 제1 및 제2 펌프광의 파워의 합계에 대하여 20%에서 60% 사이인 광섬유 라만 증폭기. 7 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2 커플러는 WDM 커플러(Wavelenght Division Multiplex coupler)인 광섬유 라만 증폭기. 8 제1항에 있어서, 상기 펌프광 발생 수단은 제1 펌프광을 발생시키는 제1 펌프광 발생기 및 제2 펌프광을 발생시키는 제2 펌프광 발생기를 포함하는 광섬유 라만 증폭기.","KR100701551B1, KR20070034203A",null,1]
["K03615","연료전지","KR","증발식 연료전지 가습기{EVAPORATIVE HUMIDIFIER FOR FUEL CELL SYSTEM}",null,"원문이미지","KR20050129087A","2005.12.23","KR0654330B1","2006.11.29","본 발명은 증발식 연료전지 가습기에 관한 것으로, 고분자 막을 구비한 연료전지스택을 포함하는 연료전지 시스템에 사용되는 가습기로서, 상기 연료전지스택으로부터 배출된 고온의 가스가 유입되는 응축 채널과; 상기 연료전지스택에 공급할 공급가스가 유입되는 증발 채널과; 상기 응축 채널과 상기 증발 채널 사이를 구획하는 격벽과; 상기 응축 채널에서 응축된 응축수를 상기 증발 채널에 뿌려주는 분배기를 포함하여, 외부로부터 물을 공급하지 않더라도 습하면서도 승온된 공급가스를 연료전지스택의 고분자막에 공급할 수 있도록 하는 연료전지 가습기를 제공한다.","1 고분자 막을 구비한 연료전지스택을 포함하는 연료전지 시스템에 사용되는 가습기로서, 상기 연료전지스택으로부터 배출된 고온의 가스가 유입되는 응축 채널과; 상기 연료전지스택에 공급할 공급가스가 유입되는 증발 채널과; 상기 응축 채널과 상기 증발 채널 사이를 구획하는 격벽과; 상기 응축 채널에서 응축된 응축수를 상기 증발 채널에 뿌려주는 분배기를; 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 연료전지 가습기.","이대영, 김회웅, 김서영, 이윤표","H01M-008/04",null,null,null,"2025.12.23","1 고분자 막을 구비한 연료전지스택을 포함하는 연료전지 시스템에 사용되는 가습기로서, 상기 연료전지스택으로부터 배출된 고온의 가스가 유입되는 응축 채널과; 상기 연료전지스택에 공급할 공급가스가 유입되는 증발 채널과; 상기 응축 채널과 상기 증발 채널 사이를 구획하는 격벽과; 상기 응축 채널에서 응축된 응축수를 상기 증발 채널에 뿌려주는 분배기를; 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 연료전지 가습기. 2 제 1항에 있어서, 상기 응축 채널과 상기 증발 채널에는 열전달 핀이 형성된 것을 특징으로 하는 연료전지 가습기. 3 제 1항에 있어서, 상기 응축 채널과 상기 증발 채널의 표면은 미세 다공 구조의 친수성 처리된 것을 특징으로 하는 연료전지 가습기. 4 제 1항에 있어서, 상기 응축 채널과 상기 증발 채널과 상기 격벽은 모두 금속 재질로 형성된 것을 특징으로 하는 연료전지 가습기. 5 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 응축 채널의 저부에는 응축되는 물을 담는 수조가 더 포함되어 구성된 것을 특징으로 하는 연료전지 가습기. 6 제 5항에 있어서, 상기 수조는 상기 증발 채널의 저부까지 폭 방향으로 연장 형성된 것을 특징으로 하는 연료전지 가습기. 7 제 6항에 있어서, 상기 증발 채널의 저부와 상기 응축 채널의 저부 사이의 상기 수조에 칸막이가 형성되고; 응축 채널에서 응축되어 상기 수조에 담겨진 응축수가 상기 칸막이를 가로질러 유동할 수 있도록, 상기 칸막이가 상기 수조의 바닥면으로부터 소정거리 이격되게 설치되거나, 상기 칸막이에 관통공이 형성된 것을 특징으로 하는 연료전지 가습기. 8 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 응축 채널의 가스 유입구는 상기 응축 채널의 가스 유출구의 하측에 형성된 것을 특징으로 하는 연료전지 가습기. 9 제 8항에 있어서, 상기 응축 채널의 저부에는 수조가 형성되고, 상기 응축 채널의 가스 유입구의 하부에 폭 방향으로 연장 형성된 경사턱을 더 포함하여, 상기 응축 채널의 가스 유입구 밖으로 응축수가 넘치는 것을 방지하는 것을 특징으로 하는 연료전지 가습기. 10 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 증발 채널의 공급가스 유입구는 상기 증발 채널의 공급가스 유출구의 상측에 형성된 것을 특징으로 하는 연료전지 가습기. 11 제 10항에 있어서, 상기 증발 채널의 저부에는 수조가 형성되고, 상기 증발 채널의 공급가스 유출구의 하부에 폭 방향으로 연장 형성된 경사턱을 더 포함하여, 상기 증발 채널의 가스 유출구 밖으로 응축수가 넘치는 것을 방지하는 것을 특징으로 하는 연료전지 가습기.","KR100654330B1, US2007144454A1",null,1]
["F03151","화학","GB","Piperazinylalkylpyrazole derivatives useful as selective T-type calcium channel blockers and preparation method thereof",null,"원문이미지","EP2006254404","2006.08.22","EP01757590B1","2009.12.02","The present invention provides for novel piperazinylalkylpyrazole derivatives, the preparation method thereof and the selective T-type calcium channel blocking activity thereof. Particularly, it provides a piperazinylalkylpyrazole derivative as represented by the formula set forth below or its pharmaceutically acceptable salts, and its preparation method thereof. The compound of Formula 1 is a novel piperazinylalkylpyrazole derivative, which particulary has T-type Ca2+ channel blocking effect and thus can be useful as a therapeutic agent for nerve and muscle pain.,","1. Piperazinylalkylpyrazole compounds represented by the following Formula 1 or its pharmaceutically acceptable salt: wherein, R1 represents phenyl, X-substituted phenyl (X include nitro, methyl, fluoro, chloro, methoxy, etc.; the substitution positions are ortho, meta, and para positions; and can be mono-, di-, tri-, tetra-, or entirely-substituted ), 1,1-diphenylmethyl, X-substituted diphenylmethyl (X represents chloro, methyl; the substitution position can be ortho, meta, and para positions; and can be mono-, di-, tri-, tetra-, or entirely-substituted);R2 represents hydrogen, methyl or ethyl groups;R3 represents methyl, propyl, t-butyl, isobutyl, phenyl, cyclohexyl, substituted phenyl (wherein, the substituents are methyl, chloro, methoxy, etc.), naphthyl, piperidinyl groups;R4 represents hydrogen or C1-6lower alkyl, preferably methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tertiary butyl, 2-furyl, phenyl, X-substituted phenyl (X represents chloro, methyl, cyclohexyl, piperidinyl groups, the substitution positions can be ortho, meta, and para positions and can be mono-, di-, tri-, tetra-, or entirely- substituted); andn represents an integer from 0 to 3.","Nam, Ghil-Soo, Choi, Kyung-Il, Koh, Hun-Yeong, Pae, Ae-Nim, Rhim, Hye-Whon, Choi, In-Sung","C07D-231/12,C07D-405/04,A61K-031/415,A61K-031/4155,A61P-003/14","EP01757590A1","2007.02.28","2005.08.26 (KR 20050079095)",null,"1. Piperazinylalkylpyrazole compounds represented by the following Formula 1 or its pharmaceutically acceptable salt: wherein, R1 represents phenyl, X-substituted phenyl (X include nitro, methyl, fluoro, chloro, methoxy, etc.; the substitution positions are ortho, meta, and para positions; and can be mono-, di-, tri-, tetra-, or entirely-substituted ), 1,1-diphenylmethyl, X-substituted diphenylmethyl (X represents chloro, methyl; the substitution position can be ortho, meta, and para positions; and can be mono-, di-, tri-, tetra-, or entirely-substituted);R2 represents hydrogen, methyl or ethyl groups;R3 represents methyl, propyl, t-butyl, isobutyl, phenyl, cyclohexyl, substituted phenyl (wherein, the substituents are methyl, chloro, methoxy, etc.), naphthyl, piperidinyl groups;R4 represents hydrogen or C1-6lower alkyl, preferably methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tertiary butyl, 2-furyl, phenyl, X-substituted phenyl (X represents chloro, methyl, cyclohexyl, piperidinyl groups, the substitution positions can be ortho, meta, and para positions and can be mono-, di-, tri-, tetra-, or entirely- substituted); andn represents an integer from 0 to 3. 2. The compound of claim 1, characterized in that the compound is selected from the group consisting of: 5-methyl-3-[2-(4-phenylpiperazin-1-yl)ethyl]aminomethylpyrazole;5-methyl-1-phenyl-3-[2-(4-phenylpiperazin-1-yl)ethyl]aminomethylpyrazole;1-t-butyl-5-propyl-3-[2-(4-phenylpiperazin-1-yl)ethyl]aminomethylpyrazole;5-propyl-1-phenyl-3-[2-(4-phenylpiperazin-1-yl)ethyl]aminomethylpyrazole;1-t-butyl-5-iso-butyl-3-[2-(4-phenylpiperazin-1-yl)ethyl]aminomethylpyrazole;2-t-butyl-5-iso-butyl-3-[2-(4-phenylpiperazin-1-yl)ethyl]aminomethylpyrazole;5-iso-butyl-1-phenyl-3-[2-(4-phenylpiperazin-1-yl)ethyl]aminomethylpyrazole;5-(furan-2-yl)-1-phenyl-3-[2-(4-phenylpiperazin-1-yl)ethyl]aminomethylpyrazole;1,5-diphenyl-3-[2-(4-phenylpiperazin-1-yl)ethyl]aminomethylpyrazole;1-t-butyl-5-(4-methylphenyl)-3-[2-(4-phenylpiperazin-1-yl)ethyl]aminomethylpyrazole;1-t-butyl-5-(4-chlorophenyl)-3-[2-(4-phenylpiperazin-1-yl)ethyl]aminomethylpyrazole;5-(4-cyclohexylphenyl)-1-phenyl-3-[2-(4-phenylpiperazin-1-yl)ethyl]aminomethylpyrazole;1-phenyl-3-[2-(4-phenylpiperazin-1-yl)ethyl]aminomethyl-5-(4-piperidin-1-yl)phenylpyrazole;3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-methyl-1-phenylpyrazole;1-t-butyl-3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-propylpyrazole;3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenyl-5-propylpyrazole;1-t-butyl-5-iso-butyl-3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;5-iso-butyl-3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-(furan-2-yl)-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1,5-diphenylpyrazole;1-t-butyl-3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-(4-methylphenyl)pyrazole;1-t-butyl-3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-(4-chlorophenyl)pyrazole;5-(4-cyclohexylphenyl)-3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenyl-5-(4-piperidin-1-yl)phenylpyrazole;3-{2-[4-(2,4-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-methyl-1-phenylpyrazole;1-t-butyl-3-{2-[4-(2,4-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-propylpyrazole;3-{2-[4-(2,4-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenyl-5-propylpyrazole;1-t-butyl-5-iso-butyl-3-{2-[4-(2,4-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;5-iso-butyl-3-{2-[4-(2,4-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(2,4-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-(furan-2-yl)-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(2,4-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1,5-diphenylpyrazole;1-t-butyl-3-{2-[4-(2,4-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-(4-methyl)phenylpyrazole;1-t-butyl-5-(4-chlorophenyl)-3-{2-[4-(2,4-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]-ethyl}aminomethylpyrazole;5-(4-cyclohexylphenyl)-3-{2-[4-(2,4-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(2,4-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenyl-5-(4-piperidine-1-yl)phenylpyrazole;3-{2-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-methylpyrazole;3-{2-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-methyl-1-phenylpyrazole;1-t-butyl-3-{2-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-propylpyrazole;3-{2-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-propyl-1-phenylpyrazole;1-t-butyl-5-iso-butyl-3-{2-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;2-t-butyl-5-iso-butyl-3-{2-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;5-iso-butyl-3-{2-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;5-(furan-2-yl)-3-{2-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1,5-phenylpyrazole;1-t-butyl-5-(4-methylphenyl)-3-{2-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;1-t-butyl-5-(4-chlorophenyl)-3-{2-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;5-(4-cyclohexylphenyl)-3-{2-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenyl-5-(4-piperidine-1-yl)phenylpyrazole;5-methyl-3-{2-[4-(4-nitrophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;1-t-butyl-3-{2-[4-(4-nitrophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-propylpyrazole;3-{2-[4-(4-nitrophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenyl-5-propylpyrazole;1-t-butyl-5-iso-butyl-3-{2-[4-(4-nitrophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;5-iso-butyl-3-{2-[4-(4-nitrophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;5-(furan-2-yl)-3-{2-[4-(4-nitrophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;1,5-diphenyl-3-{2-[4-(4-nitrophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;1-t-butyl-5-(4-methylphenyl)-3-{2-[4-(4-nitrophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;1-t-butyl-5-(4-chlorophenyl)-3-{2-[4-(4-nitrophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;5-(4-cyclohexylphenyl)-3-{2-[4-(4-nitrophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;1-phenyl-5-(4-piperidin-1-yl)phenyl-3-{2-[4-(4-nitrophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;3-{2-[4-(2-fluorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-methylpyrazole;3-{2-[4-(2-fluorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-methyl-1-phenylpyrazole;1-t-butyl-3-{2-[4-(2-fluorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-propylpyrazole;3-{2-[4-(2-fluorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenyl-5-propylpyrazole;1-t-butyl-5-iso-butyl-3-{2-[4-(2-fluorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;2-t-butyl-5-iso-butyl-3-{2-[4-(2-fluorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl]aminomethylpyrazole;5-iso-butyl-3-{2-[4-(2-fluorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(2-fluorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-(furan-2-yl)-1-phenylpyrazole;1,5-diphenyl-3-{2-[4-(2-fluorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;1-t-butyl-3{2-[4-(2-fluorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl)aminomethyl-5-(4-methyl)phenylpyrazole;1-t-butyl-5-(4-chlorophenyl)-3-{2-[4-(2-fluorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;5-(4-cyclohexylphenyl)-3-{2-[4-(2-fluorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(2-fluorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenyl-5-(4-piperidine-1-yl)phenylpyrazole;3-{2-[4-(3-chlorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-methylpyrazole;3-{2-[4-(3-chlorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-methyl-1-phenylpyrazole;1-t-butyl-3-{2-[4-(3-chlorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-propylpyrazole;3-{2-[4-(3-chlorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenyl-5-propylpyrazole;1-t-butyl-5-iso-butyl-3-{2-[4-(3-chlorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;2-t-butyl-5-iso-butyl-3-{2-[4-(3-chlorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;5-iso-butyl-3-{2-[4-(3-chlorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(3-chlorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-(furan-2-yl)-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(4-diphenylmethyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-methyl-1-phenylpyrazole;1-t-butyl-3-{2-[4-(4-diphenylmethyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-propylpyrazole;3-{2-[4-(4-diphenylmethyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenyl-5-propylpyrazole;1-t-butyl-5-iso-butyl-3-{2-[4-(4-diphenylmethyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;5-iso-butyl-3-{2-[4-(4-diphenylmethyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(4-diphenylmethyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-(2-furyl)-1-phenylpyrazole;1,5-diphenyl-3-{2-[4-(4-diphenylmethyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;1-t-butyl-3-{2-[4-(4-diphenylmethyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-(4-methylphenyl)pyrazole;1-t-butyl-5-(4-chlorophenyl)-3-{2-[4-(4-diphenylmethyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;05-(4-cyclohexylphenyl)-3-{2-[4-(4-diphenylmethyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(4-diphenylmethyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenyl-5-(4-piperidin-1-yl)phenylpyrazole;3-{2-[4-(4-chlorobenzhydryl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-methyl-1-phenylpyrazole;1-t-butyl-3-{2-[4-(4-chlorobenzhydryl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-propylpyrazole;3-{2-[4-(4-chlorobenzhydryl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenyl-5-propylpyrazole;1-t-butyl-5-iso-butyl-3-{2-[4-(4-chlorobenzhydryl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;5-iso-butyl-3-{2-[4-(4-chlorobenzhydryl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(4-chlorobenzhydryl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-(2-furyl)-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(4-chlorobenzhydryl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1,5-diphenylpyrazole;1-t-butyl-3-{2-[4-(4-chlorobenzhydryl)piperazin-1-yl]-ethyl}aminomethyl-5-(4-methylphenyl)pyrazole;1-t-butyl-3-{2-[4-(4-chlorobenzhydryl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-(4-chlorophenyl)pyrazole;3-{2-[4-(4-chlorobenzhydryl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-(4-cyclohexylphenyl)-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(4-chlorobenzhydryl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenyl-5-(4-piperidine-1-ylphenyl)pyrazole;3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]propyl}aminomethyl-5-methyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]propyl}aminomethyl-1,5-diphenylpyrazole;3-{2-[4-(4-diphenylmethyl)piperazin-1-yl]propyl}aminomethyl-5-methyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(4-diphenylmethyl)piperazin-1-yl]propyl}aminomethyl-1,5-diphenylpyrazole;3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}methylaminomethyl-5-methyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}methylaminomethyl-1-phenyl-5-propylpyrazole;3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}ethylaminoethyl-5-methyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}ethylaminoethyl-1-phenyl-5-propylpyrazole; and3-{2-[4-(2,3-dimethylphehyl)piperazin-1-yl]propyl}ethylaminoethyl-1-phenyl-5-propylpyrazole. 3. A method of preparing a compound of Formula 1 or its pharmaceutically acceptable salt as defined in Claim 1, comprising treating the compound of Formula 2 and the compound of Formula 3 with a reducing agent according to the following reaction scheme: wherein R1 represents phenyl, X-substituted phenyl (X includes nitro, methyl, fluoro, chloro, methoxy, etc., its substitution sites can be ortho, meta, and para positions, and can be mono-, di-, tri-, tetra- or entirely-substituted), 1,1-diphenylmethyl, X-substituted diphenylmethyl (X represents chloro, methyl, its substitution sites can be ortho, meta, and para positions, and can be mono-, di-, tri-, tetra- or entirely-substituted);R2 is hydrogen;R3 represents methyl, propyl, isobutyl, t-butyl, phenyl, cyclohexyl, substituted phenyl (here, substituents include methyl, chloro, methoxy, etc.), naphthyl, piperidinyl groups;R4 represents hydrogen or C1-6 low alkyl, preferably methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tertiarybutyl, 2-furyl, phenyl, X-substitutedphenyl (X represents chloro, methyl, methoxy, cyclohexyl, piperidinyl groups, substitution sites can be ortho, meta, para positions, mono, di, tri, tetra or all thereof can be substituted); andn represents an integer from 0 to 3. 4. A method of preparing the compound of Formula 1 as defined in Claim 1 wherein R2 is methyl or ethyl, which method comprises reacting the compound of Formula 1 obtained from claim 3, wherein R2 is H with aldehyde in the presence of a reducing agent according to the following reaction scheme: wherein R1 represents phenyl, X-substituted phenyl (X includes nitro, methyl, fluoro, chloro, methoxy, etc., the substitution sites can be ortho, meta, and para positions, mono, di, tri, tetra or all thereof can be substituted), 1,1-diphenylmethyl, X-substituted diphenylmethyl (X represents chloro, methyl, the substitution sites can be ortho, meta, and para positions, and can be mono-, di-, tri-, tetra- or entirely-substituted);R2 is methyl or ethyl;R3 represents methyl, propyl, t-butyl, isobutyl, phenyl, cyclohexyl, substituted phenyl (here, substituents can be methyl, chloro, methoxy), naphthyl, piperidinyl groups;R4 represents hydrogen or C1-6 low alkyl, preferably methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tertiarybutyl, 2-furyl, phenyl, X-substitutedphenyl (X represents chloro, methyl, methoxy, cyclohexyl, piperidinyl, chloro groups, the substitution sites can be ortho, meta, and para positions, and can be mono-, di-, tri-, tetra- or entirely-substituted); andn is an integer from 0 to 3. 5. The method of claim 3 or claim 4, wherein the reducing agent is selected from the group consisting of NaBH4, NaBH(OAc)3, NaBH2(OAc)2, NaBH3OAc, NaBH3CN, KBH4 and KBH(OAc)3. 6. A composition for treating cranial nerve and heart related diseases related to Ca2+ channels such as epilepsy, pain or high blood pressure comprising piperazinylalkylpyrazole of Formula 1 or its pharmaceutically acceptable salts of claim 1 as an active ingredient. 7. A compound according to claim 1 or claim 2 for use in medicine. 8. Use of a compound according to claim 1 or claim 2 for the preparation of a medicament for treating cranial nerve and heart related diseases related to Ca2+ channels. 9. Use according to claim 8 wherein the cranial nerve and heart related diseases are epilepsy, pain or high blood pressure.","AT450514T, DE602006010776D1, EP1757590A1, EP1757590B1, KR100654328B1, US2007049604A1, US7544686B2","L",2]
["F03150","화학","DE","Piperazinylalkylpyrazole derivatives useful as selective T-type calcium channel blockers and preparation method thereof",null,"원문이미지","EP2006254404","2006.08.22","EP01757590B1","2009.12.02","The present invention provides for novel piperazinylalkylpyrazole derivatives, the preparation method thereof and the selective T-type calcium channel blocking activity thereof. Particularly, it provides a piperazinylalkylpyrazole derivative as represented by the formula set forth below or its pharmaceutically acceptable salts, and its preparation method thereof. The compound of Formula 1 is a novel piperazinylalkylpyrazole derivative, which particulary has T-type Ca2+ channel blocking effect and thus can be useful as a therapeutic agent for nerve and muscle pain.,","1. Piperazinylalkylpyrazole compounds represented by the following Formula 1 or its pharmaceutically acceptable salt: wherein, R1 represents phenyl, X-substituted phenyl (X include nitro, methyl, fluoro, chloro, methoxy, etc.; the substitution positions are ortho, meta, and para positions; and can be mono-, di-, tri-, tetra-, or entirely-substituted ), 1,1-diphenylmethyl, X-substituted diphenylmethyl (X represents chloro, methyl; the substitution position can be ortho, meta, and para positions; and can be mono-, di-, tri-, tetra-, or entirely-substituted);R2 represents hydrogen, methyl or ethyl groups;R3 represents methyl, propyl, t-butyl, isobutyl, phenyl, cyclohexyl, substituted phenyl (wherein, the substituents are methyl, chloro, methoxy, etc.), naphthyl, piperidinyl groups;R4 represents hydrogen or C1-6lower alkyl, preferably methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tertiary butyl, 2-furyl, phenyl, X-substituted phenyl (X represents chloro, methyl, cyclohexyl, piperidinyl groups, the substitution positions can be ortho, meta, and para positions and can be mono-, di-, tri-, tetra-, or entirely- substituted); andn represents an integer from 0 to 3.","Nam, Ghil-Soo, Choi, Kyung-Il, Koh, Hun-Yeong, Pae, Ae-Nim, Rhim, Hye-Whon, Choi, In-Sung","C07D-231/12,C07D-405/04,A61K-031/415,A61K-031/4155,A61P-003/14","EP01757590A1","2007.02.28","2005.08.26 (KR 20050079095)",null,"1. Piperazinylalkylpyrazole compounds represented by the following Formula 1 or its pharmaceutically acceptable salt: wherein, R1 represents phenyl, X-substituted phenyl (X include nitro, methyl, fluoro, chloro, methoxy, etc.; the substitution positions are ortho, meta, and para positions; and can be mono-, di-, tri-, tetra-, or entirely-substituted ), 1,1-diphenylmethyl, X-substituted diphenylmethyl (X represents chloro, methyl; the substitution position can be ortho, meta, and para positions; and can be mono-, di-, tri-, tetra-, or entirely-substituted);R2 represents hydrogen, methyl or ethyl groups;R3 represents methyl, propyl, t-butyl, isobutyl, phenyl, cyclohexyl, substituted phenyl (wherein, the substituents are methyl, chloro, methoxy, etc.), naphthyl, piperidinyl groups;R4 represents hydrogen or C1-6lower alkyl, preferably methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tertiary butyl, 2-furyl, phenyl, X-substituted phenyl (X represents chloro, methyl, cyclohexyl, piperidinyl groups, the substitution positions can be ortho, meta, and para positions and can be mono-, di-, tri-, tetra-, or entirely- substituted); andn represents an integer from 0 to 3. 2. The compound of claim 1, characterized in that the compound is selected from the group consisting of: 5-methyl-3-[2-(4-phenylpiperazin-1-yl)ethyl]aminomethylpyrazole;5-methyl-1-phenyl-3-[2-(4-phenylpiperazin-1-yl)ethyl]aminomethylpyrazole;1-t-butyl-5-propyl-3-[2-(4-phenylpiperazin-1-yl)ethyl]aminomethylpyrazole;5-propyl-1-phenyl-3-[2-(4-phenylpiperazin-1-yl)ethyl]aminomethylpyrazole;1-t-butyl-5-iso-butyl-3-[2-(4-phenylpiperazin-1-yl)ethyl]aminomethylpyrazole;2-t-butyl-5-iso-butyl-3-[2-(4-phenylpiperazin-1-yl)ethyl]aminomethylpyrazole;5-iso-butyl-1-phenyl-3-[2-(4-phenylpiperazin-1-yl)ethyl]aminomethylpyrazole;5-(furan-2-yl)-1-phenyl-3-[2-(4-phenylpiperazin-1-yl)ethyl]aminomethylpyrazole;1,5-diphenyl-3-[2-(4-phenylpiperazin-1-yl)ethyl]aminomethylpyrazole;1-t-butyl-5-(4-methylphenyl)-3-[2-(4-phenylpiperazin-1-yl)ethyl]aminomethylpyrazole;1-t-butyl-5-(4-chlorophenyl)-3-[2-(4-phenylpiperazin-1-yl)ethyl]aminomethylpyrazole;5-(4-cyclohexylphenyl)-1-phenyl-3-[2-(4-phenylpiperazin-1-yl)ethyl]aminomethylpyrazole;1-phenyl-3-[2-(4-phenylpiperazin-1-yl)ethyl]aminomethyl-5-(4-piperidin-1-yl)phenylpyrazole;3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-methyl-1-phenylpyrazole;1-t-butyl-3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-propylpyrazole;3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenyl-5-propylpyrazole;1-t-butyl-5-iso-butyl-3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;5-iso-butyl-3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-(furan-2-yl)-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1,5-diphenylpyrazole;1-t-butyl-3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-(4-methylphenyl)pyrazole;1-t-butyl-3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-(4-chlorophenyl)pyrazole;5-(4-cyclohexylphenyl)-3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenyl-5-(4-piperidin-1-yl)phenylpyrazole;3-{2-[4-(2,4-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-methyl-1-phenylpyrazole;1-t-butyl-3-{2-[4-(2,4-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-propylpyrazole;3-{2-[4-(2,4-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenyl-5-propylpyrazole;1-t-butyl-5-iso-butyl-3-{2-[4-(2,4-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;5-iso-butyl-3-{2-[4-(2,4-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(2,4-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-(furan-2-yl)-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(2,4-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1,5-diphenylpyrazole;1-t-butyl-3-{2-[4-(2,4-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-(4-methyl)phenylpyrazole;1-t-butyl-5-(4-chlorophenyl)-3-{2-[4-(2,4-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]-ethyl}aminomethylpyrazole;5-(4-cyclohexylphenyl)-3-{2-[4-(2,4-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(2,4-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenyl-5-(4-piperidine-1-yl)phenylpyrazole;3-{2-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-methylpyrazole;3-{2-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-methyl-1-phenylpyrazole;1-t-butyl-3-{2-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-propylpyrazole;3-{2-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-propyl-1-phenylpyrazole;1-t-butyl-5-iso-butyl-3-{2-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;2-t-butyl-5-iso-butyl-3-{2-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;5-iso-butyl-3-{2-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;5-(furan-2-yl)-3-{2-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1,5-phenylpyrazole;1-t-butyl-5-(4-methylphenyl)-3-{2-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;1-t-butyl-5-(4-chlorophenyl)-3-{2-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;5-(4-cyclohexylphenyl)-3-{2-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenyl-5-(4-piperidine-1-yl)phenylpyrazole;5-methyl-3-{2-[4-(4-nitrophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;1-t-butyl-3-{2-[4-(4-nitrophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-propylpyrazole;3-{2-[4-(4-nitrophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenyl-5-propylpyrazole;1-t-butyl-5-iso-butyl-3-{2-[4-(4-nitrophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;5-iso-butyl-3-{2-[4-(4-nitrophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;5-(furan-2-yl)-3-{2-[4-(4-nitrophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;1,5-diphenyl-3-{2-[4-(4-nitrophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;1-t-butyl-5-(4-methylphenyl)-3-{2-[4-(4-nitrophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;1-t-butyl-5-(4-chlorophenyl)-3-{2-[4-(4-nitrophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;5-(4-cyclohexylphenyl)-3-{2-[4-(4-nitrophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;1-phenyl-5-(4-piperidin-1-yl)phenyl-3-{2-[4-(4-nitrophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;3-{2-[4-(2-fluorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-methylpyrazole;3-{2-[4-(2-fluorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-methyl-1-phenylpyrazole;1-t-butyl-3-{2-[4-(2-fluorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-propylpyrazole;3-{2-[4-(2-fluorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenyl-5-propylpyrazole;1-t-butyl-5-iso-butyl-3-{2-[4-(2-fluorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;2-t-butyl-5-iso-butyl-3-{2-[4-(2-fluorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl]aminomethylpyrazole;5-iso-butyl-3-{2-[4-(2-fluorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(2-fluorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-(furan-2-yl)-1-phenylpyrazole;1,5-diphenyl-3-{2-[4-(2-fluorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;1-t-butyl-3{2-[4-(2-fluorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl)aminomethyl-5-(4-methyl)phenylpyrazole;1-t-butyl-5-(4-chlorophenyl)-3-{2-[4-(2-fluorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;5-(4-cyclohexylphenyl)-3-{2-[4-(2-fluorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(2-fluorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenyl-5-(4-piperidine-1-yl)phenylpyrazole;3-{2-[4-(3-chlorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-methylpyrazole;3-{2-[4-(3-chlorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-methyl-1-phenylpyrazole;1-t-butyl-3-{2-[4-(3-chlorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-propylpyrazole;3-{2-[4-(3-chlorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenyl-5-propylpyrazole;1-t-butyl-5-iso-butyl-3-{2-[4-(3-chlorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;2-t-butyl-5-iso-butyl-3-{2-[4-(3-chlorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;5-iso-butyl-3-{2-[4-(3-chlorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(3-chlorophenyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-(furan-2-yl)-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(4-diphenylmethyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-methyl-1-phenylpyrazole;1-t-butyl-3-{2-[4-(4-diphenylmethyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-propylpyrazole;3-{2-[4-(4-diphenylmethyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenyl-5-propylpyrazole;1-t-butyl-5-iso-butyl-3-{2-[4-(4-diphenylmethyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;5-iso-butyl-3-{2-[4-(4-diphenylmethyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(4-diphenylmethyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-(2-furyl)-1-phenylpyrazole;1,5-diphenyl-3-{2-[4-(4-diphenylmethyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;1-t-butyl-3-{2-[4-(4-diphenylmethyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-(4-methylphenyl)pyrazole;1-t-butyl-5-(4-chlorophenyl)-3-{2-[4-(4-diphenylmethyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;05-(4-cyclohexylphenyl)-3-{2-[4-(4-diphenylmethyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(4-diphenylmethyl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenyl-5-(4-piperidin-1-yl)phenylpyrazole;3-{2-[4-(4-chlorobenzhydryl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-methyl-1-phenylpyrazole;1-t-butyl-3-{2-[4-(4-chlorobenzhydryl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-propylpyrazole;3-{2-[4-(4-chlorobenzhydryl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenyl-5-propylpyrazole;1-t-butyl-5-iso-butyl-3-{2-[4-(4-chlorobenzhydryl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethylpyrazole;5-iso-butyl-3-{2-[4-(4-chlorobenzhydryl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(4-chlorobenzhydryl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-(2-furyl)-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(4-chlorobenzhydryl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1,5-diphenylpyrazole;1-t-butyl-3-{2-[4-(4-chlorobenzhydryl)piperazin-1-yl]-ethyl}aminomethyl-5-(4-methylphenyl)pyrazole;1-t-butyl-3-{2-[4-(4-chlorobenzhydryl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-(4-chlorophenyl)pyrazole;3-{2-[4-(4-chlorobenzhydryl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-5-(4-cyclohexylphenyl)-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(4-chlorobenzhydryl)piperazin-1-yl]ethyl}aminomethyl-1-phenyl-5-(4-piperidine-1-ylphenyl)pyrazole;3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]propyl}aminomethyl-5-methyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]propyl}aminomethyl-1,5-diphenylpyrazole;3-{2-[4-(4-diphenylmethyl)piperazin-1-yl]propyl}aminomethyl-5-methyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(4-diphenylmethyl)piperazin-1-yl]propyl}aminomethyl-1,5-diphenylpyrazole;3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}methylaminomethyl-5-methyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}methylaminomethyl-1-phenyl-5-propylpyrazole;3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}ethylaminoethyl-5-methyl-1-phenylpyrazole;3-{2-[4-(2,3-dimethylphenyl)piperazin-1-yl]ethyl}ethylaminoethyl-1-phenyl-5-propylpyrazole; and3-{2-[4-(2,3-dimethylphehyl)piperazin-1-yl]propyl}ethylaminoethyl-1-phenyl-5-propylpyrazole. 3. A method of preparing a compound of Formula 1 or its pharmaceutically acceptable salt as defined in Claim 1, comprising treating the compound of Formula 2 and the compound of Formula 3 with a reducing agent according to the following reaction scheme: wherein R1 represents phenyl, X-substituted phenyl (X includes nitro, methyl, fluoro, chloro, methoxy, etc., its substitution sites can be ortho, meta, and para positions, and can be mono-, di-, tri-, tetra- or entirely-substituted), 1,1-diphenylmethyl, X-substituted diphenylmethyl (X represents chloro, methyl, its substitution sites can be ortho, meta, and para positions, and can be mono-, di-, tri-, tetra- or entirely-substituted);R2 is hydrogen;R3 represents methyl, propyl, isobutyl, t-butyl, phenyl, cyclohexyl, substituted phenyl (here, substituents include methyl, chloro, methoxy, etc.), naphthyl, piperidinyl groups;R4 represents hydrogen or C1-6 low alkyl, preferably methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tertiarybutyl, 2-furyl, phenyl, X-substitutedphenyl (X represents chloro, methyl, methoxy, cyclohexyl, piperidinyl groups, substitution sites can be ortho, meta, para positions, mono, di, tri, tetra or all thereof can be substituted); andn represents an integer from 0 to 3. 4. A method of preparing the compound of Formula 1 as defined in Claim 1 wherein R2 is methyl or ethyl, which method comprises reacting the compound of Formula 1 obtained from claim 3, wherein R2 is H with aldehyde in the presence of a reducing agent according to the following reaction scheme: wherein R1 represents phenyl, X-substituted phenyl (X includes nitro, methyl, fluoro, chloro, methoxy, etc., the substitution sites can be ortho, meta, and para positions, mono, di, tri, tetra or all thereof can be substituted), 1,1-diphenylmethyl, X-substituted diphenylmethyl (X represents chloro, methyl, the substitution sites can be ortho, meta, and para positions, and can be mono-, di-, tri-, tetra- or entirely-substituted);R2 is methyl or ethyl;R3 represents methyl, propyl, t-butyl, isobutyl, phenyl, cyclohexyl, substituted phenyl (here, substituents can be methyl, chloro, methoxy), naphthyl, piperidinyl groups;R4 represents hydrogen or C1-6 low alkyl, preferably methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tertiarybutyl, 2-furyl, phenyl, X-substitutedphenyl (X represents chloro, methyl, methoxy, cyclohexyl, piperidinyl, chloro groups, the substitution sites can be ortho, meta, and para positions, and can be mono-, di-, tri-, tetra- or entirely-substituted); andn is an integer from 0 to 3. 5. The method of claim 3 or claim 4, wherein the reducing agent is selected from the group consisting of NaBH4, NaBH(OAc)3, NaBH2(OAc)2, NaBH3OAc, NaBH3CN, KBH4 and KBH(OAc)3. 6. A composition for treating cranial nerve and heart related diseases related to Ca2+ channels such as epilepsy, pain or high blood pressure comprising piperazinylalkylpyrazole of Formula 1 or its pharmaceutically acceptable salts of claim 1 as an active ingredient. 7. A compound according to claim 1 or claim 2 for use in medicine. 8. Use of a compound according to claim 1 or claim 2 for the preparation of a medicament for treating cranial nerve and heart related diseases related to Ca2+ channels. 9. Use according to claim 8 wherein the cranial nerve and heart related diseases are epilepsy, pain or high blood pressure.","AT450514T, DE602006010776D1, EP1757590A1, EP1757590B1, KR100654328B1, US2007049604A1, US7544686B2","L",2]
["K03613","화학","KR","고유전율 고분자-티탄산바륨 복합체{A POLYMER-BARIUM TITANATE COMPOSITE WITH HIGH-DIELECTRIC CONSTANT}",null,"원문이미지","KR20050085353A","2005.09.13","KR0627248B1","2006.09.15","본 발명은 산 처리에 의해 표면 개질된 티탄산바륨 및 이를 포함하는 고 유전성 고분자 복합체에 관한 것이다. 본 발명에 따른 산 처리에 의해 표면 개질된 티탄산바륨은 표면에 카르복실 관능기가 도입되고, 이러한 티탄산바륨을 포함한 고분자 복합체는 높은 유전상수와 우수한 기계적 물성을 가진다.","1 산 처리로 인하여 표면에 카르복실 관능기가 도입된 티탄산바륨.","이상수, 박민, 김준경, 박재관, 김태호","C01G-023/00",null,null,null,"2025.09.13","1 산 처리로 인하여 표면에 카르복실 관능기가 도입된 티탄산바륨. 2 제1항에 있어서, 상기 산은 카르복실 관능기를 지닌 유기계 산인 티탄산바륨. 3 제1항에 있어서, 상기 티탄산바륨은 고유전성 충진제용 티탄산바륨. 4 티탄산바륨에 산을 처리하여 티탄산바륨 표면에 카르복실 관능기를 도입하는 방법. 5 제4항에 있어서, 상기 산은 카르복실 관능기를 지닌 유기계 산인 방법. 6 제1항의 티탄산바륨을 포함하는 고분자-티탄산바륨 복합체. 7 제6항에 있어서, 상기 고분자는 열가소성수지 또는 열경화성수지인 복합체. 8 제7항에 있어서, 상기 열가소성수지는 폴리이미드(PI)수지, 폴리카보네이트(PC)수지, 폴리에스터수지, ABS 수지 및 폴리아마이드(PA)수지로 이루어지는 군에서 선택되는 것인 복합체. 9 제7항에 있어서, 상기 열경화성 수지는 페놀수지, 멜라민수지, 우레아수지 및 에폭시수지로 이루어지는 군에서 선택되는 것인 복합체. 10 제6항에 있어서, 상기 복합체는 캐패시터(capacitor)용 복합체.","KR100627248B1",null,1]
["K03614","기계","KR","바이패스 방식에 의한 축류 송풍기 풍량 제어 장치{BYPASS TYPE FLOW CONTROL DEVICE FOR AXIAL FLOW FAN}",null,"원문이미지","KR20050098990A","2005.10.20","KR0636049B1","2006.10.12","본 발명의 축류 송풍기 풍량 제어 장치는 통로의 입구는 축류 송풍기의 출구와 연결되고, 통로의 출구는 축류 송풍기의 입구와 연결되는 바이패스 통로와, 상기 바이패스 통로 내에 위치되는 풍량 조절 밸브를 포함한다. 본 발명의 축류 송풍기 풍량 제어 장치에서는, 상기 풍량 조절 밸브를 조절하여, 송풍기를 통과한 풍량에서 요구 풍량을 제외한 잉여 풍량을 상기 바이패스 통로를 통하여 분기시키고, 분기된 풍량은 축류 송풍기의 입구로 재유입시킨다. 상기 바이패스 통로의 케이스는 상기 축류 송풍기의 케이스와 동심원 형태를 이룰 수 있다. 또한, 상기 바이패스 통로의 입구 및 출구에 유동 손실을 줄이는 안내깃이 설치될 수 있다.","1 통로의 입구는 축류 송풍기의 출구와 연결되고, 통로의 출구는 축류 송풍기의 입구와 연결되는 바이패스 통로와, 상기 바이패스 통로 내에 위치되는 풍량 조절 밸브를 포함하고, 상기 풍량 조절 밸브를 조절하여, 송풍기를 통과한 풍량에서 요구 풍량을 제외한 잉여 풍량을 상기 바이패스 통로를 통하여 분기시키고, 분기된 풍량은 축류 송풍기의 입구로 재유입되는 축류 송풍기 풍량 제어 장치.","김광호, 신유환, 이윤표","F04D-029/54,F04D-027/00",null,null,null,"2025.10.20","1 통로의 입구는 축류 송풍기의 출구와 연결되고, 통로의 출구는 축류 송풍기의 입구와 연결되는 바이패스 통로와, 상기 바이패스 통로 내에 위치되는 풍량 조절 밸브를 포함하고, 상기 풍량 조절 밸브를 조절하여, 송풍기를 통과한 풍량에서 요구 풍량을 제외한 잉여 풍량을 상기 바이패스 통로를 통하여 분기시키고, 분기된 풍량은 축류 송풍기의 입구로 재유입되는 축류 송풍기 풍량 제어 장치. 2 제1항에 있어서, 상기 바이패스 통로의 케이스는 상기 축류 송풍기 케이스와 동심원 형태를 이루는 축류 송풍기 풍량 제어 장치. 3 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 바이패스 통로의 입구 및 출구에 유동 손실을 줄이는 안내깃이 설치된 축류 송풍기 풍량 제어 장치.","KR100636049B1",null,1]
["K03600","반도체","KR","내장형 캐패시터{EMBEDDED CAPACITOR}",null,"원문이미지","KR20050074398A","2005.08.12","KR0714275B1","2007.04.26","본 발명은 내장형 캐패시터에 관한 것으로, 양극산화에 의하여 나노 기공 어레이가 형성된 인쇄배선기판용 내장형 캐패시터를 제공한다. 본 발명에 따르면, 공정 온도를 200℃ 이하로 낮추고, 캐패시턴스 밀도를 300 nF/cm2이상으로 높일 수 있는 새로운 개념의 임배디드 캐패시터를 제조할 수 있다. 본 발명을 통해 구현한 실리콘 기판 위에 형성된 알루미늄/알루미나 나노 기공 캐패시터는, 150 μm 직경 상부 패드, 10 MHz 측정으로 86 nF/cm2 의 캐패시턴스 밀도를 관찰하였다.","1 상면에 규칙적인 요철부가 형성된 제1전극층; 상기 제1전극층 위에 형성된 균일한 두께의 금속 산화물층; 및 상기 금속 산화물층 위에 형성된 제2전극층;을 포함하는 내장형 커패시터.","이전국","H01G-004/10,H05K-003/46","KR20070019432A","2007.02.15",null,"2025.08.12","1 상면에 규칙적인 요철부가 형성된 제1전극층; 상기 제1전극층 위에 형성된 균일한 두께의 금속 산화물층; 및 상기 금속 산화물층 위에 형성된 제2전극층;을 포함하는 내장형 커패시터. 2 제1항에 있어서, 상기 제1전극층은 Al, Ti, Ta, Zr 중에서 선택되는 어느 하나의 물질로 구성되는 내장형 캐패시터. 3 제1항에 있어서, 상기 금속 산화물층은 Al2O3, TiO2, Ta2O5, ZrO2 중에서 선택되는 어느 하나의 물질로 구성되는 내장형 캐패시터. 4 기판 위에 Al, Ti, Ta, Zr 중에서 선택되는 어느 하나의 물질로 제1전극층을 형성하고, 상기 제1전극층을 양극산화시켜 제1전극층의 상면에 규칙적인 요철부를 형성함과 동시에 상기 요철부가 형성된 제1전극층 위에 균일한 두께의 금속 산화물층을 형성하며, 상기 금속 산화물층에 제2전극층을 형성하는 단계를 포함하는 내장형 캐패시터 제조방법. 5 제4항에 있어서, 상기 제1전극층 표면에 나노 어레이 탐침으로 양극산화 시작점을 형성시키는 단계를 더 포함하는 내장형 캐패시터 제조방법. 6 제4항에 있어서, 상기 양극산화 단계는 1차로 양극산화를 수행하여 나노 기공 어레이를 형성하고, 상기 나노 기공 어레이를 제거하고, 2차로 양극산화를 수행하는 것을 특징으로 하는 내장형 캐패시터 제조방법. 7 제4항에 있어서, 상기 기판은 고분자 물질이고, 상기 금속 산화물층의 형성은 최대 200℃에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 내장형 캐패시터 제조방법.","KR100714275B1, KR20070019432A",null,1]
["F02258","화학","US","Bicyclic tetrahydrofuran lactone derivatives and process for the preparation thereof",null,"원문이미지","US11/303125","2005.12.15","US7223874","2007.05.29","The present invention relates to bicyclic tetrahydrofuran lactone derivatives of Formula (1) and a preparation method thereof, and particularly it relates to a process of preparing compounds of Formula (1) by performing an intramolecular cyclization of tetrahydrofuran-allenic acid derivatives in the presence of a phenyl halide, a palladium catalyst and a base: wherein n is 1 or 2, and R is phenyl optionally substituted with C1–C6 alkyl, C1–C6 alkoxy, hydroxyl or C1–C6 hydroxyalkyl group.","1. Bicyclic tetrahydrofuran lactone of Formula (1): wherein n is 1 or 2, and R is phenyl optionally substituted with C1-C6 alkyl, C1-C6 alkoxy, hydroxyl or C1-C6 hydroxyalkyl group.","Cho; Yong Seo, Cha; Joo Hwan, Pae; Ae Nim, Koh; Hun Yeong, Shin; Chul","C07D-493/00,C07D-311/02","US20070010679A1","2007.01.11","2005.07.08 (KR 10-2005-0061706)","2026.01.02","1. Bicyclic tetrahydrofuran lactone of Formula (1): wherein n is 1 or 2, and R is phenyl optionally substituted with C1-C6 alkyl, C1-C6 alkoxy, hydroxyl or C1-C6 hydroxyalkyl group. 2. The bicyclic tetrahydrofuran lactone of claim 1, wherein n is 1, and R is phenyl optionally substituted with C1-C6 alkyl or C1-C6 alkoxy group. 3. The bicyclic tetrahydrofuran lactone of claim 1, wherein n is 2, and R is phenyl optionally substituted with C1-C6 alkyl or C1-C6 alkoxy group. 4. A process of preparing bicyclic tetrahydrofuran lactone of Formula (1), the process comprising an intramolecular cyclization of tetrahydrofuran-allenic acid derivatives of Formula (2) in the presence of a phenyl halide, a palladium catalyst and a base: wherein n is 1 or 2; R is phenyl optionally substituted with C1-C6 alkyl, C1-C6 alkoxy, hydroxyl or C1-C6 hydroxyalkyl group; and R1 is C1-C6 alkyl group. 5. The process of claim 4, wherein any solvent selected from diethyl ether, tetrahydrofuran, dichloromethane, dimethylformamide, ethyl acetate, chloroform and a mixture thereof may be used. 6. The process of claim 4, wherein the phenyl halide is used in an amount of about 1-6 equivalents. 7. The process of claim 4, wherein 0.01-1 equivalent of tetrakis(triphenylphosphin)palladium is used as the palladium catalyst. 8. The process of claim 4, wherein the base is metal salt selected from the group of carbonate, bicarbonate, sulfate and a mixture thereof and wherein the metal is alkali metal or alkaline earth metal. 9. The process of claim 8, wherein 1-6 equivalents of potassium carbonate is used as the base. 10. The process of claim 4, wherein the cyclization is performed at 0-90° C.","KR100645372B1, US2007010679A1, US7223874B2, WO2007007940A1",null,1]
["F02259","화학","US","Bycyclic tetrahydrofuran derivatives and process for the preparation thereof",null,"원문이미지","US11/300966","2005.12.15","US7241906","2007.07.10","The present invention relates to bicyclic tetrahydrofuran derivatives of Formula (1) and a preparation method thereof, and particularly it relates to a process of preparing compounds of Formula (1) by performing an intramolecular cyclization of tetrahydrofuran-allenol derivatives in the presence of alcohol compound, transitional metal catalyst and carbon monoxide: wherein n is 1 or 2; R is phenyl optionally substituted with C1-C6 alkyl, C1-C6 alkoxy, hydroxyl or C1-C6 hydroxyalkyl group; and R1 is C1-C6 alkyl group.","1. Bicyclic tetrahydrofuran of Formula (1): wherein n is 1 or 2; R is phenyl optionally substituted with C1-C6 alkyl, C1-C6 alkoxy, hydroxyl or C1-C6 hydroxyalkyl group; and R1 is C1-C6 alkyl group.","Cho; Yong Seo, Pae; Ae Nim, Cha; Joo Hwan, Koh; Hun Yeong, Shin; Chul","C07D-493/02","US20070010576A1","2007.01.11","2005.07.08 (KR 10-2005-0061697)","2026.02.01","1. Bicyclic tetrahydrofuran of Formula (1): wherein n is 1 or 2; R is phenyl optionally substituted with C1-C6 alkyl, C1-C6 alkoxy, hydroxyl or C1-C6 hydroxyalkyl group; and R1 is C1-C6 alkyl group. 2. The bicyclic tetrahydrofuran of claim 1, wherein n is 1; R is phenyl optionally substituted with C1-C6 alkyl or C1-C6 alkoxy group; and R1 is C1-C6 alkyl group. 3. The bicyclic tetrahydrofuran of claim 1, wherein n is 2; R is phenyl optionally substituted with C1-C6 alkyl or C1-C6 alkoxy group; and R1 is C1-C6 alkyl group. 4. A process of preparing bicyclic tetrahydrofuran of Formula (1), the process comprising an intramolecular cyclization of tetrahydrofuran-allenol derivatives of Formula (2) in the presence of alcohol compound, transitional metal catalyst and carbon monoxide: wherein n is 1 or 2; R is phenyl optionally substituted with C1-C6 alkyl, C1-C6 alkoxy, hydroxyl or C1-C6 hydroxyalkyl group; and R1 is C1-C6 alkyl group. 5. The process of claim 4, wherein the alcohol compound is used in the amount of from 1 equivalent of the tetrahydrofuran-allenol of Formula (2) to a solvent amount. 6. The process of claim 4, wherein the transitional metal catalyst is transitional metal halide. 7. The process of claim 6, wherein the transitional metal catalyst is palladium dichloride, copper dichloride or a mixture thereof. 8. The process of claim 7, wherein the transitional metal catalyst is a mixture of 0.01-1 equivalent of palladium dichloride and 1-5 equivalents of copper dichloride. 9. The process of claim 4, wherein the intramolecular cyclization is performed at 0-25° C. 10. The process of claim 4, wherein any solvent selected from diethyl ether, tetrahydrofuran, dichloromethane, chloroform, ethyl acetate and a mixture thereof is additionally used.","KR100645371B1, US2007010576A1, US7241906B2, WO2007007939A1",null,1]
["K03603","화학","KR","ω-[2-(폴리알킬렌옥시)에틸티오]알킬알콕시실레인 유도체와 이의 제조방법{ω-[2-(Polyalkyleneoxy)ethylthio]alkylalkoxysilanes and their preparation methods}",null,"원문이미지","KR20050075265A","2005.08.17","KR0668045B1","2007.01.05","본 발명은 ω-[2-(폴리알킬렌옥시)에틸티오]알킬알콕시실레인 유도체와 이의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 (ω-머켑토알킬)알콕시실레인 화합물을 금속성 염기로 처리하여 ω-(알콕시실릴)알킬티올레이트 금속염으로 전환시킨 후에, 폴리(알킬렌옥시) 알킬 에테르 할로겐화물 또는 폴리(알킬렌옥시) 비스(할로알킬) 에테르와 낮은 반응온도 조건에서 탈할로겐금속화 반응을 통해서 탄소-황 결합시키는 방법으로 제조된 신규 구조의 ω-[2-(폴리알킬렌옥시)에틸티오]알킬알콕시실레인 유도체와 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명이 특징으로 하는 신규 화합물은 분자구조 내에 Si-OR 결합 이외에도 황 원소를 포함하고 있어 친수성 기능을 향상시킬 수 있는 기능성 실리콘 고분자 합성용 단량체 또는 실리콘계 계면활성제 원료, 유기/무기재료의 표면개질제로 유용하게 사용될 수 있다. 또한, 신규 화합물의 제조방법에 있어서도 실온에서의 반응이 가능하고, 수율이 높으며, 반응 후에 부산물로 생성된 할로겐금속 염은 간단한 여과방법으로 제거하는 것이 가능하기 때문에 전체적으로 경제적인 공정으로 구성되어 있다.","1 다음 화학식 1로 표시되는 신규 ω-[2-(폴리알킬렌옥시)에틸티오]알킬알콕시실레인 유도체 : [화학식 1] 상기 화학식 1에서, R1은 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 또는 페닐기를 나타내고; R2는 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 탄소수 1 내지 6의 알콕시기, 페닐기, 또는 페녹시기를 나타내고; R3과 R4는 각각 수소원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고; R5는 탄소수 1 내지 18의 알킬 치환된 페닐기, 또는 -CH2CH2S(CH2)nSiR2(OR1)2 를 나타내고; n은 2 또는 3의 정수를 나타내고; m은 1 내지 1,000 사이의 정수를 나타낸다.","유복렬, 한준수, 임원철, 조주현, 전유경","C07F-007/18",null,null,null,"2025.08.17","1 다음 화학식 1로 표시되는 신규 ω-[2-(폴리알킬렌옥시)에틸티오]알킬알콕시실레인 유도체 : [화학식 1] 상기 화학식 1에서, R1은 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 또는 페닐기를 나타내고; R2는 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 탄소수 1 내지 6의 알콕시기, 페닐기, 또는 페녹시기를 나타내고; R3과 R4는 각각 수소원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고; R5는 탄소수 1 내지 18의 알킬 치환된 페닐기, 또는 -CH2CH2S(CH2)nSiR2(OR1)2 를 나타내고; n은 2 또는 3의 정수를 나타내고; m은 1 내지 1,000 사이의 정수를 나타낸다. 2 제 1 항에 있어서, 상기 R1은 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고; R2는 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 또는 탄소수 1 내지 6의 알콕시기를 나타내고; R3과 R4는 각각 수소원자 또는 메틸기를 나타내고; R5는 탄소수 1 내지 18의 알킬 치환된 페닐기, 또는 -CH2CH2S(CH2)nSiR2(OR1)2 를 나타내고; n은 2 또는 3의 정수를 나타내고; m은 1 내지 1,000 사이의 정수를 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물. 3 다음 화학식 2로 표시되는 (ω-머켑토알킬)알콕시실레인 화합물을 알칼리금속 또는 알칼리토금속의 금속성 염기와 반응시켜 다음 화학식 3으로 표시되는 ω-(알콕시실릴)알킬티올레이트 금속염으로 전환시킨 후에, 다음 화학식 4로 표시되는 폴리(알킬렌옥시) 알킬 에테르 할로겐화물 또는 다음 화학식 5로 표시되는 폴리(알킬렌옥시) 비스(할로알킬) 에테르와 탈할로겐금속화 반응시켜 다음 화학식 1로 표시되는 ω-[2-(폴리알킬렌옥시)에틸티오]알킬알콕시실레인 유도체를 제조하는 것을 특징으로 하는 제조방법 : [화학식 2] [화학식 3] [화학식 4] [화학식 5] [화학식 1] 상기 화학식에서, R1은 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 또는 페닐기를 나타내고; R2는 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 탄소수 1 내지 6의 알콕시기, 페닐기, 또는 페녹시기를 나타내고; R3과 R4는 각각 수소원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고; R5는 탄소수 1 내지 18의 알킬기, 탄소수 1 내지 18의 알킬 치환된 페닐기, 탄소수 3 내지 18의 고리형 알킬기, 불포화 결합을 가지고 있는 탄소수 2 내지 18의 알켄기, 또는 -CH2CH2S(CH2)nSiR2(OR1)2 를 나타내고; n은 2 또는 3의 정수를 나타내고; m은 1 내지 1,000 사이의 정수를 나타낸다.정의한 바와 같고; M은 알칼리금속 또는 알칼리토금속 원자를 나타내고; X는 할로겐원자를 나타낸다. 4 제 3 항에 있어서, 상기 금속성 염기는 상기 화학식 2로 표시되는 (ω-머켑토알킬)알콕시실레인 화합물 대해 0.4 내지 1.2 몰비 범위로 사용하는 것을 특징으로 하는 제조방법. 5 제 3 항에 있어서, 상기 화학식 4로 표시되는 폴리(알킬렌옥시) 알킬 에테르 할로겐화물은 상기 화학식 2로 표시되는 (ω-머켑토알킬)알콕시실레인 화합물 대해 0.4 내지 1.2 몰비 범위로 사용하는 것을 특징으로 하는 제조방법. 6 제 3 항에 있어서, 상기 탈할로겐금속화 반응은 -100 ℃ 내지 150 ℃ 온도범위에서 수행하는 것을 특징으로 하는 제조방법. 7 제 3 항에 있어서, 상기 탈할로겐금속화 반응은 알코올, 테트라하이드로퓨란, 아세토니트릴 및 디에틸에테르 중에서 선택된 극성 용매를 사용하여 수행하는 것을 특징으로 하는 제조방법.","EP1762571A1, EP1762571B1, JP2007051122A, KR100668045B1, US2007043232A1, US7259272B2","M",5]
["F02286","화학","DE","Omega-2-(Polyalkyleneoxy)ethylthio alkylalkoxysilane derivatives and preparation method thereof",null,"원문이미지","EP2005257935","2005.12.21","EP01762571B1","2014.02.12","The present invention relates to a ?-[2-(polyalkyleneoxy)ethylthio]alkylalkoxysilane derivative and a preparation method thereof, more particularly to a ?-[2-(polyalkyleneoxy)ethylthio]alkylalkoxysilane derivative prepared by transforming a (?-mercaptoalkyl)alkylalkoxysilane compound into a ?-(alkoxysilyl)alkylthiolate metal salt by treating it with a metallic base and performing dehalometallation at low reaction temperature using a poly(alkyleneoxy)alkyl ether halide or a poly(alkyleneoxy)bis(haloalkyl) ether to form a carbon-sulfur bond and a preparation method thereof. The novel compound of the present invention has not only a Si-OR bond but also contains a sulfur atom in the molecule, so that it can be used as monomer for synthesizing hydrophilic functional silicon polymers, source material of silicon-based surfactants and surface modifier of organic/inorganic materials. In addition, the preparation method of the compound is an economical one as the reaction can be performed at room temperature, the production yield is high and the reaction byproduct (metal halide) can be easily removed by filtration.,","1. A method for preparing the ?-[2-(polyalkyleneoxy)ethylthio]alkylalkoxysilane derivative represented by the formula 1 below comprising: (a) transforming the (?-mercaptoalkyl)alkylalkoxysilane compound represented by the formula 2 below into the ?-(alkoxysilyl)alkylthiolate metal salt represented by the formula 3 below by reacting it with a metallic base of an alkali metal or an alkaline earth metal; and(b) dehalometallating the ?-(alkoxysilyl)alkylthiolate metal salt with the poly(alkyleneoxy)alkyl ether halide represented by the formula 4 below or the poly(alkyleneoxy)bis(haloalkyl) ether represented by the formula 5 below: wherein R1 is C1-C6 alkyl;R2 is C1-C6 alkyl or C1-C6 alkoxy;each of R3 and R4 is hydrogen or methyl;R5 is C1-C18 alkyl-substituted phenyl or -CH2CH2S(CH2)nSiR2(OR1)2;n is an integer of 2 or 3;m is an integer of 1 to 1,000;and M represents an alkali metal or alkaline earth metal atom.","Yoo, Bok Ryul, Lim, Weon Cheol, Cho, Joo-hyun, Jeon, Yoo Kyoung, Han, Joon Soo","C07F-007/18","EP01762571A1","2007.03.14","2005.08.17 (KR 2005075265)",null,"1. A method for preparing the ?-[2-(polyalkyleneoxy)ethylthio]alkylalkoxysilane derivative represented by the formula 1 below comprising: (a) transforming the (?-mercaptoalkyl)alkylalkoxysilane compound represented by the formula 2 below into the ?-(alkoxysilyl)alkylthiolate metal salt represented by the formula 3 below by reacting it with a metallic base of an alkali metal or an alkaline earth metal; and(b) dehalometallating the ?-(alkoxysilyl)alkylthiolate metal salt with the poly(alkyleneoxy)alkyl ether halide represented by the formula 4 below or the poly(alkyleneoxy)bis(haloalkyl) ether represented by the formula 5 below:  wherein R1 is C1-C6 alkyl;R2 is C1-C6 alkyl or C1-C6 alkoxy;each of R3 and R4 is hydrogen or methyl;R5 is C1-C18 alkyl-substituted phenyl or -CH2CH2S(CH2)nSiR2(OR1)2;n is an integer of 2 or 3;m is an integer of 1 to 1,000;and M represents an alkali metal or alkaline earth metal atom. 2. The preparation method of claim 1, wherein the metallic base is used in the amount of from 0.4 to 1.2 moles per 1 mole of the (?-mercaptoalkyl)alkylalkoxysilane compound represented by the formula 2. 3. The preparation method of claim 1, wherein the poly(alkyleneoxy)alkyl ether halide represented by the formula 4 is used in the amount of from 0.4 to 1.2 moles per 1 mole of the (?-mercaptoalkyl)alkylalkoxysilane compound represented by the formula 2. 4. The preparation method of claim 1, wherein the dehalometallation is performed at a temperature of from -100 øC to 150 øC. 5. The preparation method of claim 1, wherein the dehalometallation is performed using a polar solvent selected from the group consisting of an alcohol, tetrahydrofuran, acetonitrile and diethyl ether.","EP1762571A1, EP1762571B1, JP2007051122A, KR100668045B1, US2007043232A1, US7259272B2","M",5]
["F02286","화학","DE","Omega-2-(Polyalkyleneoxy)ethylthio alkylalkoxysilane derivatives and preparation method thereof",null,"원문이미지","EP2005257935","2005.12.21","EP01762571B1","2014.02.12","The present invention relates to a ?-[2-(polyalkyleneoxy)ethylthio]alkylalkoxysilane derivative and a preparation method thereof, more particularly to a ?-[2-(polyalkyleneoxy)ethylthio]alkylalkoxysilane derivative prepared by transforming a (?-mercaptoalkyl)alkylalkoxysilane compound into a ?-(alkoxysilyl)alkylthiolate metal salt by treating it with a metallic base and performing dehalometallation at low reaction temperature using a poly(alkyleneoxy)alkyl ether halide or a poly(alkyleneoxy)bis(haloalkyl) ether to form a carbon-sulfur bond and a preparation method thereof. The novel compound of the present invention has not only a Si-OR bond but also contains a sulfur atom in the molecule, so that it can be used as monomer for synthesizing hydrophilic functional silicon polymers, source material of silicon-based surfactants and surface modifier of organic/inorganic materials. In addition, the preparation method of the compound is an economical one as the reaction can be performed at room temperature, the production yield is high and the reaction byproduct (metal halide) can be easily removed by filtration.,","1. A method for preparing the ?-[2-(polyalkyleneoxy)ethylthio]alkylalkoxysilane derivative represented by the formula 1 below comprising: (a) transforming the (?-mercaptoalkyl)alkylalkoxysilane compound represented by the formula 2 below into the ?-(alkoxysilyl)alkylthiolate metal salt represented by the formula 3 below by reacting it with a metallic base of an alkali metal or an alkaline earth metal; and(b) dehalometallating the ?-(alkoxysilyl)alkylthiolate metal salt with the poly(alkyleneoxy)alkyl ether halide represented by the formula 4 below or the poly(alkyleneoxy)bis(haloalkyl) ether represented by the formula 5 below: wherein R1 is C1-C6 alkyl;R2 is C1-C6 alkyl or C1-C6 alkoxy;each of R3 and R4 is hydrogen or methyl;R5 is C1-C18 alkyl-substituted phenyl or -CH2CH2S(CH2)nSiR2(OR1)2;n is an integer of 2 or 3;m is an integer of 1 to 1,000;and M represents an alkali metal or alkaline earth metal atom.","Yoo, Bok Ryul, Lim, Weon Cheol, Cho, Joo-hyun, Jeon, Yoo Kyoung, Han, Joon Soo","C07F-007/18","EP01762571A1","2007.03.14","2005.08.17 (KR 2005075265)",null,"1. A method for preparing the ?-[2-(polyalkyleneoxy)ethylthio]alkylalkoxysilane derivative represented by the formula 1 below comprising: (a) transforming the (?-mercaptoalkyl)alkylalkoxysilane compound represented by the formula 2 below into the ?-(alkoxysilyl)alkylthiolate metal salt represented by the formula 3 below by reacting it with a metallic base of an alkali metal or an alkaline earth metal; and(b) dehalometallating the ?-(alkoxysilyl)alkylthiolate metal salt with the poly(alkyleneoxy)alkyl ether halide represented by the formula 4 below or the poly(alkyleneoxy)bis(haloalkyl) ether represented by the formula 5 below:  wherein R1 is C1-C6 alkyl;R2 is C1-C6 alkyl or C1-C6 alkoxy;each of R3 and R4 is hydrogen or methyl;R5 is C1-C18 alkyl-substituted phenyl or -CH2CH2S(CH2)nSiR2(OR1)2;n is an integer of 2 or 3;m is an integer of 1 to 1,000;and M represents an alkali metal or alkaline earth metal atom. 2. The preparation method of claim 1, wherein the metallic base is used in the amount of from 0.4 to 1.2 moles per 1 mole of the (?-mercaptoalkyl)alkylalkoxysilane compound represented by the formula 2. 3. The preparation method of claim 1, wherein the poly(alkyleneoxy)alkyl ether halide represented by the formula 4 is used in the amount of from 0.4 to 1.2 moles per 1 mole of the (?-mercaptoalkyl)alkylalkoxysilane compound represented by the formula 2. 4. The preparation method of claim 1, wherein the dehalometallation is performed at a temperature of from -100 øC to 150 øC. 5. The preparation method of claim 1, wherein the dehalometallation is performed using a polar solvent selected from the group consisting of an alcohol, tetrahydrofuran, acetonitrile and diethyl ether.","EP1762571A1, EP1762571B1, JP2007051122A, KR100668045B1, US2007043232A1, US7259272B2","M",5]
["F02286","화학","DE","Omega-2-(Polyalkyleneoxy)ethylthio alkylalkoxysilane derivatives and preparation method thereof",null,"원문이미지","EP2005257935","2005.12.21","EP01762571B1","2014.02.12","The present invention relates to a ?-[2-(polyalkyleneoxy)ethylthio]alkylalkoxysilane derivative and a preparation method thereof, more particularly to a ?-[2-(polyalkyleneoxy)ethylthio]alkylalkoxysilane derivative prepared by transforming a (?-mercaptoalkyl)alkylalkoxysilane compound into a ?-(alkoxysilyl)alkylthiolate metal salt by treating it with a metallic base and performing dehalometallation at low reaction temperature using a poly(alkyleneoxy)alkyl ether halide or a poly(alkyleneoxy)bis(haloalkyl) ether to form a carbon-sulfur bond and a preparation method thereof. The novel compound of the present invention has not only a Si-OR bond but also contains a sulfur atom in the molecule, so that it can be used as monomer for synthesizing hydrophilic functional silicon polymers, source material of silicon-based surfactants and surface modifier of organic/inorganic materials. In addition, the preparation method of the compound is an economical one as the reaction can be performed at room temperature, the production yield is high and the reaction byproduct (metal halide) can be easily removed by filtration.,","1. A method for preparing the ?-[2-(polyalkyleneoxy)ethylthio]alkylalkoxysilane derivative represented by the formula 1 below comprising: (a) transforming the (?-mercaptoalkyl)alkylalkoxysilane compound represented by the formula 2 below into the ?-(alkoxysilyl)alkylthiolate metal salt represented by the formula 3 below by reacting it with a metallic base of an alkali metal or an alkaline earth metal; and(b) dehalometallating the ?-(alkoxysilyl)alkylthiolate metal salt with the poly(alkyleneoxy)alkyl ether halide represented by the formula 4 below or the poly(alkyleneoxy)bis(haloalkyl) ether represented by the formula 5 below: wherein R1 is C1-C6 alkyl;R2 is C1-C6 alkyl or C1-C6 alkoxy;each of R3 and R4 is hydrogen or methyl;R5 is C1-C18 alkyl-substituted phenyl or -CH2CH2S(CH2)nSiR2(OR1)2;n is an integer of 2 or 3;m is an integer of 1 to 1,000;and M represents an alkali metal or alkaline earth metal atom.","Yoo, Bok Ryul, Lim, Weon Cheol, Cho, Joo-hyun, Jeon, Yoo Kyoung, Han, Joon Soo","C07F-007/18","EP01762571A1","2007.03.14","2005.08.17 (KR 2005075265)",null,"1. A method for preparing the ?-[2-(polyalkyleneoxy)ethylthio]alkylalkoxysilane derivative represented by the formula 1 below comprising: (a) transforming the (?-mercaptoalkyl)alkylalkoxysilane compound represented by the formula 2 below into the ?-(alkoxysilyl)alkylthiolate metal salt represented by the formula 3 below by reacting it with a metallic base of an alkali metal or an alkaline earth metal; and(b) dehalometallating the ?-(alkoxysilyl)alkylthiolate metal salt with the poly(alkyleneoxy)alkyl ether halide represented by the formula 4 below or the poly(alkyleneoxy)bis(haloalkyl) ether represented by the formula 5 below:  wherein R1 is C1-C6 alkyl;R2 is C1-C6 alkyl or C1-C6 alkoxy;each of R3 and R4 is hydrogen or methyl;R5 is C1-C18 alkyl-substituted phenyl or -CH2CH2S(CH2)nSiR2(OR1)2;n is an integer of 2 or 3;m is an integer of 1 to 1,000;and M represents an alkali metal or alkaline earth metal atom. 2. The preparation method of claim 1, wherein the metallic base is used in the amount of from 0.4 to 1.2 moles per 1 mole of the (?-mercaptoalkyl)alkylalkoxysilane compound represented by the formula 2. 3. The preparation method of claim 1, wherein the poly(alkyleneoxy)alkyl ether halide represented by the formula 4 is used in the amount of from 0.4 to 1.2 moles per 1 mole of the (?-mercaptoalkyl)alkylalkoxysilane compound represented by the formula 2. 4. The preparation method of claim 1, wherein the dehalometallation is performed at a temperature of from -100 øC to 150 øC. 5. The preparation method of claim 1, wherein the dehalometallation is performed using a polar solvent selected from the group consisting of an alcohol, tetrahydrofuran, acetonitrile and diethyl ether.","EP1762571A1, EP1762571B1, JP2007051122A, KR100668045B1, US2007043232A1, US7259272B2","M",5]
["F02284","화학","US","ω-[2-(polyalkyleneoxy)ethylthio]alkylalkoxysilane derivative and preparation method thereof",null,"원문이미지","US11/314423","2005.12.20","US7259272","2007.08.21","The present invention relates to a ω-[2-(polyalkyleneoxy)ethylthio]alkylalkoxysilane derivative and a preparation method thereof, more particularly to a ω-[2-(polyalkyleneoxy)ethylthio]alkylalkoxysilane derivative prepared by transforming a (ω-mercaptoalkyl)alkylalkoxysilane compound into a ω-(alkoxysilyl)alkylthiolate metal salt by treating it with a metallic base and performing dehalometallation at low reaction temperature using a poly(alkyleneoxy)alkyl ether halide or a poly(alkyleneoxy)bis(haloalkyl) ether to form a carbon-sulfur bond and a preparation method thereof. The novel compound of the present invention has not only a Si—OR bond but also contains a sulfur atom in the molecule, so that it can be used as monomer for synthesizing hydrophilic functional silicon polymers, source material of silicon-based surfactants and surface modifier of organic/inorganic materials. In addition, the preparation method of the compound is an economical one as the reaction can be performed at room temperature, the production yield is high and the reaction byproduct (metal halide) can be easily removed by filtration.","1. A novel ?-[2-(polyalkyleneoxy)ethylthio]alkylalkoxysilane derivative represented by the following formula 1: Wherein R1 is C1-C6 alkyl or phenyl; R2 is C1-C6 alkyl, C1-C6 alkoxy, phenyl or phenoxy; each of R3 and R4 is hydrogen or C1-C6 alkyl; R5 is alkyl having an aromatic group, or -CH2CH2S(CH2)nSiR2(OR1)2; n is an integer of 2 or 3; and m is an integer of 1 to 1,000.","Yoo; Bok Ryul, Han; Joon Soo, Lim; Weon Cheol, Cho; Joo-hyun, Jeon; Yoo Kyoung","C07F-007/04","US20070043232A1","2007.02.22","2005.08.17 (KR 10-2005-0075265)","2025.12.20","1. A novel ?-[2-(polyalkyleneoxy)ethylthio]alkylalkoxysilane derivative represented by the following formula 1: Wherein R1 is C1-C6 alkyl or phenyl; R2 is C1-C6 alkyl, C1-C6 alkoxy, phenyl or phenoxy; each of R3 and R4 is hydrogen or C1-C6 alkyl; R5 is alkyl having an aromatic group, or -CH2CH2S(CH2)nSiR2(OR1)2; n is an integer of 2 or 3; and m is an integer of 1 to 1,000. 2. The compound of claim 1, wherein R1 is C1-C6 alkyl; R2 is C1-C6 alkyl or C1-C6 alkoxy; each of R3 and R4 is hydrogen or methyl; R5 is C1-C18 alkyl-substituted phenyl or -CH2CH2S(CH2)nSiR2(OR1)2; n is an integer of 2 or 3; and m is an integer of 1 to 1,000. 3. A method for preparing the ?-[2-(polyalkyleneoxy)ethylthio]alkylalkoxysilane derivative represented by the following formula 1 below comprising: (a) transforming the (?-mercaptoalkyl)alkylalkoxysilane compound represented by the formula 2 below into ?-(alkoxysilyl)alkylthiolate metal salt represented by the formula 3 below by reacting it with a metallic base of an alkali metal or alkaline earth metal; and (b) dehalometallating the ?-(alkoxysilyl)alkylthiolate metal salt with the poly(alkyleneoxy)alkyl ether halide represented by the formula 4 below or the poly(alkyleneoxy)bis(haloalkyl) ether represented by the formula 5 below: wherein R1 is C1-C6 alkyl or phenyl; R2 is C1-C6 alkyl, C1-C6 alkoxy, phenyl or phenoxy; each of R3 and R4 is hydrogen or C1-C6 alkyl; R5 is C1-C18 alkyl, alkyl having an aromatic group, C3-C8 cyclic alkyl, C2-C18 alkene having an unsaturated bond or -CH2CH2S(CH2)nSiR2(OR1)2; n is an integer of 2 or 3; and m is an integer of 1 to 1,000; and M represents an alkali metal or alkaline earth metal atom. 4. The preparation method of claim 3, wherein the metallic base is used in the amount of from 0.4 to 1.2 moles per 1 mole of the ?-mercaptoalkyl)alkylalkoxysilane compound represented by formula 2. 5. The preparation method of claim 3, wherein the poly(alkyleneoxy)alkyl ether halide represented by formula 4 is used in the amount of from 0.4 to 1.2 moles per 1 mole of the (?-mercaptoalkyl)alkyalkoxysilane compound resented by the formula 2. 6. The preparation method of claim 3, wherein the dehalometallation is performed at a temperature of ?100 Degree C. to 150 Degree C. 7. The preparation method of claim 3, wherein the dehalometallation is performed using a polar solvent selected from the group consisting of an alcohol, tetrahydrofuran, acetonitrile and diethyl ether.","EP1762571A1, EP1762571B1, JP2007051122A, KR100668045B1, US2007043232A1, US7259272B2","M",5]
["K03583","광학","KR","클래딩 영역별로 다른 크기의 홀을 갖는 포토닉 크리스탈광섬유{PHOTONIC CRYSTAL FIBER HAVING HOLES WITH DIFFERENT SIZES ACCORDING TO CLADDING AREAS}",null,"원문이미지","KR20050071576A","2005.08.05","KR0751732B1","2007.08.17","넓은 대역에서 평탄화된 분산 특성을 갖는 포토닉 크리스탈 광섬유를 제공한다. 특히, 코어 및 클래딩을 포함하는 광섬유에 있어서, 클래딩은, 코어 둘레의 제1 영역; 제1 영역으로부터 연장되는 코어 외곽의 제2 영역; 제1 영역에 배치되며 제1 반지름을 갖는 다수의 제1 홀; 및 제2 영역에 배치되며 제1 반지름과 다른 제2 반지름을 갖는 다수의 제2 홀을 포함한다. 이와 같이, 포토닉 크리스탈 광섬유 내에 클래딩 영역별로 다른 크기의 홀을 마련함으로써, 광분산 특성을 향상시킬 수 있다.","1 코어 및 클래딩을 포함하는 광섬유로서, 상기 클래딩은, 상기 코어 둘레의 제1 영역; 상기 제1 영역으로부터 연장되는 상기 코어 외곽의 제2 영역; 상기 제1 영역에 일정한 간격을 두고 배치되며 제1 반지름을 갖는 다수의 제1 기공; 및 상기 제2 영역에 상기 제1 기공과 동일한 간격으로 배치되며 상기 제1 반지름 보다 큰 제2 반지름을 갖는 다수의 제2 기공을 포함하되, 상기 간격은 1.4 ㎛ 내지 1.7 ㎛ 중 하나이고, 상기 제1 반지름은 상기 간격의 0.10 배 내지 0.25 배 중 하나이며, 상기 제2 반지름은 상기 간격의 0.20 배 내지 0.35 배 중 하나인 광섬유.","한영근, 박제형, 김상혁, 이상배","G02B-006/02","KR20070016701A","2007.02.08",null,"2025.08.05","1 코어 및 클래딩을 포함하는 광섬유로서, 상기 클래딩은, 상기 코어 둘레의 제1 영역; 상기 제1 영역으로부터 연장되는 상기 코어 외곽의 제2 영역; 상기 제1 영역에 일정한 간격을 두고 배치되며 제1 반지름을 갖는 다수의 제1 기공; 및 상기 제2 영역에 상기 제1 기공과 동일한 간격으로 배치되며 상기 제1 반지름 보다 큰 제2 반지름을 갖는 다수의 제2 기공을 포함하되, 상기 간격은 1.4 ㎛ 내지 1.7 ㎛ 중 하나이고, 상기 제1 반지름은 상기 간격의 0.10 배 내지 0.25 배 중 하나이며, 상기 제2 반지름은 상기 간격의 0.20 배 내지 0.35 배 중 하나인 광섬유. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3 제 1 항에 있어서, 이웃하는 상기 제1 기공 또는 상기 제2 기공은 서로 삼각형 구조를 이루는 광섬유. 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 6 제 1 항에 있어서, 상기 코어는 실리카로 이루어지는 광섬유. 7 제 6 항에 있어서, 상기 코어는 게르마늄, 붕소, 어븀 또는 이토븀이 도핑된 실리카로 이루어지는 광섬유. 8 제 6 항에 있어서, 상기 코어는 상기 실리카 내에 형성된 기공으로 이루어지는 광섬유. 9<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 10 제 1 항, 제 3 항, 제 6 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 클래딩은 실리카로 이루어지고, 상기 제1 기공 및 제2 기공에 상기 실리카와 굴절률이 다른 물질이 채워진 광섬유.","KR100751732B1, KR20070016701A",null,1]
["K03569","의료","KR","염증 부위 특이적 고분자 유도체 및 그의 용도{INFLAMMATORY REGION-SPECIFIC POLYMER DERIVATIVE AND USE THEREOF}",null,"원문이미지","KR20050103571A","2005.10.31","KR0704548B1","2007.04.02","본 발명은 염증 부위 조직에 특이적인 고분자 유도체, 상기 고분자 유도체를 유효 성분으로 함유하는 약물 전달용 조성물, 상기 고분자 유도체를 유효 성분으로 함유하는 진단용 조성물, 상기 고분자 유도체를 유효 성분으로 함유하는 조영제형 약물 전달용 조성물 및 이들의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 고분자 유도체는 소수성과 친수성의 균형을 통하여 자기 조립체(self-assembly) 또는 자기 응집체(self-aggregate)를 형성시킬 수 있는 것으로, 염증 조직에서 특이적으로 반응 및/또는 결합할 수 있기 때문에, 상기 질병에 대한 약물 전달체로서 사용 가능하고, 동시에, 검출 가능한 신호를 발생시키도록 할 수 있기 때문에, 염증 관련 질병을 영상화하고 동시에 치료할 수 있는 조영제형 약물 전달체로서 사용 가능하다. 상기 염증 관련 질병은, 예컨대, 죽상 동맥 경화 또는 암일 수 있다.","1 생체 적합성 고분자 및 상기 생체 적합성 고분자에 결합된 염증 부위의 생리학적 또는 병리학적 특성에 민감하게 반응할 수 있는 제1 작용기 및 상기 제1 작용기 또는 상기 고분자 자체에 결합되어 생체내 또는 생체외에서 검출 가능한 신호를 발생시킬 수 있는 제3 작용기를 포함하는 생체 적합성 고분자 유도체로서, 상기 생체 적합성 고분자는 폴리에틸렌 글리콘, 폴리-L-락트산, 폴리-D,L-락트산, 폴리(글리콜-락트산) 공중합체; 폴리카프로락톤; 및 이들의 공중합체 중에서 선택되는 것이고, 상기 제1작용기는 MMP (matrixmetalloprotein), 트롬빈 또는 퓨린에 의해 분해되는 펩티드 기질이며; 상기 제3작용기는 시아닌, 플루오레신, 테트라메틸로드아민 및 보디피로 구성된 군에서 선택되는 한 가지 이상의 형광체인 것인 생체 적합성 고분자 유도체.","권익찬, 정혜선, 최귀원, 김성원, 김광명, 김종호","A61K-009/00,A61K-047/34,A61K-049/00,C08L-101/16",null,null,null,"2025.10.31","1 생체 적합성 고분자 및 상기 생체 적합성 고분자에 결합된 염증 부위의 생리학적 또는 병리학적 특성에 민감하게 반응할 수 있는 제1 작용기 및 상기 제1 작용기 또는 상기 고분자 자체에 결합되어 생체내 또는 생체외에서 검출 가능한 신호를 발생시킬 수 있는 제3 작용기를 포함하는 생체 적합성 고분자 유도체로서, 상기 생체 적합성 고분자는 폴리에틸렌 글리콘, 폴리-L-락트산, 폴리-D,L-락트산, 폴리(글리콜-락트산) 공중합체; 폴리카프로락톤; 및 이들의 공중합체 중에서 선택되는 것이고, 상기 제1작용기는 MMP (matrixmetalloprotein), 트롬빈 또는 퓨린에 의해 분해되는 펩티드 기질이며; 상기 제3작용기는 시아닌, 플루오레신, 테트라메틸로드아민 및 보디피로 구성된 군에서 선택되는 한 가지 이상의 형광체인 것인 생체 적합성 고분자 유도체. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3 제1항에 있어서, 상기 생체 적합성 고분자가 소수성 고분자와 친수성 고분자와의 양친성 블록 공중합체이며, 소수성 및 친수성의 양친성을 갖는 고분자 유도체. 4 제1항에 있어서, 상기 생체 적합성 고분자가 폴리카프로락톤, 폴리-L-락트산 및 폴리에틸렌글리콜로 이루어진 군 중에서 선택된 두 가지 고분자로 구성된 양친성 블록 공중합체로서 분자량이 1000 내지 5000인 것인 고분자 유도체. 5<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 6<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 7<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 8 제1항에 있어서, 상기 제1 작용기는 질병 부위에 존재하는 효소에 의하여 분해되는 펩티드 기질로서, MMP-2에 의하여 분해되는 Leu-Ser-Arg-Leu-Thr-Ala(LSRLTA)(서열 번호: 1)를 갖는 펩티드 유도체; MMP-9에 의해 분해되는 Leu-Arg-Tyr-Tyr-Thr-Ala(LRYYTA)(서열 번호: 2)를 갖는 펩티드 유도체; 트롬빈에 의해 분해되는 Phe-Val-Arg-Ser(PVRS)(서열 번호: 3)를 갖는 펩티드 유도체; 및 퓨린에 의해 분해되는 Arg-Arg-Lys-Arg(RRKR)(서열 번호: 4)을 갖는 펩티드 유도체로 이루어진 군 중에서 선택된 것인 고분자 유도체. 9 제8항에 있어서, 상기 제1 작용기가 MMP-2에 분해될 수 있는 펩티드 Lys-Gly-Gly-Leu-Ser-Arg-Leu-Thr-Ala-Gly-Gly-Cys (KGGLSRLTAGGC; 서열 번호: 7), MMP-9에 의해 분해되는 Lys-Gly-Gly-Leu-Arg-Tyr-Tyr-Thr-Ala-Gly-Gly-Cys (KGGLRYYTAGGC; 서열 번호: 8) 및 트롬빈에 의해 분해되는 Lys-Gly-Gly-Phe-Val-Arg-Ser-Gly-Gly-Cys (KGGPVRSGGC; 서열 번호: 9)로 이루어진 군 중에서 선택된 것인 고분자 유도체. 10<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 11<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 12 제1항에 있어서, 상기 염증 관련 질병이 죽상 동맥 경화 또는 암인 고분자 유도체. 13 제1항에 있어서, 평균 입경 300 nm 이하의 입자 형태인 고분자 유도체. 14 제1항에 있어서, 증류수 내에서 임계 미셀 형성 농도인 1 내지 100㎍/㎖의 농도를 갖도록 제조되어 자기 조립에 의한 미셀 형성이 유리한 고분자 유도체. 15 제1항에 있어서, 다음의 화학식 3을 갖는 생체 적합성 고분자 유도체: [화학식 3] 상기 식 중, A는 엡실론-카프로락톤이고, B는 제1 작용기로서 MMP-2, MMP-9, 트롬빈 또는 퓨린에 의해 분해가 가능한 펩티드 서열이고, C는 에틸렌글리콜이고, E와 F는 제3 작용기로서 각각 플루오레신 또는 테트라메틸로드아민 중 어느 하나이거나 또는 상기 E와 F 중 어느 한 쪽이 이들 두 가지 모두이고; a는 8 내지 43 사이의 정수, b는 1 내지 5 사이의 정수, c는 22 내지 113 사이의 정수이다. 16 제1항에 있어서, 다음의 화학식 4를 갖는 양친성 고분자 유도체: [화학식 4] 상기 식 중, A는 엡실론-카프로락톤이고, B는 제1 작용기로서 MMP-2, MMP-9, 트롬빈 또는 퓨린에 의해 분해가 가능한 펩티드 서열이고, C는 에틸렌글리콜이고, E와 F는 제3 작용기로서 각각 플루오레신 또는 테트라메틸로드아민 중 어느 하나이거나, 또는 E와 F 중 어느 한 쪽이 상기 두 가지 모두이고, G는 제3 작용기로서 시아닌5.5. 또는 테트라메틸로드아민 중 선택된 것이고; a는 8 내지 43 사이의 정수, b는 1 내지 5 사이의 정수, c는 22 내지 113 사이의 정수이다. 17 제1항에 있어서, 다음의 화학식 5를 갖는 양친성 고분자 유도체: [화학식 5] 상기 식 중, A는 엡실론-카프로락톤이고, B는 제1 작용기로서 MMP-2, MMP-9, 트롬빈 또는 퓨린에 의해 분해가 가능한 펩티드 서열이고, C는 에틸렌글리콜이고, E는 제3 작용기로서 각각 플루오레신 또는 테트라메틸로드아민 중 어느 하나이거나, 상기 두 가지 모두이고, G는 제3 작용기로서 시아닌5.5 또는 테트라메틸로드아민이고; a는 8 내지 43 사이의 정수, b는 1 내지 5 사이의 정수, c는 22 내지 113 사이의 정수이다.","KR100704548B1",null,1]
["K03555","디스플레이","KR","산화 아연 계 투명 전도성 산화물 박막의 제조 방법{FABRICATION METHOD OF ZINC OXIDE BASED TRANSPARENT CONDUCTIVE OXIDE THIN FILM}",null,"원문이미지","KR20050052647A","2005.06.17","KR0682741B1","2007.02.08","평판 디스플레이 등에 사용되는 투명 전도성 산화물 박막으로 알루미늄과 갈륨이 도핑된 산화아연 박막을 제공한다. 상대적으로 산소 안정성이 좋고 에칭 특성 개선이 예상되는 갈륨을 동시 도핑함으로써 알루미늄 도핑된 산화아연(AZO) 박막의 산화반응에 의한 물성 저하 및 에칭 속도가 빠른 문제점을 개선하였다. 알루미늄이 포함된 산화아연 타겟과 갈륨이 포함된 산화아연 타겟을 경사지도록 배치하고 스퍼터링 파워를 조절하여 알루미늄과 갈륨의 비율을 조절하였으며, 제조된 산화아연 박막의 전기적 특성, 경시(aging) 특성, 에칭 특성 등이 향상된 것을 확인하였다.","4 기판 상에 산화아연 박막을 형성함에 있어서, 진공 상태에서 스퍼터링에 의하여 알루미늄과 갈륨을 동시에 도핑하는 것을 특징으로 하는 투명 전도성 산화물 박막 제조 방법.","이전국, 김원목, 김인호","H01L-021/20","KR20060132351A","2006.12.21",null,"2025.06.17","1<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4 기판 상에 산화아연 박막을 형성함에 있어서, 진공 상태에서 스퍼터링에 의하여 알루미늄과 갈륨을 동시에 도핑하는 것을 특징으로 하는 투명 전도성 산화물 박막 제조 방법. 5 제4항에 있어서, 알루미늄이 도핑된 산화아연 타겟과 갈륨이 도핑된 산화아연 타겟을 이용하는 투명 전도성 산화물 박막 제조 방법. 6 제5항에 있어서, 상기 두 타겟을 각각 경사지도록 기울여 기판 중앙을 향하도록 배치하는 투명 전도성 산화물 박막 제조 방법. 7 제4항에 있어서, 알루미늄과 갈륨의 도핑 비율은 1:2 ~ 2:1 인 투명 전도성 산화물 박막 제조 방법. 8 제7항에 있어서, 상기 도핑 비율은 스퍼터링 파워의 크기로 조절하는 투명 전도성 산화물 박막 제조 방법. 9 제4항에 있어서, 알루미늄과 갈륨의 도핑 양은 각각 4 at%, 1 at% 인 투명 전도성 산화물 박막 제조 방법. 10 제4항에 있어서, 알루미늄과 갈륨을 함께 포함하는 산화아연 단일 타겟을 사용하는 투명 전도성 산화물 박막 제조 방법.","KR100682741B1, KR20060132351A",null,1]
["K03539","영상처리","KR","체크보드 형태의 교차점 자동 추출 방법{Calibration marks auto-detecting Mothod in checkerboard}",null,"원문이미지","KR20050037654A","2005.05.04","KR0711206B1","2007.04.18","본 발명은 체크보드 형태의 교차점 자동 추출 방법에 관한 것으로, 카메라 보정시에 사용되는 체크보드 형태의 보정 패턴에서 자동으로 교차점을 추출하는 방법에 관한 것이다.본 발명에 따른 체크보드 형태의 교차점 자동 추출 방법은 입력 화상의 모든 지점에 대하여 적어도 하나의 동심원으로 에지 정보를 투영하는 단계와, 상기 에지 정보가 투영된 적어도 하나의 동심원상에 4개의 최대치의 지점이 일정범위내이면 교차점 후보로 추출하는 단계와, 상기 교차점 후보로 추출하는 단계에서 추출한 4개의 교차점 후보의 방향을 따라 밝기값의 변화 여부를 조사하여 교차하는 경우 후보점으로 추가하는 단계와, 상기 후보점으로 추가하는 단계에서 추기된 후보점들중 사영 기하에서 제공되는 직선상의 네 점상에 위치한 후보점간에 성립하는 교차비의 값이 일정범위 이하일 경우 교차점으로 설정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 구성되는 것을 특징으로 한다.","1 입력 화상의 모든 지점에 대하여 적어도 하나의 동심원으로 에지 정보를 투영하는 단계와, 상기 에지 정보가 투영된 적어도 하나의 동심원상에 4개의 최대치의 지점이 일정범위내이면 교차점 후보로 추출하는 단계와, 상기 교차점 후보로 추출하는 단계에서 추출한 4개의 교차점 후보의 방향을 따라 밝기값의 변화 여부를 조사하여 교차하는 경우 후보점으로 추가하는 단계와, 상기 후보점으로 추가하는 단계에서 추기된 후보점들중 사영 기하에서 제공되는 직선상의 네 점상에 위치한 후보점간에 성립하는 교차비의 값이 일정범위 이하일 경우 교차점으로 설정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 체크보드 형태의 교차점 자동 추출 방법.","정문호, 유범재, 하종은, 강동중","H04N-005/235,H04N-005/232","KR20060115420A","2006.11.09",null,"2025.05.04","1 입력 화상의 모든 지점에 대하여 적어도 하나의 동심원으로 에지 정보를 투영하는 단계와, 상기 에지 정보가 투영된 적어도 하나의 동심원상에 4개의 최대치의 지점이 일정범위내이면 교차점 후보로 추출하는 단계와, 상기 교차점 후보로 추출하는 단계에서 추출한 4개의 교차점 후보의 방향을 따라 밝기값의 변화 여부를 조사하여 교차하는 경우 후보점으로 추가하는 단계와, 상기 후보점으로 추가하는 단계에서 추기된 후보점들중 사영 기하에서 제공되는 직선상의 네 점상에 위치한 후보점간에 성립하는 교차비의 값이 일정범위 이하일 경우 교차점으로 설정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 체크보드 형태의 교차점 자동 추출 방법. 2 청구항 1항에 있어서, 상기 입력 화상의 모든 지점에 대하여 적어도 하나의 동심원으로 에지 정보를 투영하는 단계는, 입력된 이미지에서의 모든 지점에 대해 에지 정보를 추출하는 단계와, 상기 단계에서 추출한 에지 정보를 적어도 하나 이상의 동심원 중에서 가장 내부에 위치한 동심원으로 투영하는 단계와, 상기 단계의 실행이 종료되면 에지정보가 투영된 동심원에서 가장 근접한 외부에 위치한 동심원으로 에지 정보를 투영하는 단계와, 모든 동심원에 에지정보를 투영하였는가를 확인하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 체크보드 형태의 교차점 자동 추출 방법. 3 청구항 1항에 있어서, 상기 적어도 하나의 동심원상에 4개의 최대치의 지점이 사용자가 지정한 일정범위내이면 교차점 후보로 추출하는 단계는, 적어도 하나 이상의 동심원 중에서 가장 내부에 위치한 동심원 상의 4개의 최대치의 지점을 선택하는 단계와, 최대치의 지점을 선택한 동심원에서 가장 근접한 외부에 위치한 동심원 상의 4개의 최대치의 지점을 선택하는 단계와, 모든 동심원에서 최대치의 지점을 선택하였는가를 확인하는 단계와, 상기 단계에서 선택한 최대치의 지점이 일정 값 이내인가를 확인하는 단계와, 선택된 최대치들을 교차점 후보에 추가하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 체크보드 형태의 교차점 자동 추출 방법. 4 청구항 1항에 있어서, 사영 기하에서 제공되는 직선상의 네 점상에 위치한 후보점간에 성립하는 교차비의 값이 일정범위 이하일 경우 교차점으로 설정하는 단계는, 하나의 후보점에서 가장 가까운 후보점을 선택하고 다른 2개의 후보점을 이 선상에 놓이게 하여 4개의 후보점을 선택하는 단계와, 상기 4개의 후보점의 교차비의 값이 일정 값이내이면 교차점으로 선택되는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 체크보드 형태의 교차점 자동 추출 방법. 5 청구항 4항에 있어서, 상이 4개의 후보점의 교차비의 값이 일정 값이내이면 교차점으로 선택되는 단계에서 사용되는 교차비는 인 것을 특징으로 하는 체크보드 형태의 교차점 자동 추출 방법. 6 청구항 5항에 있어서, 는 선에 따라 각각의 후보점에 대응하는 위치인 것을 특징으로 하는 체크보드 형태의 교차점 자동 추출 방법.","KR100711206B1, KR20060115420A",null,1]
["K03538","컴퓨터","KR","에지투영을 이용한 스테레오 매칭방법{The stereo matching method using edge projection}",null,"원문이미지","KR20050037681A","2005.05.04","KR0851055B1","2008.08.01","본 발명은 에지투영(edge projection)을 이용한 스테레오 매칭방법에 관한 것으로, 특히 2대의 카메라를 이용하여 3차원 복원을 수행하는 스테레오 분야 중에서 2장의 이미지 상에서의 대응점을 찾기 위한 방법에 관한 것이다.본 발명의 에지투영을 이용한 스테레오 매칭방법은 입력화상에서 각각의 픽셀에 대해 에지정보를 구하는 제1단계; 상기 에지정보를 이용하여 수평 에지투영을 위하여 수평 방향으로 에지크기를 누적하고, 수직 에지투영을 위하여 수직 방향으로 에지크기를 누적하는 제2단계; 상기 입력화상의 한 지점에서 일정한 크기를 가지는 윈도우 내에서 수평 및 수직 방향으로 에지투영성분을 구하는 제3단계; 및 상기 에지투영성분을 이용하여 왼쪽 화상과 오른쪽 화상의 비교를 통해 스테레오 매칭을 수행하는 제4단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.","1 입력화상에서 각각의 픽셀에 대해 에지정보를 구하는 제1단계; 상기 에지정보를 이용하여 수평 에지투영을 위하여 수평 방향으로 에지크기를 누적하고, 수직 에지투영을 위하여 수직 방향으로 에지크기를 누적하는 제2단계; 상기 입력화상의 한 지점에서 일정한 크기를 가지는 윈도우 내에서 수평 방향, 수직 방향별로 에지투영성분을 구하는 제3단계; 및 상기 에지투영성분을 이용하여 왼쪽 화상과 오른쪽 화상의 비교를 통해 스테레오 매칭을 수행하는 제4단계; 를 포함하는 에지투영을 이용한 스테레오 매칭방법.","정문호, 유범재, 하종은, 강동중","G06T-005/20,G06T-015/20","KR20060115237A","2006.11.08",null,"2025.05.04","1 입력화상에서 각각의 픽셀에 대해 에지정보를 구하는 제1단계; 상기 에지정보를 이용하여 수평 에지투영을 위하여 수평 방향으로 에지크기를 누적하고, 수직 에지투영을 위하여 수직 방향으로 에지크기를 누적하는 제2단계; 상기 입력화상의 한 지점에서 일정한 크기를 가지는 윈도우 내에서 수평 방향, 수직 방향별로 에지투영성분을 구하는 제3단계; 및 상기 에지투영성분을 이용하여 왼쪽 화상과 오른쪽 화상의 비교를 통해 스테레오 매칭을 수행하는 제4단계; 를 포함하는 에지투영을 이용한 스테레오 매칭방법. 2 청구항 1에 있어서, 상기 제2단계는 좌측과 우측의 이미지 상에 에지 연산자(edge operator)를 적용하여 에지크기를 누적하는 것을 특징으로 하는 에지투영을 이용한 스테레오 매칭방법. 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4 청구항 1에 있어서, 상기 에지크기는 n ×n의 크기를 가지는 영역에서 추출한 크기인 것을 특징으로 하는 에지투영을 이용한 스테레오 매칭방법. 5 청구항 4에 있어서, 상기 n ×n의 크기는 3 ×3의 크기인 것을 특징으로 하는 에지투영을 이용한 스테레오 매칭방법. 6 청구항 1에 있어서, 상기 제4단계는 최소의 값을 가지는 지점으로 선택하는 것을 특징으로 하는 에지투영을 이용한 스테레오 매칭방법. 7 청구항 1에 있어서, 상기 제4단계는 피라미드 상에서 구현하는 것을 특징으로 하는 에지투영을 이용한 스테레오 매칭방법. 8 청구항 7에 있어서, 상기 피라미드 상에서 최상위의 레벨에서는 모든 지점에 대해 에지투영이 이용되어 매칭후보점이 찾아지는 것을 특징으로 하는 에지투영을 이용한 스테레오 매칭방법. 9 청구항 7에 있어서, 상기 피라미드 상에서 최상위의 레벨 이후의 피라미드 레벨에서는 바로 상위의 피라미드 레벨에서 찾아진 지점의 좌우가 탐색되어 매칭후보점이 찾아지는 것을 특징으로 하는 에지투영을 이용한 스테레오 매칭방법.","KR100851055B1, KR20060115237A",null,1]
["K03537","영상처리","KR","경사계를 이용한 생체 모방형 시각처리 장치{Biomimetic Vision Equipment with Inclinometer}",null,"원문이미지","KR20050037627A","2005.05.04","KR0711205B1","2007.04.18","본 발명은 경사계를 이용한 생체 모방형 시각처리 장치에 관한 것으로서, 특히 디지털 영상 취득장치의 기울어짐(광축방향 회전각)을 경사계로 측정하고 기울어진 각 만큼 영상을 복원시켜 디지털 영상 취득장치의 기울어짐에 영향을 받지 않는 영상을 취득할 수 있도록 하는 시각처리 장치에 관한 것이다.본 발명에 의하면, 디지털 카메라로부터 영상신호를 취득하는 영상취득 수단과; 상기 영상취득 수단의 광축에 대한 회전각을 측정하는 경사각 측정수단; 상기 영상취득 수단과 경사각 측정수단의 출력 신호를 시간적으로 동기화 하는 영상변환 수단; 및 상기 영상변환 수단으로부터 동기화 된 출력신호를 송신하거나 외부로부터의 제어신호 등을 수신하는 통신 인터페이스 수단을 포함하는 생체 모방형 시각처리 장치를 제시한다.","1 디지털 카메라로부터 영상신호를 취득하는 영상취득부; 눈의 광 축방향에 대한 회전각으로 상기 영상취득부의 회전각을 측정하는 경사각 측정 센서를 갖는 경사각 측정부; 상기 영상취득부와 경사각 측정부의 출력 신호를 시간적으로 동기화 하는 영상변환부; 및 상기 영상변환부로부터 동기화된 출력신호를 송신하거나 외부로부터의 제어신호 등을 수신하는 통신 인터페이스부를 포함하며, 상기 경사각 측정 센서는, 상기 영상 취득부가 지면에 평행한 면을 기준으로 상기 광 축에 대하여 시계 방향 또는 반 시계 방향으로 회전한 양을 측정함으로써, 회전각을 측정하는 것을 특징으로 하는 생체 모방형 시각처리 장치.","정문호, 유범재","H04N-005/232","KR20060115219A","2006.11.08",null,"2025.05.04","1 디지털 카메라로부터 영상신호를 취득하는 영상취득부; 눈의 광 축방향에 대한 회전각으로 상기 영상취득부의 회전각을 측정하는 경사각 측정 센서를 갖는 경사각 측정부; 상기 영상취득부와 경사각 측정부의 출력 신호를 시간적으로 동기화 하는 영상변환부; 및 상기 영상변환부로부터 동기화된 출력신호를 송신하거나 외부로부터의 제어신호 등을 수신하는 통신 인터페이스부를 포함하며, 상기 경사각 측정 센서는, 상기 영상 취득부가 지면에 평행한 면을 기준으로 상기 광 축에 대하여 시계 방향 또는 반 시계 방향으로 회전한 양을 측정함으로써, 회전각을 측정하는 것을 특징으로 하는 생체 모방형 시각처리 장치. 2 청구항 1에 있어서, 상기 영상취득부는 단안(monocular), 양안(binocular), 삼안, 다안 중에서 임의로 선택된 어느 하나로 구성된 것을 특징으로 하는 생체 모방형 시각처리 장치. 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4 청구항 1에 있어서, 상기 광 축은 영상면에 수직이며, 스테레오 시각장치의 경우(양안, 삼안, 다안)의 각 광축은 서로 평행인 것을 특징으로 하는 생체 모방형 시각처리 장치. 5 청구항 1에 있어서, 상기 영상변환부에서 영상 변환속도는 영상 취득속도(frame rate) 보다 빠르게 설정하는 것을 특징으로 하는 생체 모방형 시각처리 장치.","KR100711205B1, KR20060115219A",null,1]
["K03536","영상처리","KR","스테레오 줌 시각처리 장치{Zoom-Appended Stereo Vision Equipment}",null,"원문이미지","KR20050037611A","2005.05.04","KR0759930B1","2007.09.12","본 발명은 전자기기, 영상음향기기, 3차원 영상기기 등에 사용되는 스테레오 줌 시각처리 장치에 관한 것으로써, 특히 시각에 기반을 둔 지능형 응용장치(지능형 서비스 로봇, HRI(Human-Robot Interface), HCI(Human-Computer Interface))에 적합하도록 스테레오 영상 및 다양한 스케일의 영상(줌 영상)을 제공하는 시각처리 장치에 관한 것이다.본 발명에 의하면, 촬영 렌즈로부터 동기화 된 두 개 혹은 세 개 이상의 영상을 취득하는 스테레오 영상 취득수단과; 촬영 렌즈의 초점 거리 변화를 통해 다양한 형태의 스케일 영상을 취득하는 줌 영상 취득수단; 상기 스테레오 영상 취득수단과 줌 영상 취득수단으로부터의 영상신호를 신호 처리하는 영상 처리수단; 및 상기 영상 처리수단으로부터 영상 혹은 영상처리 결과를 송신하거나 외부로부터의 제어신호 등을 수신하는 통신 인터페이스 수단을 포함하는 스테레오 줌 시각처리 장치를 제시한다.","1 초점이 고정된 촬영 렌즈로부터 동기화된 적어도 두 개의 영상을 취득하는 스테레오 영상 취득부; 상기 스테레오 영상 취득부가 영상을 취득하는 것에 대응하여 줌 영상 취득 부가 갖은 촬영 렌즈의 초점 거리의 변화에 따라 줌 영상을 취득하는 줌 영상 취득부; 상기 스테레오 영상 취득부에서 동기화된 영상으로부터 3차원 거리 영상을 계산하고, 상기 줌 영상 취득부로부터 얻은 영상 정보를 상기 스테레오 영상 취득부로부터 얻은 영상의 줌 영상에 해당하는 부분에 적용하여 영상처리하는 영상처리부; 및 상기 영상 처리부로부터 영상 혹은 영상처리 결과를 송신하거나 외부로부터 외부 신호을 수신하는 통신 인터페이스부을 포함하는 것을 특징으로 하는 스테레오 줌 시각처리 장치.","정문호, 유범재","H04N-005/225,H04N-005/232","KR20060115209A","2006.11.08",null,"2025.05.04","1 초점이 고정된 촬영 렌즈로부터 동기화된 적어도 두 개의 영상을 취득하는 스테레오 영상 취득부; 상기 스테레오 영상 취득부가 영상을 취득하는 것에 대응하여 줌 영상 취득 부가 갖은 촬영 렌즈의 초점 거리의 변화에 따라 줌 영상을 취득하는 줌 영상 취득부; 상기 스테레오 영상 취득부에서 동기화된 영상으로부터 3차원 거리 영상을 계산하고, 상기 줌 영상 취득부로부터 얻은 영상 정보를 상기 스테레오 영상 취득부로부터 얻은 영상의 줌 영상에 해당하는 부분에 적용하여 영상처리하는 영상처리부; 및 상기 영상 처리부로부터 영상 혹은 영상처리 결과를 송신하거나 외부로부터 외부 신호을 수신하는 통신 인터페이스부을 포함하는 것을 특징으로 하는 스테레오 줌 시각처리 장치. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100759930B1, KR20060115209A",null,1]
["K03663","연료전지","KR","고립 전해질을 이용한 단실형 고체 산화물 연료전지{SINGLE CHAMBER SOLID OXIDE FUEL CELLS WITH ISOLATED ELECTROLYTE}",null,"원문이미지","KR20050126390A","2005.12.20","KR0707113B1","2007.04.06","본 발명은 단실형 고체 산화물 연료전지에 관한 것으로, 전극을 전해질과 동일 평면상에 배치하고 집적화를 통하여 단실형 고집적 마이크로 연료전지를 제공한다. 이를 통해 연료 전지의 고출력 밀도를 얻을 수 있으며, 단위 셀을 다양한 형태로 직렬 혹은 병렬로 구성하여 고전압, 고전류를 발생하는 마이크로 연료전지를 구현할 수 있다.","1 지지체 상에 서로 고립된 형태로 패터닝하여 형성한 전해질과, 상기 전해질과 접촉하도록 배치된 동일 평면상의 전극, 및 상기 지지체 상에 배치되며 상기 전극에 연결되는 집전체를 포함하는 단실형 고체산화물 연료전지.","김형철, 박종구, 이해원, 이종호, 김주선, 손지원, 최선희","H01M-008/10",null,null,null,"2025.12.20","1 지지체 상에 서로 고립된 형태로 패터닝하여 형성한 전해질과, 상기 전해질과 접촉하도록 배치된 동일 평면상의 전극, 및 상기 지지체 상에 배치되며 상기 전극에 연결되는 집전체를 포함하는 단실형 고체산화물 연료전지. 2 제 1 항에 있어서, 상기 지지체는 이산화규소(SiO2), 질화규소(Si3N4), 산화알루미늄(Al2O3), 산화마그네슘(MgO), 타이타니아(TiO2), 지르코니아(ZrO2) 및 상기 재료들의 도핑상으로부터 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물연료전지. 3 제 1 항에 있어서, 상기 지지체는 실리콘(Si) 웨이퍼인 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물연료전지. 4 제 3 항에 있어서, 상기 지지체 위에 절연 및 열팽창 버퍼층으로서 이산화규소(SiO2), 질화규소(Si3N4), 산화알루미늄(Al2O3), 이산화티타늄(TiO2), 산화마그네슘(MgO), 지르코니아(ZrO2) 및 상기 재료들의 도핑상으로부터 선택되는 어느 하나를 포함하는 단실형 고체산화물연료전지. 5 제 1 항에 있어서, 상기 지지체로 전해질을 직접 사용하며, 이 경우 전해질은 소정 간격으로 사각형, 삼각형 등의 홈(groove)을 형성함으로써 고립 형태로 형성된 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물연료전지. 6 제 1 항에 있어서, 상기 전극은 고립된 각 전해질의 측벽에 접촉하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물연료전지. 7 제 1 항 또는 제 6 항에 있어서, 상기 전극은 고립된 각 전해질의 상단에 접촉하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물연료전지. 8 제 1 항에 있어서, 상기 전극은 고립된 각 전해질의 말단에 접촉하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물연료전지. 9 제 6 항에 있어서, 상기 전극은 같은 극이 서로 마주보는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물연료전지. 10 제 6 항에 있어서, 상기 전극은 다른 극이 서로 마주보는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물연료전지. 11 제 1 항에 있어서, 상기 집전체는 상기 전극의 측벽에만 접촉하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물연료전지. 12 제 1 항에 있어서, 상기 집전체는 상기 전극의 상면 및 측벽에 접촉하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물연료전지. 13 제 1 항에 있어서, 상기 집전체는 상기 전극의 말단에만 접촉하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물연료전지. 14 제 1 항에 있어서, 상기 집전체는 금(Au), 백금(Pt), 은(Ag) 등의 귀금속류와 내산화성 금속에서 선택되는 어느 하나로서 다공성 혹은 치밀한 형태로 형성된 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물연료전지. 15 지지체 상에 서로 고립된 형태로 패터닝하여 형성한 전해질과, 상기 전해질과 접촉하도록 배치된 동일 평면상의 전극, 및 상기 지지체 상에 배치되며 상기 전극에 연결되는 집전체를 포함하는 다수의 단위 셀이 집적되어 형성되며, 상기 집전체는 상기 단위 셀을 병렬 연결하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지. 16 지지체 상에 서로 고립된 형태로 패터닝하여 형성한 전해질과, 상기 전해질과 접촉하도록 배치된 동일 평면상의 전극, 및 상기 지지체 상에 배치되며 상기 전극에 연결되는 집전체를 포함하는 다수의 단위 셀이 집적되어 형성되며, 상기 집전체는 상기 단위 셀을 직렬 연결하는 것을 특징으로 하는 단실형 고체산화물 연료전지.","KR100707113B1, US2007141433A1, WO2007073015A1",null,1]
["K03541","재료","KR","비정질분말 플레이크 및 그 제조방법{AMORPHOUS POWDER FLAKES AND THEIR PREPARATION METHOD THEREOF}",null,"원문이미지","KR20050046432A","2005.05.31","KR0701413B1","2007.03.23","본 발명에서는 급냉 응고에 의해 제조된 비정질합금을 고 에너지 밀을 이용하여 플레이크 형상의 비정질분말을 제조하였다. 본 발명의 고 에너지 밀을 이용하여 제조한 비정질분말 플레이크는 전자파 흡수 박형 필름 제조에 유용하게 적용할 수 있다.","1 비정질합금을 급속 응고시켜 구형의 비정질분말을 얻는 제1단계와, 고에너지 밀을 이용하여 상기 구형의 비정질분말을 밀링하여 0.1 ~ 5 ㎛ 두께로 편상화된 비정질분말 플레이크를 얻는 제2단계를 포함하는 비정질분말 플레이크 제조방법.","김윤배, 김광윤, 석현광, 김상우","B22F-009/00","KR20060124480A","2006.12.05",null,"2025.05.31","1 비정질합금을 급속 응고시켜 구형의 비정질분말을 얻는 제1단계와, 고에너지 밀을 이용하여 상기 구형의 비정질분말을 밀링하여 0.1 ~ 5 ㎛ 두께로 편상화된 비정질분말 플레이크를 얻는 제2단계를 포함하는 비정질분말 플레이크 제조방법. 2 제1항에 있어서, 상기 제1단계에서 비정질분말은 Fe, Si, B, Cr, C, Nb 및 Cu 중에서 선택되는 어느 한 종 이상을 포함하는 비정질분말 플레이크 제조방법. 3 제1항에 있어서, 상기 제1단계에서 비정질분말은 Fe, Si 및 B의 함량이 각각 88.5~90.5 중량%, 6.0~9.0 중량% 및 2.0~3.5 중량%인 비정질분말 플레이크 제조방법. 4 제1항에 있어서, 상기 제1단계에서 비정질분말 중의 Fe, Si, B 및 Nb의 함량이 각각 83.5 중량%, 5.6 중량%, 3.2 중량% 및 7.7 중량%인 비정질분말 플레이크 제조방법. 5 제1항에 있어서, 상기 제1단계에서 비정질분말 중의 Fe, Si, B, Nb 및 Cu의 함량이 각각 82.8 중량%, 8.0 중량% 및 2.2 중량%, 5.7 중량% 및 1.3 중량%인 비정질분말 플레이크 제조방법. 6 제1항에 있어서, 상기 제1단계에서 비정질분말 중의 Fe, Si, B, Cr 및 C의 함량이 각각 86.1 중량%, 8.0 중량% 및 3.4 중량%, 2.0 중량% 및 0.5 중량%인 비정질분말 플레이크 제조방법. 7 제1항에 있어서, 상기 제1단계의 비정질분말은 비정질분말의 구성 성분으로 이루어진 합금의 용융물을 가스 분무, 원심 분무, 수 분무 또는 멜트 스피닝후 분쇄하여 얻어진 것인 비정질분말 플레이크 제조방법. 8 제1항에 있어서, 상기 제1단계에서 비정질 분말의 입자 크기가 200 ㎛ 이하인 비정질분말 플레이크 제조방법. 9<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 10 제1항에 있어서, 상기 고에너지 밀은 Symoloyer(독일 Zoz사 제품의 고에너지 밀), 볼밀(ball mill) 또는 아트리션밀(attrition mill)을 사용하여 수행되는 것인 비정질분말 플레이크 제조방법. 11 제10항에 있어서, 밀링은 Symoloyer(독일 Zoz사 제품의 고에너지 밀)를 사용할 경우 1000 rpm 이하에서 7시간 이내로 하는 비정질분말 플레이크 제조방법. 12 제10항에 있어서, 밀링은 건식(Dry) 또는 습식(Wet)방법으로 하는 비정질분말 플레이크 제조방법. 13 제1항에 있어서, 상기 비정질 분말이 Zr, Cu, Fe, Al, Ti, Mg, Ln, Pd, Co 및 Ni계로 구성된 군에서 선택되는 금속을 주성분으로 포함하는 Zr-Cu-Ni-Al-Ti계, Zr-Ti-Cu-Ni-Be계, Zr-Al-Ni-Cu계, Zr-Ti-Nb-Ni-Cu-Be계, Cu-Ti-Zr-Ni-(Sn)-Si계, Fe-Cr-Mo-C-B계, Fe-B-Si계, Fe-Si-B-C계, Fe-Si-B-C-P계, Fe-Cr-B-Si-C계, Fe-Si-B-Nb계, Fe-Zr-B-(Ni)계, Fe-Cu-Nb-Si-B계, Fe-Co-Ni-Zr-B계, Fe-Al-B-(Cu, Nb)계, Fe-Nb-B계, Fe-Zr-B-Cu계, Fe-Cr-Mo-C-B계, Al-La(Ce,Y)-Ni계, Ti-Cu-Ni-Sn-Be-Zr계, Ti-Zr-Cu-Ni계, Mg-Cu(Ni)-Ag-Y(Ce)계, Mg-Ca-Al계, La-Al-Ni계, Pd-Ni-Cu-P계, Pd-Ni-P계, Co-Fe-Si-B계, Co-Fe-Ni-(Mo)-B-Si계, Ni-Cr-Fe-Si-B계, Ni-Nb-Cr-Mo-P-B계 및 Ni-B-Si계 중에서 선택되는 어느 하나인 비정질분말 플레이크 제조방법. 14<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 15<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 16<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100701413B1, KR20060124480A",null,1]
["K03528","반도체","KR","스핀분극에 의한 전위차를 이용한 자기 메모리 소자 및 그제조방법{The magnetic memory device using spin-splitting induced voltage difference}",null,"원문이미지","KR20050041684A","2005.05.18","KR0704544B1","2007.04.02","본 발명은 스핀분극에 의한 전위차를 이용한 자기 메모리 소자 및 그 제조방법에 관한 것으로, 특히 화합물 반도체 2차원 전자우물층과 강자성체로 구성되고, 자화방향에 따른 전위차를 이용한 비 휘발성 스핀 메모리 소자에 관한 것이다.본 발명의 스핀분극에 의한 전위차를 이용한 자기 메모리 소자는 2차원 전자우물층에서 스핀분극을 이용하여 강자성체와의 접합을 통해 평행 또는 반평행에서 나타나는 전위차를 이용하는 것을 특징으로 한다.본 발명의 스핀분극에 의한 전위차를 이용한 자기 메모리 소자 제조방법은 화합물 반도체 기판 상에 2차원 전자우물층을 포함한 웨이퍼를 성장시키는 제1단계; 상기 결과물에 리쏘그래피(lithography) 공정과 이온밀링(ion-milling)을 이용하여 워드라인을 정의하는 2단계; 상기 결과물 상에서 상기 워드라인이 증착되지 않은 부분에 산화막을 증착하는 제3단계; 전자빔 리소그래피와 스퍼터를 이용하여 상기 워드라인 상에 강자성체를 증착하는 제4단계; 및 상기 결과물을 패터닝하여 Al이나 Au을 증착하고, 비트라인을 형성하는 제5단계;을 포함한다.","1 2차원 전자우물층으로 이루진 워드라인과 Au나 Al 등의 금속선으로 이루어진 비트라인 및 상기 워드라인과 비트라인 사이에 200 nm × 400 nm의 크기로 형성된 강자성체 패턴으로 구성되는 자기메모리소자에 있어서, 2차원 전자우물층에 강자성체를 접합하여 발생하는 스핀분극이 상기 강자성체의 자화 방향에 따라 평행 또는 반평행 관계를 가지면, 그에 따라 발생하는 전위차를 이용하는 것을 특징으로 하는 스핀분극에 의한 전위차를 이용한 자기 메모리 소자.","구현철, 한석희, 장준연, 이현정","G11C-011/15","KR20060119109A","2006.11.24",null,"2025.05.18","1 2차원 전자우물층으로 이루진 워드라인과 Au나 Al 등의 금속선으로 이루어진 비트라인 및 상기 워드라인과 비트라인 사이에 200 nm × 400 nm의 크기로 형성된 강자성체 패턴으로 구성되는 자기메모리소자에 있어서, 2차원 전자우물층에 강자성체를 접합하여 발생하는 스핀분극이 상기 강자성체의 자화 방향에 따라 평행 또는 반평행 관계를 가지면, 그에 따라 발생하는 전위차를 이용하는 것을 특징으로 하는 스핀분극에 의한 전위차를 이용한 자기 메모리 소자. 2 청구항 1에 있어서, 상기 강자성체는 Fe, Co, Ni, CoFe 또는 NiFe 중에서 어느 하나인 것을 특징으로 하는 스핀분극에 의한 전위차를 이용한 자기 메모리 소자. 3 청구항 1에 있어서, 상기 2차원 전자우물층에는 GaAs, InAs 또는 InGaAs의 채널 중에서 어느 하나의 채널이 이용되는 것을 특징으로 하는 스핀분극에 의한 전위차를 이용한 자기 메모리 소자. 4 청구항 3에 있어서, 상기 InAs 채널과 강자성체를 접합할 때, 저항 전극(ohmic contact)를 이용하는 것을 특징으로 하는 스핀분극에 의한 전위차를 이용한 자기 메모리 소자. 5 청구항 3에 있어서, 상기 GaAs 채널과 강자성체를 접합할 때, 쇼트키 전극(shottcky contact) 또는 터널링 베리어(tunnelling barrier)를 이용하는 것을 특징으로 하는 스핀분극에 의한 전위차를 이용한 자기 메모리 소자. 6 청구항 1에 있어서, 상기 2차원 전자우물층은 읽기 동작과 쓰기 동작의 전류통로로 사용되는 것을 특징으로 하는 스핀분극에 의한 전위차를 이용한 자기 메모리 소자. 7 청구항 1에 있어서, 상기 전류통로에는 근접한 전류통로와의 절연을 위해 밀링과 산화막이 이용되는 것을 특징으로 하는 스핀분극에 의한 전위차를 이용한 자기 메모리 소자. 8 청구항 1 내지 청구항 7 중의 어느 하나의 항에 있어서, 상기 자기 메모리 소자는 트윈 셀(twin cell)이 사용됨으로써 서로의 자화방향이 다르게 되어 2셀의 전위차의 부호에 따라 2가지 상태가 정해지는 것을 특징으로 하는 스핀분극에 의한 전위차를 이용한 자기 메모리 소자. 9 청구항 8에 있어서, 읽기 동작에서는 강자성체 셀의 자화 방향에 따라 전위차를 직접 감지할 수 있고 읽기 동작에서 사용하는 전류 통로를 그대로 사용하는 트윈 셀을 상기 2차원 전자우물층과 나노 채널에 사용하여 주입 효율을 높이는 것을 특징으로 하는 스핀분극에 의한 전위차를 이용한 자기 메모리 소자. 10 청구항 8에 있어서, 상기 트윈 셀에 인가되는 전류의 방향은 읽기 동작시에는 동일되게 하고, 쓰기 동작시에는 다르게 되는 것을 특징으로 하는 스핀분극에 의한 전위차를 이용한 자기 메모리 소자. 11 화합물 반도체 기판 상에 2차원 전자우물층을 포함한 웨이퍼를 성장시키는 제1단계; 상기 결과물에 리쏘그래피(lithography) 공정과 이온밀링(ion-milling)을 이용하여 워드라인을 정의하는 2단계; 상기 결과물 상에서 상기 워드라인이 증착되지 않은 부분에 산화막을 증착하는 제3단계; 전자빔 리소그래피와 스퍼터를 이용하여 상기 워드라인 상에 강자성체를 증착하는 제4단계; 및 상기 결과물을 패터닝하여 Al이나 Au을 증착하고, 비트라인을 형성하는 제5단계; 를 포함하는 스핀분극에 의한 전위차를 이용한 자기 메모리 소자 제조방법. 12 청구항 11에 있어서, 상기 산화막에는 TaO2 또는 SiO2가 사용되는 것을 특징으로 하는 스핀분극에 의한 전위차를 이용한 자기 메모리 소자 제조방법.","KR100704544B1, KR20060119109A",null,1]
["K03520","화학","KR","탄화수소계열 술폰화 고분자를 이용한 막전극집합체의 촉매바인더, 그 제조 방법 및 상기 촉매 바인더를 이용한막전극집합체{Catalyst binder for membrane electrode assembly using hydrocarbon-based sulfonated polymer, method for preparing the same, membrane electrode assembly using the catalyst binder polymer}",null,"원문이미지","KR20050032206A","2005.04.19","KR0709554B1","2007.04.13","본 발명에서는 탄화수소계열 술폰화 고분자를 이용하여 제작된 멤브레인을 구비하는 MEA의 촉매 바인더로서, 탄화수소계열 술폰화 고분자를 포함하는 것을 특징으로 하는 MEA의 촉매 바인더, 그 제조 방법 및 상기 촉매 바인더를 이용하여 제조되는 MEA를 제공한다. 본 발명에 따르면 탄화수소계열 술폰화 고분자 멤브레인을 구비하는 MEA에 있어서, 멤브레인과 전극의 접착력을 높일 수 있고, 성능이 우수하게 되며, 이에 따라 탄화수소계열 술폰화 고분자 멤브레인을 구비하는 MEA의 상용화를 가능하게 할 수 있다.","1 탄화수소계열 술폰화 고분자를 이용하여 제작된 멤브레인을 구비하는 MEA의 촉매 바인더로서, 탄화수소계열 술폰화 고분자를 포함하는 것을 특징으로 하는 MEA의 촉매 바인더.","김형준, 조은애, 임태훈, 남석우, 하흥용, 오인환, 홍성안, 윤성필, 한종희, 이재영, 김영천, 함형철","H01M-004/86","KR20060110053A","2006.10.24",null,"2025.04.19","1 탄화수소계열 술폰화 고분자를 이용하여 제작된 멤브레인을 구비하는 MEA의 촉매 바인더로서, 탄화수소계열 술폰화 고분자를 포함하는 것을 특징으로 하는 MEA의 촉매 바인더. 2 제 1 항에 있어서, 상기 촉매 바인더는, 탄화수소계열 술폰화 고분자가 이소프로판올, 1-프로판올, 물 및 유기용매에 용해된 탄화수소계열 술폰화 고분자 용액인 것을 특징으로 하는 MEA의 촉매 바인더. 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4 제 1 항에 있어서, 상기 탄화수소계열 술폰화 고분자는, 술폰화 폴리에스테르술폰, s-폴리스티렌계, s-폴리카보네이트계, s-폴리이미드계 또는 s-폴리에테르에테르케톤계인 것을 특징으로 하는 MEA의 촉매 바인더. 5 탄화수소계열 술폰화 고분자를 이용하여 제작된 멤브레인을 구비하는 MEA의 촉매 바인더 제조 방법으로서, 탄화수소계열의 술폰화 고분자를 이소프로판올, 1-프로판올, 물 및 유기용매에 용해하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 MEA의 촉매 바인더 제조 방법. 6<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 7 제 5 항에 있어서, 상기 제조 방법은, 상기 탄화수소계열 술폰화 고분자로, 술폰화 폴리에스테르술폰, s-폴리스티렌계, s-폴리카보네이트계, s-폴리이미드계 또는 s-폴리에테르에테르케톤계를 사용하는 것을 특징으로 하는 MEA의 촉매 바인더 제조 방법. 8 MEA에 있어서, 탄화수소계열 술폰화 고분자를 이용하여 제작된 멤브레인을 구비하고, 촉매 바인더가 제 1 항 내지 제 4 항중 어느 한 항의 촉매 바인더인 것을 특징으로 하는 MEA.","KR100709554B1, KR20060110053A",null,1]
["K03506","기계","KR","마이크로 발전기{Micro power generator}",null,"원문이미지","KR20050049617A","2005.06.10","KR0635405B1","2006.10.11","본 발명은 발전 효율과 출력이 향상되고 작동 온도 범위가 증가된 마이크로 발전기를 제공하는 것을 목적으로 하며, 이 목적을 달성하기 위해 본 발명은 고온열원과, 저온열원과, 내부에 작동 물질을 가지고, 상기 고온열원으로부터 열전달 가능한 제1 형상과 상기 저온열원으로 열전달 가능한 제2 형상 사이에서 상기 작동 물질의 상변화에 의해 변형 가능한 밀폐체와, 상기 밀폐체를 형성하고, 상기 밀폐체가 제1 형상을 가질 때 제1 위치에 유지되며, 상기 밀폐체가 제2 형상을 가질 때 제2 위치에 유지되는 영구자석과, 상기 영구자석의 위치 변화에 따라 전류가 유도되는 도선을 포함하는 마이크로 발전기를 제공한다.","1 고온열원, 저온열원, 내부에 작동 물질을 가지고, 상기 고온열원으로부터 열전달 가능한 제1 형상과 상기 저온열원으로 열전달 가능한 제2 형상 사이에서 상기 작동 물질의 상변화에 의해 변형 가능한 밀폐체, 상기 밀폐체를 형성하고, 상기 밀폐체가 제1 형상을 가질 때 제1 위치에 유지되며, 상기 밀폐체가 제2 형상을 가질 때 제2 위치에 유지되는 영구자석, 그리고 상기 영구자석의 위치 변화에 따라 전류가 유도되는 도선 을 포함하는 마이크로 발전기.","김광호, 송귀은, 전재학, 이윤표","B81B-007/02",null,null,null,"2025.06.10","1 고온열원, 저온열원, 내부에 작동 물질을 가지고, 상기 고온열원으로부터 열전달 가능한 제1 형상과 상기 저온열원으로 열전달 가능한 제2 형상 사이에서 상기 작동 물질의 상변화에 의해 변형 가능한 밀폐체, 상기 밀폐체를 형성하고, 상기 밀폐체가 제1 형상을 가질 때 제1 위치에 유지되며, 상기 밀폐체가 제2 형상을 가질 때 제2 위치에 유지되는 영구자석, 그리고 상기 영구자석의 위치 변화에 따라 전류가 유도되는 도선 을 포함하는 마이크로 발전기. 2 제 1 항에 있어서, 상기 밀폐체는 바이스테이블 동작 가능한 박막과, 상기 박막에 액밀적으로 결합되어 있는 상기 영구자석을 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 발전기. 3 제 2 항에 있어서, 상기 박막의 동작은 상기 작동 물질의 부피가 증가하는 상변화 또는 상기 작동 물질의 부피가 감소하는 상변화에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 마이크로 발전기. 4 제 3 항에 있어서, 상기 제1 위치는 상기 영구자석이 상기 고온열원과 접촉한 상태이고, 상기 제2 위치는 상기 영구자석이 상기 저온열원과 접촉한 상태이며, 상기 박막은 상기 제1 위치 또는 제2 위치 중 어느 하나에서 안정되는 것을 특징으로 하는 마이크로 발전기. 5 제 2 항에 있어서, 상기 고온열원에 대하여 상기 밀폐체를 지지하는 지지부재를 더 포함하며, 상기 지지부재는 상기 박막의 중앙 부분과 고정된 것을 특징으로 하는 마이크로 발전기. 6 제 5 항에 있어서, 상기 지지부재는 단열 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 발전기. 7 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 작동 물질은 액상과 기상 사이의 상변화가 용이한 물질인 것을 특징으로 하는 마이크로 발전기. 8 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 작동 물질은 고상과 기상 사이의 상변화가 용이한 물질인 것을 특징으로 하는 마이크로 발전기. 9 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 도선은 다수의 코일이 다층으로 적층된 것을 특징으로 하는 마이크로 발전기.","KR100635405B1, US2006278263A1, US7329959B2",null,1]
["K03498","재료","KR","할로겐화 고분자로부터 제조된 다공성 초극세 탄소섬유 및그 제조방법{POROUS CARBON NANOFIBER PREPARED USING HALOGENATED POLYMERS AND PREPARATION METHOD THEREOF}",null,"원문이미지","KR20050026219A","2005.03.29","KR0603022B1","2006.07.12","본 발명에서는 통상의 섬유제조 방법으로는 제조하기가 매우 어려운 할로겐화 고분자들의 초극세 탄소섬유 및 그 제조방법을 제공하는 것이다. 본 발명에서는 전기방사법(Electrospinning)으로 할로겐화 고분자의 용액을 방사하여 1-3000nm의 직경을 갖는 초극세 섬유를 제조하고, 이를 탄화 반응 전에 불융화 처리한 다음, 소정의 탄화온도까지 탄화시킴으로써 고비표면적과 미세기공(micropore) 및 중형기공(mesopore)을 지닌 초극세 다공성 탄소섬유 및 활성탄소섬유를 제공하고 있다. 따라서, 본 발명의 초극세 탄소섬유는 수소저장용 탄소재료, 생화학적 유독물질을 흡착용 그리고 슈퍼캐퍼시터나 이차전지, 연료전지 등의 전극재료 및 촉매 담체재료로 사용이 가능하다.","1 할로겐화 고분자를 전기방사(electrospinning)에 의하여 할로겐화 고분자 초극세 섬유를 제조하는 단계, 상기 할로겐화 고분자 초극세 섬유를 불융화 처리하는 단계, 그리고 불융화 처리한 상기 할로겐화 고분자 초극세 섬유를 탄화시키는 단계를 포함하는 초극세 다공성 탄소섬유 제조 방법.","조성무, 이화섭, 김동영, 진병두","D01F-009/12,D01D-005/247",null,null,null,"2025.03.29","1 할로겐화 고분자를 전기방사(electrospinning)에 의하여 할로겐화 고분자 초극세 섬유를 제조하는 단계, 상기 할로겐화 고분자 초극세 섬유를 불융화 처리하는 단계, 그리고 불융화 처리한 상기 할로겐화 고분자 초극세 섬유를 탄화시키는 단계를 포함하는 초극세 다공성 탄소섬유 제조 방법. 2 제1항에 있어서, 상기 할로겐화 고분자 초극세 섬유는 직경이 1 - 3000nm 인 것을 특징으로 하는 초극세 다공성 탄소섬유 제조 방법. 3 제1항에 있어서, 상기 할로겐화 고분자는 폴리비닐리덴 플루오라이드[Poly(vinylidene fluoride)], 폴리(비닐리덴플루오라이드-코-헥사플루오로프로필렌) [Poly(vinylidene fluoride-co-hexafluoropropylene)], 폴리(비닐리덴플루오라이드-코-테트라플루오로에틸렌)[Poly(vinylidene fluoride-co-tetrafluoroethylene)],폴리(비닐리덴플루오라이드-코-트리플루오로에틸렌)[Poly(vinylidenefluoride -co-trifluoroethylene)], 퍼풀루오로폴리(Perfluoropolymers)를 포함하는 불소고분자 단독중합체와 공중합체들이며, 폴리비닐클로라이드[Poly(vinyl chloride)], 폴리비닐리덴클로라이드[Poly(vinylidene chloride)], 폴리(비닐리덴클로라이드-코-비닐클로라이드) [Poly(vinylidenechloride-co-vinylchloride)], 사란고분자[saran polymers] 를 포함하는 할로겐화 단량체의 단독중합체, 공중합체들 및 이들의 혼합물로 구성되는 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 초극세 다공성 탄소섬유 제조 방법. 4 제1항에 있어서, 상기 불융화 처리하는 단계는 상기 할로겐화 고분자 초극세 섬유를 300 ℃ 이하의 온도에서 열처리하거나, 강알카리 수용액 또는 강알카리성 유기용액를 사용하여 상기 할로겐화 고분자 초극세 섬유를 화학적 탈할로겐화 반응시키는 것을 특징으로 하는 초극세 다공성 탄소섬유 제조 방법. 5 제1항에 있어서, 상기 탄화 단계는 불융화처리한 할로겐화 고분자 초극세 섬유를 불활성 가스 또는 진공 분위기하에서 300 - 3000 ℃ 온도 구간에서 탄화시키는 것을 특징으로 하는 초극세 다공성 탄소섬유 제조 방법. 6 제1항에 있어서, 탄화시킨 다공성 탄소나노섬유를 700 - 1000 ℃ 온도 구간에서 활성화시키는 단계를 더 포함하는 초극세 다공성 탄소섬유 제조 방법. 7 제6항의 방법에 의하여 할로겐화 고분자로부터 제조된 초극세 다공성 활성탄소섬유. 8 제1항의 방법에 의하여 할로겐화 고분자로부터 제조된 초극세 다공성 탄소섬유.","KR100603022B1",null,1]
["K03508","광학","KR","광통신 시스템용 가변 분산 및 분산기울기 보상기{COMPENSATOR FOR COMPENSATING TUNABLE DISPERSION AND DISPERSION SLOPE IN OPTICAL TELECOMMUNICATION SYSTEM}",null,"원문이미지","KR20050019862A","2005.03.09","KR0786647B1","2007.12.11","본 발명은 광통신 시스템에 사용하기 위한 광섬유 격자를 기반으로 하는 가변 분산 및 분산 기울기 보상기에 관한 것으로서, 그 중심을 기준으로 대칭적인 변형이 가능한 제 1 판; 상기 제 1 판의 안쪽 공간에 위치하며 고정된 제 2 판; 상기 제 1 판의 움직임에 따라 구부려지는 금속판; 및 상기 금속판에 부착되며 상기 금속판의 구부려짐에 의해 금속판 상의 그 위치에 따라 다른 스트레인을 인가받는 광섬유 격자를 포함하는 가변 분산 및 분산기울기 보상기를 제공한다. 본 발명에 따른 가변 분산 및 분산 기울기 보상기는 금속판이 불균일한 두께를 갖거나 광섬유 격자가 금속판 상에 비선형 형태로 부착되어 분산 기울기를 변화시킬 수 있다.","1 광섬유 격자를 기반으로 하는 가변 분산 및 분산기울기 보상기로서, 그 중심을 기준으로 대칭적인 변형이 가능한 제 1 판; 상기 제 1 판의 안쪽 공간에 위치하며 고정된 제 2 판; 상기 제 1 판의 움직임에 따라 구부려지는 금속판; 및 상기 금속판에 부착되며 상기 금속판의 구부려짐에 의해 위치에 따라 다른 스트레인을 인가받는 광섬유 격자 를 포함하는 가변 분산 및 분산기울기 보상기.","배준기, 이영준, 김상혁, 이상배","G02B-006/00,G02B-006/02,G02B-006/02","KR20060098149A","2006.09.18",null,"2025.03.09","1 광섬유 격자를 기반으로 하는 가변 분산 및 분산기울기 보상기로서, 그 중심을 기준으로 대칭적인 변형이 가능한 제 1 판; 상기 제 1 판의 안쪽 공간에 위치하며 고정된 제 2 판; 상기 제 1 판의 움직임에 따라 구부려지는 금속판; 및 상기 금속판에 부착되며 상기 금속판의 구부려짐에 의해 위치에 따라 다른 스트레인을 인가받는 광섬유 격자 를 포함하는 가변 분산 및 분산기울기 보상기. 2 제 1 항에 있어서, 상기 금속판을 고정시키기 위한 제 1 및 제 2 고정 수단을 포함하고, 상기 각 고정 수단은, 상기 각 고정 수단의 한 부분을 상기 제 1 판과 연결하기 위한 제 1 축, 및 상기 각 고정 수단의 다른 한 부분을 상기 제 2 판과 연결하기 위한 제 2 축 을 포함하는 가변 분산 및 분산기울기 보상기. 3 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 판의 중심은 상기 금속판 길이의 중심과 동일한 가변 분산 및 분산기울기 보상기. 4 제 3 항에 있어서, 상기 각 고정 수단의 상기 제 1 축은 상기 제 1 판의 어느 한 지점에 위치하여 상기 제 1 판의 회전 방향으로 움직이고, 상기 각 고정 수단의 상기 제 2 축은 상기 제 2 판의 어느 한 지점에 위치하여 상기 제 1 판이 회전하더라도 움직이지 않으며, 상기 금속판의 양쪽 끝 단은 상기 각 고정 수단의 상기 제 1 축에 고정되어 상기 제 1 판의 회전 방향으로 구부려지는 가변 분산 및 분산기울기 보상기. 5 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 판의 회전으로 인하여 상기 각 고정 수단의 상기 제 1 축은 상기 제 1 판의 중심에 대해 동일한 각도를 가지면서 움직이는 가변 분산 및 분산기울기 보상기. 6 제 5 항에 있어서, 상기 각 고정 수단의 상기 제 1축 및 제 2 축 중 적어도 하나는 상기 제 1 판의 중심에 대해 비대칭적으로 위치하며, 상기 제 1 판의 회전으로 인하여 상기 금속판은 상기 금속판 길이의 중심에 대해 비대칭적인 구부림 곡선을 갖는 가변 분산 및 분산기울기 보상기. 7 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 판은 링 형태의 판이고, 상기 제 2 판은 원판인 가변 분산 및 분산기울기 보상기. 8 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 금속판은 불균일한 두께를 갖는 가변 분산 및 분산 기울기 보상기. 9 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광섬유 격자는 상기 금속판 상에 곡선형태로 부착되는 가변 분산 및 분산 기울기 보상기. 10 제 8 항에 있어서, 상기 금속판은 세로 방향으로 두께의 변화를 가지며, 상기 제 1 판의 회전에 따라 비선형적인 인장력과 수축력을 인가받아 상기 광섬유 격자의 주기에 비선형적인 첩핑율을 유도하는 가변 분산 및 분산기울기 보상기. 11 제 1 항에 있어서, 상기 광섬유 격자는 상기 금속판의 길이 방향에 대해 일정한 각도를 갖도록 부착된 가변 분산 및 분산 기울기 보상기. 12<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 13<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100786647B1, KR20060098149A, US2008232739A1, US7627211B2, WO2006095950A1",null,1]
["K03496","재료","KR","다공성 모재를 이용한 다이아몬드 쉘 및 그 제조방법{A DIAMOND SHELL FABRICATED BY USING POROUS PARTICLE AND THE FABRICATION METHOD THEREOF}",null,"원문이미지","KR20050030824A","2005.04.13","KR0678727B1","2007.01.29","본 발명은 기하학적 형태를 갖는 수 마이크로 내지 수 밀리미터 크기의 중공형 다이아몬드 쉘 및 그 제조방법에 관한 것으로, 다이아몬드 막이 CVD법으로 증착되고 후속적으로 에칭되는 희생모재로서 다공성 입자를 사용함으로써, 모재 에칭과정에서 에칭용액을 강하게 빨아들이는 모세관 현상에 의해 쉽게 모재를 제거할 수 있어서, 종래의 기술로는 제조할 수 없었던, 뚜렷한 열린 곳이 없이 다수의 나노 크기의 미세한 공극만을 갖고 있는, 완전한 다이아몬드 쉘을 제공할 수 있다. 또한, 다이아몬드 입자의 핵생성을 제어하여 입자 표면적의 10% 이하의 작은 열린 곳을 갖는 다이아몬드 쉘도 제조할 수 있다.","1 구형 또는 다면체의 기하학적 모양을 갖는 다공성 모재입자를 준비하는 단계; 미분의 다이아몬드가 분산된 용액에 상기 다공성 모재입자를 담그고 초음파배쓰에서 일정 시간 진동시키되, 상기 다공성 모재입자 표면의 일정 부분에는 미분의 다이아몬드가 닿지 않도록 하여, 상기 다공성 모재입자 표면의 상기 일정 부분을 제외한 모든 표면에 스크래치(scratch) 또는 잔류물을 형성시키는 선택적 전처리 단계; 선택적 전처리 단계를 거친 다공성 모재입자 위에 CVD법으로 다이아몬드 막을 증착하되, 상기 다공성 모재입자 표면의 상기 일정 부분에 해당하는 부분에 열린 곳(opening)을 갖는 다이아몬드 막을 형성하여 다이아몬드/모재입자 복합체를 제조하는 단계; 및 상기 복합체를 에칭용액에 담가, 상기 다공성 모재입자가 상기 열린 곳을 통해 침입하는 에칭용액을 빨아들이는 모세관 현상에 의해 상기 다공성 모재입자를 제거하는 에칭단계;를 포함하는 다이아몬드 쉘 제조방법.","이재갑, 존 필립","C23C-016/27,C03C-017/00","KR20060108440A","2006.10.18",null,"2025.04.13","1 구형 또는 다면체의 기하학적 모양을 갖는 다공성 모재입자를 준비하는 단계; 미분의 다이아몬드가 분산된 용액에 상기 다공성 모재입자를 담그고 초음파배쓰에서 일정 시간 진동시키되, 상기 다공성 모재입자 표면의 일정 부분에는 미분의 다이아몬드가 닿지 않도록 하여, 상기 다공성 모재입자 표면의 상기 일정 부분을 제외한 모든 표면에 스크래치(scratch) 또는 잔류물을 형성시키는 선택적 전처리 단계; 선택적 전처리 단계를 거친 다공성 모재입자 위에 CVD법으로 다이아몬드 막을 증착하되, 상기 다공성 모재입자 표면의 상기 일정 부분에 해당하는 부분에 열린 곳(opening)을 갖는 다이아몬드 막을 형성하여 다이아몬드/모재입자 복합체를 제조하는 단계; 및 상기 복합체를 에칭용액에 담가, 상기 다공성 모재입자가 상기 열린 곳을 통해 침입하는 에칭용액을 빨아들이는 모세관 현상에 의해 상기 다공성 모재입자를 제거하는 에칭단계;를 포함하는 다이아몬드 쉘 제조방법. 2 구형 또는 다면체의 기하학적 모양을 갖는 다공성 모재입자를 준비하는 단계; 상기 다공성 모재입자 위에 CVD법으로 다이아몬드 막을 증착하되, 핵 밀도 조절 및 막 두께 조절로 액상이 통과할 수 있는 공극을 갖는 다이아몬드 막을 형성하여 다이아몬드/모재입자 복합체를 제조하는 단계; 및 상기 복합체를 에칭용액에 담가, 상기 다공성 모재입자가 상기 공극을 통해 침입하는 에칭용액을 빨아들이는 모세관 현상에 의해 상기 다공성 모재입자를 제거하는 에칭단계;를 포함하는 다이아몬드 쉘 제조방법. 3 제 2 항에 있어서, 상기 다이아몬드/모재입자 복합체 제조 단계 전에, 미분의 다이아몬드가 분산된 용액에 상기 다공성 모재입자를 담그고 초음파배쓰에서 일정 시간 진동시켜 상기 다공성 모재입자 표면에 스크래치(scratch) 또는 잔류물을 형성시키는 전처리 단계를 더 포함하고, 상기 전처리 단계에서 전처리 시간을 조절하여, 이후 다이아몬드 막 합성시 핵 밀도를 조절하는 것을 특징으로 하는 다이아몬드 쉘 제조방법. 4 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 공극의 크기를 1Å ∼ 5㎛로 제어하는 것을 특징으로 하는 다이아몬드 쉘 제조방법. 5 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 다공성 모재입자의 크기는 200 ㎚ ~ 2 ㎜인 것을 특징으로 하는 다이아몬드 쉘 제조방법. 6 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 다공성 모재입자는 SiO2, Al2O3, BaTiO3 중 적어도 하나를 포함한 금속산화물 또는 폴리머(polymer)로서, 다이아몬드 막 증착이 용이하고 화학약품에 의해 쉽게 에칭될 수 있는 유, 무기 재질인 것을 특징으로 하는 다이아몬드 쉘 제조방법. 7 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 다이아몬드/모재입자 복합체를 제조하는 단계에서, 상기 다공성 모재입자 표면에 균일한 다이아몬드 막 증착을 위해, 일정 시간 합성한 후 모재입자를 재배치하여 다시 합성하는 다단계 합성을 하는 것을 특징으로 하는 다이아몬드 쉘 제조방법. 8 제 7 항에 있어서, 상기 다공성 모재입자의 크기는 200 ㎚ ~ 5 ㎜인 것을 특징으로 하는 다이아몬드 쉘 제조방법. 9 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 다공성 모재입자는 실리카(SiO2)를 포함하고, 상기 에칭액으로 불화수소산을 이용하여 상기 다공성 모재입자를 에칭시켜 제거하며, 상기 다공성 모재입자와 상기 다이아몬드 막 사이에 형성되는 다공성 실리콘카바이드 층을 잔류시키는 것을 특징으로 하는 다이아몬드 쉘 제조방법. 10 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 다공성 모재입자는 실리카(SiO2)를 포함하고, 상기 에칭액으로 끓는 무라카미 용액을 사용하여 상기 다공성 모재입자와 상기 다이아몬드 막 사이에 형성되는 다공성 실리콘카바이드 층과 상기 다공성 모재입자를 동시에 제거하는 다이아몬드 쉘 제조방법. 11 제 2 항의 방법에 의해 제조된 구형 또는 다면체의 기하학적 모양을 갖는 중공형 다이아몬드 쉘을 준비하고, 다이아몬드 합성 진공용기 내에 상기 중공형 다이아몬드 쉘을 모재입자로 장입시킨 후, 다이아몬드의 원료가스를 플라즈마 또는 열에너지로 분해하여 CVD법으로 다이아몬드 막을 합성하는 단계를 거침으로써, 쉘의 두께가 쉘 크기의 10% 이상으로 두꺼운 중공형 다이아몬드 쉘을 얻는 것을 특징으로 하는 다이아몬드 쉘 제조방법. 12 제 9 항의 방법에 의해 제조된 구형 또는 다면체 등의 기하학적 모양을 갖는 중공형 다이아몬드/실리콘카바이드 복합체 쉘을 준비하고, 다이아몬드 합성 진공용기 내에 상기 중공형 다이아몬드/실리콘카바이드 복합체 쉘을 모재입자로 장입시킨 후, 다이아몬드의 원료가스를 플라즈마 또는 열에너지로 분해하여 CVD법으로 다이아몬드 막을 합성하는 단계를 거침으로써, 쉘의 두께가 쉘 크기의 10% 이상으로 두꺼운 중공형 다이아몬드/실리콘카바이드 복합체 쉘을 얻는 것을 특징으로 하는 다이아몬드 쉘 제조방법.","KR100678727B1, KR20060108440A, US2008318023A1, US8048494B2, WO2006110004A1",null,1]
["F03532","화학","FR","Preparation methods of (organothiomethyl)chlorosilanes",null,"원문이미지","EP2005256719","2005.10.31","EP01705180B1","2011.09.14","This invention relates to (organothiomethyl)chlorosilanes and methods for their preparation by the dehydrohalogenative Si-C coupling reaction of oranothiomethyl halides with Si-H containing chlorosilanes (hydrosilanes), wherein a mixture of oranothiomethyl halide and hydrosilane is heated in the presence of an organic base, such as a tertiary amine, or organic salts (quaternary organoammonium and organophosphonium halides), to give (organothiomethyl)chlorosilanes, comprising a sulfur atom in an alkyl chain (formula:: R2SCH2SiCl2R1) in good yield, wherein R1 represents a hydrogen atom, halogen, or C1-C6 alkyl; and R2 is selected from the group consisting of C1-C6 alkyl or an aryl group. Especially, this reaction using an organic salt as a catalyst and provides better economical matter and yield compared with conventional methods, because only a catalytic amount of an organic salt or base is required and the catalyst can be separated from the reaction mixture and recycled easily.,","1. A process for preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds of the following formula 1, comprising a dehydrohalogenative coupling reaction of hydrochlorosilane of the following formula 2 with organothiomethyl halides of the following formula 3 in the presence of an organic salt (quaternary phosphonium salt or quaternary ammonium salt) or an organic base as a catalyst, wherein R1 represents a hydrogen atom, halogen or C1-C6 alkyl; R2 is selected from the group consisting of a C1-C6 alkyl or an aryl group; and X represents a halogen.","Yoo, Bok Ryul, Han, Joon Soo, Lim, Weon Cheol, Hong, Mi-kyoung","C07F-007/14","EP01705180A1","2006.09.27","2005.03.21 (KR 2005023276)",null,"1. A process for preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds of the following formula 1, comprising a dehydrohalogenative coupling reaction of hydrochlorosilane of the following formula 2 with organothiomethyl halides of the following formula 3 in the presence of an organic salt (quaternary phosphonium salt or quaternary ammonium salt) or an organic base as a catalyst, wherein R1 represents a hydrogen atom, halogen or C1-C6 alkyl; R2 is selected from the group consisting of a C1-C6 alkyl or an aryl group; and X represents a halogen. 2. A method of preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds according to Claim 1, wherein an organic salt, such as a quaternary phosphonium salt or a quaternary ammonium salt, expressed by the following Formula 4, is used for said catalyst: (R\")4EX (4) wherein E represents a phosphorus or nitrogen atom; X represents a halogen and R\" may be identical or different and is a C1-C12 alkyl, phenyl group or -CnH2n+1-C6H5 (n is an integer of 0-6); and two of the R\" functional groups may be covalently bonded to form a C4-C8 ring. 3. A method of preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds according to Claim 1, wherein an organic salt, such as a quaternary phosphonium salt or a quaternary ammonium salt, expressed by the following Formula 5, is used for said catalyst, X(R\")3E-Y-E(R\")3X (5) wherein E, X and R\" are the same as defined in claim 3; and Y can be C1-12 alkylene or an aromatic group optionally containing alkyls. 4. A method of preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds according to Claim 1, wherein the organic base is a tertiary organic amine of the following formula 6: (R\")3N (6) wherein R\" is the same as defined in claim 3. 5. A method of preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds according to any one of Claims 2, 3, or 4, wherein the catalyst is immobilized on an inorganic or organic support. 6. A method of preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds according to Claim 5, wherein said catalyst may be an organic salt or base immobilized on a silicon resin, silica, inorganic supporter or organic polymer. 7. A method of preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds according to Claim 1, wherein 0.01-1 mol of said catalyst is used for 1 mol of hydrochlorosilane expressed by formula 2. 8. A method of preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds according to Claim 1, wherein said coupling reaction is performed in the temperature range of 70-150 øC. 9. A method of preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds according to Claim 1, wherein said coupling reaction is performed without a reaction solvent.","EP1705180A1, EP1705180B1, JP2006265225A, JP4336674B2, KR100636296B1, KR20060101714A, US2006211876A1, US7109367B1","N",4]
["F03531","화학","GB","Preparation methods of (organothiomethyl)chlorosilanes",null,"원문이미지","EP2005256719","2005.10.31","EP01705180B1","2011.09.14","This invention relates to (organothiomethyl)chlorosilanes and methods for their preparation by the dehydrohalogenative Si-C coupling reaction of oranothiomethyl halides with Si-H containing chlorosilanes (hydrosilanes), wherein a mixture of oranothiomethyl halide and hydrosilane is heated in the presence of an organic base, such as a tertiary amine, or organic salts (quaternary organoammonium and organophosphonium halides), to give (organothiomethyl)chlorosilanes, comprising a sulfur atom in an alkyl chain (formula:: R2SCH2SiCl2R1) in good yield, wherein R1 represents a hydrogen atom, halogen, or C1-C6 alkyl; and R2 is selected from the group consisting of C1-C6 alkyl or an aryl group. Especially, this reaction using an organic salt as a catalyst and provides better economical matter and yield compared with conventional methods, because only a catalytic amount of an organic salt or base is required and the catalyst can be separated from the reaction mixture and recycled easily.,","1. A process for preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds of the following formula 1, comprising a dehydrohalogenative coupling reaction of hydrochlorosilane of the following formula 2 with organothiomethyl halides of the following formula 3 in the presence of an organic salt (quaternary phosphonium salt or quaternary ammonium salt) or an organic base as a catalyst, wherein R1 represents a hydrogen atom, halogen or C1-C6 alkyl; R2 is selected from the group consisting of a C1-C6 alkyl or an aryl group; and X represents a halogen.","Yoo, Bok Ryul, Han, Joon Soo, Lim, Weon Cheol, Hong, Mi-kyoung","C07F-007/14","EP01705180A1","2006.09.27","2005.03.21 (KR 2005023276)",null,"1. A process for preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds of the following formula 1, comprising a dehydrohalogenative coupling reaction of hydrochlorosilane of the following formula 2 with organothiomethyl halides of the following formula 3 in the presence of an organic salt (quaternary phosphonium salt or quaternary ammonium salt) or an organic base as a catalyst, wherein R1 represents a hydrogen atom, halogen or C1-C6 alkyl; R2 is selected from the group consisting of a C1-C6 alkyl or an aryl group; and X represents a halogen. 2. A method of preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds according to Claim 1, wherein an organic salt, such as a quaternary phosphonium salt or a quaternary ammonium salt, expressed by the following Formula 4, is used for said catalyst: (R\")4EX (4) wherein E represents a phosphorus or nitrogen atom; X represents a halogen and R\" may be identical or different and is a C1-C12 alkyl, phenyl group or -CnH2n+1-C6H5 (n is an integer of 0-6); and two of the R\" functional groups may be covalently bonded to form a C4-C8 ring. 3. A method of preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds according to Claim 1, wherein an organic salt, such as a quaternary phosphonium salt or a quaternary ammonium salt, expressed by the following Formula 5, is used for said catalyst, X(R\")3E-Y-E(R\")3X (5) wherein E, X and R\" are the same as defined in claim 3; and Y can be C1-12 alkylene or an aromatic group optionally containing alkyls. 4. A method of preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds according to Claim 1, wherein the organic base is a tertiary organic amine of the following formula 6: (R\")3N (6) wherein R\" is the same as defined in claim 3. 5. A method of preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds according to any one of Claims 2, 3, or 4, wherein the catalyst is immobilized on an inorganic or organic support. 6. A method of preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds according to Claim 5, wherein said catalyst may be an organic salt or base immobilized on a silicon resin, silica, inorganic supporter or organic polymer. 7. A method of preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds according to Claim 1, wherein 0.01-1 mol of said catalyst is used for 1 mol of hydrochlorosilane expressed by formula 2. 8. A method of preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds according to Claim 1, wherein said coupling reaction is performed in the temperature range of 70-150 øC. 9. A method of preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds according to Claim 1, wherein said coupling reaction is performed without a reaction solvent.","EP1705180A1, EP1705180B1, JP2006265225A, JP4336674B2, KR100636296B1, KR20060101714A, US2006211876A1, US7109367B1","N",4]
["F03530","화학","DE","Preparation methods of (organothiomethyl)chlorosilanes",null,"원문이미지","EP2005256719","2005.10.31","EP01705180B1","2011.09.14","This invention relates to (organothiomethyl)chlorosilanes and methods for their preparation by the dehydrohalogenative Si-C coupling reaction of oranothiomethyl halides with Si-H containing chlorosilanes (hydrosilanes), wherein a mixture of oranothiomethyl halide and hydrosilane is heated in the presence of an organic base, such as a tertiary amine, or organic salts (quaternary organoammonium and organophosphonium halides), to give (organothiomethyl)chlorosilanes, comprising a sulfur atom in an alkyl chain (formula:: R2SCH2SiCl2R1) in good yield, wherein R1 represents a hydrogen atom, halogen, or C1-C6 alkyl; and R2 is selected from the group consisting of C1-C6 alkyl or an aryl group. Especially, this reaction using an organic salt as a catalyst and provides better economical matter and yield compared with conventional methods, because only a catalytic amount of an organic salt or base is required and the catalyst can be separated from the reaction mixture and recycled easily.,","1. A process for preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds of the following formula 1, comprising a dehydrohalogenative coupling reaction of hydrochlorosilane of the following formula 2 with organothiomethyl halides of the following formula 3 in the presence of an organic salt (quaternary phosphonium salt or quaternary ammonium salt) or an organic base as a catalyst, wherein R1 represents a hydrogen atom, halogen or C1-C6 alkyl; R2 is selected from the group consisting of a C1-C6 alkyl or an aryl group; and X represents a halogen.","Yoo, Bok Ryul, Han, Joon Soo, Lim, Weon Cheol, Hong, Mi-kyoung","C07F-007/14","EP01705180A1","2006.09.27","2005.03.21 (KR 2005023276)",null,"1. A process for preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds of the following formula 1, comprising a dehydrohalogenative coupling reaction of hydrochlorosilane of the following formula 2 with organothiomethyl halides of the following formula 3 in the presence of an organic salt (quaternary phosphonium salt or quaternary ammonium salt) or an organic base as a catalyst, wherein R1 represents a hydrogen atom, halogen or C1-C6 alkyl; R2 is selected from the group consisting of a C1-C6 alkyl or an aryl group; and X represents a halogen. 2. A method of preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds according to Claim 1, wherein an organic salt, such as a quaternary phosphonium salt or a quaternary ammonium salt, expressed by the following Formula 4, is used for said catalyst: (R\")4EX (4) wherein E represents a phosphorus or nitrogen atom; X represents a halogen and R\" may be identical or different and is a C1-C12 alkyl, phenyl group or -CnH2n+1-C6H5 (n is an integer of 0-6); and two of the R\" functional groups may be covalently bonded to form a C4-C8 ring. 3. A method of preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds according to Claim 1, wherein an organic salt, such as a quaternary phosphonium salt or a quaternary ammonium salt, expressed by the following Formula 5, is used for said catalyst, X(R\")3E-Y-E(R\")3X (5) wherein E, X and R\" are the same as defined in claim 3; and Y can be C1-12 alkylene or an aromatic group optionally containing alkyls. 4. A method of preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds according to Claim 1, wherein the organic base is a tertiary organic amine of the following formula 6: (R\")3N (6) wherein R\" is the same as defined in claim 3. 5. A method of preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds according to any one of Claims 2, 3, or 4, wherein the catalyst is immobilized on an inorganic or organic support. 6. A method of preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds according to Claim 5, wherein said catalyst may be an organic salt or base immobilized on a silicon resin, silica, inorganic supporter or organic polymer. 7. A method of preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds according to Claim 1, wherein 0.01-1 mol of said catalyst is used for 1 mol of hydrochlorosilane expressed by formula 2. 8. A method of preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds according to Claim 1, wherein said coupling reaction is performed in the temperature range of 70-150 øC. 9. A method of preparing (organothiomethyl)chlorosilane compounds according to Claim 1, wherein said coupling reaction is performed without a reaction solvent.","EP1705180A1, EP1705180B1, JP2006265225A, JP4336674B2, KR100636296B1, KR20060101714A, US2006211876A1, US7109367B1","N",4]
["F02203","화학","JP","(유기 치오메칠)쿠로로시란 유도체 및 그 제조 방법",null,"원문이미지","JP2005318365A","2005.11.01","JP4336674B9","2009.07.03","(57)【요약】 【과제】(유기 치오메칠)쿠로로시란 유도체 및 그 제조 방법을 제공하는 것.【해결 수단】하기식(1)으로 표시된다(유기 치오메칠)쿠로로시란 유도체:(식중, R1은 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고;R2은 탄소수 1∼6의 알킬기, 또는 아릴기를 나타낸다.);제4급 유기 포스포늄 소금, 제3급 아민, 또는 제4급 유기 암모늄 소금 촉매의 존재하, 지쿠로로히도로시란 화합물과 유기 치오메칠하로겐 화합물을 탈 할로겐화수 단위반응 하게 하는 것을 특징으로 한다(유기 치오메칠)쿠로로시란 유도체의 제조 방법.","【청구항 1】 하기식(1)으로 표시된다(유기 치오메칠)쿠로로시란 유도체: (식중, R1은 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고;R2은 탄소수 1∼6의 알킬기, 또는 아릴기를 나타낸다.)","柳  ▲福▼烈, 韓  準秀, 任  原徹, 洪  美景","C07F-007/12,B01J-031/02,C07B-061/00","JP2006265225A","2006.10.05","2005-03-21 (KR 10-2005-0023276)","2025.11.01","【특허청구의 범위】 【청구항 1】 하기식(1)으로 표시된다(유기 치오메칠)쿠로로시란 유도체: (식중, R1은 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고;R2은 탄소수 1∼6의 알킬기, 또는 아릴기를 나타낸다.) 【청구항 2】 제4급 유기 포스포늄 소금, 제3급 아민, 또는 제4급 유기 암모늄 소금으로부터 선택되는 촉매의 존재하에서, 하기식(2)으로 표 되는 쿠로로히도로시란 화합물과 하기식(3)으로 표 되는 유기 치오메칠하로겐 화합물을 탈 할로겐화수 단위반응 하게 하고 하기식(1)으로 표시된다(유기 치오메칠)쿠로로시란 유도체를 제조하는 것을 특징으로 한다(유기 치오메칠)쿠로로시란 유도체의 제조 방법: (식중, R1은 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고;R2은 탄소수 1∼6의 알킬기, 또는 아릴기를 나타내고;X은 할로겐 원자를 나타낸다.) 【청구항 3】 상기 제4급 유기 포스포늄 소금이 서투르다 기록식(4)으로 표 되는 것을 특징으로 하는 청구항 2 기재의 제조 방법. (R'')4EX (4) (식중, E은 인 또는 질소 원자를 나타내고;X은 할로겐 원자를 나타내고;R''은 서로 동일 또는 다른 것이고, 탄소수 1∼12의 알킬기, 페닐기, 또는-CnH2n-C6H5(n은 0∼6의 정수);또는, 2개의 R''이 서로 공유 결합으로 연결하게 되고 C4-C8 고리를 형성해도 좋다.) 【청구항 4】 상기 제4급 유기 포스포늄 소금이 서투르다 기록식(5)으로 표 되는 것을 특징으로 하는 청구항 2 기재의 제조 방법: X(R'')3E-Y-E(R'')3X (5) (식중, E,X 및 R''은 청구항 3으로 정의한 대로 이고;Y은 탄소수 1∼12의 알킬렌기 또는 선택적에 알킬기를 포함하는 방향족기 이다.) 【청구항 5】 하기식(6)의 유기 염기가 제3급 유기 아민라도 좋은 것을 특징으로 하는 청구항 2 기재의 제조 방법. (R'')3N (6) (식중, R''은 청구항 3으로 정의한 대로 이다.) 【청구항 6】 상기 화합물의 무기 또는 유기 지지체에 고정하게 되는 화합물이 촉매로서 사용되는 것을 특징으로 한다, 청구항 3,4 및 5의 어느 한쪽에 기재의 제조 방법. 【청구항 7】 상기 촉매가, 실리콘 수지, 실리카 및 그 밖의 무기 지지체 또는 유기 고분자로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 청구항 6 기재의 제조 방법. 【청구항 8】 상기 촉매가 상기식(2)으로 표 되는 쿠로로히도로시란 화합물 1몰에 대하여 0.01∼1몰의 범위에서 사용되는 것을 특징으로 하는 청구항 2 기재의 제조 방법. 【청구항 9】 상기 커플즈 반응이 70∼150℃의 범위에서 행하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 2 기재의 제조 방법. 【청구항 10】 상기 커플즈 반응이 반응 용매 없음으로 행하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 2 기재의 제조 방법.","EP1705180A1, EP1705180B1, JP2006265225A, JP4336674B2, KR100636296B1, KR20060101714A, US2006211876A1, US7109367B1","N",4]
["K03487","생화학","KR","단백질 결정 판독시스템{Protein crystal inspection system}",null,"원문이미지","KR20050012421A","2005.02.15","KR0602972B1","2006.07.12","단백질 결정화 실험에 사용하는 96 웰 플레이트(또는 24웰이나 384웰 플레이트)가 구비된 카세트를 Z축으로 승강시키는 Z축 이송수단이 구비된 카세트이송장치; 상기 카세트로부터 웰 플레이트를 로딩/언로딩하는 그립퍼와 상기 그립퍼의 X-Y축 방향의 이동을 제어하는 X-Y이동테이블이 구비된 X-Y스테이지; 상기 X-Y스테이지의 그립퍼에 로딩된 웰 플레이트의 단백질 결정체에 대한 진행상태 판독이 용이하도록 단백질 결정체분석수단을 Z축으로 승강시키는 Z축 이송수단이 구비된 단백질 결정체 판독기를 포함하는 단백질 결정 판독시스템이 제공된다.","1 다수개의 웰 플레이트가 구비된 카세트를 Z축으로 승강시키는 Z축 이송수단이 구비된 카세트이송장치; 상기 카세트로부터 웰 플레이트를 로딩/언로딩하는 그립퍼와 상기 그립퍼의 X-Y축 방향의 이동을 제어하는 X-Y이동테이블이 구비된 X-Y스테이지; 상기 X-Y스테이지의 그립퍼에 로딩된 웰 플레이트의 결정체에 대한 진행상태 판독이 용이하도록 결정체분석수단을 Z축으로 승강시키는 Z축 이송수단이 구비된 단백질 결정 판독기를 포함하는 것을 특징으로 하는 단백질 결정 판독시스템.","유명희, 이철주, 황광연, 김은경, 김진오, 한진석","C12Q-001/68",null,null,null,"2025.02.15","1 다수개의 웰 플레이트가 구비된 카세트를 Z축으로 승강시키는 Z축 이송수단이 구비된 카세트이송장치; 상기 카세트로부터 웰 플레이트를 로딩/언로딩하는 그립퍼와 상기 그립퍼의 X-Y축 방향의 이동을 제어하는 X-Y이동테이블이 구비된 X-Y스테이지; 상기 X-Y스테이지의 그립퍼에 로딩된 웰 플레이트의 결정체에 대한 진행상태 판독이 용이하도록 결정체분석수단을 Z축으로 승강시키는 Z축 이송수단이 구비된 단백질 결정 판독기를 포함하는 것을 특징으로 하는 단백질 결정 판독시스템. 2 제1항에 있어서, 상기 그립퍼는, 상기 웰 플레이트가 로딩되고 일측단에 상기 로딩된 웰 플레이트가 안정적으로 지지되도록 지지편이 형성된 로딩플레이트; 상기 로딩플레이트가 상기 카세트에 출입가능하도록 상기 X-Y이동테이블에 결합된 베이스플레이트; 상기 베이스의 상면에 위치된 이동블록; 상기 이동블록의 이동부재에 결합되어 상기 베이스에 로딩된 웰 플레이트를 파지하거나 파지해제 하기 위한 핸드블럭; 및 상기 핸드블록이 상기 웰 플레이트를 파지하거나 파지해제 하도록 상기 핸드블록의 X축 방향에 대한 이동거리를 제어하기 위한 탄성부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 단백질 결정 판독시스템. 3 제2항에 있어서, 상기 이동블록은, 상기 베이스플레이트의 상면에 베이스플레이트의 길이방향으로 고정설치되는 LM가이드바와; 상기 LM가이드바를 따라 슬라이딩되는 가이드부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 단백질 결정 판독시스템. 4 제3항에 있어서, 상기 핸드블록은, 상기 가이드부재의 상면에 고정 설치되는 가압블록; 상기 가압블록에 결합되어 상기 웰 플레이트의 파지를 용이하게 하도록 테이퍼진 한 쌍의 핑거; 및 상기 핑거의 하부에 위치하며 상기 카세트이송장치의 일측에 구비된 걸림턱에 당접되는 걸림부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 단백질 결정 판독시스템. 5 제4항에 있어서, 상기 로딩플레이트와 베이스플레이트가 당접되는 부분에 상기 핸드블록의 걸림부재가 관통되기 위한 관통구가 더 형성되는 것을 특징으로 하는 단백질 결정 판독시스템. 6 제4항에 있어서, 상기 탄성부재는, 상기 베이스플레이트의 일측과 가압블록의 일측에 고정설치된 고정축에 결합된 탄성스프링을 포함하는 것을 특징으로 하는 단백질 결정 판독시스템. 7 제2항에 있어서, 상기 X-Y이동테이블은, 상기 그립퍼가 X축 방향으로 이동되도록 하기 위한 LM가이드바와 슬라이딩 부재가 구비된 X축 이동수단과; 상기 그립퍼와 X축 이동수단의 사이에 상기 그립퍼가 Y축 방향으로 이동되도록 하기 위한 LM가이드바와 슬라이딩 부재가 구비된 Y축 이동수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 단백질 결정 판독시스템.","KR100602972B1",null,1]
["K03478","반도체","KR","강유전체 나노 튜브 어레이 고밀도 기록 매체{Ferroelectric Nano Tube Array High Density Recording Media}",null,"원문이미지","KR20050024423A","2005.03.24","KR0611683B1","2006.08.04","본 발명은 강유전체의 잔류분극을 이용한 나노 스토리지 기록 매체에 관한 것이다. 본 발명의 강유전체 나노 튜브 어레이의 형성 방법은 기판 상의 알루미늄의 표면을 전기연마 처리하는 단계, 표면 처리된 알루미늄 전체 표면을 1차 아노다이징하여 불규칙적인 알루미나 나노 기공을 형성하는 단계, 불규칙적인 알루미나 나노 기공을 제거하는 단계, 알루미늄을 2차 아노다이징하는 단계, 알루미나 나노 기공이 형성된 기판을 졸겔 용액에 침지하여 나노 기공 속으로 졸겔 용액을 충전시키는 단계, 기판을 건조시킨 후 겔 상태의 기판을 열처리한 후 냉각하는 단계, 기판 상부에 부가적으로 형성된 강유전체 상부 박막을 제거하는 단계를 포함한다.","1 기판 상에 형성된 알루미늄의 표면을 전기연마 처리하는 단계, 표면 처리된 알루미늄 전체 표면을 1차 아노다이징하여 불규칙적인 알루미나 나노 기공을 형성하는 단계, 불규칙적인 알루미나 나노 기공을 제거하는 단계, 알루미늄을 2차 아노다이징하는 단계, 상기 단계에서 제조된 알루미나 나노 기공이 형성된 기판을 졸겔 용액에 침지하여 나노 기공 속으로 졸겔 용액을 충전시키는 단계, 기판을 건조시킨 후 겔 상태의 기판을 열처리한 후 냉각하는 단계, 기판 상부에 부가적으로 형성된 강유전체 상부 박막을 플라즈마 에칭에 의해 제거하는 단계 를 포함하는 강유전체 나노 튜브 어레이의 형성 방법.","이전국, 강성철, 정원용","H01L-027/105",null,null,null,"2025.03.24","1 기판 상에 형성된 알루미늄의 표면을 전기연마 처리하는 단계, 표면 처리된 알루미늄 전체 표면을 1차 아노다이징하여 불규칙적인 알루미나 나노 기공을 형성하는 단계, 불규칙적인 알루미나 나노 기공을 제거하는 단계, 알루미늄을 2차 아노다이징하는 단계, 상기 단계에서 제조된 알루미나 나노 기공이 형성된 기판을 졸겔 용액에 침지하여 나노 기공 속으로 졸겔 용액을 충전시키는 단계, 기판을 건조시킨 후 겔 상태의 기판을 열처리한 후 냉각하는 단계, 기판 상부에 부가적으로 형성된 강유전체 상부 박막을 플라즈마 에칭에 의해 제거하는 단계 를 포함하는 강유전체 나노 튜브 어레이의 형성 방법. 2 제1항에 있어서, 기판이 HDD용 알루미늄 합금 디스크인 방법. 3 제1항에 있어서, 아노다이징 용액에 노출되는 부분만 알루미나 나노 기공을 형성시키기 위해 알루미늄 표면의 전기연마 처리 단계 후에 반도체 포토 리소그라피 공정을 이용하여 알루미늄 표면의 일부에 용액이 접촉되지 않는 패턴을 형성하는 단계를 추가로 포함하는 방법. 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100611683B1",null,1]
["K03464","컴퓨터","KR","멀티모달 인터랙션 기반 원격미팅 시스템{Multi Modal Interaction-based Remote Meeting System}",null,"원문이미지","KR20050056052A","2005.06.28","KR0611680B1","2006.08.04","본 발명은 DVM-ARPN 및 네트워크 핸드쉐이크를 이용한 멀티모달 인터랙션 기반 원격미팅 시스템에 관한 것으로, 특히, 제1 인터랙션 디바이스와, 제1 인터랙션 디바이스에 접속되는 적어도 하나의 제1 컴퓨터와, 제1 컴퓨터에 접속되는 제1 디지털비디오 전송디바이스와, 제1 컴퓨터와 네트워크로 연결되는 적어도 하나의 제2 컴퓨터와, 제2 컴퓨터에 접속되며, 제1 인터랙션 디바이스에 대응하는 제2 인터랙션 디바이스와, 제2 컴퓨터에 접속되는 제2 디지털비디오 전송디바이스를 포함하며, 제1 및 제2 디지털비디오 전송디바이스로부터 제공되는 디지털 영상을 증강현실의 배경으로 이용하여 가상물체를 증강하며, 가상물체를 제1 및 제2 인터랙션 디바이스로 인터랙션을 가하는 멀티모달 인터랙션 기반 원격미팅 시스템을 제공한다.","1 제1 인터랙션 디바이스와, 상기 제1 인터랙션 디바이스에 접속되는 적어도 하나의 제1 컴퓨터와, 상기 제1 컴퓨터에 접속되는 제1 디지털비디오 전송디바이스와, 상기 제1 컴퓨터와 네트워크로 연결되는 적어도 하나의 제2 컴퓨터와, 상기 제2 컴퓨터에 접속되며, 상기 제1 인터랙션 디바이스에 대응하는 제2 인터랙션 디바이스와, 상기 제2 컴퓨터에 접속되는 제2 디지털비디오 전송디바이스를 포함하며, 상기 제1 및 제2 디지털비디오 전송디바이스로부터 제공되는 디지털 영상을 증강현실의 배경으로 이용하여 가상물체를 증강하며, 상기 가상물체를 상기 제1 및 제2 인터랙션 디바이스로 인터랙션을 가하는 멀티모달 인터랙션 기반 원격미팅 시스템.","권용무, 박진우","G06F-019/00",null,null,null,"2025.06.28","1 제1 인터랙션 디바이스와, 상기 제1 인터랙션 디바이스에 접속되는 적어도 하나의 제1 컴퓨터와, 상기 제1 컴퓨터에 접속되는 제1 디지털비디오 전송디바이스와, 상기 제1 컴퓨터와 네트워크로 연결되는 적어도 하나의 제2 컴퓨터와, 상기 제2 컴퓨터에 접속되며, 상기 제1 인터랙션 디바이스에 대응하는 제2 인터랙션 디바이스와, 상기 제2 컴퓨터에 접속되는 제2 디지털비디오 전송디바이스를 포함하며, 상기 제1 및 제2 디지털비디오 전송디바이스로부터 제공되는 디지털 영상을 증강현실의 배경으로 이용하여 가상물체를 증강하며, 상기 가상물체를 상기 제1 및 제2 인터랙션 디바이스로 인터랙션을 가하는 멀티모달 인터랙션 기반 원격미팅 시스템. 2 제 1 항에 있어서, 상기 제1 또는 제2 인터랙션 디바이스는 햅틱 디바이스인 멀티모달 인터랙션 기반 원격미팅 시스템. 3 제 2 항에 있어서, 서로 대응하는 상기 제1 및 제2 햅틱 디바이스는 네트워크 핸드쉐이크를 제공하는 멀티모달 인터랙션 기반 원격미팅 시스템.","KR100611680B1",null,1]
["K03442","반도체","KR","ＳＯＩ기판을 이용한 하이브리드형 자성체/반도체 스핀소자및 그 제조방법{HYBRID FERROMAGNET/SI SEMICONDUCTOR SPIN DEVICE USING SILICON ON INSULATOR (SOI) AND ITS FABRICATION METHOD}",null,"원문이미지","KR20050018421A","2005.03.05","KR0697779B1","2007.03.14","본 발명은 SOI 기판을 이용한 하이브리드형 자성체/반도체 스핀소자 및 그 제조방법에 관한 것으로써, 특히 상온에서 강자성체로부터 스핀분극된 전자를 Si 반도체에 주입하여 얻어지는 스핀밸브 효과로부터 메모리 및 논리소자로 응용이 가능한 스핀주입소자 및 스핀 전계효과 트랜지스터를 제조방법에 관한 것이다.본 발명에 의하면, 절연막 위에 SOI 기판이 형성되고, 상기 SOI 기판 위에 자성체의 소스 영역이 형성되며, 상기 소스 영역으로 주입된 스핀이 통과하는 상기 SOI 기판 위에 1차원 구조의 스핀 채널영역이 형성되고, 상기 스핀 채널영역을 통과한 스핀이 검출되는 상기 SOI 기판 위에 자성체의 드레인 영역이 형성됨을 특징으로 하는 하이브리드형 자성체/반도체 스핀소자를 제시한다.따라서, 본 발명은 종래의 자성체/Si 반도체 소자에서 구현되지 않았던 스핀밸브효과를 달성하여 반도체 트랜지스터에서 캐리어의 전하만을 전기장으로 제어하는 것과 달리 하이브리드형 자성체/반도체 소자에서는 소스와 드레인에 자성체를 사용하여 스핀을 SOI 반도체에 주입하고 검출함으로써 캐리어의 스핀을 이용한 메모리 및 논리소자로 응용할 수 있다.","1 절연막 위에 SOI 기판이 형성되고, 상기 SOI 기판 위에 자성체의 소스 영역이 형성되며, 상기 소스 영역으로부터 주입된 스핀이 통과하는 상기 SOI 기판 위에 1차원 구조의 스핀 채널영역이 형성되고, 상기 스핀 채널영역을 통과한 스핀이 검출되는 상기 SOI 기판 위에 자성체의 드레인 영역이 형성되며, 상기 SOI기판에 스핀이 이동하는 1차원 전도 채널영역을 형성하기 위해 채널 영역 좌우의 SOI 기판 표면을 하부 절연막까지 식각하여 길이 0.5 ~ 100 ㎛, 폭 0.02 ~ 2 ㎛의 1차원 채널 구조를 형성하고, 상기 채널 사이에는 TaO, SiO2 등의 절연막으로 절연하는 채널구조를 갖는 것을 특징으로 하는 하이브리드형 자성체/반도체 스핀소자.","장준연, 한석희, 김원용, 구현철, 이현정","H01L-027/12,H01L-027/115","KR20060097303A","2006.09.14",null,"2025.03.05","1 절연막 위에 SOI 기판이 형성되고, 상기 SOI 기판 위에 자성체의 소스 영역이 형성되며, 상기 소스 영역으로부터 주입된 스핀이 통과하는 상기 SOI 기판 위에 1차원 구조의 스핀 채널영역이 형성되고, 상기 스핀 채널영역을 통과한 스핀이 검출되는 상기 SOI 기판 위에 자성체의 드레인 영역이 형성되며, 상기 SOI기판에 스핀이 이동하는 1차원 전도 채널영역을 형성하기 위해 채널 영역 좌우의 SOI 기판 표면을 하부 절연막까지 식각하여 길이 0.5 ~ 100 ㎛, 폭 0.02 ~ 2 ㎛의 1차원 채널 구조를 형성하고, 상기 채널 사이에는 TaO, SiO2 등의 절연막으로 절연하는 채널구조를 갖는 것을 특징으로 하는 하이브리드형 자성체/반도체 스핀소자. 2 청구항1에 있어서, 상기 자성체는 스핀분극이 큰 자성금속으로서 Fe, Co, Ni, FeCo, NiFe 중에서 선택되는 어느 하나로 구성된 것을 특징으로 하는 하이브리드형 자성체/반도체 스핀소자.　 3 청구항 1에 있어서, 상기 자성체는 GaMnAs, InMnAs, GeMn, GaMnN, GaMnP, ZnMnO 중에서 선택되는 어느 하나로 구성된 것을 특징으로 하는 하이브리드형 자성체/반도체 스핀소자.　　 4 청구항 1에 있어서, 상기 자성체는 La(1-x)SrxMnO3(LSMO), CrO2 등을 포함하는 스핀분극 100%의 반금속(half metal)으로 구성된 것을 특징으로 하는 하이브리드형 자성체/반도체 스핀소자.　　 5 청구항 1에 있어서, 상기 SOI 기판은 두께 50 ~ 400 nm의 SiO2 절연막 위에 50 ~ 300 nm 두께의 Si박막층으로 구성된 것을 특징으로 하는 하이브리드형 자성체/반도체 스핀소자. 6 삭제. 7 청구항 1에 있어서, 상기 1차원 전도채널을 SOI기판에 다수 형성하기 위하여 전자빔 감광제를 이용하여 전자선 식각법으로 패터닝하고, 전자빔 감광제를 마스크로 하여 아르곤 이온 밀링(Ar Ion milling)한 후, 상기 식각한 곳에 절연막을 채워놓고 감광제를 제거하여 채널을 형성하는 것을 특징으로 하는 하이브리드형 자성체/반도체 스핀소자.　　 8 청구항 1에 있어서, 상기 소스 영역 및 드레인 영역은 20 nm ~ 50 ㎛ 범위의 폭과 100 nm ~ 500 ㎛ 길이를 갖는 자성체로 이루어진 것을 특징으로 하는 하이브리드형 자성체/반도체 스핀소자. 9 청구항 8에 있어서, 상기 소스 영역 및 드레인 영역 사이의 간격은 10 nm ~ 5 ㎛ 의 범위를 갖는 것을 특징으로 하는 하이브리드형 자성체/반도체 스핀소자. 10 청구항 8에 있어서, 상기 소스 영역 및 드레인 영역은 서로 선폭이 다르게 형성되어 스핀 스위칭이 일정 자계범위에서 반평행한 것을 특징으로 하는 하이브리드형 자성체/반도체 스핀소자. 11 청구항 8에 있어서, 상기 소스 영역 및 드레인 영역은 선폭과 길이가 같을 경우 스핀 스위칭이 일정 자계범위에서 반평행한 것을 목적으로 소스 또는 드레인 영역중 한곳에 반자성체 핀층/강자성체 자유층 구조의 변환 바이어스에 의해 스위칭 자계범위를 조절할 수 있는 것을 특징으로 하는 하이브리드형 자성체/반도체 스핀 소자. 12 청구항 8에 있어서, 상기 소스 영역 및 드레인 영역은 선폭과 길이가 같을 경우 스핀 스위칭이 일정 자계범위에서 반평행한 것을 목적으로 각기 서로 다른 보자력을 갖는 자성체 중 하나를 사용하는 것을 특징으로 하는 하이브리드형 자성체/반도체 스핀 소자. 13 청구항 1에 있어서, 상기 자성체와 SOI 반도체의 접촉저항이 오믹(Ohmic) 또는 쇼트키(schottky)인 것을 특징으로 하는 하이브리드형 자성체/반도체 스핀소자.　 14 청구항 1에 있어서, 상기 자성체와 SOI반도체 사이에 0.5 ~ 2 nm 범위의 두께로 Al2O3 또는 SiO2등의 절연막을 중간막으로 삽입하여 터널링에 의한 스핀주입 효율을 향상시키는 것을 특징으로 하는 하이브리드형 자성체/반도체 스핀소자.　 15 삭제.","KR100697779B1, KR20060097303A",null,1]
["K03423","반도체","KR","대출력 펄스 ＲＦ 플라즈마를 이용한 매몰 절연막제조장치 및 제조방법{DEVICE AND METHOD OF FABRICATING BURIED INSULATOR LAYER USING HIGH-POWER PULSED RF PLASMA}",null,"원문이미지","KR20040102291A","2004.12.07","KR0576194B1","2006.04.26","본 발명은 기존의 연속적인 플라즈마 대신에 대출력 펄스 RF 플라즈마를 이용하여 높은 수율을 가지는 Silicon-on-insulator(SOI)기판을 제조할 수 있도록 하는 대출력 펄스 RF 플라즈마를 이용한 매몰 절연막 제조장치 및 제조방법에 관한 것이다. 시료를 진공조 내에 위치시키고, 진공조 내에 사용가스를 주입한다. 진공조 내에 RF 펄스를 공급하여 사용가스로부터 고밀도 플라즈마를 발생시킨다. 발생된 플라즈마 이온이 시료에 충돌하여 시료표면에 이온을 주입시키기에 충분한 이온 에너지를 가지고 시료를 향해 가속되도록 시료에 음(-)의 고전압 펄스를 가하여 이온을 주입한다. 이 때, RF 펄스발생과 음(-)의 고전압 펄스발생을 동기화시킨다. 그리고, 시료를 어닐링하여 절연막을 형성시킨다.","1 진공조; 상기 진공조 내에 시료를 지지하기 위한 지지대; 음(-)의 고전압 펄스를 발생하여 상기 시료를 인가하기 위한 고전압 펄스 발생장치; 상기 진공조 내에 주입된 가스로부터 펄스 플라즈마를 형성하기 위한 안테나; 상기 안테나와 연결되어 RF(Radio Frequency) 펄스를 공급하기 위한 펄스 RF 전력장치; 그리고 상기 고전압 펄스 발생장치와 상기 펄스 RF 전력장치의 사이에 연결설치되는 트리거 펄스 발생기로 이루어지는 것을 특징으로 하는 대출력 펄스 RF 플라즈마를 이용한 매몰 절연막 제조장치.","한승희, 이연희, 김영우","H01L-021/205",null,null,null,"2024.12.07","1 진공조; 상기 진공조 내에 시료를 지지하기 위한 지지대; 음(-)의 고전압 펄스를 발생하여 상기 시료를 인가하기 위한 고전압 펄스 발생장치; 상기 진공조 내에 주입된 가스로부터 펄스 플라즈마를 형성하기 위한 안테나; 상기 안테나와 연결되어 RF(Radio Frequency) 펄스를 공급하기 위한 펄스 RF 전력장치; 그리고 상기 고전압 펄스 발생장치와 상기 펄스 RF 전력장치의 사이에 연결설치되는 트리거 펄스 발생기로 이루어지는 것을 특징으로 하는 대출력 펄스 RF 플라즈마를 이용한 매몰 절연막 제조장치. 2 대출력 펄스 RF 플라즈마를 이용한 매몰 절연막 제조방법에 있어서, 시료를 진공조 내에 위치시키는 단계; 상기 진공조 내에 사용가스를 주입하는 단계; 상기 진공조 내에 RF 펄스를 공급하여 상기 사용가스로부터 고밀도 플라즈마를 발생시키는 단계; 발생된 플라즈마 이온이 시료에 충돌하여 시료표면에 이온을 주입시키기에 충분한 이온 에너지를 가지고 시료를 향해 가속되도록 시료에 음(-)의 고전압 펄스를 가하여 이온을 주입하는 단계; RF 펄스발생과 음(-)의 고전압 펄스발생을 동기화시키는 단계; 그리고 절연막이 형성되도록 시료를 어닐링하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 대출력 펄스 RF 플라즈마를 이용한 매몰 절연막 제조방법. 3 제 2항에 있어서, 상기 RF 펄스는 펄스폭 10㎲~1000㎲, 펄스주파수 10㎐~10㎑, 최대 펄스전력 1㎾~100㎾인 것을 특징으로 하는 대출력 펄스 RF 플라즈마를 이용한 매몰 절연막 제조방법. 4 제 2항에 있어서, 음(-)의 고전압 펄스는 10㎸~100㎸, 펄스폭 10㎲~500㎲, 펄스주파수 10㎐~10㎑를 갖는 것을 특징으로 하는 대출력 펄스 RF 플라즈마를 이용한 매몰 절연막 제조방법. 5 제 2항에 있어서, 상기 이온을 주입하는 단계에서 시료의 온도를 550℃~650℃으로 유지하면서 1×1016/㎠~1×1018/㎠의 도즈로 이온주입하는 것을 특징으로 하는 대출력 펄스 RF 플라즈마를 이용한 매몰 절연막 제조방법. 6 제 2항에 있어서, 상기 어닐링하는 단계는 0.1%~5.0%의 산소가 첨가된 아르곤 분위기에서 1200℃~1400℃의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 대출력 펄스 RF 플라즈마를 이용한 매몰 절연막 제조방법. 7 제 2항에 있어서, 상기 어닐링하는 단계 이전에 시료의 표면에 보호막을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 대출력 펄스 RF 플라즈마를 이용한 매몰 절연막 제조방법. 8 제 7항에 있어서, 상기 보호막은 실리콘 산화막인 것을 특징으로 하는 대출력 펄스 RF 플라즈마를 이용한 매몰 절연막 제조방법. 9 제 7항에 있어서, 상기 보호막은 실리콘 질화막인 것을 특징으로 하는 대출력 펄스 RF 플라즈마를 이용한 매몰 절연막 제조방법.","KR100576194B1",null,1]
["F02152","광학","JP","가변 다채널 필터",null,"원문이미지","JP2005183352A","2005.06.23","JP4056538B9","2007.12.21","(57)【요약】 【과제】외부 환경에 민감하게 될까, 입력 신호의 편광 상태 변화에 따라서, 출력이 변해도 성능 안정화가 재어라, 또, 채널 간격과 파장 위치를 동시에 조절할 수 있는 가변 다채널 필터의 제공.【해결 수단】1개 또는 복수개의 편광 유지 광파이버 10, 편광 조절기 20,30(λ/2,λ/4)및 3dB 커플러 40으로 구성하게 되는 기능성 가변 다채널 필터 이고, 특히, 편광 조절기 20(λ/2)을 이용하고 1개의 또는 다중에 연결될 수 있던 편광 유지 광파이버 10의 유효 굴절율 및 유효 길이의 편성을 조절하고 채널 간격을 자유롭게 조절할 수 있는 채널 간격 가변 형 다채널 필터에 관한다고 모두, 편광 조절기 30(λ/4)을 이용하고 파장 위치를 동시에 변화하게 할 수 있는 기능성 가변 다채널 필터 100의 채용.【선택도】그림 1","【청구항 1】 적어도 1개 또는 복수개의 편광 유지 광파이버 부분과, 편광 조절기(λ/2)다고, 편광 조절기(λ/4)다고, 3dB 커플러와,을 포함하고, 상기 각각의 편광 유지 광파이버 부분을 통과하는 광신호의 편광 상태를, 상기 편광 조절기(λ/2)및 편광 조절기(λ/4)으로 조절하고, 파장 가변 및 채널 간격을 조절할 수 있도록 구성하게 됐다, 것을 특징으로 한다, 가변 다채널 필터.","ハン  ヨングン, キン  サンヒョック, リ  サンベ","G02F-001/01,G02B-006/293,G02B-005/30","JP2006163344A","2006.06.22","2004-12-02 (KR 10-2004-0100567)","2025.06.23","【특허청구의 범위】 【청구항 1】 적어도 1개 또는 복수개의 편광 유지 광파이버 부분과, 편광 조절기(λ/2)다고, 편광 조절기(λ/4)다고, 3dB 커플러와,을 포함하고, 상기 각각의 편광 유지 광파이버 부분을 통과하는 광신호의 편광 상태를, 상기 편광 조절기(λ/2)및 편광 조절기(λ/4)으로 조절하고, 파장 가변 및 채널 간격을 조절할 수 있도록 구성하게 됐다, 것을 특징으로 한다, 가변 다채널 필터. 【청구항 2】 적어도 1개 또는 복수개의 편광 유지 광파이버 부분과, 편광 조절기(λ/2)다고, 편광 조절기(λ/4)다고, 3dB 커플러와,을 포함하고, 상기 각각의 편광 유지 광파이버 부분을 통과하는 광신호의 편광 상태를, 상기 편광 조절기(λ/2)및 편광 조절기(λ/4)으로 조절하고, 파장 가변 및 채널 간격을 조절할 수 있도록 구성하게 되는 가변 다채널 필터가 복수개 연결될 수 있고 있다, 것을 특징으로 하는 가변 다채널 필터. 【청구항 3】 상기 편광 유지 광파이버는, 실리카 광파이버, 포토닉쿠리스탈 광파이버, 벌크(bulk)편광 유지 소자, 폴리머 광파이버 등의 복굴절성을 가지고 있는 소자의 집 어느 한쪽인가 하나 이다, 것을 특징으로 한다, 청구항 1 또는 2에 기재의 가변 다채널 필터. 【청구항 4】 상기 편광 조절기(λ/2)은, 광신호의 채널 간격을 조절할 수 있다, 것을 특징으로 한다, 청구항 1 또는 2에 기재의 가변 다채널 필터. 【청구항 5】 상기 편광 조절기(λ/4)은, 광신호의 파장 위치를 조절할 수 있다, 것을 특징으로 한다, 청구항 1 또는 2에 기재의 가변 다채널 필터. 【청구항 6】 입력 광신호가, 상기 3dB 커플러를 통하여 둘의 부분으로 나눠지고, 시계 방향으로 돌아감 방향 및 반시계 회전 방향으로 각각 진행하게 되고, 분류되는 둘의 신호는, 각각 다중에 연결될 수 있던 상기 편광 유지 광파이버 부분과 편광 조절기(λ/2)(λ/4)을 지날 수 있고 서로 다른 위상 변화를 만들어 내고, 상기 3dB 커플러를 통하여 결합하게 된다, 것을 특징으로 한다, 청구항 1 또는 2에 기재의 가변 다채널 필터. 【청구항 7】 상기 둘의 광신호의 사이에는, 간섭 현상이 생기고, 이 간섭 현상에 따라서 다채널 필터 특성을 나타낸다, 것을 특징으로 한다, 청구항 6에 기재의 가변 다채널 필터.","JP2006163344A, JP4056538B2, KR100658532B1, KR20060061940A, US2006120656A1, US7251382B2","O",2]
["F02151","광학","US","Functional tunable multichannel filter",null,"원문이미지","US11/170637","2005.06.29","US7251382","2007.07.31","Disclosed herein is a functional tunable multichannel filter which is capable of adjusting channel spacing and/or a wavelength location using polarization controllers (λ/2, (λ/4). The functional tunable multichannel filter includes one or more polarization maintaining fibers, a first polarization controller (λ/2), a second polarization controller (λ/4) and a 3 dB coupler. Additionally, the functional tunable multichannel filter is configured to tune a wavelength and adjust channel spacing by adjusting polarization of an optical signal passing through each of the polarization maintaining fibers using the first and second polarization controllers.","1. A functional tunable multichannel filter, comprising: one or more polarization maintaining fibers; a first polarization controller (?/2); a second polarization controller (?/4); and a 3 dB coupler; wherein the functional tunable multichannel filter is configured to tune a wavelength and adjust channel spacing by adjusting polarization of an optical signal passing through each of the polarization maintaining fibers using the first and second polarization controllers.","Han; Young Geun, Kim; Sang Hyuck, Lee; Sang Bae","G02B-006/00","US20060120656A1","2006.06.08","2004.12.02 (KR 10-2004-0100567)","2026.02.16","1. A functional tunable multichannel filter, comprising: one or more polarization maintaining fibers; a first polarization controller (?/2); a second polarization controller (?/4); and a 3 dB coupler; wherein the functional tunable multichannel filter is configured to tune a wavelength and adjust channel spacing by adjusting polarization of an optical signal passing through each of the polarization maintaining fibers using the first and second polarization controllers. 2. A functional tunable multichannel filter, comprising: a plurality of functional tunable multichannel filter units connected in series; wherein each of the plurality of tunable multichannel filter units comprises one or more polarization maintaining fibers, a first polarization controller (?/2), a second polarization controller (?/4) and a 3 dB coupler, and are configured to tune a wavelength and adjust channel spacing by adjusting polarization of an optical signal passing through each of the polarization maintaining fibers using the first and second polarization controllers. 3. The functional tunable multichannel filter as set forth in claim 1 or 2, wherein each of the polarization maintaining fibers is a device having a double refractive property, which is selected from a group consisting of a silica fiber, a photonic crystal fiber, a bulk polarization maintaining device and a polymer fiber. 4. The functional tunable multichannel filter as set forth in claim 1 or 2, wherein the first polarization controller controls channel spacing of the optical signal. 5. The functional tunable multichannel filter as set forth in claim 1 or 2, wherein the second polarization controller controls a channel position of the optical signal. 6. The functional tunable multichannel filter as set forth in claim 1 or 2, wherein an input signal is divided into two parts, and the two divided signals are transferred in a clockwise direction and a counterclockwise direction, respectively, and undergo different phase variation while passing through the polarization maintaining fibers and the first and second polarization controllers connected to each other through multiple connections and then coupled with each other through the 3 dB coupler. 7. The functional tunable multichannel filter as set forth in claim 6, wherein interference occurs between the two optical signals, so that multichannel filter characteristics are imparted.","JP2006163344A, JP4056538B2, KR100658532B1, KR20060061940A, US2006120656A1, US7251382B2","O",2]
["K03403","기계",{"$error":"#N/A"},"소재의 두께를 균일하게 제어하는 연속 전단가공 장치{CONTINUOUS SHEARING APPARATUS CONTROLLING THE THICKNESS UNIFORMITY OF A SHEET}",null,"원문이미지","KR20040098790A","2004.11.29","KR0607106B1","2006.07.24","본 발명은 소재의 두께를 균일하게 제어하는 연속 전단가공 장치에 관한 것으로, 가공되는 소재를 금형 내부로 가이드하는 압연롤과; 소재가 유입되는 입구, 소재의 전단 변형이 일어나는 전단 변형부 및 소재의 출구를 구비하는 금형과; 소재가 상기 금형의 전단 변형부를 통과하면서 소재에 가해지는 압축 저항에 따라 유기적으로 금형의 출구 간격을 조절하는 제어부를 포함하는 연속 전단가공 장치를 제공한다. 본 발명에 따르면, 소재가 전단 변형을 겪으면서 발생되는 가공 저항을 일정하게 하여 소재의 길이 방향 두께를 일정하게 제어할 수 있다.","1 가공되는 소재를 금형 내부로 가이드하는 압연롤과; 소재가 유입되는 입구, 소재의 전단 변형이 일어나는 전단 변형부 및 소재의 출구를 구비하는 금형과; 소재가 상기 금형의 전단 변형부를 통과하면서 소재에 가해지는 압축 저항에 따라 유기적으로 금형의 출구 간격을 조절하는 제어부를 포함하는 연속 전단가공 장치.","정영훈, 박종우","B21C-003/06","KR20060059643A","2006.06.02",null,"2024.11.29","1 가공되는 소재를 금형 내부로 가이드하는 압연롤과; 소재가 유입되는 입구, 소재의 전단 변형이 일어나는 전단 변형부 및 소재의 출구를 구비하는 금형과; 소재가 상기 금형의 전단 변형부를 통과하면서 소재에 가해지는 압축 저항에 따라 유기적으로 금형의 출구 간격을 조절하는 제어부를 포함하는 연속 전단가공 장치. 2 제1항에 있어서, 상기 제어부는 상기 상부 금형 및 하부 금형 중 적어도 어느 하나의 후면에 설치된 탄성 수단인 것을 특징으로 하는 연속 전단가공 장치. 3 제2항에 있어서, 상기 제어부는 상기 상부 금형의 후면에 설치된 인장 스프링과 상기 하부 금형의 후방에 설치된 압축 스프링으로 구성되는 것을 특징으로 하는 연속 전단가공 장치. 4 제1항에 있어서, 상기 제어부는 상기 상부 금형 및 하부 금형 중 적어도 어느 하나의 후면에 설치된 압력센서, 구동장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 연속 전단가공 장치. 5 제4항에 있어서, 상기 제어부는, 상기 압력센서에서 감지한 가공 사이클을 모니터링하여 가공 사이클과 구동 사이클을 동조 제어하는 프로그램이 내장된 반도체칩을 더 탑재한 구동 모듈인 것을 특징으로 하는 연속 전단가공 장치.","KR100607106B1, KR20060059643A, US2006112750A1, US7127927B2",null,1]
["K03373","기계","KR","유변유체를 이용한 제동장치{Breaker using Rheological Fluid}",null,"원문이미지","KR20040082593A","2004.10.15","KR0622075B1","2006.09.01","본 발명은 유변유체를 이용한 제동장치에 관한 것으로서, 전단면 사이의 간극을 줄이고 복수 개의 챔버를 형성하여 출력을 증가시키면서도 소형화할 수 있게 구성한 유변유체를 이용한 제동장치를 제공하는 데 그 목적이 있다.상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 복수의 고정자(120, 130) 사이에 위치하여 이동하는 이동자(110)와, 고정자(120, 130)의 사이에 채워진 유변유체(150) 및, 자기장을 형성하는 코일(180)을 포함하는 제동장치에 있어서, 다수 개의 회전체(140)들이 케이싱(143)에 회전 가능하게 장착된 상태로, 상기 복수의 고정자(120, 130) 사이에 위치하는 것을 기술적 특징으로 한다. 이와 같이 구성된 본 발명의 유변유체를 이용한 제동장치는 고정자의 사이에 롤러들을 위치함으로써, 롤러와 롤러의 사이에 챔버를 형성하고 롤러와 고정자 사이 간극을 좁게 함으로써, 제동장치의 출력을 크게 증가시킨다.","2 N극과 S극을 각각 띠는 복수의 고정자들 사이에 위치하여 이동하는 이동자와, 상기 고정자의 사이에 채워지는 유변유체 및 자기장을 형성하는 코일을 포함하는 제동장치에 있어서, 상기 이동자와 상기 복수의 고정자들 사이에 형성된 간극 중 어느 한 쪽 간극 또는 각각의 간극에 다수 개의 회전체들이 케이싱에 회전 가능하게 장착되어 위치하는 것을 특징으로 하는 유변유체를 이용한 제동장치.","황창순, 조창현, 김승종","F16D-065/34,F16D-057/00","KR20060033465A","2006.04.19",null,"2024.10.15","1<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 2 N극과 S극을 각각 띠는 복수의 고정자들 사이에 위치하여 이동하는 이동자와, 상기 고정자의 사이에 채워지는 유변유체 및 자기장을 형성하는 코일을 포함하는 제동장치에 있어서, 상기 이동자와 상기 복수의 고정자들 사이에 형성된 간극 중 어느 한 쪽 간극 또는 각각의 간극에 다수 개의 회전체들이 케이싱에 회전 가능하게 장착되어 위치하는 것을 특징으로 하는 유변유체를 이용한 제동장치. 3 N극과 S극을 각각 띠는 복수의 고정자들 사이에 위치하여 이동하는 이동자와, 상기 고정자의 사이에 채워지는 유변유체 및 자기장을 형성하는 코일을 포함하는 제동장치에 있어서, 상기 이동자에는 다수 개의 회전체들이 회전 가능하게 장착되어 상기 복수의 고정자들 사이에 위치하는 것을 특징으로 하는 유변유체를 이용한 제동장치. 4 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 회전체는 볼 또는 롤러 중 어느 하나로서, 상기 회전체와 상기 이동자 또는 상기 회전체와 상기 고정자의 사이에는 공차가 형성된 것을 특징으로 하는 유변유체를 이용한 제동장치. 5 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 유변유체는 자기유변유체인 것을 특징으로 하는 유변유체를 이용한 제동장치. 6 제2항에 있어서, 상기 이동자는 일측이 폐쇄되고 타측이 개방된 원통형 구조이고, 상기 복수의 고정자는 2개로서, 하나의 고정자는 원통형으로 상기 이동자의 외측에 위치하여 상기 이동자를 수용하는 외측 고정자이고, 다른 하나의 고정자는 상기 이동자의 내측에 위치하여 상기 하나의 고정자와 고정되는 내측 고정자이며, 상기 케이싱은 원통형 구조로서, 상기 케이싱의 원주를 따라 다수 개의 관통공이 형성되고, 상기 회전체가 상기 관통공 각각에 회전 가능하게 장착된 것을 특징으로 하는 유변유체를 이용한 제동장치. 7 제3항에 있어서, 상기 이동자는 일측이 폐쇄되고 타측이 개방된 원통형 구조로서, 그 원주를 따라 다수 개의 관통공이 형성되고, 상기 회전체가 상기 관통공 각각에 회전 가능하게 장착되며, 상기 복수의 고정자는 2개로서, 하나의 고정자는 원통형으로 상기 이동자의 외측에 위치하여 상기 이동자를 수용하는 외측 고정자이고, 다른 하나의 고정자는 상기 이동자의 내측에 위치하여 상기 하나의 고정자와 고정되는 내측 고정자인 것을 특징으로 하는 유변유체를 이용한 제동장치. 8 제6항에 있어서, 상기 이동자의 일측에는 출력축이 고정되어 상기 외측 고정자를 관통해 상기 외측 고정자 외측으로 돌출되어 위치하며, 상기 출력축의 둘레에는 베어링 및 실링부재가 장착된 것을 특징으로 하는 유변유체를 이용한 제동장치. 9 제7항에 있어서, 상기 이동자의 일측에는 출력축이 고정되어 상기 외측 고정자를 관통해 상기 외측 고정자 외측으로 돌출되어 위치하며, 상기 출력축의 둘레에는 베어링 및 실링부재가 장착된 것을 특징으로 하는 유변유체를 이용한 제동장치.","KR100622075B1, KR20060033465A",null,1]
["K03360","화학","KR","Ｔ-타입 칼슘채널 길항제로 유효한 신규 피페라지닐알킬이소옥사졸 유도체{Piperazinylalkyl isooxazole derivatives having selective antagonism of T-type calcium channel}",null,"원문이미지","KR20040075192A","2004.09.20","KR0616099B1","2006.08.18","본 발명은 T-타입 칼슘채널(T-type calcium channel)에 대한 선택적인 길항작용이 우수하여 이와 관련된 뇌질환 및 심장질환의 치료 및 예방에 유효한 피페라지닐알킬 이소옥사졸 유도체와 용액상 조합 합성을 이용한 이 화합물의 제조방법 그리고 이 화합물의 T-타입 칼슘 길항제로서의 의약적 용도에 관한 것이다.","1 다음 화학식 1로 표시되는 피페라지닐알킬 이소옥사졸 유도체 : [화학식 1] 상기 화학식 1에서, n은 2 또는 3이고; X는 CH 또는 N이고; R1은 페닐기, 피리딘기, 또는 피리미딘기이고; R2는 페닐기 또는 나프탈렌기이고; R3은 수소원자, 또는 C1-C8의 알킬기이고; 그리고 상기 페닐기는 할로겐원자, 히드록시기, 니트로기, 시아노기, C1-C18의 알킬기, C1-C8의 할로알킬기, C1-C8의 시아노알킬기, C1-C8의 알콕시기, C1-C8의 할로알콕시기, 및 벤질옥시기 중에서 선택된 1 내지 3개의 치환기로 치환된 페닐기일 수 있고, 또는 상기한 치환기 중에서 선택된 이웃하는 두 치환기가 서로 결합하여 형성된 벤조[1,3]디옥솔-5-일기 또는 2,3-디히드로-벤조[1,4]디옥신-6-일기이다.","배애님, 고훈영, 조용서, 차주환, 임혜원, 정희경","C07D-413/14,C07D-413/12","KR20060026315A","2006.03.23",null,"2024.09.20","1 다음 화학식 1로 표시되는 피페라지닐알킬 이소옥사졸 유도체 : [화학식 1] 상기 화학식 1에서, n은 2 또는 3이고; X는 CH 또는 N이고; R1은 페닐기, 피리딘기, 또는 피리미딘기이고; R2는 페닐기 또는 나프탈렌기이고; R3은 수소원자, 또는 C1-C8의 알킬기이고; 그리고 상기 페닐기는 할로겐원자, 히드록시기, 니트로기, 시아노기, C1-C18의 알킬기, C1-C8의 할로알킬기, C1-C8의 시아노알킬기, C1-C8의 알콕시기, C1-C8의 할로알콕시기, 및 벤질옥시기 중에서 선택된 1 내지 3개의 치환기로 치환된 페닐기일 수 있고, 또는 상기한 치환기 중에서 선택된 이웃하는 두 치환기가 서로 결합하여 형성된 벤조[1,3]디옥솔-5-일기 또는 2,3-디히드로-벤조[1,4]디옥신-6-일기이다. 2 제 1 항에 있어서, n은 2 또는 3이고; X는 CH 또는 N이고; R1은 페닐기, 피리딘기, 또는 피리미딘기이고; R2는 페닐기 또는 나프탈렌기이고; R3은 수소원자, 또는 C1-C8의 알킬기이고; 그리고 상기 페닐기는 클로로원자, 플루오로원자, 히드록시기, 니트로기, 시아노기, 메틸기, 트리플루오로메틸기, 시아노메틸기, 메톡시기, 트리플루오로메톡시기, 및 벤질옥시기 중에서 선택된 1 내지 3개의 치환기로 치환된 페닐기이거나, 또는 상기한 치환기 중에서 선택된 이웃하는 두 치환기가 서로 결합하여 형성된 벤조[1,3]디옥솔-5-일기 또는 2,3-디히드로-벤조[1,4]디옥신-6-일기일 수 있는 것임을 특징으로 하는 화합물. 3 제 1 항에 있어서, n은 2 또는 3이고; X는 CH 또는 N이고; R1은 3-클로로페닐기, 4-메톡시페닐기, 4-피리미딘-2-일, 4-시아노메틸페닐기, 3-트리플루오로메틸페닐기, 2,4-디메틸페닐기, 4-플루오로페닐기, 페닐기, p-톨릴페닐기, 4-피리딘-2-일, 또는 3,4-디메틸페닐기이고; R2는 벤조[1,3]디옥솔-5-일기, 2-메톡시페닐기, 2-트리플루오로메틸페닐기, 2,3-디메톡시페닐기, 2-플루오로페닐기, 나프탈렌기, 4-트리플루오로메톡시페닐기, 2-니트로페닐기, 2,3-디히드로-벤조[1,4]디옥신-6-일기, 벤질옥시페닐기, 3-니트로페닐기, 4-니트로페닐기, 4-스티릴-페닐기, 또는 3-트리플루오로메톡시페닐기이고; R3은 수소원자, 메틸기, 또는 에틸기인 것임을 특징으로 하는 화합물. 4 다음 화학식 2로 표시되는 아민 화합물과 다음 화학식 3으로 표시되는 알데히드 화합물을 환원성 아민화 반응시켜 다음 화학식 1로 표시되는 피페라지닐알킬 이소옥사졸 유도체를 합성하는 것을 특징으로 하는 제조방법 : [화학식 2] [화학식 3] [화학식 1] 상기 화학식 1, 2 및 3에서, n, X, R1, R2, 및 R3은 각각 청구항 1에서 정의한 바와 같다. 5 제 4 항에 있어서, 상기 반응은 NaBH(OAc)3, NaBH3CN 및 NaBH4 중에서 선택된 환원제를 사용하여 수행하는 것을 특징으로 하는 제조방법. 6 제 4 항에 있어서, 상기 반응은 디메틸포름아미드, 테드라하이드로퓨란 및 디클로로메탄 중에서 선택된 용매를 사용하여 용액상 조합합성(solution-phase combinatorial synthesis) 방법으로 수행하는 것을 특징으로 하는 제조방법. 7 다음 화학식 1로 표시되는 피페라지닐알킬 이소옥사졸 유도체 또는 이의 약제학적으로 허용 가능한 염이 함유된 것임을 특징으로 하는 T-타입 칼슘채널 길항작용에 의한 간질 또는 고혈압 질환의 치료 및 예방용 약제조성물 : [화학식 1] 상기 화학식 1에서, n, X, R1, R2, 및 R3은 각각 청구항 1에서 정의한 바와 같다. 8 다음 화학식 1로 표시되는 피페라지닐알킬 이소옥사졸 유도체 또는 이의 약제학적으로 허용 가능한 염이 함유된 것임을 특징으로 하는 간질 치료 예방제 : [화학식 1] 상기 화학식 1에서, n, X, R1, R2, 및 R3은 각각 청구항 1에서 정의한 바와 같다. 9 다음 화학식 1로 표시되는 피페라지닐알킬 이소옥사졸 유도체 또는 이의 약제학적으로 허용 가능한 염이 함유된 것임을 특징으로 하는 고혈압 치료 예방제 : [화학식 1] 상기 화학식 1에서, n, X, R1, R2, 및 R3은 각각 청구항 1에서 정의한 바와 같다.","KR100616099B1, KR20060026315A",null,1]
["K03358","기계","KR","반경방향-축방향 복합 전자기 베어링{COMBINED RADIAL-AXIAL MAGNETIC BEARING}",null,"원문이미지","KR20040087244A","2004.10.29","KR0608202B1","2006.07.26","본 발명은, 각각 회전축과의 사이에 공극을 두고 반경방향으로 연장된 제1 다리와 제1 다리로부터 축방향으로 이격된 위치에 제1 다리와 나란하게 연장된 제2 다리와 이들을 연결하는 축방향 요크로 구성되어 있고, 서로 회전축을 중심으로 대칭되는 위치에 배치되는 한 쌍의 코어로 이루어진 제1 코어 쌍, 각각 회전축과의 사이에 공극을 두고 반경방향으로 연장된 제1 다리와 제1 다리로부터 축방향으로 이격된 위치에 제1 다리와 나란하게 연장된 제2 다리와 이들을 연결하는 축방향 요크로 구성되어 있고, 서로 회전축을 중심으로 대칭되는 위치에 배치되는 한 쌍의 코어로 이루어진 제2 코어 쌍, -상기 제1 코어 쌍 및 제2 코어 쌍의 코어는 원주방향으로 등각 배치됨-, 원주방향에서 인접한 두 개의 코어 사이에 자속이 형성될 수 있도록 코어를 원주방향으로 연결하는 원주방향 요크, 제1 다리 및 제2 다리에 걸쳐 권취된 제1 코일, 제1 다리 및 제2 다리에 각각 권취된 제2 코일, 그리고 회전축이 반경방향 및 축방향으로 변위될 때 회전축을 중앙으로 복귀시키기 위해 제1 및 제2 코일에 흐르는 전류의 크기 및 방향을 제어하는 제어수단을 포함하는 반경방향-축방향 복합 전자기 베어링을 개시한다.","1 각각 회전축과의 사이에 공극을 두고 반경방향으로 연장된 제1 다리와 상기 제1 다리로부터 축방향으로 이격된 위치에 상기 제1 다리와 나란하게 연장된 제2 다리와 이들을 연결하는 축방향 요크로 구성되어 있고, 서로 회전축을 중심으로 대칭되는 위치에 배치되는 한 쌍의 코어로 이루어진 제1 코어 쌍, 각각 회전축과의 사이에 공극을 두고 반경방향으로 연장된 제1 다리와 상기 제1 다리로부터 축방향으로 이격된 위치에 상기 제1 다리와 나란하게 연장된 제2 다리와 이들을 연결하는 축방향 요크로 구성되어 있고, 서로 회전축을 중심으로 대칭되는 위치에 배치되는 한 쌍의 코어로 이루어진 제2 코어 쌍, -상기 제1 코어 쌍 및 상기 제2 코어 쌍의 코어는 원주방향으로 등각 배치됨-, 원주방향에서 인접한 두 개의 코어 사이에 자속이 형성될 수 있도록 코어를 원주방향으로 연결하는 원주방향 요크, 상기 제1 다리 및 상기 제2 다리에 걸쳐 권취된 제1 코일, 상기 제1 다리 및 상기 제2 다리에 각각 권취된 제2 코일, 그리고 상기 회전축이 반경방향 및 축방향으로 변위될 때 상기 회전축을 중앙으로 복귀시키기 위해 상기 제1 코일 및 제2 코일에 흐르는 전류의 크기 및 방향을 제어하는 제어수단 을 포함하는 복합 전자기 베어링.","김승종, 김하용","F16C-032/04","KR20060038088A","2006.05.03",null,"2024.10.29","1 각각 회전축과의 사이에 공극을 두고 반경방향으로 연장된 제1 다리와 상기 제1 다리로부터 축방향으로 이격된 위치에 상기 제1 다리와 나란하게 연장된 제2 다리와 이들을 연결하는 축방향 요크로 구성되어 있고, 서로 회전축을 중심으로 대칭되는 위치에 배치되는 한 쌍의 코어로 이루어진 제1 코어 쌍, 각각 회전축과의 사이에 공극을 두고 반경방향으로 연장된 제1 다리와 상기 제1 다리로부터 축방향으로 이격된 위치에 상기 제1 다리와 나란하게 연장된 제2 다리와 이들을 연결하는 축방향 요크로 구성되어 있고, 서로 회전축을 중심으로 대칭되는 위치에 배치되는 한 쌍의 코어로 이루어진 제2 코어 쌍, -상기 제1 코어 쌍 및 상기 제2 코어 쌍의 코어는 원주방향으로 등각 배치됨-, 원주방향에서 인접한 두 개의 코어 사이에 자속이 형성될 수 있도록 코어를 원주방향으로 연결하는 원주방향 요크, 상기 제1 다리 및 상기 제2 다리에 걸쳐 권취된 제1 코일, 상기 제1 다리 및 상기 제2 다리에 각각 권취된 제2 코일, 그리고 상기 회전축이 반경방향 및 축방향으로 변위될 때 상기 회전축을 중앙으로 복귀시키기 위해 상기 제1 코일 및 제2 코일에 흐르는 전류의 크기 및 방향을 제어하는 제어수단 을 포함하는 복합 전자기 베어링. 2 제1항에 있어서, 상기 제어수단은 상기 제1 다리 및 상기 제2 다리에 서로 반대방향의 반경방향 자속이 형성되도록 상기 제2 코일에 바이어스 자속 형성을 위한 일정 크기의 바이어스 전류를 인가하고, 상기 회전축이 반경방향으로 이동될 때 상기 회전축과의 공극이 좁아지는 코어의 상기 제2 코일에는 상기 바이어스 전류에서 일정 크기의 제어전류만큼 감소된 전류를 인가하고, 상기 코어와 짝을 이루는 코어의 상기 제2 코일에는 상기 바이어스 전류에서 일정 크기의 제어전류만큼 증가된 전류를 인가하고, 상기 회전축이 축방향으로 변위될 때 상기 제1 코어 쌍의 모든 다리에 동일한 방향의 반경방향 자속이 형성되고 동시에 제2 코어 쌍의 모든 다리에는 이와 반대방향의 반경방향 자속이 형성되도록 상기 제1 코일에 제어전류를 인가하는 것을 특징으로 하는 복합 전자기 베어링. 3 제1항에 있어서, 상기 제어수단은 상기 제1 코어 쌍의 모든 다리에 동일한 방향의 반경방향 자속이 형성되고 동시에 제2 코어 쌍의 모든 다리에는 이와 반대방향의 자속이 형성되도록 상기 제1 코일에 바이어스 자속 형성을 위한 일정 크기의 바이어스 전류를 인가하고, 상기 회전축이 반경방향으로 변위될 때 상기 회전축과의 공극이 좁아지는 코어의 상기 제1 코일에는 상기 바이어스 전류에서 제어전류만큼 감소된 전류를 인가하고, 상기 코어와 짝을 이루는 코어의 상기 제1 코일에는 상기 바이어스 전류에서 제어전류만큼 증가된 전류를 인가하고, 상기 회전축이 축방향으로 변위될 때 상기 제1 다리 및 상기 제2 다리에 서로 반대방향의 반경방향 자속이 형성되도록 상기 제2 코일에 제어전류를 인가하는 것을 특징으로 하는 복합 전자기 베어링. 4 제2항 또는 제3항 항에 있어서, 상기 제어전류의 크기는 상기 회전축의 변위량에 따라 비례하는 크기인 것을 특징으로 하는 복합 전자기 베어링. 5 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 코어 쌍과 동일한 구성을 갖는 제3 코어 쌍과, 상기 제2 코어 쌍과 동일한 구성을 갖는 제4 코어 쌍을 더 포함하고, 상기 제1 코어 쌍 내지 상기 제4 코어 쌍은 원주방향에서 등각으로 배치되는 것을 특징으로 하는 복합 전자기 베어링.","KR100608202B1, KR20060038088A",null,1]
["K03341","생화학","KR","고감도 7-에톡시레소루핀-Ｏ-디에틸라아제 활성 측정 방법{HIGH SENSITIVE ASSAY METHOD FOR 7-ETHOXYRESORUFIN-O-DEETHYLASE ACTIVITY}",null,"원문이미지","KR20040061394A","2004.08.04","KR0571343B1","2006.04.10","본 발명은 고감도 7-에톡시레소루핀-O-디에틸라아제(EROD) 활성 측정 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 (1) 피시험체의 간 조직으로부터 마이크로좀 분획을 제조하는 단계; (2) 상기 마이크로좀 분획에 완충용액으로 트리스-HCl, NADPH를 가하고, EDTA 및 MgSO4의 농도를 변화시켜 가면서 가하여 반응시키는 단계; (3) 상기 완충용액에 기질인 7-에톡시레소루핀을 가하여 반응시키는 단계; (4) 상기 반응에 반응정지용매를 가하여 원심분리하고 그 상층액을 얻는 단계; (5) 상기 상층액에 다른 반응정지용매를 가하여 혼합액을 만드는 단계; 및 (6) 상기 혼합액의 형광강도를 발광 분광계로 측정하는 단계로 이루어진 고감도 EROD 활성 측정 방법에 대한 것으로서, 종래 EROD 활성 측정법보다 현저히 양호한 감도로 상기 EROD 효소의 활성을 측정할 수 있어 의학, 약학 및 생화학분야뿐만 아니라 환경오염물질에 노출된 생체 조직을 모티터링할 수 있는 유용한 생물학적 지표(biomaker)로 응용될 수 있는 이점이 있다.","1 최적조건의 7-에톡시레소루핀-O-디에틸라아제 활성을 측정하기 위한 방법에 있어서, (1) 피시험체의 간 조직으로부터 마이크로좀 분획을 제조하는 단계로, 상기 단계는: 1) 피시험체로부터 간 조직을 채취하는 단계; 2) 상기 간 조직을 칼륨 완충용액에 관류시킨 후 잘게 세절시키는 단계; 3) 상기 세절된 간 조직을 휘튼 균질화기로 균질액을 제조하는 단계; 4) 상기 균질액을 고속 원심분리기를 사용하여 그 상층액을 얻는 단계; 5) 상기 상층액을 다시 원심분리하여 펠렛을 얻는 단계; 6) 상기 펠렛에 EDTA와 KCl(pH=7.4)을 넣고 현탁시켜 원심분리한 후 그 상층액은 버리고 마이크로좀 펠렛을 얻는 단계; 및 7) 상기 펠렛을 수크로오스로 재현탁시킨 후 단백질 정량을 통하여 희석시키는 단계로 이루어진 피시험체의 간 조직으로부터 마이크로좀 분획을 제조하는 단계; (2) 상기 마이크로좀 분획에 완충용액으로 트리스-HCl, NADPH를 가하고, 0.5~50mM MgSO4 가하여 반응시키는 단계; (3) 상기 완충용액에 기질인 7-에톡시레소루핀을 가하여 반응시키는 단계; (4) 상기 반응에 메탄올을 가하여 원심분리하고 그 상층액을 얻는 단계; (5) 상기 상층액에 글라이신-NaOH를 가하여 혼합액을 만드는 단계; 및 (6) 상기 혼합액의 형광강도를 발광 분광계(Luminescence spectrometer)로 측정하는 단계로 이루어진 고감도 7-에톡시레소루핀-O-디에틸라아제 활성 측정 방법.","권오승, 김승용","C12Q-001/34","KR20060012758A","2006.02.09",null,"2024.08.04","1 최적조건의 7-에톡시레소루핀-O-디에틸라아제 활성을 측정하기 위한 방법에 있어서, (1) 피시험체의 간 조직으로부터 마이크로좀 분획을 제조하는 단계로, 상기 단계는: 1) 피시험체로부터 간 조직을 채취하는 단계; 2) 상기 간 조직을 칼륨 완충용액에 관류시킨 후 잘게 세절시키는 단계; 3) 상기 세절된 간 조직을 휘튼 균질화기로 균질액을 제조하는 단계; 4) 상기 균질액을 고속 원심분리기를 사용하여 그 상층액을 얻는 단계; 5) 상기 상층액을 다시 원심분리하여 펠렛을 얻는 단계; 6) 상기 펠렛에 EDTA와 KCl(pH=7.4)을 넣고 현탁시켜 원심분리한 후 그 상층액은 버리고 마이크로좀 펠렛을 얻는 단계; 및 7) 상기 펠렛을 수크로오스로 재현탁시킨 후 단백질 정량을 통하여 희석시키는 단계로 이루어진 피시험체의 간 조직으로부터 마이크로좀 분획을 제조하는 단계; (2) 상기 마이크로좀 분획에 완충용액으로 트리스-HCl, NADPH를 가하고, 0.5~50mM MgSO4 가하여 반응시키는 단계; (3) 상기 완충용액에 기질인 7-에톡시레소루핀을 가하여 반응시키는 단계; (4) 상기 반응에 메탄올을 가하여 원심분리하고 그 상층액을 얻는 단계; (5) 상기 상층액에 글라이신-NaOH를 가하여 혼합액을 만드는 단계; 및 (6) 상기 혼합액의 형광강도를 발광 분광계(Luminescence spectrometer)로 측정하는 단계로 이루어진 고감도 7-에톡시레소루핀-O-디에틸라아제 활성 측정 방법. 2 제 1 항에 있어서, 상기 단계 2의 최적의 7-에톡시레소루핀-O-디에틸라아제 활성 측정을 위한 MgSO4의 농도가 5mM인 것을 특징으로 하는 고감도 7-에톡시레소루핀-O-디에틸라아제 활성 측정 방법. 3 제 1 항에 있어서, 상기 단계 3의 상기 7-에톡시레소루핀이 5μM인 것을 특징으로 하는 고감도 7-에톡시레소루핀-O-디에틸라아제 활성 측정 방법. 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100571343B1, KR20060012758A",null,1]
["K03337","물리","KR","다자유도 구동장치{MULTIPLE DEGREE-OF-FREEDOM ACTUATOR}",null,"원문이미지","KR20040087026A","2004.10.29","KR0611256B1","2006.08.03","본 발명은 영구자석과 코일을 함께 고정자에 구비시키고 코일에 작용하는 로렌츠 힘에 대한 반작용으로 이동자를 구동시킴으로써 제조가 용이하고 다양한 형태의 이동자를 다자유도 구동시킬 수 있도록 하는 다자유도 구동장치에 관한 것이다. 다자유도 구동장치는 영구자석이 부착되는 코어와 코어에 권선되는 코일을 포함하는 복수의 고정자와, 복수의 고정자를 상호 연결시키기 위해 영구자석에 부착되는 요크와, 고정자와 소정의 공극으로 이격되어 구비되는 이동자로 이루어진다. 복수의 고정자의 각 코어는 이동자를 향해 연장형성되는 4개의 다리를 가지고, 코일은 4개의 다리 중 2개의 다리에 함께 권선되고, 상하 2층으로 배치되는 상층 코일부와 하층 코일부를 포함한다. 상층 코일부와 하층 코일부는 상호 십자형으로 교차되어 2방향에 대한 독립적인 구동제어가 가능해지게 된다. 상호 이웃하는 두 고정자의 영구자석의 극성을 서로 반대로 하여 영구자석에 의한 자속이 폐회로를 이루도록 하며, 복수의 고정자와 이동자 사이의 각 공극에서 직선 전류흐름이 생성될 수 있도록 코일에 인가되는 전류의 방향과 크기를 조절하여 영구자석에 의한 자속과 직선 전류흐름에 따라 발생하는 로렌츠 힘에 대한 반작용으로 이동자를 구동시킨다.","1 영구자석이 부착되는 코어와, 상기 코어에 권선되어 전류가 인가되는 코일을 포함하는 고정자와; 상기 고정자와 소정의 공극으로 이격되어 구비되고, 상기 영구자석과 상기 코일을 흐르는 전류에 의한 자속이 통과하는 이동자로 이루어지고, 상기 공극에서 직선 전류흐름이 생성될 수 있도록 상기 코일에 인가되는 전류의 방향과 크기를 조절하여 상기 영구자석에 의한 자속과 상기 직선 전류흐름에 따라 발생하는 로렌츠 힘에 대한 반작용으로 상기 이동자를 구동시키는 것을 특징으로 하는 다자유도 구동장치.","김승종, 김하용, 백두진","H02K-033/16","KR20060037924A","2006.05.03",null,"2024.10.29","1 영구자석이 부착되는 코어와, 상기 코어에 권선되어 전류가 인가되는 코일을 포함하는 고정자와; 상기 고정자와 소정의 공극으로 이격되어 구비되고, 상기 영구자석과 상기 코일을 흐르는 전류에 의한 자속이 통과하는 이동자로 이루어지고, 상기 공극에서 직선 전류흐름이 생성될 수 있도록 상기 코일에 인가되는 전류의 방향과 크기를 조절하여 상기 영구자석에 의한 자속과 상기 직선 전류흐름에 따라 발생하는 로렌츠 힘에 대한 반작용으로 상기 이동자를 구동시키는 것을 특징으로 하는 다자유도 구동장치. 2 제 1항에 있어서, 상기 고정자와 대향하는 상기 이동자의 표면에 자속의 집중을 유도하기 위한 돌출부가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 다자유도 구동장치. 3 제 1항에 있어서, 상기 코어는 상기 이동자를 향해 연장형성되고 상기 이동자의 직선구동방향으로 정렬되는 2개의 다리를 가지고, 상기 코일은 상기 2개의 다리에 각각 권선되는 것을 특징으로 하는 다자유도 구동장치. 4 제 1항에 있어서, 상기 코어는 상기 이동자를 향해 연장형성되는 4개의 다리를 가지고, 상기 4개의 다리는 사각형상을 이루도록 배치되며, 상기 코일은 상기 4개의 다리 중 상호 인접하는 2개의 다리에 함께 권선되고, 상하 2층으로 배치되는 상층 코일부와 하층 코일부를 포함하며, 상기 상층 코일부와 상기 하층 코일부는 상호 십자형으로 교차되는 것을 특징으로 하는 다자유도 구동장치. 5 영구자석이 부착되는 코어와, 상기 코어에 권선되어 전류가 인가되는 코일을 포함하는 복수의 고정자와; 상기 복수의 고정자를 상호 연결시키기 위해 상기 영구자석에 부착되는 요크와; 상기 고정자와 소정의 공극으로 이격되어 구비되고, 상기 영구자석과 상기 코일을 흐르는 전류에 의한 자속이 통과하는 이동자로 이루어지고, 상호 이웃하는 두 고정자의 영구자석은 극성이 서로 반대가 되도록 설치하여 상기 영구자석에 의한 자속이 상호 이웃하는 두 고정자와 상기 이동자에 의해 폐회로를 형성하도록 하며, 상기 복수의 고정자와 상기 이동자 사이의 각 공극에서 직선 전류흐름이 생성될 수 있도록 상기 코일에 인가되는 전류의 방향과 크기를 조절하여 상기 영구자석에 의한 자속과 상기 직선 전류흐름에 따라 발생하는 로렌츠 힘에 대한 반작용으로 상기 이동자를 구동시키는 것을 특징으로 하는 다자유도 구동장치. 6 제 5항에 있어서, 상기 복수의 고정자와 대향하는 상기 이동자의 표면에 자속의 집중을 유도하기 위한 돌출부가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 다자유도 구동장치. 7 제 5항에 있어서, 상기 복수의 고정자의 각 코어는 상기 이동자를 향해 연장형성되고 상기 이동자의 직선구동방향으로 정렬되는 2개의 다리를 가지고, 상기 코일은 상기 2개의 다리에 각각 권선되는 것을 특징으로 하는 다자유도 구동장치. 8 제 7항에 있어서, 상기 복수의 고정자는 상기 이동자의 직선구동방향으로 일렬로 배치되는 것을 특징으로 하는 다자유도 구동장치. 9 제 7항에 있어서, 상기 복수의 고정자는 상호 등각도로 방사상으로 배치되는 것을 특징으로 하는 다자유도 구동장치. 10 제 5항에 있어서, 상기 복수의 고정자의 각 코어는 상기 이동자를 향해 연장형성되는 4개의 다리를 가지고, 상기 4개의 다리는 사각형상을 이루도록 배치되며, 상기 코일은 상기 4개의 다리 중 상호 인접하는 2개의 다리에 함께 권선되고, 상하 2층으로 배치되는 상층 코일부와 하층 코일부를 포함하며, 상기 상층 코일부와 상기 하층 코일부는 상호 십자형으로 교차되는 것을 특징으로 하는 다자유도 구동장치. 11 구형상의 이동자와; 상기 이동자의 주위에 소정의 공극으로 이격되고 상호 등각도로 방사상으로 배치되며, 영구자석이 부착되는 코어와 상기 코어에 권선되어 전류가 인가되는 코일을 포함하는 복수의 고정자와; 상기 복수의 고정자를 상호 연결시키기 위해 상기 영구자석에 부착되는 요크로 이루어지고, 상호 이웃하는 두 고정자의 영구자석은 극성이 서로 반대가 되도록 설치하여 상기 영구자석에 의한 자속이 상호 이웃하는 두 고정자와 상기 이동자에 의해 폐회로를 형성하도록 하며, 상기 복수의 고정자와 상기 이동자 사이의 각 공극에서 직선 전류흐름이 생성될 수 있도록 상기 코일에 인가되는 전류의 방향과 크기를 조절하여 상기 영구자석에 의한 자속과 상기 직선 전류흐름에 따라 발생하는 로렌츠 힘에 대한 반작용으로 상기 이동자를 구동시키는 것을 특징으로 하는 다자유도 구동장치. 12 제 11항에 있어서, 상기 복수의 고정자와 대향하는 상기 이동자의 표면에 자속의 집중을 유도하기 위한 돌출부가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 다자유도 구동장치. 13 제 11항에 있어서, 상기 복수의 고정자의 각 코어는 상기 이동자를 향해 연장형성되며 상기 이동자의 직선구동방향으로 정렬되는 2개의 다리를 가지고, 상기 코일은 상기 2개의 다리에 각각 권선되는 것을 특징으로 하는 다자유도 구동장치.","KR100611256B1, KR20060037924A",null,1]
["K03336","기계","KR","정전식모장치{FLOCKING MACHINE}",null,"원문이미지","KR20040060968A","2004.08.02","KR0607104B1","2006.07.24","본 발명은 전기장을 이용하여 섬유를 정전식모(플록킹)하는 장치에서 대상 섬유를 진공압에 의해 원활하게 이송함으로써 플록킹 장치 내로 유입되는 섬유의 양을 일정하게 제어하며 접착층 위에 효과적으로 분산되도록 하는 정전식모장치를 제공한다. 본 발명에 따르면, 연속섬유다발을 일정한 길이로 절단하는 장치를 통과한 단섬유 또는 일정한 길이의 단섬유 집합체를 이송펌프로부터 형성되는 진공압을 이용하여 섬유의 함량 및 분산 정도를 일정하게 하여 연속적으로 식모장치 내부로 유입할 수 있다.","1 연속적으로 공급되는 기재와, 상기 기재의 일측에서 고전압을 발생시키는 고전압장치를 포함하는 정전식모부와; 연속섬유다발을 절단하여 단섬유를 만듦과 동시에 그 단섬유를 연속적으로 공급하는 단섬유 공급부; 상기 단섬유 공급부로부터 공급되는 단섬유를 공기압력 차이에 의하여 상기 정전식모부로 이송하는 이송부;를 포함하여 구성되는 정전식모장치.","송승욱, 박민, 김준경, 임순호, 김경하, 권성진","B05B-005/08","KR20060012209A","2006.02.07",null,"2024.08.02","1 연속적으로 공급되는 기재와, 상기 기재의 일측에서 고전압을 발생시키는 고전압장치를 포함하는 정전식모부와; 연속섬유다발을 절단하여 단섬유를 만듦과 동시에 그 단섬유를 연속적으로 공급하는 단섬유 공급부; 상기 단섬유 공급부로부터 공급되는 단섬유를 공기압력 차이에 의하여 상기 정전식모부로 이송하는 이송부;를 포함하여 구성되는 정전식모장치. 2 제1항에 있어서, 상기 단섬유공급부는 연속섬유다발과, 상기 섬유다발을 연속적으로 공급하는 공급롤러, 및 상기 섬유다발을 일정한 길이로 절단하는 절단장치를 포함하여 구성되는 정전식모장치. 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4 제1항에 있어서, 상기 이송부는 이송펌프를 포함하며, 이송부 내부의 공압의 조절에 의하여 압력이 낮은 일측으로 상기 단섬유공급부로부터 단섬유가 유입되고, 타측으로 상기 단섬유를 균일하게 분산시켜 배출하여 정전식모부에 단섬유를 공급하는 것을 특징으로 하는 정전식모장치. 5 제1항에 있어서, 상기 고전압장치는 고전압이 인가되는 식모전극과, 접지되어 있는 접지전극을 포함하는 정전식모장치. 6 제1항에 있어서, 상기 고전압장치는 단섬유가 기재에 상향으로 식모되도록 전압이 인가되는 정전식모장치. 7<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100607104B1, KR20060012209A",null,1]
["F02097","화학","US","Metal oxide-containing kenyaite catalyst, method for preparing the same, and method for preparing ε-caprolactam using the same",null,"원문이미지","US11/022250","2004.12.23","US7232784","2007.06.19","Disclosed are a kenyaite catalyst containing a metal oxide between layers of a layered silicate having kenyaite structure, a method for preparing the same, and a method for preparing ε-caprolactam from cyclohexanone oxime by applying the catalyst to gas phase Beckmann rearrangement.","1. A metal oxide-containing kenyaite catalyst for producing ?-caprolactam, which is prepared by introducing a metal oxide between layers of a layered silicate having kenyaite structure containing amine template, and which has a BET surface area of 100 to 300 m2/g and weak or medium acid site, wherein the content of the metal oxide ranges from 1 to 15 wt % of the total catalyst weight on the basis of the metal weight in the metal oxide.","Kim; Sun-Jin, Joo; Oh-Shim, Jung; Kwang-Deog, Park; Min-Jo","B01J-023/00,C07D-201/04","US20060047113A1","2006.03.02","2004.08.24 (KR 10-2004-0066877)","2025.07.07","1. A metal oxide-containing kenyaite catalyst for producing ?-caprolactam, which is prepared by introducing a metal oxide between layers of a layered silicate having kenyaite structure containing amine template, and which has a BET surface area of 100 to 300 m2/g and weak or medium acid site, wherein the content of the metal oxide ranges from 1 to 15 wt % of the total catalyst weight on the basis of the metal weight in the metal oxide. 2. The catalyst of claim 1, wherein the metal oxide is selected from the group consisting of Nb2O5, Ta2O5, Mo2O3, MoO3 and WO3. 3. A method for preparing a kenyaite catalyst according to claim 1, comprising the steps of: synthesizing a layered silicate having kenyaite structure containing an amine template by using SiO2, Na2O, H2O, boric acid and amine template; swelling the synthesized layered silicate having kenyaite structure containing an amine template; and adding an organic metal compound to the swollen layered silicate having kenyaite structure at an amount of 1 to 15 wt % of the total catalyst weight on the basis of the metal weight in the metal oxide to introduce a metal oxide between the layers of the layered silicate. 4. The method of claim 3, wherein the layered silicate having kenyaite structure containing an amine template is prepared in the presence of 0.5 to 1.5 mol of an amine template on the basis of 2.0 mol of SiO2. 5. The method of claim 3, wherein the layered silicate having kenyaite structure containing an amine template is prepared by further adding 0.01 to 0.3 mol of boric acid on the basis of 2 mol of SiO2. 6. The method of claim 3, which uses a mixed solution wherein the amine selected from amines having 6 to 16 carbon atoms is mixed with TPAOH (tetrapropylammonium hydroxide) as the swelling agent. 7. The method of claim 3, wherein a metal oxide selected from the group consisting of Nb2O5, Ta2O5, Mo2O3, MoO3 and WO3 is introduced between the layers of the layered silicate having kenyaite structure, by adding one selected from the group consisting of Nb(C2H5O)5, Ta(C2H5O)5, Ta[O(CH2)3CH3]5, [(CH3CO2)2Mo]2, Mo(CO)6 and W(CO)6 as the organic metal compound. 8. The method of claim 3, wherein after the organic metal compound is added, the resulting product was fired at 500 to 900° C. 9. A method for preparing ?-caprolactam, which performs gas phase Beckmann rearrangement of cyclohexanone oxime, by using the metal oxide-containing kenyaite catalyst according to claim 1, and a solvent selected from the group consisting of alcohol (C2-C8), benzene, toluene, acetone and acetonitrile, at a weight hourly space velocity of cyclohexanone oxime between 0.1 to 15 h?1 and at a reaction temperature of 300 to 400° C.","KR100603959B1, KR20060018492A, US2006047113A1, US7232784B2",null,1]
["K03329","의료","KR","적녹청 광원을 이용한 인체 내부의 영상 획득장치 및 방법{INSIDE HUMAN BODY VIDEO AQUSITION APPARATUS AND METHOD WITH RGB LIGHT SOURCE}",null,"원문이미지","KR20040067174A","2004.08.25","KR0620074B1","2006.08.28","본 발명은 인체 내부의 영상 획득장치에 관한 것으로서, 특히 적녹청 광원을 이용하여 높은 해상도의 인체 내부의 영상을 얻을 수 있는 적녹청 광원을 이용한 인체 내부의 영상 획득장치에 관한 것이다. 이를 위해, 본 발명에 의한 적녹청 광원을 이용한 인체 내부의 영상 획득장치는 적녹청 각각의 단색광에 의한 인체 내부의 이미지를 생성하는 캡슐형 내시경과, 상기 캡슐형 내시경으로부터 전송된 각각의 적녹청 이미지를 합성하여 인체 내부의 영상을 복원하는 외부 수신장치를 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.","1 적녹청 각각의 단색광에 의한 인체 내부의 이미지를 생성하는 캡슐형 내시경과, 상기 캡슐형 내시경으로부터 전송된 각각의 적녹청 이미지를 합성하여 인체 내부의 영상을 복원하는 외부 수신장치를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 적녹청 광원을 이용한 인체 내부의 영상 획득장치","박선라, 박종오","A61B-001/00","KR20060018681A","2006.03.02",null,"2024.08.25","1 적녹청 각각의 단색광에 의한 인체 내부의 이미지를 생성하는 캡슐형 내시경과, 상기 캡슐형 내시경으로부터 전송된 각각의 적녹청 이미지를 합성하여 인체 내부의 영상을 복원하는 외부 수신장치를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 적녹청 광원을 이용한 인체 내부의 영상 획득장치 2 제 1항에 있어서, 상기 캡슐형 내시경은 적녹청 광원이 복수개 조합된 광원장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 적녹청 광원을 이용한 인체 내부의 영상 획득장치. 3 제 2항에 있어서, 상기 적녹청 광원은 하나의 적색광원, 하나의 녹색광원 및 두 개의 청색광원으로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 적녹청 광원을 이용한 인체 내부의 영상 획득장치. 4 적녹청 광원의 각 단색광원의 발광시간을 달리하여 단색광원을 발광시키는 단계와, 상기 각 단색광원의 발광 시 그 단색광에 의한 인체 내부의 이미지를 생성하는 단계와, 상기 각각의 단색광에 의한 인체 내부의 이미지를 합성하여 인체 내부의 영상을 복원하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 적녹청 광원을 이용한 인체 내부의 영상 획득방법.","KR100620074B1, KR20060018681A",null,1]
["K03328","의료","KR","인체 내 이미지 획득 시스템 및 방법{INSIDE HUMAN BODY IMAGE AQUSITION SYSTEM AND METHOD}",null,"원문이미지","KR20040067172A","2004.08.25","KR0620073B1","2006.08.28","본 발명은 인체 내 이미지 획득 시스템 및 방법에 관한 것으로서, 특히 반사장치를 이용하여 인체 내부의 한 지점을 둘러싼 주위 영역까지 영상화하여 인체 내부를 빠르고 간편하게 검사할 수 있는 인체 내 이미지 획득 시스템 및 방법에 관한 것이다. 이를 위해, 본 발명은 반사장치의 반사면을 통해 반사되는 반사광으로부터 이미지를 획득하는 캡슐형 내시경과, 상기 캡슐형 내시경이 획득한 이미지를 수신하여 평면 이미지로 영상 처리하는 외부 수신장치를 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다. 여기서 캡슐형 내시경은 전부 또는 일부가 반사성을 띄는 반사면을 갖는 적어도 하나의 반사장치를 포함한다.","1 반사장치의 반사면을 통해 반사되는 반사광으로부터 이미지를 획득하는 캡슐형 내시경과, 상기 캡슐형 내시경이 획득한 이미지를 수신하여 평면 이미지로 영상 처리하는 외부 수신장치를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 인체 내 이미지 획득 시스템.","박선라, 박종오","A61B-001/00","KR20060018679A","2006.03.02",null,"2024.08.25","1 반사장치의 반사면을 통해 반사되는 반사광으로부터 이미지를 획득하는 캡슐형 내시경과, 상기 캡슐형 내시경이 획득한 이미지를 수신하여 평면 이미지로 영상 처리하는 외부 수신장치를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 인체 내 이미지 획득 시스템. 2 제 1항에 있어서, 상기 반사장치의 반사면은 반원 또는 포물선 형태의 볼록면인 것을 특징으로 하는 인체 내 이미지 획득 시스템. 3 전부 또는 일부가 반사성을 띠는 반사면을 갖는 적어도 하나의 반사장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 캡슐형 내시경. 4 제 3항에 있어서, 상기 반사장치는 빛이 통과하는 광창의 내면에 부착되어 있는 것을 특징으로 하는 캡슐형 내시경. 5 제 3항에 있어서, 상기 반사장치는 반원 또는 포물선 형태의 볼록 거울인 것을 특징으로 하는 캡슐형 내시경. 6 반사장치의 원형의 반사면을 통해 반사되는 반사광을 수광하는 단계와, 상기 반사광으로부터 원형의 이미지를 획득하는 단계와, 상기 원형의 이미지의 원둘레(θ) 및 반지름(r)을 xy 좌표축으로 하여 상기 원형의 이미지를 평면 이미지로 변환하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 인체 내 이미지 획득 방법.","KR100620073B1, KR20060018679A",null,1]
["K03331","광학","KR","체배된 유사 광펄스 반복률을 실제의 광펄스 반복률로변환하는 장치 및 방법{The device and method for converting a multiplied pseudo optical pulse repetition rate into a real one}",null,"원문이미지","KR20040058370A","2004.07.26","KR0614113B1","2006.08.11","본 발명은 체배된 유사 광펄스 반복률을 실제의 광펄스 반복률로 변환하는 장치 및 방법에 관한 것으로, 특히 종래의 반복률을 체배시키는 방법인 수동적인 반복률 체배 방법이나 시간축 탈봇효과를 사용하는 방법에 있어 시간축에서는 반복률을 증가시켜 줄 수 있으나, 스펙트럼 상에서는 증가된 반복률의 특징이 나타나지 않는 한계를 극복하기 위한 방법으로써 스펙트럼 상에서도 증가된 주파수의 특성을 갖도록 하는 실질적인 주파수 변환을 위한 장치 및 방법에 관한 것이다.본 발명의 체배된 유사 광펄스 반복률을 실제의 광펄스 반복률로 변환하는 장치는 일정한 동작 반복률을 갖고 솔리톤 펄스(solition pulse)를 발생시키는 입력 펄스 레이저; 상기 입력 펄스들을 PC(Photo Coupler)를 통하여 가변 분산 조절기에 연결시켜 주는 서큘레이터(circulator); 상기 서큘레이터를 통과하는 입력펄스의 반복률을 시간축 탈봇효과에 의해 조절하는 가변 분산 조절기; 상기 서큘레이터를 통과한 유사 주파수 체배된 광펄스를 실제의 고주파 광펄스로 변환하는 고 비선형 광섬유 기반의 비선형 광소자; 상기 실제의 고주파 광펄스의 중심파장을 조절하는 가변 파장 레이저; 및 상기 가변 파장 레이저에 의해 조절된 실제의 고주파 광펄스의 컨트롤 신호를 제거하는 대역투과 필터;를 포함한다.따라서, 본 발명에 따른 체배된 유사 광펄스 반복률을 실제의 광펄스 반복률로 변환하는 장치 및 방법은 종래의 반도체 광증폭기 기반의 방법에 비해 동작속도 면의 한계를 극복하고, 다른 광섬유 소자와의 연결성에 우수한 특성을 보이는 장점이 있으며, 전체 시스템 단가를 줄일 수 있다.","1 일정한 동작 반복률을 갖고 솔리톤 펄스(solition pulse)를 발생시키는 입력 펄스 레이저; 상기 입력 펄스들을 PC(Photo Coupler)를 통하여 가변 분산 조절기에 연결시켜 주는 서큘레이터(circulator); 상기 서큘레이터를 통과하는 입력펄스의 반복률을 시간축 탈봇효과에 의해 조절하는 가변 분산 조절기; 상기 서큘레이터를 통과한 유사 주파수 체배된 광펄스를 실제의 고주파 광펄스로 변환하는 고 비선형 광섬유 기반의 비선형 광소자; 상기 실제의 고주파 광펄스의 중심파장을 조절하는 가변 파장 레이저; 및 상기 가변 파장 레이저에 의해 조절된 실제의 고주파 광펄스의 컨트롤 신호를 제거하는 대역투과 필터; 를 포함하는 체배된 유사 광펄스 반복률을 실제의 광펄스 반복률로 변환하는 장치.","이주한, 한영근, 김상혁, 이상배","G02F-002/02","KR20060009699A","2006.02.01",null,"2024.07.26","1 일정한 동작 반복률을 갖고 솔리톤 펄스(solition pulse)를 발생시키는 입력 펄스 레이저; 상기 입력 펄스들을 PC(Photo Coupler)를 통하여 가변 분산 조절기에 연결시켜 주는 서큘레이터(circulator); 상기 서큘레이터를 통과하는 입력펄스의 반복률을 시간축 탈봇효과에 의해 조절하는 가변 분산 조절기; 상기 서큘레이터를 통과한 유사 주파수 체배된 광펄스를 실제의 고주파 광펄스로 변환하는 고 비선형 광섬유 기반의 비선형 광소자; 상기 실제의 고주파 광펄스의 중심파장을 조절하는 가변 파장 레이저; 및 상기 가변 파장 레이저에 의해 조절된 실제의 고주파 광펄스의 컨트롤 신호를 제거하는 대역투과 필터; 를 포함하는 체배된 유사 광펄스 반복률을 실제의 광펄스 반복률로 변환하는 장치. 2 청구항 1에 있어서, 상기 가변 분산 조절기는 단주기 또는 첩 광섬유 격자, 마이크로 전기기계 장치(MEMS) 중에서 어느 하나를 이용한 소자로 제조하는 것을 특징으로 하는 체배된 유사 광펄스 반복률을 실제의 광펄스 반복률로 변환하는 장치. 3 청구항 1에 있어서, 상기 비선형 광소자는 광섬유 기반의 교차위상변조 또는 4광파 혼합(four wave mixing)을 이용하는 것을 특징으로 하는 체배된 유사 광펄스 반복률을 실제의 광펄스 반복률로 변환하는 장치. 4 청구항 1에 있어서, 상기 고 비선형 광섬유 기반의 비선형 광소자에 입력되는 펄스들의 유사 반복률 채배를 이루기 위하여 광커플러를 사용하는 것을 특징으로 하는 체배된 유사 광펄스 반복률을 실제의 광펄스 반복률로 변환하는 장치. 5 청구항 1에 있어서, 상기 고 비선형 광섬유는 분산천이 광섬유(DSF), 고 비선형 광섬유(HNLF), 포토닉 크리스탈 광섬유인 것을 특징으로 하는 체배된 유사 광펄스 반복률을 실제의 광펄스 반복률로 변환하는 장치. 6 청구항 3에 있어서, 고 비선형 광섬유 기반의 비선형 광소자는 비선형 광루프 방식을 사용하는 것을 특징으로 하는 체배된 유사 광펄스 반복률을 실제의 광펄스 반복률로 변환하는 장치. 7 입력 펄스 레이저가 동작 반복률을 갖고 솔리톤 펄스를 발생시키는 제1단계; 서큘레이터가 상기 입력 펄스들을 PC를 통하여 가변 분산 조절기에 연결시켜 주는 제2단계; 가변 분산 조절기가 시간축 탈봇효과를 사용하여 상기 서큘레이터를 통과하는 입력펄스의 반복률을 정수배로 조절하는 제3단계; 고 비선형 광섬유 기반의 비선형 광소자가 상기 서큘레이터를 통과한 유사 반복률 체배된 광펄스를 실질적인 반복률을 갖는 광펄스로 변환하는 제4단계; 가변 파장 레이저가 상기 실제의 고주파 광펄스의 중심파장을 조절하는 제5단계; 대역 투과 필터가 상기 가변 파장 레이저에 의해 조절된 실제의 고주파 광펄스의 컨트롤 신호를 제거하는 제6단계; 를 포함하는 체배된 유사 광펄스 주파수를 실제의 광펄스 주파수로 변환하는방법.","KR100614113B1, KR20060009699A",null,1]
["K03301","컴퓨터","KR","3차원 가상환경에서의 문자 생성 시스템 및 방법{SYSTEM AND METHOD FOR TEXT GENERATION IN VIRTUAL ENVIRONMENT}",null,"원문이미지","KR20040047788A","2004.06.24","KR0711060B1","2007.04.18","본 발명은 3차원 가상환경에서의 문자 생성 시스템 및 방법에 관한 것으로서, 특히 문자 발생 응용 프로그램을 통해 생성된 문자가 3차원 가상환경 플랫폼에 실시간으로 전송되어 3차원 가상환경 내에 생성되도록 한 3차원 가상환경에서의 문자 생성 시스템 및 방법에 관한 것이다. 이를 위해, 본 발명에 의한 3차원 가상환경에서의 문자 생성 시스템은 응용 프로그램을 통해 생성된 문자가 포함된 영역을 영상신호로 변환하여 영상 스트리밍으로 전송하는 응용 프로그램 서버와, 상기 영상 스트리밍으로 전송된 영상신호에서 문자에 해당하는 영역만을 분리하여 이를 3차원 장면 그래프 상에 객체로 삽입하는 3차원 가상 서버를 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.","1 응용 프로그램을 통해 생성된 문자가 포함된 영역을 영상신호로 변환하여 영상 스트리밍으로 전송하는 응용 프로그램 서버와, 상기 영상 스트리밍으로 전송된 영상신호에서 문자에 해당하는 영역만을 분리하여 이를 3차원 장면 그래프 상에 객체로 삽입하는 3차원 가상 서버를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 3차원 가상환경에서의 문자 생성 시스템.","김익재, 안상철, 김형곤","G06F-017/00,G06F-003/00","KR20050123244A","2005.12.29",null,"2024.06.24","1 응용 프로그램을 통해 생성된 문자가 포함된 영역을 영상신호로 변환하여 영상 스트리밍으로 전송하는 응용 프로그램 서버와, 상기 영상 스트리밍으로 전송된 영상신호에서 문자에 해당하는 영역만을 분리하여 이를 3차원 장면 그래프 상에 객체로 삽입하는 3차원 가상 서버를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 3차원 가상환경에서의 문자 생성 시스템. 2 제 1항에 있어서, 상기 응용 프로그램 서버는 3차원 가상환경에 삽입될 문자를 생성하는 문자 생성 모듈과, 상기 문자 생성 모듈이 제공하는 문자 생성 영역 중 문자가 포함된 영역만을 캡쳐하여 영상신호로 변환하고 이를 실시간 영상 스트림으로 만드는 화면 캡쳐 모듈과, 상기 실시간 영상 스트림을 실시간 부호화하여 영상 전송 케이블을 통해 전송하는 스트리밍 서버 모듈을 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 가상환경에서의 문자 생성 시스템. 3 제 1항에 있어서, 상기 3차원 가상 서버는 상기 영상 전송 케이블을 통해 상기 실시간 영상 스트림을 전송 받아 이를 복호화하는 스트리밍 클라이언트 모듈과, 상기 복호화된 영상신호에서 문자에 해당하는 영역만을 추출하는 데이터 영역 추출 모듈과, 상기 추출된 문자영역을 3차원 장면 그래프에 포함시키는 데이터 영역 삽입 모듈을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 3차원 가상환경에서의 문자 생성 시스템. 4 제 3항에 있어서, 상기 데이터 영역 추출 모듈은 상기 문자영역에 대한 색상정보신호 및 상기 문자영역과 그 외 영역을 분리시켜주는 알파채널신호를 생성하는 것을 특징으로 하는 3차원 가상환경에서의 문자 생성 시스템. 5 제 4항에 있어서, 상기 알파채널신호는 상기 문자영역에는 영상을 불투명하게 하는 참값이 채워지도록 하고 그 외 영역에는 영상을 투명하게 하는 거짓값이 채워지도록 하는 것을 특징으로 하는 3차원 가상환경에서의 문자 생성 시스템. 6 제 4항에 있어서, 상기 색상정보신호 및 상기 알파채널신호는 상기 3차원 가상 서버 내의 텍스쳐 메모리에 저장되는 것을 특징으로 하는 3차원 가상환경에서의 문자 생성 시스템. 7 제 3항에 있어서, 상기 데이터 영역 삽입 모듈은 상기 색상정보신호 및 알파채널신호에 의거하여 상기 3차원 장면 그래프 상에 하나의 노드로서 추가된 빌보드에 실시간 텍스쳐 매핑을 수행하는 것을 특징으로 하는 3차원 가상환경에서의 문자 생성 시스템. 8 제 3항에 있어서, 상기 추출된 문자영역에 대하여 3차원 문자 모델을 생성하는 3차원 문자 모델링 모듈을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 가상환경에서의 문자 생성 시스템. 9 제 8항에 있어서, 상기 3차원 문자 모델링 모듈은 상기 추출된 문자영역의 영상에 대해 가우시안 흐림 효과(Gaussian smoothing effect)를 적용하고, 상기 효과가 적용된 영상에 대해 3차원 모델의 좌표값으로 변환하기 위한 포인트 샘플링을 수행하고, 상기 샘플링 결과를 이용하여 3차원 정보를 추출하고, 이 3차원 정보에 상기 추출된 문자영역의 영상을 텍스쳐로 사용하여 3차원 문자 모델을 생성하는 것을 특징으로 하는 3차원 가상환경에서의 문자 생성 시스템. 10 응용 프로그램이 제공하는 문자 생성 영역에서 3차원 가상환경에 삽입될 문자를 생성하는 단계와, 상기 문자 생성 영역 중 문자가 포함된 영역만을 캡쳐하여 영상신호로 변환하고 이를 실시간 영상 스트림으로 만드는 단계와, 상기 실시간 영상 스트림을 실시간 부호화하여 영상 전송 케이블을 통해 전송하는 단계와, 상기 영상 전송 케이블을 통해 상기 실시간 영상 스트림을 전송 받아 이를 복호화하는 단계와, 상기 복호화된 영상신호에서 문자에 해당하는 영역만을 추출하는 단계와, 상기 추출된 문자영역을 3차원 장면 그래프에 포함시키는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 3차원 가상환경에서의 문자 생성 방법. 11 제 10항에 있어서, 상기 문자영역만을 추출하는 단계는 상기 문자영역에 대한 색상정보신호 및 상기 문자 영역과 그 외 영역을 분리시켜 주는 알파채널신호를 생성하는 것을 특징으로 하는 3차원 가상환경에서의 문자 생성 방법. 12 제 10항에 있어서, 상기 알파채널신호는 상기 문자영역에는 영상을 불투명하게 하는 참값이 채워지도록 하고 그 외 영역에는 영상을 투명하게 하는 거짓값이 채워지도록 하는 것을 특징으로 하는 3차원 가상환경에서의 문자 생성 방법. 13 제 10항에 있어서, 상기 추출된 문자영역을 3차원 장면 그래프에 포함시키는 단계는 상기 색상정보신호 및 알파채널신호에 의거하여 상기 3차원 장면 그래프 상에 하나의 노드로서 추가된 빌보드에 실시간 텍스쳐 매핑을 수행하는 것을 특징으로 하는 3차원 가상환경에서의 문자 생성 방법. 14 제 10항에 있어서, 상기 추출된 문자영역에 대하여 3차원 문자 모델을 생성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 가상환경에서의 문자 생성 방법. 15 제 14항에 있어서, 상기 3차원 문자 모델을 생성하는 단계는 상기 추출된 문자영역에 대해 가우시안 흐림 효과를 적용하는 과정과, 상기 효과가 적용된 영상에 대해 3차원 모델의 좌표값으로 변환하기 위한 포인트 샘플링을 수행하는 과정과, 상기 샘플링 결과를 이용하여 3차원 정보를 추출하는 과정과, 상기 3차원 정보에 상기 추출된 문자영역의 영상을 텍스쳐로 사용하여 3차원 문자 모델을 생성하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 가상환경에서의 문자 생성 방법.","KR100711060B1, KR20050123244A",null,1]
["K03323","태양전지","KR","염료감응 태양전지용 고효율 대향전극 및 그 제조방법{Highly Efficient Counter Electrodes for Dye-sensitized Solar Cells and Method for Manufacturing Thereof}",null,"원문이미지","KR20040079402A","2004.10.06","KR0882503B1","2009.02.02","본 발명은 염료 감응 태양 전지용 대향 전극에 관한 것으로, 보다 상세하게는 광감응 염료 분자층을 포함하는 광전극과, 상기 광전극에 대향된 대향 전극과, 상기 광전극 및 대향 전극 사이에 개재된 전해질 용액을 포함하여 이루어진 염료 감응 태양 전지에 있어서, 상기 대향 전극이 전도성 고분자, 백금 나노 입자, 플러렌과 같은 탄소 화합물, 무기 산화물 입자 및 전도성 고분자 블렌드로 구성된 군으로부터 선택된 하나 또는 2 이상의 물질이 순차적으로 적층된 구조의 전자전달 활성층을 갖는 것임을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 대향전극 및 그 제조 방법에 대한 것으로서, 상기 전자 전달 활성층이 산화·환원 이온쌍을 함유한 전해질과 대향전극 계면 간의 원활한 전자전달을 촉진시킴으로써 종래 단순히 투명 전도성 물질 위에 백금층만이 코팅된 대향전극을 사용한 염료감응 태양전지에 비해 그 에너지전환효율을 크게 향상시킨 이점이 있다.","1 광감응 염료 분자층을 포함하는 광전극과, 상기 광전극에 대향된 백금 촉매층을 포함하는 대향전극과, 상기 광전극 및 대향전극 사이에 개재된 전해질 용액을 포함하여 이루어진 염료감응 태양전지의 대향전극에 있어서, 상기 대향전극에 포함된 백금 촉매층 위에 전자전달활성층으로서, (1) 전도성 고분자가 코팅된 구조; (2) 백금나노입자가 코팅된 구조; (3) 백금나노입자와 전도성 고분자가 순차적으로 코팅된 구조; (4) 풀러렌이 코팅된 구조; (5) 풀러렌과 전도성 고분자가 순차적으로 코팅된 구조; (6) 풀러렌과 백금나노입자가 순차적으로 코팅된 구조; (7) 풀러렌, 백금나노입자와 전도성 고분자가 순차적으로 코팅된 구조; (8) 무기산화물입자와 백금박막이 순차적으로 코팅된 구조; (9) 무기산화물입자, 백금박막과 전도성 고분자가 순차적으로 코팅된 구조; (10) 무기산화물입자와 전도성 고분자가 순차적으로 코팅된 구조; (11) 전도성 고분자 블렌드가 코팅된 구조; (12) 백금나노입자와 전도성 고분자 블렌드가 순차적으로 코팅된 구조; (13) 풀러렌과 전도성 고분자 블렌드가 순차적으로 코팅된 구조; (14) 풀러렌, 백금나노입자와 전도성 고분자 블렌드가 순차적으로 코팅된 구조; 또는, (15) 무기산화물입자, 전도성 고분자 블렌드와 백금박막이 순차적으로 코팅된 구조를 갖는 것임을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 대향전극.","강용수, 정범석, 김영진, 강문성","H01L-031/042","KR20060030574A","2006.04.11",null,"2024.10.06","1 광감응 염료 분자층을 포함하는 광전극과, 상기 광전극에 대향된 백금 촉매층을 포함하는 대향전극과, 상기 광전극 및 대향전극 사이에 개재된 전해질 용액을 포함하여 이루어진 염료감응 태양전지의 대향전극에 있어서, 상기 대향전극에 포함된 백금 촉매층 위에 전자전달활성층으로서, (1) 전도성 고분자가 코팅된 구조; (2) 백금나노입자가 코팅된 구조; (3) 백금나노입자와 전도성 고분자가 순차적으로 코팅된 구조; (4) 풀러렌이 코팅된 구조; (5) 풀러렌과 전도성 고분자가 순차적으로 코팅된 구조; (6) 풀러렌과 백금나노입자가 순차적으로 코팅된 구조; (7) 풀러렌, 백금나노입자와 전도성 고분자가 순차적으로 코팅된 구조; (8) 무기산화물입자와 백금박막이 순차적으로 코팅된 구조; (9) 무기산화물입자, 백금박막과 전도성 고분자가 순차적으로 코팅된 구조; (10) 무기산화물입자와 전도성 고분자가 순차적으로 코팅된 구조; (11) 전도성 고분자 블렌드가 코팅된 구조; (12) 백금나노입자와 전도성 고분자 블렌드가 순차적으로 코팅된 구조; (13) 풀러렌과 전도성 고분자 블렌드가 순차적으로 코팅된 구조; (14) 풀러렌, 백금나노입자와 전도성 고분자 블렌드가 순차적으로 코팅된 구조; 또는, (15) 무기산화물입자, 전도성 고분자 블렌드와 백금박막이 순차적으로 코팅된 구조를 갖는 것임을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 대향전극. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3 제 1 항에 있어서, 상기 전도성 고분자가 전해질과의 친화력이 우수한 것으로서 폴리[2-메톡시-5-(2'-에틸헥실옥시)-1,4-페닐렌비닐렌], 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리[3-테트라데실티오펜], 폴리[3,4-에틸렌디옥시티오펜], 폴리아세틸렌, 폴리파라페닐렌, 폴리페닐렌술피드, 폴리티오펜, 폴리엘레멘토프탈로시아닌 및 이들의 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택되는 것임을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 대향전극. 4 제 1 항에 있어서, 상기 전도성 고분자 블렌드가 전해질과의 친화력이 우수한 것으로서 폴리(2-메톡시-5-(2'-에틸헥실옥시)-1,4-페닐렌비닐렌)-1,4-페닐렌비닐렌, 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리(3-테트라데실티오펜), 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜), 폴리아세틸렌, 폴리파라페닐렌, 폴리페닐렌술피드, 폴리티오펜, 폴리엘레멘토프탈로시아닌 및 이들의 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택된 것에 폴리에틸렌 옥사이드, 폴리프로필렌옥사이드, 폴리에피크로히드린-에틸렌옥사이드 및 이들의 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 블렌딩시킨 것임을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 대향전극. 5 제 1 항에 있어서, 상기 대향전극이 전도성 유리기판, 전도성 유연성 고분자 기판 또는 백금층이 전도성 기판 위에 코팅된 기재인 것임을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 대향전극. 6 제 5 항에 있어서, 상기 전도성 유리기판과 전도성 유연성 고분자 기판이 각각 전도성 인듐-틴옥사이드 또는 불소-틴옥사이드가 코팅되어 있는 투명한 기판인 것임을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 대향전극. 7 제 1 항에 있어서, 상기 백금나노입자 및 무기산화물 입자의 입경이 10~1000nm의 범위인 것임을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 대향전극. 8 제 7 항에 있어서, 상기 백금나노입자 및 무기산화물 입자의 입경이 10~500nm의 범위인 것임을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 대향전극. 9 제 1 항에 있어서, 상기 풀러렌은 탄소60(C60) 풀러렌, 탄소70(C70) 풀러렌, 탄소76(C76) 풀러렌, 탄소78(C78) 풀러렌, 탄소84(C84) 풀러렌으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나인 것임을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 대향전극. 10 제 1 항에 있어서, 상기 무기산화물 입자가 티타늄옥사이드, 인듐옥사이드, 틴옥사이드, 인듐-틴옥사이드, 알루미늄옥사이드 및 실리콘옥사이드로부터 선택된 하나 또는 2 이상의 혼합물인 것임을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 대향전극. 11 (1) 대향전극 2 개를 일정거리 이격시켜 전기영동셀에 위치시키는 단계; (2) 전도성 고분자, 백금나노입자, 풀러렌, 무기산화물 입자 및 전도성 고분자 블렌드로부터 선택되는 어느 하나의 전도성 물질을 유기용매에 용융시켜 균일하게 분산시키는 단계; 및 (3) 단계 (1)의 대향전극을 단계 (2)의 용액에 담그거나 또는 상기 전도성 물질이 균일하게 분산된 용액을 상기 대향전극에 적하시킨 후, 전기영동법 또는 스핀코팅-열분해법을 이용하여 단계 (2)의 전도성 물질을 상기 대향전극에 침착시킨 후 건조시켜 코팅층을 형성하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 제1항의 염료감응 태양전지용 대향전극의 제조방법. 12 제 11 항에 있어서, 상기 전도성 고분자는 전해질과의 친화력이 우수한 것으로서 폴리[2-메톡시-5-(2'-에틸헥실옥시)-1,4-페닐렌비닐렌], 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리[3-테트라데실티오펜], 폴리[3,4-에틸렌디옥시티오펜], 폴리아세틸렌, 폴리파라페닐렌, 폴리페닐렌술피드, 폴리티오펜, 폴리엘레멘토프탈로시아닌 및 이들의 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 대향전극의 제조방법. 13 제 11 항에 있어서, 상기 전도성 고분자 블렌드는 전해질과의 친화력이 우수한 것으로서 폴리(2-메톡시-5-(2'-에틸헥실옥시)-1,4-페닐렌비닐렌)-1,4-페닐렌비닐렌, 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리(3-테트라데실티오펜), 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜), 폴리아세틸렌, 폴리파라페닐렌, 폴리페닐렌술피드, 폴리티오펜, 폴리엘레멘토프탈로시아닌 및 이들의 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택된 것에 폴리에틸렌 옥사이드, 폴리프로필렌옥사이드, 폴리에피크로히드린-에틸렌옥사이드 및 이들의 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 1:0.01~10의 무게비로 블렌딩시킨 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 대향전극의 제조방법. 14 제 11 항에 있어서, 상기 제조방법은 상기 단계 (1) 내지 (3)을 반복 수행하는 단계를 더 포함함으로써 전도성 고분자층, 백금 나노입자층, 백금박막층, 풀러렌층, 무기산화물 입자층 및 전도성 고분자 블렌딩층으로 구성된 군에서 선택된 하나 또는 2 이상의 조합으로 이루어진 전자전달활성층을 형성하는 것을 특징으로 하는 제1항의 염료감응 태양전지용 대향전극의 제조방법. 15 제 11 항 또는 제 14 항에 있어서, 상기 대향전극은: (1) 대향전극 위에 전자전달활성층으로서 전도성 고분자가 코팅된 구조; (2) 대향전극 위에 전자전달활성층으로서 백금나노입자가 코팅된 구조; (3) 대향전극 위에 전자전달활성층으로서 백금나노입자와 전도성 고분자가 순차적으로 코팅된 구조; (4) 대향전극 위에 전자전달활성층으로서 풀러렌이 코팅된 구조; (5) 대향전극 위에 전자전달활성층으로서 풀러렌과 전도성 고분자가 순차적으로 코팅된 구조; (6) 대향전극 위에 전자전달활성층으로서 풀러렌과 백금나노입자가 순차적으로 코팅된 구조; (7) 대향전극 위에 전자전달활성층으로서 풀러렌, 백금나노입자와 전도성 고분자가 순차적으로 코팅된 구조; (8) 대향전극 위에 전자전달활성층으로서 무기산화물입자와 백금박막이 순차적으로 코팅된 구조; (9) 대향전극 위에 전자전달활성층으로서 무기산화물입자, 백금박막과 전도성 고분자가 순차적으로 코팅된 구조; (10) 대향전극 위에 전자전달활성층으로서 무기산화물입자와 전도성 고분자가 순차적으로 코팅된 구조; (11) 대향전극 위에 전자전달활성층으로서 전도성 고분자 블렌드가 코팅된 구조; (12) 대향전극 위에 전자전달활성층으로서 백금나노입자와 전도성 고분자 블렌드가 순차적으로 코팅된 구조; (13) 대향전극 위에 전자전달활성층으로서 풀러렌과 전도성 고분자 블렌드가 순차적으로 코팅된 구조; (14) 대향전극 위에 전자전달활성층으로서 풀러렌, 백금나노입자와 전도성 고분자 블렌드가 순차적으로 코팅된 구조; 또는 (15)대향전극 위에 전자전달활성층으로서무기산화물입자, 전도성 고분자 블렌드와 백금박막이 순차적으로 코팅된 구조 를 갖도록 청구항 제 11 항의 단계 (1) 내지 (3)을 수행하는 것을 특징으로 하는 제1항의 염료감응 태양전지용 대향전극의 제조방법. 16 제 11 항에 있어서, 상기 단계 (2)의 유기용매는 메탄올, 에탄올, 테트라하이드로퓨란, 아세톤, 톨루엔 및 아세토니트릴로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상의 용매인 것을 특징으로 하는 제1항의 염료감응 태양전지용 대향전극의 제조방법. 17 제 11 항에 있어서, 상기 단계 (2)의 전도성 물질은 상기 유기용매에 대하여 0.01~10 중량%로 용해되는 것을 특징으로 하는 제1항의 염료감응 태양전지용 대향전극의 제조방법.","EP1646059A2, EP1646059A3, JP2006108064A, KR100882503B1, KR20060030574A, US2006070651A1",null,1]
["F02079","화학","JP","저온 소성용 마이크로파 유전체 세라믹 조성물 및 그 제조 방법",null,"원문이미지","JP2004370941A","2004.12.22","JP4468155B9","2010.03.05","(57)【요약】 【과제】 높은 유전율 및 품질 계수 및 안정되는 공진주파수의 온도 계수를 가지고, 880∼960℃의 낮은 온도 범위에서 소성이 가능하고, 내부 전극에 Ag 또는 Cu을 이용할 수 있는 마이크로파 유전체 세라믹 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.【해결 수단】 하기식 1 또는 2의 조성을 가지는 비스무트계 세라믹 조성물 이다. Bi1-xAxNbO4 (1)BiNb1-xBxO4 (2)(식중, A은 Sm 또는 Dy 있고, B은 Sb 또는 P 있고, x은 0<x≤0.1 있다.)【선택도】 낳고","【청구항 1】 하기식 1 또는 2의 조성을 가지는 저온 소성용 마이크로파 유전체 세라믹 조성물. Bi1-xAxNbO4 (1) (식중, A은 Sm 또는 Dy 있고, 0<x≤0.1 있다.) BiNb1-xBxO4 (2) (식중, B은 Sb 또는 P 있고, x은 0<x≤0.1 있다.)","吳  英  齊, 林  ▲ヒョク▼","C04B-035/495,H01B-003/00,H01B-003/12","JP2005314212A","2005.11.10","2004-04-30 (KR 2004-030517)","2024.12.22","【특허청구의 범위】 【청구항 1】 하기식 1 또는 2의 조성을 가지는 저온 소성용 마이크로파 유전체 세라믹 조성물. Bi1-xAxNbO4 (1) (식중, A은 Sm 또는 Dy 있고, 0<x≤0.1 있다.) BiNb1-xBxO4 (2) (식중, B은 Sb 또는 P 있고, x은 0<x≤0.1 있다.) 【청구항 2】 소결 조력제로서, 0.03∼0.25 중량%의 CuO 및 0.03∼0.25 중량%V2O5을 더욱 함유한다, 청구항 1 기재의 저온 소성용 마이크로파 유전체 세라믹 조성물. 【청구항 3】 Sb2O5,H3PO4,Sm2O3 및 Dy2O3으로 되는 무리 보다(에서) 선택하게 되는 화합물과 Bi2O3 및 Nb2O5과를 습식 혼합한 뒤, 건조하고, 뒤이어 열처리하는 것을 포함한다, 하기식 1 또는 2의 조성을 가지는 세라믹 조성물의 제조 방법. Bi1-xAxNbO4 (1) (식중, A은 Sm 또는 Dy 있고, 0<x≤0.1 있다.) BiNb1-xBxO4 (2) (식중, B은 Sb 또는 P 있고, x은 0<x≤0.1 있다.) 【청구항 4】 습식 혼합중에, 소결 조력제로서, CuO 및 V2O5을 첨가하는 것을 더욱 포함한다, 청구항 3 기재의 세라믹 조성물의 제조 방법.","JP2005314212A, JP4468155B2, KR20050105392A, KR100582983B1, KR20060041194A",null,1]
["F02056","생화학","US","Methods and apparatuses of separating cells using magnets and droplet type cell suspension",null,"원문이미지","US10/878357","2004.06.28","US7189560","2007.03.13","Disclosed are methods and apparatuses for separating cells using magnets and droplet type cell suspension according to the present invention, which may effectively separate cells by forming droplet type cell suspension with cell suspension sample containing cells to which magnetic beads are coupled and applying magnetic force to the droplet type cell suspension. The apparatus of separating cells according to the present invention includes: a droplet type cell suspension forming part for forming a droplet type cell suspension under a lower part of the droplet type cell suspension forming part with cell suspension sample containing cells to which magnetic beads are coupled; a cell suspension inlet for supplying the droplet type cell suspension forming part with the cell suspension sample; a magnet for applying magnetic force to the droplet type cell suspension; a cell buffer inlet for supplying the droplet type cell suspension with cell buffer; and a temperature maintaining part for maintaining a temperature of the droplet type cell suspension.","1. An apparatus for separating cells using magnets and droplet type cell suspension, comprising: a droplet type cell suspension forming part for forming a droplet type cell suspension under a lower part of the droplet type cell suspension forming part with cell suspension sample containing cells to which magnetic beads are coupled and wherein a region in which the droplet type cell suspension is to be formed, has a droplet type cell suspension forming part having a hydrophilic property and another region of the droplet type cell suspension forming part has a hydrophobic property; a cell suspension inlet for supplying the droplet type cell suspension forming part with the cell suspension sample; a magnet for applying magnetic force to the droplet type cell suspension; a cell buffer inlet for supplying the droplet type cell suspension with cell buffer; and a temperature maintaining part for maintaining the temperature of the droplet type cell suspension.","Kim; Young-Ho, Ju; Byeong-Kwon, Yun; Seok, Kang; Yu-Ri, Paek; Kyeong-Kap, Lee; Jin-Woo, Kim; Byung Kyu, Park; Jong Oh","C12M-001/42","US20050227349A1","2005.10.13","2004.04.13 (KR 10-2004-0025421)","2024.06.28","1. An apparatus for separating cells using magnets and droplet type cell suspension, comprising: a droplet type cell suspension forming part for forming a droplet type cell suspension under a lower part of the droplet type cell suspension forming part with cell suspension sample containing cells to which magnetic beads are coupled and wherein a region in which the droplet type cell suspension is to be formed, has a droplet type cell suspension forming part having a hydrophilic property and another region of the droplet type cell suspension forming part has a hydrophobic property; a cell suspension inlet for supplying the droplet type cell suspension forming part with the cell suspension sample; a magnet for applying magnetic force to the droplet type cell suspension; a cell buffer inlet for supplying the droplet type cell suspension with cell buffer; and a temperature maintaining part for maintaining the temperature of the droplet type cell suspension. 2. The apparatus according to claim 1, further comprising: an outlet for discharging cell buffer and cell suspension sample left after the cells to which magnetic beads are coupled are separated; and a droplet type cell suspension protecting part, connected to the outlet and spaced apart from the droplet type cell suspension forming part by a predetermined distance, for protecting the droplet type cell suspension. 3. The apparatus according to claim 2, wherein the droplet type cell suspension forming part regulates a size of droplet type cell suspension to be formed. 4. The apparatus according to claim 2, wherein the magnet applies attraction force to the cells to which the magnetic beads are coupled in the droplet type cell suspension. 5. The apparatus according to claim 2, wherein the magnet is not fixedly connected to the droplet type cell suspension forming part and is able to be easily separated from the droplet type cell suspension forming part. 6. The apparatus according to claim 2, wherein the temperature maintaining part maintains temperatures of the droplet type cell suspension and the droplet type cell suspension protecting part. 7. The apparatus according to claim 2, wherein the temperature maintaining part performs a cooling and a keeping warm simultaneously. 8. The apparatus according to claim 2, wherein the temperature maintaining part is implemented by a peltier element. 9. The apparatus according to claim 2, wherein the droplet type cell suspension protecting part prevents the droplet type cell suspension from evaporating. 10. The apparatus according to claim 2, wherein the droplet type cell suspension is formed under a lower part of the droplet type cell suspension forming part. 11. The apparatus according to claim 2, wherein the cell buffer inlet regulates vertical location of the cell buffer inlet itself. 12. An apparatus for separating cells using magnets and droplet type cell suspension, comprising: a droplet type cell suspension forming part for forming a droplet type cell suspension under a lower part of the droplet type cell suspension forming part with cell suspension sample containing cells to which magnetic beads are coupled and wherein a region in which the droplet type cell suspension is to be formed, has a droplet type cell suspension forming part having a hydrophilic property and another region of the droplet type cell suspension forming part has a hydrophobic property: a cell suspension inlet for supplying the droplet type cell suspension forming part with the cell suspension sample; a magnet for applying magnetic force to the droplet type cell suspension; a cell buffer inlet for supplying the droplet type cell suspension with cell buffer and regulating vertical location of the cell buffer inlet itself; and a droplet type cell suspension protecting part, connected to the outlet and spaced apart from the droplet type cell suspension forming part by a predetermined distance, for protecting the droplet type cell suspension. 13. The apparatus according to the claim 12, further comprising an outlet for discharging cell buffer and cell suspension sample left after the cells to which magnetic beads are coupled are separated.","KR100583231B1, KR20050100216A, US2005227349A1, US7189560B2",null,1]
["K03254","컴퓨터","KR","볼륨 모델 기반의 햅틱 인터페이스를 이용한 치과 치료훈련 및 평가 시스템{VIRTUAL DENTAL TRAINING AND EVALUATION SYSTEM USING HAPTIC INTERFACE BASED VOLUMETRIC MODEL}",null,"원문이미지","KR20040045863A","2004.06.19","KR0551201B1","2006.02.03","본 발명은 치과 훈련생에게 실제와 거의 동일한 물리적 치과 치료 경험을 제공하고 치과 훈련의 성과에 대한 분석 및 평가를 할 수 있는 볼륨 모델 기반의 햅틱 인터페이스를 이용한 치과 치료 훈련 및 평가 시스템에 관한 것이다. 이를 위해, 본 발명은 치과 훈련생이 치아 치료를 위해 조작하는 햅틱 장치 및 가상 치아 모델을 영상으로 보여주는 그래픽 시뮬레이터로 구성된 볼륨 모델 기반의 햅틱 인터페이스를 이용한 치과 치료 훈련 및 평가 시스템에 있어서, 상기 햅틱 장치는 치과 훈련생의 조작에 의해 움직이면서 그 움직임을 전기적 신호로 변환하여 상기 그래픽 시뮬레이터에 전달하고, 상기 그래픽 시뮬레이터로부터 반력 정보를 수신하여 그 반력 정보에 따른 힘과 촉감을 치과 훈련생에게 전달하고, 상기 그래픽 시뮬레이터는 상기 햅틱 장치로부터 움직임 신호를 받아 가상 치아 모델과 가상 치과 치료기와의 충돌을 검사하고 충돌 시 볼륨 간접 표면에서 일정한 오프셋(offset)값을 가진 표면을 기준으로 반력 정보를 계산하는 햅틱 렌더링을 수행하고, 화면을 갱신하는 비쥬얼 렌더링을 수행하고, 시뮬레이션 프로세스를 통해 가상 치아 모델의 변형을 실행하여 영상으로 출력하는 것을 특징으로 한다.","1 치과 훈련생이 치아 치료를 위해 조작하는 햅틱 장치 및 가상 치아 모델을 영상으로 보여주는 그래픽 시뮬레이터로 구성된 볼륨 모델 기반의 햅틱 인터페이스를 이용한 치과 치료 훈련 및 평가 시스템에 있어서, 상기 햅틱 장치는 치과 훈련생의 조작에 의해 움직이면서 그 움직임을 전기적 신호로 변환하여 상기 그래픽 시뮬레이터에 전달하고, 상기 그래픽 시뮬레이터로부터 반력 정보를 수신하여 그 반력 정보에 따른 힘과 촉감을 치과 훈련생에게 전달하고, 상기 그래픽 시뮬레이터는 상기 햅틱 장치로부터 움직임 신호를 받아 가상 치아 모델과 가상 치과 치료기와의 충돌을 검사하고 충돌 시 볼륨 간접 표면에서 일정한 오프셋(offset)값을 가진 표면을 기준으로 반력 정보를 계산하는 햅틱 렌더링을 수행하고, 화면을 갱신하는 비쥬얼 렌더링을 수행하고, 시뮬레이션 프로세스를 통해 가상 치아 모델의 변형을 실행하여 영상으로 출력하는 것을 특징으로 하는 볼륨 모델 기반의 햅틱 인터페이스를 이용한 치과 치료 훈련 및 평가 시스템.","김래현, 박세형, 하성도","G06F-003/00,G06Q-010/00,G06F-003/03","KR20050120497A","2005.12.22",null,"2024.06.19","1 치과 훈련생이 치아 치료를 위해 조작하는 햅틱 장치 및 가상 치아 모델을 영상으로 보여주는 그래픽 시뮬레이터로 구성된 볼륨 모델 기반의 햅틱 인터페이스를 이용한 치과 치료 훈련 및 평가 시스템에 있어서, 상기 햅틱 장치는 치과 훈련생의 조작에 의해 움직이면서 그 움직임을 전기적 신호로 변환하여 상기 그래픽 시뮬레이터에 전달하고, 상기 그래픽 시뮬레이터로부터 반력 정보를 수신하여 그 반력 정보에 따른 힘과 촉감을 치과 훈련생에게 전달하고, 상기 그래픽 시뮬레이터는 상기 햅틱 장치로부터 움직임 신호를 받아 가상 치아 모델과 가상 치과 치료기와의 충돌을 검사하고 충돌 시 볼륨 간접 표면에서 일정한 오프셋(offset)값을 가진 표면을 기준으로 반력 정보를 계산하는 햅틱 렌더링을 수행하고, 화면을 갱신하는 비쥬얼 렌더링을 수행하고, 시뮬레이션 프로세스를 통해 가상 치아 모델의 변형을 실행하여 영상으로 출력하는 것을 특징으로 하는 볼륨 모델 기반의 햅틱 인터페이스를 이용한 치과 치료 훈련 및 평가 시스템. 2 제 1항에 있어서, 상기 그래픽 시뮬레이터는 상기 가상 치아 모델이 상기 가상 치과 치료기에 의해 깍여질 때의 소리를 실감나게 전달하기 위해 오디오 렌더링을 수행하는 것을 특징으로 하는 볼륨 모델 기반의 햅틱 인터페이스를 이용한 치과 치료 훈련 및 평가 시스템. 3 제 1항에 있어서, 상기 그패픽 시뮬레이터는 치아의 경도, 색깔, 충치 부위, 볼륨 형태 등과 같은 각종 내부 속성들을 볼륨 데이터에 미리 저장해 놓고, 상기 가상 치과 치료기의 위치에서 가장 가까운 오프셋 표면으로의 방향을 구하고, 이 방향과 상기 가상 치과 치료기가 위치하는 그리드 볼륨의 셀 주변의 그리드 포인트에서 구한 방향들을 보간하여 반력의 방향을 계산하고, 상기 가상 치과 치료기의 위치에서 가장 가까운 오프셋 표면으로 선을 그을 때 그 오프셋 표면과 만나는 점을 구하고, 이 점과 상기 가상 치과 치료기 간의 거리에 비례하는 값으로 반력의 크기를 계산하여, 상기 저장되어 있는 내부 속성과 상기 계산된 반력의 방향 및 크기를 이용하여 정확한 반력 정보를 계산하는 것을 특징으로 하는 볼륨 모델 기반의 햅틱 인터페이스를 이용한 치과 치료 훈련 및 평가 시스템. 4 제 1항에 있어서, 상기 그래픽 시뮬레이터는 CSG(Constructive Solid Geometry) 방식에 의해 상기 가상 치과 치료기에 의해 깍여지는 표면을 계산하여 볼륨 데이터를 변형하고, 이 변형된 볼륨 데이터를 매번 비쥬얼 프레임에서 메쉬 형태로 바꾸어 영상으로 출력하는 것을 특징으로 하는 볼륨 모델 기반의 햅틱 인터페이스를 이용한 치과 치료 훈련 및 평가 시스템.","KR100551201B1, KR20050120497A",null,1]
["K03231","재료","KR","박막형 슈퍼 캐패시터{THIN FILM SUPER CAPACITOR}",null,"원문이미지","KR20040023489A","2004.04.06","KR0567394B1","2006.03.28","본 발명은 기판과, 상기 기판 상의 하부 전극 박막, 상기 하부 전극 상의 전해질 박막, 상기 전해질 박막 상의 상부 전극 박막을 포함하여 구성되며, 상기 하부 전극 및 상부 전극은 H2가 도핑된 박막인 것을 특징으로 하는 박막형 슈퍼 캐패시터를 제공한다. 전극은 결정 또는 비정질이어도 무방하며, 전해질로는 고체 및 액체 물질이 모두 사용될 수 있다. 전극 물질에 H2를 도핑하여 용량을 증가를 가져올 수 있으며, 여러 분야에 다양한 형태로 응용될 수 있다.","1 기판과, 상기 기판 상의 하부 전극 박막, 상기 하부 전극 상의 전해질 박막, 상기 전해질 박막 상의 상부 전극 박막을 포함하여 구성되며, 상기 하부 전극 박막 및 상부 전극 박막은 RuO2, IrO2, NiO/Ni 복합체, TiO2, SnO2, ZnO2와 V2O5의 복합체, RuO2와 V2O5의 복합체, WO3, Co3O4 중에서 선택되는 어느 하나의 물질로 구성되고, 상기 하부 전극 박막 및 상부 전극 박막에 H2가 도핑된 것을 특징으로 하는 박막형 슈퍼 캐패시터.","김주선, 최선희, 최원국, 윤영수","H01G-009/04","KR20050098160A","2005.10.11",null,"2024.04.06","1 기판과, 상기 기판 상의 하부 전극 박막, 상기 하부 전극 상의 전해질 박막, 상기 전해질 박막 상의 상부 전극 박막을 포함하여 구성되며, 상기 하부 전극 박막 및 상부 전극 박막은 RuO2, IrO2, NiO/Ni 복합체, TiO2, SnO2, ZnO2와 V2O5의 복합체, RuO2와 V2O5의 복합체, WO3, Co3O4 중에서 선택되는 어느 하나의 물질로 구성되고, 상기 하부 전극 박막 및 상부 전극 박막에 H2가 도핑된 것을 특징으로 하는 박막형 슈퍼 캐패시터. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3 제1항에 있어서, 상기 기판은 금속, 세라믹 또는 고분자 물질인 것을 특징으로 하는 박막형 슈퍼 캐패시터. 4 제1항에 있어서, 상기 하부 전극 박막 및 상부 전극 박막은 결정질인 것을 특징으로 하는 박막형 슈퍼 캐패시터. 5 제1항에 있어서, 상기 하부 전극 박막 및 상부 전극 박막은 비정질인 것을 특징으로 하는 박막형 슈퍼 캐패시터. 6 제1항에 있어서, 상기 전해질 박막은 고체인 것을 특징으로 하는 박막형 슈퍼 캐패시터. 7<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 8 제1항에 따른 박막형 슈퍼 캐패시터를 둘 이상 직렬 또는 병렬로 연결한 것을 특징으로 하는 박막형 슈퍼 캐패시터. 9 제8항에 있어서, 직렬 연결의 경우, 둘 이상의 박막형 슈퍼 캐패시터가 다층으로 형성된 것을 특징으로 하는 박막형 슈퍼 캐패시터. 10 기판을 준비하고, 상기 기판 상에 집전체 박막을 형성하고, 상기 집전체 박막 상에 H2가 도핑된 하부 전극 박막을 형성하고, 상기 하부 전극 상에 전해질 박막을 형성하고, 상기 전해질 박막 상에 H2가 도핑된 상부 전극 박막을 형성하는 것을 포함하여 구성되며, 상기 하부 전극 박막 및 상부 전극 박막은 RuO2, IrO2, NiO/Ni 복합체, TiO2, SnO2, ZnO2와 V2O5의 복합체, RuO2와 V2O5의 복합체, WO3, Co3O4 중에서 선택되는 어느 하나의 물질로 구성되는 박막형 슈퍼 캐패시터 제조방법.","KR100567394B1, KR20050098160A",null,1]
["F03055","광학","GB","MONITORING DEVICE FOR ROTATING BODY",null,"원문이미지","EP2004808462","2004.12.17","EP01759168B1","2009.06.03","A fiber Bragg grating (FBG) sensor is mounted to a rotating body, which is supported by a rotating shaft mounted rotatably with respect to a fixed element. The FBG sensor extends along the rotating shaft, one end of which is disposed at the center of the end of the rotating shaft. An optical fiber is mounted to the fixed element, one end of which is disposed opposite to the end of the FBG sensor, apart from the FBG sensor. Light emitted from a broadband light source passes through the optical fiber and is transmitted to the FBG sensor across a gap between the optical fiber and the FBG sensor. The FBG sensor reflects light with frequencies corresponding to deformation of the rotating body. A data processing unit receives the reflected light and calculates the deformation of the rotating body based thereupon.","1. A monitoring device for a rotating body (10) supported by a rotating shaft (12) mounted rotatably with respect to a fixed element (30), one end of the rotating shaft (12) and one end of the fixed element (30) being opposed to each other, comprising: a fiber Bragg grating sensor (20) mounted to the rotating body (10) and extending toward the one end of the rotating shaft (12) so that one end of the fiber Bragg grating sensor (20) is positioned at a center of the one end of the rotating shaft (12), the fiber Bragg grating sensor (20) reflecting light with frequencies corresponding to deformation of the rotating body (10);an optical fiber (32), one end of the optical fiber (32) being positioned at the one end of the fixed element (30), the optical fiber (32) extending outward of the fixed element (30); anda data processing unit (40) comprising a broadband light source for emitting light to the optical fiber (32), the optical fiber (32) being connected to the broadband light source, the data processing unit (40) receiving the light reflected from the fiber Bragg grating sensor (20) via the optical fiber (32) and calculating the deformation of the rotating body (10) based upon the reflected light;characterized bycollimating and focusing means (26) provided at the one end of the rotating shaft (12) and the one end of the fixed element (30) respectively, the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the rotating shaft (12) focusing light on the one end of the fiber Bragg grating sensor (20) and transforming light progressing to the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the fixed element (30) into parallel, the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the fixed element (30) focusing light on the one end of the optical fiber (32) and transforming light progressing to the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the rotating shaft (12) into parallel;wherein the light reflected from the fiber Bragg grating sensor (20) is transmitted from the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the rotating shaft (12) to the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the fixed element (30) across a gap between the rotating shaft (12) and the fixed element (30) and is then transmitted to the optical fiber (32),wherein the fiber Bragg grating sensor (20) extends toward the one end of the rotating shaft (12) while being bonded on an outer surface of the rotating shaft (12), andwherein an accommodating member (16) is coupled to the one end of the rotating shaft (12), the accommodating member (16) guiding the fiber Bragg grating sensor (20) thereinto so that the one end of the fiber Bragg grating sensor (20) is positioned at the center of the rotating shaft (12), wherein the accommodating member (16) is equipped with the collimating and focusing means (26) of the one end of the rotating shaft (12).","HWANG, Yoha, LEE, Sang Bae, LEE, Jong Min","G01B-011/16","EP01759168A1","2007.03.07","2004.05.14 (KR 2004034252)",null,"1. A monitoring device for a rotating body (10) supported by a rotating shaft (12) mounted rotatably with respect to a fixed element (30), one end of the rotating shaft (12) and one end of the fixed element (30) being opposed to each other, comprising: a fiber Bragg grating sensor (20) mounted to the rotating body (10) and extending toward the one end of the rotating shaft (12) so that one end of the fiber Bragg grating sensor (20) is positioned at a center of the one end of the rotating shaft (12), the fiber Bragg grating sensor (20) reflecting light with frequencies corresponding to deformation of the rotating body (10);an optical fiber (32), one end of the optical fiber (32) being positioned at the one end of the fixed element (30), the optical fiber (32) extending outward of the fixed element (30); anda data processing unit (40) comprising a broadband light source for emitting light to the optical fiber (32), the optical fiber (32) being connected to the broadband light source, the data processing unit (40) receiving the light reflected from the fiber Bragg grating sensor (20) via the optical fiber (32) and calculating the deformation of the rotating body (10) based upon the reflected light;characterized bycollimating and focusing means (26) provided at the one end of the rotating shaft (12) and the one end of the fixed element (30) respectively, the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the rotating shaft (12) focusing light on the one end of the fiber Bragg grating sensor (20) and transforming light progressing to the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the fixed element (30) into parallel, the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the fixed element (30) focusing light on the one end of the optical fiber (32) and transforming light progressing to the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the rotating shaft (12) into parallel;wherein the light reflected from the fiber Bragg grating sensor (20) is transmitted from the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the rotating shaft (12) to the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the fixed element (30) across a gap between the rotating shaft (12) and the fixed element (30) and is then transmitted to the optical fiber (32),wherein the fiber Bragg grating sensor (20) extends toward the one end of the rotating shaft (12) while being bonded on an outer surface of the rotating shaft (12), andwherein an accommodating member (16) is coupled to the one end of the rotating shaft (12), the accommodating member (16) guiding the fiber Bragg grating sensor (20) thereinto so that the one end of the fiber Bragg grating sensor (20) is positioned at the center of the rotating shaft (12), wherein the accommodating member (16) is equipped with the collimating and focusing means (26) of the one end of the rotating shaft (12).","AT433093T, CN100561119C, CN1973179A, DE602004021441D1, EP1759168A1, EP1759168A4, EP1759168B1, ES2326272T3, JP2007537440A, KR100845181B1, KR20050109191A, US2005253051A1, WO2005111537A1","P",4]
["F03054","광학","ES","MONITORING DEVICE FOR ROTATING BODY",null,"원문이미지","EP2004808462","2004.12.17","EP01759168B1","2009.06.03","A fiber Bragg grating (FBG) sensor is mounted to a rotating body, which is supported by a rotating shaft mounted rotatably with respect to a fixed element. The FBG sensor extends along the rotating shaft, one end of which is disposed at the center of the end of the rotating shaft. An optical fiber is mounted to the fixed element, one end of which is disposed opposite to the end of the FBG sensor, apart from the FBG sensor. Light emitted from a broadband light source passes through the optical fiber and is transmitted to the FBG sensor across a gap between the optical fiber and the FBG sensor. The FBG sensor reflects light with frequencies corresponding to deformation of the rotating body. A data processing unit receives the reflected light and calculates the deformation of the rotating body based thereupon.","1. A monitoring device for a rotating body (10) supported by a rotating shaft (12) mounted rotatably with respect to a fixed element (30), one end of the rotating shaft (12) and one end of the fixed element (30) being opposed to each other, comprising: a fiber Bragg grating sensor (20) mounted to the rotating body (10) and extending toward the one end of the rotating shaft (12) so that one end of the fiber Bragg grating sensor (20) is positioned at a center of the one end of the rotating shaft (12), the fiber Bragg grating sensor (20) reflecting light with frequencies corresponding to deformation of the rotating body (10);an optical fiber (32), one end of the optical fiber (32) being positioned at the one end of the fixed element (30), the optical fiber (32) extending outward of the fixed element (30); anda data processing unit (40) comprising a broadband light source for emitting light to the optical fiber (32), the optical fiber (32) being connected to the broadband light source, the data processing unit (40) receiving the light reflected from the fiber Bragg grating sensor (20) via the optical fiber (32) and calculating the deformation of the rotating body (10) based upon the reflected light;characterized bycollimating and focusing means (26) provided at the one end of the rotating shaft (12) and the one end of the fixed element (30) respectively, the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the rotating shaft (12) focusing light on the one end of the fiber Bragg grating sensor (20) and transforming light progressing to the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the fixed element (30) into parallel, the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the fixed element (30) focusing light on the one end of the optical fiber (32) and transforming light progressing to the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the rotating shaft (12) into parallel;wherein the light reflected from the fiber Bragg grating sensor (20) is transmitted from the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the rotating shaft (12) to the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the fixed element (30) across a gap between the rotating shaft (12) and the fixed element (30) and is then transmitted to the optical fiber (32),wherein the fiber Bragg grating sensor (20) extends toward the one end of the rotating shaft (12) while being bonded on an outer surface of the rotating shaft (12), andwherein an accommodating member (16) is coupled to the one end of the rotating shaft (12), the accommodating member (16) guiding the fiber Bragg grating sensor (20) thereinto so that the one end of the fiber Bragg grating sensor (20) is positioned at the center of the rotating shaft (12), wherein the accommodating member (16) is equipped with the collimating and focusing means (26) of the one end of the rotating shaft (12).","HWANG, Yoha, LEE, Sang Bae, LEE, Jong Min","G01B-011/16","EP01759168A1","2007.03.07","2004.05.14 (KR 2004034252)",null,"1. A monitoring device for a rotating body (10) supported by a rotating shaft (12) mounted rotatably with respect to a fixed element (30), one end of the rotating shaft (12) and one end of the fixed element (30) being opposed to each other, comprising: a fiber Bragg grating sensor (20) mounted to the rotating body (10) and extending toward the one end of the rotating shaft (12) so that one end of the fiber Bragg grating sensor (20) is positioned at a center of the one end of the rotating shaft (12), the fiber Bragg grating sensor (20) reflecting light with frequencies corresponding to deformation of the rotating body (10);an optical fiber (32), one end of the optical fiber (32) being positioned at the one end of the fixed element (30), the optical fiber (32) extending outward of the fixed element (30); anda data processing unit (40) comprising a broadband light source for emitting light to the optical fiber (32), the optical fiber (32) being connected to the broadband light source, the data processing unit (40) receiving the light reflected from the fiber Bragg grating sensor (20) via the optical fiber (32) and calculating the deformation of the rotating body (10) based upon the reflected light;characterized bycollimating and focusing means (26) provided at the one end of the rotating shaft (12) and the one end of the fixed element (30) respectively, the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the rotating shaft (12) focusing light on the one end of the fiber Bragg grating sensor (20) and transforming light progressing to the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the fixed element (30) into parallel, the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the fixed element (30) focusing light on the one end of the optical fiber (32) and transforming light progressing to the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the rotating shaft (12) into parallel;wherein the light reflected from the fiber Bragg grating sensor (20) is transmitted from the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the rotating shaft (12) to the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the fixed element (30) across a gap between the rotating shaft (12) and the fixed element (30) and is then transmitted to the optical fiber (32),wherein the fiber Bragg grating sensor (20) extends toward the one end of the rotating shaft (12) while being bonded on an outer surface of the rotating shaft (12), andwherein an accommodating member (16) is coupled to the one end of the rotating shaft (12), the accommodating member (16) guiding the fiber Bragg grating sensor (20) thereinto so that the one end of the fiber Bragg grating sensor (20) is positioned at the center of the rotating shaft (12), wherein the accommodating member (16) is equipped with the collimating and focusing means (26) of the one end of the rotating shaft (12).","AT433093T, CN100561119C, CN1973179A, DE602004021441D1, EP1759168A1, EP1759168A4, EP1759168B1, ES2326272T3, JP2007537440A, KR100845181B1, KR20050109191A, US2005253051A1, WO2005111537A1","P",4]
["F03053","광학","DE","MONITORING DEVICE FOR ROTATING BODY",null,"원문이미지","EP2004808462","2004.12.17","EP01759168B1","2009.06.03","A fiber Bragg grating (FBG) sensor is mounted to a rotating body, which is supported by a rotating shaft mounted rotatably with respect to a fixed element. The FBG sensor extends along the rotating shaft, one end of which is disposed at the center of the end of the rotating shaft. An optical fiber is mounted to the fixed element, one end of which is disposed opposite to the end of the FBG sensor, apart from the FBG sensor. Light emitted from a broadband light source passes through the optical fiber and is transmitted to the FBG sensor across a gap between the optical fiber and the FBG sensor. The FBG sensor reflects light with frequencies corresponding to deformation of the rotating body. A data processing unit receives the reflected light and calculates the deformation of the rotating body based thereupon.","1. A monitoring device for a rotating body (10) supported by a rotating shaft (12) mounted rotatably with respect to a fixed element (30), one end of the rotating shaft (12) and one end of the fixed element (30) being opposed to each other, comprising: a fiber Bragg grating sensor (20) mounted to the rotating body (10) and extending toward the one end of the rotating shaft (12) so that one end of the fiber Bragg grating sensor (20) is positioned at a center of the one end of the rotating shaft (12), the fiber Bragg grating sensor (20) reflecting light with frequencies corresponding to deformation of the rotating body (10);an optical fiber (32), one end of the optical fiber (32) being positioned at the one end of the fixed element (30), the optical fiber (32) extending outward of the fixed element (30); anda data processing unit (40) comprising a broadband light source for emitting light to the optical fiber (32), the optical fiber (32) being connected to the broadband light source, the data processing unit (40) receiving the light reflected from the fiber Bragg grating sensor (20) via the optical fiber (32) and calculating the deformation of the rotating body (10) based upon the reflected light;characterized bycollimating and focusing means (26) provided at the one end of the rotating shaft (12) and the one end of the fixed element (30) respectively, the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the rotating shaft (12) focusing light on the one end of the fiber Bragg grating sensor (20) and transforming light progressing to the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the fixed element (30) into parallel, the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the fixed element (30) focusing light on the one end of the optical fiber (32) and transforming light progressing to the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the rotating shaft (12) into parallel;wherein the light reflected from the fiber Bragg grating sensor (20) is transmitted from the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the rotating shaft (12) to the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the fixed element (30) across a gap between the rotating shaft (12) and the fixed element (30) and is then transmitted to the optical fiber (32),wherein the fiber Bragg grating sensor (20) extends toward the one end of the rotating shaft (12) while being bonded on an outer surface of the rotating shaft (12), andwherein an accommodating member (16) is coupled to the one end of the rotating shaft (12), the accommodating member (16) guiding the fiber Bragg grating sensor (20) thereinto so that the one end of the fiber Bragg grating sensor (20) is positioned at the center of the rotating shaft (12), wherein the accommodating member (16) is equipped with the collimating and focusing means (26) of the one end of the rotating shaft (12).","HWANG, Yoha, LEE, Sang Bae, LEE, Jong Min","G01B-011/16","EP01759168A1","2007.03.07","2004.05.14 (KR 2004034252)",null,"1. A monitoring device for a rotating body (10) supported by a rotating shaft (12) mounted rotatably with respect to a fixed element (30), one end of the rotating shaft (12) and one end of the fixed element (30) being opposed to each other, comprising: a fiber Bragg grating sensor (20) mounted to the rotating body (10) and extending toward the one end of the rotating shaft (12) so that one end of the fiber Bragg grating sensor (20) is positioned at a center of the one end of the rotating shaft (12), the fiber Bragg grating sensor (20) reflecting light with frequencies corresponding to deformation of the rotating body (10);an optical fiber (32), one end of the optical fiber (32) being positioned at the one end of the fixed element (30), the optical fiber (32) extending outward of the fixed element (30); anda data processing unit (40) comprising a broadband light source for emitting light to the optical fiber (32), the optical fiber (32) being connected to the broadband light source, the data processing unit (40) receiving the light reflected from the fiber Bragg grating sensor (20) via the optical fiber (32) and calculating the deformation of the rotating body (10) based upon the reflected light;characterized bycollimating and focusing means (26) provided at the one end of the rotating shaft (12) and the one end of the fixed element (30) respectively, the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the rotating shaft (12) focusing light on the one end of the fiber Bragg grating sensor (20) and transforming light progressing to the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the fixed element (30) into parallel, the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the fixed element (30) focusing light on the one end of the optical fiber (32) and transforming light progressing to the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the rotating shaft (12) into parallel;wherein the light reflected from the fiber Bragg grating sensor (20) is transmitted from the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the rotating shaft (12) to the collimating and focusing means (26) provided at the one end of the fixed element (30) across a gap between the rotating shaft (12) and the fixed element (30) and is then transmitted to the optical fiber (32),wherein the fiber Bragg grating sensor (20) extends toward the one end of the rotating shaft (12) while being bonded on an outer surface of the rotating shaft (12), andwherein an accommodating member (16) is coupled to the one end of the rotating shaft (12), the accommodating member (16) guiding the fiber Bragg grating sensor (20) thereinto so that the one end of the fiber Bragg grating sensor (20) is positioned at the center of the rotating shaft (12), wherein the accommodating member (16) is equipped with the collimating and focusing means (26) of the one end of the rotating shaft (12).","AT433093T, CN100561119C, CN1973179A, DE602004021441D1, EP1759168A1, EP1759168A4, EP1759168B1, ES2326272T3, JP2007537440A, KR100845181B1, KR20050109191A, US2005253051A1, WO2005111537A1","P",4]
["F02460","광학","CN","Monitoring device for rotating body",null,null,"CN200480043394","2004.12.17",null,null,"A fiber Bragg grating (FBG) sensor is mounted to a rotating body, which is supported by a rotating shaft mounted rotatably with respect to a fixed element. The FBG sensor extends along the rotating shaft, one end of which is disposed at the center of the end of the rotating shaft. An optical fiber is mounted to the fixed element, one end of which is disposed opposite to the end of the FBG sensor, apart from the FBG sensor. Light emitted from a broadband light source passes through the optical fiber and is transmitted to the FBG sensor across a gap between the optical fiber and the FBG sensor. The FBG sensor reflects light with frequencies corresponding to deformation of the rotating body. A data processing unit receives the reflected light and calculates the deformation of the rotating body based thereupon.",null,"Hwang Yo-ha, Lee Sang-bae, Lee Jong-min","G01B-011/16","CN1973179","2007.05.30","2004.05.14 (KR 10-2004-0034252)",null,null,"AT433093T, CN100561119C, CN1973179A, DE602004021441D1, EP1759168A1, EP1759168A4, EP1759168B1, ES2326272T3, JP2007537440A, KR100845181B1, KR20050109191A, US2005253051A1, WO2005111537A1","P",4]
["K03241","재료","KR","다공성의 3차원 집전체로 구성된 전극을 포함하는 캐패시터{CAPACITOR WITH ELECTRODES COMPOSED WITH POROUS 3-DIMENSIONAL CURRENT COLLECTOR}",null,"원문이미지","KR20040018171A","2004.03.17","KR0567393B1","2006.03.28","본 발명은 다공성 3차원 집전체의 기공 내에 전극 활물질이 균일하게 분포되어 있는 전극과 이를 이용한 캐패시터, 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 전극은 전기 전도도가 우수하고, 전극 표면의 전위 분포도가 일정하게 유지되며, 전극 활물질의 이탈이 방지되므로 전극 활물질의 이용률, 사이클 수명 및 고율 충방전 특성이 우수하다.","1 다공성 3차원 집전체와, 상기 집전체의 기공 내에 충진되어 있는 70 - 99 중량%의 전극활물질, 0.5 - 10 중량%의 결합제 및 0.5 - 20 중량%의 도전재의 혼합물을 전극의 총 중량에 대하여 70 - 95 중량%로 포함하여 형성된 두 전극과; 상기 전극을 사이에 두고 형성된 분리막 또는 전해질을 포함하는 커패시터로서, 상기 전극활물질이 전기이중층캐패시터의 경우에는 활성 탄소, 탄소 에어로젤, 탄소 나노 튜브, 탄소 나노 섬유 중에서 선택되는 다공성 탄소 소재이며, 슈도우캐패시터의 경우에는 루테늄 산화물, 이리듐 산화물, 탄탈륨 산화물, 바나듐 산화물 중에서 선택되는 금속 산화물, 전도성고분자캐패시터인 경우에는 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리아센 중에서 선택되는 전도성고분자인 것을 특징으로 하는 캐패시터.","조원일, 조병원, 이중기, 양천모, 김형선","H01G-009/04","KR20050092976A","2005.09.23",null,"2024.03.17","1 다공성 3차원 집전체와, 상기 집전체의 기공 내에 충진되어 있는 70 - 99 중량%의 전극활물질, 0.5 - 10 중량%의 결합제 및 0.5 - 20 중량%의 도전재의 혼합물을 전극의 총 중량에 대하여 70 - 95 중량%로 포함하여 형성된 두 전극과; 상기 전극을 사이에 두고 형성된 분리막 또는 전해질을 포함하는 커패시터로서, 상기 전극활물질이 전기이중층캐패시터의 경우에는 활성 탄소, 탄소 에어로젤, 탄소 나노 튜브, 탄소 나노 섬유 중에서 선택되는 다공성 탄소 소재이며, 슈도우캐패시터의 경우에는 루테늄 산화물, 이리듐 산화물, 탄탈륨 산화물, 바나듐 산화물 중에서 선택되는 금속 산화물, 전도성고분자캐패시터인 경우에는 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리아센 중에서 선택되는 전도성고분자인 것을 특징으로 하는 캐패시터. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4 제 1 항에 있어서, 상기 다공성 3차원 집전체는 발포체, 파이버구조체, 다공질구조체, 에칭된 구조체 및 앞뒤로 요철화된 구조체 중에서 선택되는 어느 하나인 캐패시터. 5 제 1 항에 있어서, 상기 다공성 3차원 집전체의 재질이 니켈(Ni), 구리(Cu), 스텐레스 스틸(SUS), 티타늄(Ti), 바나듐(V), 크롬(Cr), 망간(Mn), 철(Fe), 코발트(Co), 아연(Zn), 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W), 은(Ag), 금(Au), 루테늄(Ru), 플레티늄(Pt), 이리듐(Ir), 알루미늄(Al), 주석(Sn), 비스무스(Bi), 안티모니(Sb)로 구성된 군에서 선택되는 어느 하나인 캐패시터. 6<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 7 제 1 항에 있어서, 상기 도전재는 아세틸렌 블랙(acetylene black), 캐챈 블랙(ketjen black), 흑연 (sfg 6) 및 슈퍼-피 (super-P)로 구성된 군에서 선택되는 캐패시터. 8 제 1 항에 있어서, 상기 결합제는 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리비닐리덴플루오라이드, 카르복시메틸셀룰로오즈, 하이드로프로필메틸셀룰로오즈 및 폴리비닐알콜로 구성된 군에서 선택되는 캐패시터. 9<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 10<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 11<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 12 제 1 항에 있어서, 상기 캐패시터는 폴리프로필렌 또는 폴리에틸렌 분리막을 사용하는 캐패시터, 수용액 또는 유기용액이 함침된 고분자전해질을 사용하는 고분자전해질형 캐패시터, 또는 고체 전해질을 사용하는 전고체형 캐패시터 중의 어느 하나인 것을 특징으로 하는 캐패시터.","KR100567393B1, KR20050092976A",null,1]
["K03233","화학","KR","Ｔ-형 칼슘 채널 차단제로서 유용한 ３,４-디히드로퀴나졸린유도체 및 그의 제조 방법{3,4-Dihydroquinazoline Derivatives as T-Type Calcium Channel Blockers and Process for the Preparation Thereof}",null,"원문이미지","KR20040012144A","2004.02.24","KR0610731B1","2006.08.02","본 발명은 신경세포내 T-형 칼슘 채널(T-Type Calcium channel) 차단제로 유용한 하기 화학식 1의 3,4-디히드로퀴나졸린 (3,4-dihydroquinazoline) 유도체, 그의 제조 방법 및 상기 유도체를 포함하는 조성물을 제공한다. 상기 유도체를 포함하는 제약 조성물은 세포막의 칼슘 채널을 억제하여 협심증, 고혈압, 심근질환, 통증, 간질과 같은 다수의 질환을 치료 및 예방하는데 유용하다.상기 식에서, 치환기는 명세서 중에서 정의한 바와 같다.","1 하기 화학식 1의 3,4-디히드로퀴나졸린 유도체 또는 그의 염. &amp;lt;화학식 1&amp;gt; 상기 식에서, n은 1, 2, 3 또는 4이고, R1은 수소이고, R2는 1-피페리디닐 또는 -NR6R7이고, 여기서 R6와 R7은 각각 독립적으로 C1-C6 알킬이고, R3는 페닐 또는 C1-C6 알킬이고, R4는 일반식 이고, 여기서 X는 O 또는 NH이고; n은 1 내지 4의 정수이며; R5는 C1-C4 알킬 또는 할로겐이다.","이용섭, 이재열, 임혜원","C07D-401/04","KR20050084739A","2005.08.29",null,"2024.02.24","1 하기 화학식 1의 3,4-디히드로퀴나졸린 유도체 또는 그의 염. &amp;lt;화학식 1&amp;gt; 상기 식에서, n은 1, 2, 3 또는 4이고, R1은 수소이고, R2는 1-피페리디닐 또는 -NR6R7이고, 여기서 R6와 R7은 각각 독립적으로 C1-C6 알킬이고, R3는 페닐 또는 C1-C6 알킬이고, R4는 일반식 이고, 여기서 X는 O 또는 NH이고; n은 1 내지 4의 정수이며; R5는 C1-C4 알킬 또는 할로겐이다. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 6 제1항에 있어서, 4-{N-[4-(4-메틸벤젠설포닐아미도)벤질]아세트아미도}-3-페닐-2-(피페리딘-1-일)-3,4-디히드로퀴나졸린인 3,4-디히드로퀴나졸린 유도체 또는 그의 염. 7 제1항에 있어서, 4-{N-[4-(4-플루오로벤젠설포닐아미도)벤질]아세트아미도}-3-페닐-2-(피페리딘-1-일)-3,4-디히드로퀴나졸린인 3,4-디히드로퀴나졸린 유도체 또는 그의 염.","CN100358874C, CN1660820A, EP1568695A1, JP2005239708A, JP4174470B2, KR100610731B1, KR20050084739A, US2005197351A1, US7271260B2","Q",4]
["F02122","화학","CN","3,4-dihydroquinazoline derivatives as t-type calcium channel blockers and method of preparing the same",null,null,"CN200410095447","2004.12.27",null,null,"The present invention relates to 3,4-dihydroquinazoline derivatives as T-type calcium channel blockers and a method of preparing the same. The present invention further relates to a composition comprising the same. The composition comprising the 3,4-dihydroquinazoline derivatives of the present invention can be effectively used for preventing and treating angina pectoris, high blood pressure, myocardial disease, pain and epilepsy by blocking the T-type calcium channel. <CHEM&gt.",null,"Lee Yong Sup, Lee Jae Y., Rhim Hyewhon","C07D-239/74,C07D-239/84,A61K-031/517,A61P-009/10,A61P-009/12,A61P-025/06,A61P-025/08","CN1660820","2005.08.31","2004.02.24 (KR 12144/04)",null,null,"CN100358874C, CN1660820A, EP1568695A1, JP2005239708A, JP4174470B2, KR100610731B1, KR20050084739A, US2005197351A1, US7271260B2","Q",4]
["F02072","화학","JP","T-형 칼슘 채널 차단제로서 유용하는 3,4-지히도로키나조린 유도체 및 그 제조 방법",null,"원문이미지","JP2004380218A","2004.12.28","JP4174470B9","2008.08.22","(57)【요약】 【과제】신경세포 안 T-형 칼슘 채널(T-Type Calcium channel)차단제로서 유볼일인 3,4-지히도로키나조린(3,4-dihydroquinazoline)유도체, 그 제조 방법 및 상기 유도체를 포함하는 조성물의 제공.【해결 수단】하기식의 3,4-지히도로키나조린 유도체 또는 그 소금. 상기 유도체를 포함하는 제약 조성물은 세포막의 칼슘 채널을 억제하고 협심증, 고혈압, 심근 질환, 아프고, 전환과 같은 다수의 질환을 치료 및 예방한데도 유용한다. 식중, R1은 H, 히드록시, 할로겐, 알킬 등, R2은 알킬, 시클로 알킬 등, R3은 알킬, 시클로 알킬 등, R4은 X-(CH2)l-Y-(NH)o-S(O)m-Z 있고,(X은 산소우는 NH,Y은 시클로 알킬, 아릴 등, Z은 Y이라고 동의해,)등을 표현한다.【선택도】낳고","【청구항 1】 하기식 1의 3,4-지히도로키나조린 유도체 또는 그 소금. 식중, n은 1,2,3 또는 4 있고, R1은 각각 독립적에 수소, 히드록시, 할로겐, 니트로, C1-C8 알킬, C3-C6 시클로 알킬, C2-C6 알케닐, C2-C6 알키닐, 치환 또는 비치환 됐다, 아릴 또는 헤테로 알릴, C1-C6 알콕시, C3-C6 시클로 알콕시,(아릴 또는 헤테로아릴)옥시, C1-C6 치오알코키시, C3-C6 시쿠로치오알코키시,(아릴 또는 헤테로아릴)치오오키시 및 망의 것으로 구성되어 지는 군중으로부터 선택되고; R2은 C1-C6 알킬, C3-C6 시클로 알킬, C1-C6 알콕시 알킬, C3-C6 시클로 알콕시 알킬, C1-C6 알케닐;치환 또는 비치환 됐다, 아릴 및 헤테로아릴;4-몰호리닐;4-등급에 임의 치환기를 가지는 피페라지닐;1-피로리지닐;1-피페리지닐;또는-NR1aR2a 있고, 여기에서 R1a과 R2a은 독립적에 C1-C6 알킬, C3-C6 시클로 알킬, 치환 또는 비치환 됐다, 아릴 및 헤테로 아릴으로 구성되어 지는 군중으로부터 선택되고; R3은 C1-C6 알킬, C3-C6 시클로 알킬, C1-C6 알콕시 알킬, C3-C6 시클로 알콕시 알킬, 치환 또는 비치환 됐다, 아릴 및 헤테로 아릴으로 구성되어 지는 군중으로부터 선택되고; R4은 일반식 X-(CH2)l-Y-(NH)o-S(O)m-Z 있고, 여기에서 X은 산소 또는 NH 있고;l은 1∼4의 정수 이고;Y은 치환 또는 비치환 됐다, C3-C6 시클로 알킬, 아릴 또는 헤테로 아릴 이고;o은 0 또는 1의 정수 이고;m은 0∼2의 정수 이고;Z은 치환 또는 비치환 됐다, C3-C6 시클로 알킬, 아릴 및 헤테로 아릴으로 구성되어 지는 군중으로부터 선택되고, 여기에서 o이 0 있는 경우,-S(O)m-Z은 수소를 나타낸다.","李  龍  ▲そぷ▼, 李  在  烈, 林  惠  媛","C07D-239/74,A61P-009/00,A61P-009/04,A61P-009/12,A61P-025/04,A61P-025/08,A61P-043/00,C07D-239/84,A61K-031/517,A61K-031/5377","JP2005239708A","2005.09.08","2004-02-24 (KR 2004-012144)","2024.12.28","【특허청구의 범위】 【청구항 1】 하기식 1의 3,4-지히도로키나조린 유도체 또는 그 소금. 식중, n은 1,2,3 또는 4 있고, R1은 각각 독립적에 수소, 히드록시, 할로겐, 니트로, C1-C8 알킬, C3-C6 시클로 알킬, C2-C6 알케닐, C2-C6 알키닐, 치환 또는 비치환 됐다, 아릴 또는 헤테로 알릴, C1-C6 알콕시, C3-C6 시클로 알콕시,(아릴 또는 헤테로아릴)옥시, C1-C6 치오알코키시, C3-C6 시쿠로치오알코키시,(아릴 또는 헤테로아릴)치오오키시 및 망의 것으로 구성되어 지는 군중으로부터 선택되고; R2은 C1-C6 알킬, C3-C6 시클로 알킬, C1-C6 알콕시 알킬, C3-C6 시클로 알콕시 알킬, C1-C6 알케닐;치환 또는 비치환 됐다, 아릴 및 헤테로아릴;4-몰호리닐;4-등급에 임의 치환기를 가지는 피페라지닐;1-피로리지닐;1-피페리지닐;또는-NR1aR2a 있고, 여기에서 R1a과 R2a은 독립적에 C1-C6 알킬, C3-C6 시클로 알킬, 치환 또는 비치환 됐다, 아릴 및 헤테로 아릴으로 구성되어 지는 군중으로부터 선택되고; R3은 C1-C6 알킬, C3-C6 시클로 알킬, C1-C6 알콕시 알킬, C3-C6 시클로 알콕시 알킬, 치환 또는 비치환 됐다, 아릴 및 헤테로 아릴으로 구성되어 지는 군중으로부터 선택되고; R4은 일반식 X-(CH2)l-Y-(NH)o-S(O)m-Z 있고, 여기에서 X은 산소 또는 NH 있고;l은 1∼4의 정수 이고;Y은 치환 또는 비치환 됐다, C3-C6 시클로 알킬, 아릴 또는 헤테로 아릴 이고;o은 0 또는 1의 정수 이고;m은 0∼2의 정수 이고;Z은 치환 또는 비치환 됐다, C3-C6 시클로 알킬, 아릴 및 헤테로 아릴으로 구성되어 지는 군중으로부터 선택되고, 여기에서 o이 0 있는 경우,-S(O)m-Z은 수소를 나타낸다. 【청구항 2】 4-(N-벤질아세토아미도)-3-페닐-2-(피페리딘-1-일)-3,4-지히도로키나조린 있는 청구항 1에 기재의 3,4-지히도로키나조린 유도체 또는 그 소금. 【청구항 3】 4-(N-벤질아세토아미도)-3-페닐-2-(몰호린-1-일)-3,4-지히도로키나조린 있는 청구항 1에 기재의 3,4-지히도로키나조린 유도체 또는 그 소금. 【청구항 4】 4-(N-벤질아세토아미도)-3-페닐-2-(4-메틸 피페라지닐)-3,4-지히도로키나조린 있는 청구항 1에 기재의 3,4-지히도로키나조린 유도체 또는 그 소금. 【청구항 5】 4-[N-(4-니토로벤질)아세트아미드 ]-3-페닐-2-(피페리딘-1-일)-3,4-지히도로키나조린 있는 청구항 1에 기재의 3,4-지히도로키나조린 유도체 또는 그 소금. 【청구항 6】 4-{N-[4-(4-메칠벤젠슬호닐아미도)벤질 ] 아세트아미드}-3-페닐-2-(피페리딘-1-일)-3,4-지히도로키나조린 있는 청구항 1에 기재의 3,4-지히도로키나조린 유도체 또는 그 소금. 【청구항 7】 4-{N-[4-(4-훌오로벤젠슬호닐아미도)벤질 ] 아세트아미드}-3-페닐-2-(피페리딘-1-일)-3,4-지히도로키나조린 있는 청구항 1에 기재의 3,4-지히도로키나조린 유도체 또는 그 소금.","CN100358874C, CN1660820A, EP1568695A1, JP2005239708A, JP4174470B2, KR100610731B1, KR20050084739A, US2005197351A1, US7271260B2","Q",4]
["F02042","화학","US","3,4-dihydroquinazoline derivatives as T-type calcium channel blockers and method of preparing the same",null,"원문이미지","US11/018786","2004.12.20","US7271260","2007.09.18","The present invention relates to 3,4-dihydroquinazoline derivatives as T-type calcium channel blockers and a method of preparing the same. The present invention further relates to a composition comprising the same. The composition comprising the 3,4-dihydroquinazoline derivatives of the present invention can be effectively used for preventing and treating angina pectoris, high blood pressure, myocardial disease, pain and epilepsy by blocking the T-type calcium channel.","1. A 3,4-dihydroquinazoline derivative of Formula 1 or a salt thereof: wherein, n is an integer ranging from 1 to 4; R1 is hydrogen; R2 is C1-C6 alkyl; phenyl; 4-morpholinyl; piperazinyl having a C1-C4 alkyl substituent at the 4th position; 1-pyrrolidinyl; 1-piperidinyl; or -NR6R7, wherein R6 and R7 are each independently C1-C6 alkyl; R3 is C1-C6 alkyl or phenyl; wherein X is O or NH; m is an integer ranging from 1 to 4; and R5 is methyl or F.","Lee; Yong Sup, Lee; Jae Yeol, Rhim; Hyewhon","C07D-239/84,C07D-239/74,A61K-031/517,A61K-031/5377","US20050197351A1","2005.09.08","2004.02.24 (KR 10-2004-0012144)","2025.03.06","1. A 3,4-dihydroquinazoline derivative of Formula 1 or a salt thereof: wherein, n is an integer ranging from 1 to 4; R1 is hydrogen; R2 is C1-C6 alkyl; phenyl; 4-morpholinyl; piperazinyl having a C1-C4 alkyl substituent at the 4th position; 1-pyrrolidinyl; 1-piperidinyl; or -NR6R7, wherein R6 and R7 are each independently C1-C6 alkyl; R3 is C1-C6 alkyl or phenyl; wherein X is O or NH; m is an integer ranging from 1 to 4; and R5 is methyl or F. 2. The 3,4-dihydroquinazoline derivative of claim 1 or the salt thereof, which is 4-{N-[4-(4-methylbenzenesulfonylamido)benzyl]acetamido}-3-phenyl-2-(piperidine-1-yl)-3,4-dihydroquinazoline. 3. The 3,4-dihydroquinazoline derivative of claim 1 or the salt thereof, which is 4-{N-[4-(4-fluorobenzenesulfonylamido)benzyl]acetamido}-3-phenyl-2-(piperidine-1-yl)-3,4-dihydroquinazoline.","CN100358874C, CN1660820A, EP1568695A1, JP2005239708A, JP4174470B2, KR100610731B1, KR20050084739A, US2005197351A1, US7271260B2","Q",4]
["K03243","연료전지","KR","질화티타늄을 코팅한 금속을 이용한 연료 전지용 분리판,그 제조 방법 및 상기 분리판을 포함하는 고분자 전해질연료 전지{Separator for fuel cell using the metal coated with TiN, method to prepare thereit, and polymer electrolyte membrane fuel cell comprising the same}",null,"원문이미지","KR20040019751A","2004.03.23","KR0599667B1","2006.07.05","본 발명에서는, 연료 전지용 분리판에 있어서, 그 분리판의 재질이, 표면에 TiN이 코팅된 금속인 것을 특징으로 하는 TiN을 코팅한 금속을 이용한 연료 전지용 분리판을 개시하고, 고분자 전해질 연료 전지에 있어서, 상기 분리판을 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 전해질 연료 전지를 개시하며, 연료 전지용 분리판의 제조 방법에 있어서, 금속판 양면에 각각 가스 유로와 냉각수 유로를 형성하거나, 또는 금속판 양면에 각각 가스 유로를 형성하는 단계(S1); 상기 유로가 형성된 금속판 두 장을 접합하는 단계(S2); 및 상기 접합된 금속판의 표면에 TiN을 코팅하는 단계(S3);를 포함하는 것을 특징으로 하는 TiN을 코팅한 금속을 이용한 연료 전지용 분리판의 제조 방법을 개시한다. 본 발명에 의한 TiN을 코팅한 금속을 이용한 연료 전지용 분리판, 그 제조 방법 및 이를 포함하는 고분자 전해질 연료 전지는, 기존의 그라파이트 분리판에 비해, 박막화가 가능하고, 출력밀도를 높일 수 있으며, 동시에 적정 수준의 물리적 강도를 유지하여 외부 충격에 의한 파괴 염려가 없고, 유로 형성이 용이하며, 가격이 저렴하다는 효과를 달성한다. 또한, 본 발명에 의한 TiN을 코팅한 금속을 이용한 연료 전지용 분리판, 그 제조 방법 및 이를 포함하는 고분자 전해질 연료 전지는, 기존의 금속 분리판에 비해, 전해질에 의한 부식의 염려가 없어, 내구성이 우수하고, 수명이 길다는 효과를 달성한다. 또한, 본 발명에 TiN을 코팅한 금속을 이용한 연료 전지용 분리판, 그 제조 방법 및 이를 포함하는 고분자 전해질 연료 전지는, 대량생산 체제를 갖추는 경우, 유로를 스테인리스 강판에 형성하는 대신 금속 박판을 스템핑(stamping) 하여 제작한 후 브레이징과 TiN 코팅 공정을 거침에 따라, 스택의 무게 감소에도 기여하게 되는 효과를 달성한다.","2 연료 전지용 분리판에 있어서, 상기 분리판은, 냉각수 유로 및 가스 유로가 각각 양면에 형성되거나, 또는 가스 유로가 양면에 형성된 금속판의 접합체로 구성되고, 상기 접합된 금속판의 표면이 TiN으로 코팅된 것을 특징으로 하는 TiN을 코팅한 금속을 이용한 연료 전지용 분리판.","오인환, 조은애, 강성군, 전의식, 하흥용, 홍성안, 임태훈, 남석우, 윤성필, 한종희","H01M-008/02","KR20050094573A","2005.09.28",null,"2024.03.23","1<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 2 연료 전지용 분리판에 있어서, 상기 분리판은, 냉각수 유로 및 가스 유로가 각각 양면에 형성되거나, 또는 가스 유로가 양면에 형성된 금속판의 접합체로 구성되고, 상기 접합된 금속판의 표면이 TiN으로 코팅된 것을 특징으로 하는 TiN을 코팅한 금속을 이용한 연료 전지용 분리판. 3 제 2 항에 있어서, 상기 금속은, 스테인리스 강인 것을 특징으로 하는 TiN을 코팅한 금속을 이용한 연료 전지용 분리판. 4 고분자 전해질 연료 전지에 있어서, 제 2 항 또는 제 3 항에 의한 분리판을 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 전해질 연료 전지. 5 연료 전지용 분리판의 제조 방법에 있어서, 금속판 양면에 각각 가스 유로와 냉각수 유로를 형성하거나, 또는 금속판 양면에 각각 가스 유로를 형성하는 단계(S1); 상기 유로가 형성된 금속판 두 장을 접합하는 단계(S2); 및 상기 접합된 금속판의 표면에 TiN을 코팅하는 단계(S3);를 포함하는 것을 특징으로 하는 TiN을 코팅한 금속을 이용한 연료 전지용 분리판의 제조 방법. 6 제 5 항에 있어서, 상기 S1 단계는, 상기 유로를 스테인리스 강판에 화학적 에칭법으로 형성하는 것을 특징으로 하는 TiN을 코팅한 금속을 이용한 연료 전지용 분리판의 제조 방법. 7 제 5 항에 있어서, 상기 S1 단계는, 상기 유로를 금속 박판에 스탬핑(stamping)하여 형성하는 것을 특징으로 하는 TiN을 코팅한 금속을 이용한 연료 전지용 분리판의 제조 방법. 8 제 6 항 또는 제 7 항에 있어서, 상기 S2 단계는, 상기 냉각수 유로가 형성된 금속판 두 장을 상기 냉각수 유로가 마주보도록 하여 브레이징법으로 접합하는 것을 특징으로 하는 TiN을 코팅한 금속을 이용한 연료 전지용 분리판의 제조 방법. 9 제 6 항 또는 제 7 항에 있어서, 상기 S3 단계는, 상기 TiN을 상기 표면에 HCD(Hollow Cathode Discharge) 이온 플레이팅(Ion Plating)을 이용하여 코팅하는 것을 특징으로 하는 TiN을 코팅한 금속을 이용한 연료 전지용 분리판의 제조 방법.","JP2005276807A, KR100599667B1, KR20050094573A, US2005214618A1, US7960071B2",null,1]
["K03230","연료전지","KR","내구성과 고성능을 갖는 연료 전지용 전극 및 막전극접합체의 제조 방법{Method to prepare high active and durable electrode and membrane-electrode assembly for fuel cell}",null,"원문이미지","KR20040030525A","2004.04.30","KR0569709B1","2006.04.04","본 발명에서는, 이온전도성 고분자 전해질막을 사용하는 연료전지용 MEA의 제조 방법에 있어서, 제조된 MEA를 열처리하는 단계(S1);를 포함하는 것을 특징으로 하는 내구성과 고성능을 갖는 연료 전지용 MEA의 제조 방법을 개시한다. 그리고, 상기 제조 방법은, 상기 MEA중 촉매층 내부의 캐스팅 이오노머 및 전해질 막을 수화시키는 단계(S2);를 더 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 본 발명에서는, 연료전지용 전극의 제조 방법에 있어서, 탄소종이 또는 탄소천상에 촉매층이 형성된 전극을 열처리한 후, 상기 촉매층 내부의 캐스팅 이오노머를 수화시키는 단계(S3);를 포함하는 것을 특징으로 하는 내구성과 고성능을 갖는 연료 전지용 전극의 제조 방법을 개시한다. 본 발명의 내구성과 고성능을 갖는 연료 전지용 전극 및 MEA의 제조 방법에 따르면, 전극이나 MEA의 장기성능 향상을 위하여, 촉매층 내부에서 촉매의 바인더 역할을 하는 캐스팅 이오노머를 열처리함으로써 보다 안정적인 촉매층을 제공할 수 있고, 특히 DMFC의 경우, 이오노머가 연료인 메탄올에 의해 녹지 않게 할 수 있어 내구성을 향상할 수 있으며, 나아가, 과도한 열처리에 의한 캐스팅 이오노머나 전해질 막의 변화, 즉, 과도한 수분 증발에 의한 이온전도도 감소후, 별도의 수처리를 수행하여 성능을 더욱 높임에 따라 보다 높고 안정적인 장기성능을 달성할 수 있다.","1 이온전도성 고분자 전해질막을 사용하는 연료전지용 MEA의 제조 방법에 있어서, 제조된 MEA를 온도가 5 내지 200℃로 유지되고, 압력이 0.01 내지 10 토르로 유지되는 진공오븐에서 5 내지 300분 동안 열처리하는 단계(S1);를 포함하는 것을 특징으로 하는 내구성과 고성능을 갖는 연료 전지용 MEA의 제조 방법.","하흥용, 오인환, 홍성안, 조은애, 임태훈, 남석우, 임상언, 배병찬, 한종희, 윤성필","H01M-004/88","KR20050105524A","2005.11.04",null,"2024.04.30","1 이온전도성 고분자 전해질막을 사용하는 연료전지용 MEA의 제조 방법에 있어서, 제조된 MEA를 온도가 5 내지 200℃로 유지되고, 압력이 0.01 내지 10 토르로 유지되는 진공오븐에서 5 내지 300분 동안 열처리하는 단계(S1);를 포함하는 것을 특징으로 하는 내구성과 고성능을 갖는 연료 전지용 MEA의 제조 방법. 2 제 1 항에 있어서, 상기 S1 단계는, 상기 제조된 MEA로서, 촉매층이 전해질막에 직접코팅되어 제조된 MEA를 사용하는 것을 특징으로 하는 내구성과 고성능을 갖는 연료 전지용 MEA의 제조 방법. 3 제 2 항에 있어서, 상기 S1 단계는, 상기 MEA의 각 극에 탄소층이 형성된 탄소종이 또는 탄소천을 부착하고 핫프레싱하는 것을 특징으로 하는 내구성과 고성능을 갖는 연료 전지용 MEA의 제조 방법. 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5 제 1 항에 있어서, 상기 S1 단계는, 상기 MEA를 진공오븐내에서 고정 프레임으로 지지하고, 상기 고정 프레임과 상기 MEA사이에는 테프론 필름을 부착하는 것을 특징으로 하는 내구성과 고성능을 갖는 이온전도성 고분자 전해질막을 사용하는 연료 전지용 MEA의 제조 방법. 6 제 1 항 내지 제 3항, 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제조 방법은, 상기 MEA중 촉매층 내부의 캐스팅 이오노머 및 전해질 막을 수화시키는 단계(S2);를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 내구성과 고성능을 갖는 연료 전지용 MEA의 제조 방법. 7 제 6 항에 있어서, 상기 S2 단계는, 오토클레이브에서, 수증기 온도 100 내지 150℃로, 5 내지 200분 동안 유지하여 수화시키는 것을 특징으로 하는 내구성과 고성능을 갖는 연료 전지용 MEA의 제조 방법. 8 연료전지용 전극의 제조 방법에 있어서, 탄소종이 또는 탄소천상에 촉매층이 형성된 전극을 5 내지 200℃로 유지되고 압력이 0.01 내지 10 토르로 유지되는 진공오븐에서 5 내지 300분 동안 열처리한 후, 상기 촉매층 내부의 캐스팅 이오노머를 오토클레이브에서 수증기 온도 100 내지 150℃로 5 내지 200분 동안 유지시켜 수화시키는 단계(S3);를 포함하는 것을 특징으로 하는 내구성과 고성능을 갖는 연료 전지용 전극의 제조 방법. 9<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100569709B1, KR20050105524A",null,1]
["K03364","화학","KR","고온 메탄 개질형 하이브리드 수전해 시스템{High temperature hybrid steam electrolysis system with methane reforming}",null,"원문이미지","KR20040003564A","2004.01.17","KR0514178B1","2005.09.05","본 발명은 고온 메탄 개질형 하이브리드 수전해 시스템에 관한 것으로서, 수전해 과정에서 수소 생산량에 비해 많은 에너지를 소모하게 되는 종래 수전해 시스템의 문제점을 해결하기 위하여, 메탄의 수증기 개질반응과 고온의 수전해 반응에 의한 수소 생산이 함께 진행될 수 있도록 구성되고, 이와 함께 메탄의 자열반응에 의해 생성된 열과 메탄의 완전 산화반응 또는 부분 산화반응에 의해 생성된 열이 고온의 운전조건이 요구되는 수전해기에 활용될 수 있도록 구성됨으로써, 기존 수전해 시스템과 비교하여 보다 효율적인 에너지 활용이 가능하고, 또한 에너지 소모량이 최소화될 수 있는 장점이 있으며, 저가의 수소를 대량 생산할 수 있는 고효율의 고온 메탄 개질형 하이브리드 수전해 시스템에 관한 것이다.","1 수증기의 전기분해에 의해 수소를 생산하는 고온 수전해 시스템에 있어서, 각 공급원으로부터 수증기, 산소 및 메탄을 공급받아 이들을 자열개질 반응시켜 수소 및 일산화탄소를 포함한 합성가스를 생성하는 POX 반응기와; 고체산화물 전해질막, 촉매전극 및 공기극으로 이루어진 전해셀이 구비되어 수증기 공급라인을 통해 공급되는 수증기를 수전해 반응시켜 수소와 산소를 생성하고 상기 POX 반응기로부터 배출된 고온의 가스가 공기극의 내부를 순환하도록 되어 이 가스로부터 수전해 반응에 필요한 열을 제공받게 되는 고온 수전해기와; 이 수전해기에 열을 공급하고 배출되는 상기 POX 반응기의 배출가스 중 일산화탄소와 별도 공급되는 수증기를 수성가스 전환반응시켜 수소와 이산화탄소를 생성하는 고온 수성가스 전환반응기와; 이 고온 수성가스 전환반응기로부터 반응하고 남은 수증기를 포함한 가스 및 상기 수전해기로부터 생성된 수소를 포함한 가스를 전달받아 이로부터 수소를 회수하는 수소회수기를 포함하는 것을 특징으로 하는 고온 메탄 개질형 하이브리드 수전해 시스템.","문동주, 류종우, 남석우, 이상득, 이병권","C25B-001/04","KR20050075628A","2005.07.21",null,"2024.01.17","1 수증기의 전기분해에 의해 수소를 생산하는 고온 수전해 시스템에 있어서, 각 공급원으로부터 수증기, 산소 및 메탄을 공급받아 이들을 자열개질 반응시켜 수소 및 일산화탄소를 포함한 합성가스를 생성하는 POX 반응기와; 고체산화물 전해질막, 촉매전극 및 공기극으로 이루어진 전해셀이 구비되어 수증기 공급라인을 통해 공급되는 수증기를 수전해 반응시켜 수소와 산소를 생성하고 상기 POX 반응기로부터 배출된 고온의 가스가 공기극의 내부를 순환하도록 되어 이 가스로부터 수전해 반응에 필요한 열을 제공받게 되는 고온 수전해기와; 이 수전해기에 열을 공급하고 배출되는 상기 POX 반응기의 배출가스 중 일산화탄소와 별도 공급되는 수증기를 수성가스 전환반응시켜 수소와 이산화탄소를 생성하는 고온 수성가스 전환반응기와; 이 고온 수성가스 전환반응기로부터 반응하고 남은 수증기를 포함한 가스 및 상기 수전해기로부터 생성된 수소를 포함한 가스를 전달받아 이로부터 수소를 회수하는 수소회수기를 포함하는 것을 특징으로 하는 고온 메탄 개질형 하이브리드 수전해 시스템. 2 청구항 1에 있어서, 상기 수전해기는, 공기극과 촉매전극 부분에 각각의 내부공간을 가지는 형상으로 된 전해셀을 가지며 고체산화물 전해질막의 내면 상에는 공기극이, 그 외면 상에는 촉매전극이 부착되어, 그 내부공간에는 상기 POX 반응기로부터 배출된 고온의 가스가 흐르게 되는 열교환 가스튜브와 수전해 반응을 통해 생성된 수소를 포함한 가스를 배출시키기 위한 배기관이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 고온 메탄 개질형 하이브리드 수전해 시스템. 3 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 배기관을 통해 배출되는 수소를 포함한 가스가 상기 고온 수성가스 전환반응기로부터 나온 가스와 함께 합쳐진 후 수소회수기로 흐를 수 있도록, 상기 배기관의 출구에는 상기 고온 수성가스 전환반응기와 수소회수기 사이를 연결하는 라인으로부터 분기된 외부 라인이 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 고온 메탄 개질형 하이브리드 수전해 시스템. 4 청구항 1에 있어서, 상기 수소회수기로부터 수소가 분리되고 남은 수증기를 포함한 가스가 배출되어 흐르게 되는 배기라인 상에 밸브가 설치되어 이 밸브에 의해 조정된 양의 가스가 외부로 배출되도록 되어 있고, 그 나머지 양의 수증기 및 가스가 상기 수전해기로 공급될 수 있도록 상기 밸브 앞쪽의 배기라인에서 분기된 수증기 공급라인이 상기 수전해기로 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 고온 메탄 개질형 하이브리드 수전해 시스템. 5 청구항 1에 있어서, 상기 수전해기는 평판형 또는 원통형 전해셀을 사용한 것을 특징으로 하는 고온 메탄 개질형 하이브리드 수전해 시스템. 6 청구항 1, 청구항 2, 청구항 4 및 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서, 상기 원통형 전해셀을 사용한 수전해기는, 상기 전해셀의 한쪽 끝이 개구된 실린더 형상으로 되어 이 일측의 개구부에 밀폐부재가 설치되며, 이 밀폐부재를 통해 상기 수소회수기로부터 수증기를 공급받기 위한 상기 수증기 공급라인이 상기 전해셀 공기극의 내부공간으로 연결되어 있으면서 상기 열교환 가스튜브의 입/출구 및 배기관의 출구가 외부 라인과 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 고온 메탄 개질형 하이브리드 수전해 시스템. 7 청구항 1에 있어서, 상기 수전해기가, 상기 전해셀의 촉매전극 사이에 밀폐공간을 형성하도록 설치되어 있으며 촉매전극 표면에서 내부로 공급된 메탄과 공기극에서 전해셀을 통과하여 펌핑된 산소이온의 산화반응에 의해 발생된 열을 수전해 반응에 필요한 열로서 제공하게 되는 수전해기 하우징을 가지는 것을 특징으로 하는 고온 메탄 개질형 하이브리드 수전해 시스템. 8 청구항 7에 있어서, 상기 수전해기 하우징은, 일측에 메탄을 공급받기 위한 메탄공급라인이 연결되어 있으면서 타측으로 반응 후의 가스를 배출하기 위한 가스배출라인이 연결되어 있고, 메탄의 산화반응을 위해 상기 전해셀의 수전해 과정에서 발생된 산소이온을 고체산화물 전해질막을 통해 제공받게 되는 것을 특징으로 하는 고온 메탄 개질형 하이브리드 수전해 시스템. 9 청구항 1, 청구항 7 및 청구항 8 중 어느 한 항에 있어서, 상기 수전해기 하우징으로부터 배출된 가스가 다시 상기 POX 반응기로 순환될 수 있도록, 상기 가스배출라인이 POX 반응기의 산소공급라인에 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 고온 메탄 개질형 하이브리드 수전해 시스템. 10 청구항 1에 있어서, 상기 수소회수기는, 팔라듐이 코팅된 멤브레인에 입구쪽으로 소정 작동압 상태의 혼합가스를 공급하여 혼합가스 중 수소만이 분리/배출될 수 있게 된 팔라듐-멤브레인 반응기와; 이 팔라듐-멤브레인 반응기의 입구쪽 라인에 설치되어 라인 내 혼합가스를 작동압 상태로 압축하는 컴프레서와; 이 팔라듐-멤브레인 반응기의 출구쪽 라인에 설치되어 팔라듐-멤브레인 반응기 내 혼합가스의 작동압을 유지시키는 배압조절기; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 고온 메탄 개질형 하이브리드 수전해 시스템.","KR100514178B1, KR20050075628A",null,1]
["K03220","기계","KR","향상된 기밀성을 갖는 회전형 밸브{ROTATION TYPE VALVE USED FOR LOW PRESSURE WITH IMPROVED SEALING PROPERTIES}",null,"원문이미지","KR20040085122A","2004.10.23","KR0785737B1","2007.12.07","본 발명은 향상된 기밀성을 갖는 회전형 밸브에 관한 것으로, 내부에 중공부가 형성되고, 2개의 관 사이에 연결 설치되며, 상기 관들과 연결되는 면에는 연통시킬 수 있도록 형성된 2개의 관통공이 형성된 제1케이스와; 회전에 의하여 상기 2개의 관 사이를 개폐하는 손잡이와; 상기 관통공들 중 어느 한개의 관통공을 밀폐시킬 수 있는 크기로 상기 제1케이스 내에 형성되고, 상기 손잡이의 회전에 따라 회전되는 회전판과; 상기 회전판의 회전에 따라 상기 회전판은 회전 중심축 방향으로 직선 운동이 유도되어 상기 회전판에 의하여 상기 관통공 중 어느 한 개의 관통공을 개폐시키는 개폐 수단과; 상기 중공부와 상기 손잡이 사이의 유체의 흐름을 차단하는 밀폐 수단을; 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 기밀성이 향상된 회전형 밸브를 제공한다.","1 내부에 중공부가 형성되고, 2개의 관 사이에 연결 설치되며, 상기 관들과 연결되는 면에는 연통시킬 수 있도록 형성된 2개의 관통공이 형성된 제1케이스와; 회전에 의하여 상기 2개의 관 사이를 개폐하는 손잡이와; 상기 관통공들 중 어느 한개의 관통공을 밀폐시킬 수 있는 크기로 상기 제1케이스 내에 형성되고, 상기 손잡이의 회전에 따라 회전되는 회전판과; 상기 회전판의 회전에 따라 상기 회전판은 회전 중심축 방향으로 직선 운동이 유도되어 상기 회전판에 의하여 상기 관통공 중 어느 한 개의 관통공을 개폐시키는 개폐 기구를 포함하는 기밀성이 향상된 회전형 밸브.","이대영, 김회웅","F16K-011/074,F16K-015/00","KR20060036013A","2006.04.27",null,"2024.10.23","1 내부에 중공부가 형성되고, 2개의 관 사이에 연결 설치되며, 상기 관들과 연결되는 면에는 연통시킬 수 있도록 형성된 2개의 관통공이 형성된 제1케이스와; 회전에 의하여 상기 2개의 관 사이를 개폐하는 손잡이와; 상기 관통공들 중 어느 한개의 관통공을 밀폐시킬 수 있는 크기로 상기 제1케이스 내에 형성되고, 상기 손잡이의 회전에 따라 회전되는 회전판과; 상기 회전판의 회전에 따라 상기 회전판은 회전 중심축 방향으로 직선 운동이 유도되어 상기 회전판에 의하여 상기 관통공 중 어느 한 개의 관통공을 개폐시키는 개폐 기구를 포함하는 기밀성이 향상된 회전형 밸브. 2 제 1항에 있어서, 상기 개폐 기구는, 상기 회전판과 접촉하도록 상기 제1케이스에 형성된 제1개폐돌기와; 상기 제1개폐돌기와 접촉하는 상기 회전판의 면에 깊이가 다르게 형성된 제1개폐홈을 포함하고, 상기 제1개폐홈은 상기 회전판의 상하 이동이 유도되도록 상기 회전판의 회전에 따라 상기 제1개폐돌기와 맞물리는 깊이가 다르게 형성되는 것을 특징으로 하는 기밀성이 향상된 회전형 밸브. 3 제 2항에 있어서, 상기 회전판을 상기 제1개폐돌기를 향하는 방향으로 눌러주는 가압 수단을 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 기밀성이 향상된 회전형 밸브. 4 제 2항에 있어서, 상기 개폐기구는, 상기 제1케이스에 회전 가능하게 설치되는 회전부재; 상기 회전판의 일측에 돌출되게 형성되어 회전부재의 내부에 상하 이동 가능하게 삽입되며, 상기 회전부재와 일체로 회전되는 회전봉; 및 상기 회전부재와 상기 손잡이를 연결하는 연결바를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기밀성이 향상된 회전형 밸브. 5<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 6<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 7 제 4항에 있어서, 상기 회전 부재는 반경 방향으로 돌출된 돌출부가 형성되고, 상기 제1케이스에 고정되고, 상기 회전 부재의 상기 돌출부의 일면을 덮도록 형성된 제1덮개; 상기 제1덮개에 고정되고, 상기 제1덮개와 상기 회전부재의 돌출부를 덮도록 형성된 제2덮개; 및 상기 회전 부재에 고정되고, 상기 돌출부의 저면을 덮도록 형성된 제3덮개를 포함하는 것을 특징으로 하는 기밀성이 향상된 회전형 밸브. 8 제 7항에 있어서, 상기 제1덮개의 일부와 상기 회전부재의 돌출부를 감싸도록 배치되는 제1밀폐막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기밀성이 향상된 회전형 밸브. 9 제 8항에 있어서, 상기 제1밀폐막은 고무로 형성된 것을 특징으로 하는 기밀성이 향상된 회전형 밸브. 10 제 1항에 있어서, 상기 회전판과 일체로 회전하는 회전봉과; 상기 회전봉과 상기 손잡이를 연결하는 연결바와; 상기 회전봉과 상기 제1케이스 사이에 유체의 흐름을 차단하는 밀폐링을 도 포함하는 것을 특징으로 하는 기밀성이 향상된 회전형 밸브. 11 내부에 중공부가 형성되고, 2개의 관 사이에 연결 설치되며, 상기 관들과 연결되는 면에는 연통시킬 수 있도록 형성된 2개의 관통공이 형성된 제2케이스와; 상기 제2케이스의 외부로 돌출 형성되고, 회전에 의하여 상기 2개의 관 사이를 개폐하는 손잡이와; 상기 손잡이와 상기 제2케이스 사이에 배치되는 제2밀폐막과; 상기 관통공들 중 어느 한개의 관통공을 밀폐시킬 수 있는 크기로 상기 제2케이스 내에 형성되고, 상기 손잡이의 회전에 따라 회전되는 회전판과; 상기 회전판의 회전에 따라 상기 회전판은 회전 중심축 방향으로 직선 운동이 유도되어 상기 회전판에 의하여 상기 관통공 중 어느 한 개의 관통공을 개폐시키는 개폐 기구를 포함하는 기밀성이 향상된 회전형 밸브. 12 일단에 제1관과 연결되도록 제1관통공이 형성되고, 타단이 개방되어 있고, 중공부를 구비한 제3케이스와; 상기 제3케이스의 개방 단부를 막도록 형성되고, 제2관과 연결되며, 상기 중공부와 제2관을 연통시키도록 형성된 제2관통공을 구비한 바닥판과; 상기 제2케이스의 회전에 따라 회전하는 회전판과; 상기 회전판의 회전에 따라 상기 회전판은 회전 중심축 방향으로 직선 운동이 유도되어 상기 제2관통공을 개폐시키는 개폐 기구를 포함하는 기밀성이 향상된 회전형 밸브. 13 제 12항에 있어서, 상기 개폐 기구는, 상기 회전판과 접촉하도록 상기 바닥판에 형성된 제2개폐돌기와; 상기 제2개폐돌기와 접촉하는 상기 회전판의 면에 깊이가 다르게 형성된 제2개폐홈을 포함하고, 상기 제2개폐홈은 상기 회전판의 상하 이동이 유도되도록 상기 회전판의 회전에 따라 상기 제2개폐돌기와 맞물리는 깊이가 다르게 형성되는 것을 특징으로 하는 기밀성이 향상된 회전형 밸브. 14 제 13항에 있어서, 상기 회전판을 상기 제2개폐돌기를 향하는 방향으로 눌러주는 가압 수단을 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 기밀성이 향상된 회전형 밸브. 15 제 12항에 있어서, 상기 제2케이스의 상기 바닥판과의 접촉부에는 단면이 'ㄴ'형상으로 형성되는 돌출부가 형성되고, 상기 돌출부와 상기 바닥판의 외면을 덮도록 형성된 제3밀폐막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기밀성이 향상된 회전형 밸브. 16 제 15항에 있어서, 상기 제3밀폐막을 감싸는 덮개 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기밀성이 향상된 회전형 밸브. 17 제 1항 ,제 11항, 또는 제 12항 중 어느 하나의 회전형 밸브; 상기 회전형 밸브의 상판에 고정되는 제1챔버; 및 상기 화전형 밸브의 하판에 고정되는 제2챔버를 포함하고, 상기 회전형 밸브의 개폐에 따라 상기 제1챔버와 상기 제2챔버가 연통 또는 차단되도록 구성된 것을 특징으로 하는 화학 반응 장치.","KR100785737B1, KR20060036013A",null,1]
["F02315","생화학","JP","라보온아칩으로의 형광 편광 측정 방법 및 장치",null,"원문이미지","JP2006134551A","2006.05.12","JP4527080B9","2010.06.11","(57)【요약】 【과제】라보온아칩으로의 형광 편광 측정 방법 및 장치를 제공한다.【해결 수단】라보온아칩으로 형광 편광 측정을 이용하고 생분자와 형광 프로브 분자간의 상호 작용을 정량적에 측정하고, 효소의 활성을 신속히 분석하는 라보온아칩으로의 형광 편광 측정 방법과 그 장치를 제공한다. 본 발명의 측정 방법과 그 장치는, 기존의 방법에 비교하고 1/100 정도의 소량의 시료를 사용한 분석이 가능하고, 전자동화 되는 장치에 따라서 고속 분석이 가능하기 때문에, 생분자 물질간의 상호 작용의 검색과 효소, 특히 기질으로서 범용 담 박성질 있는 카세인을 사용하는 프로테아제의 분석에 유용한다.【선택도】그림 2","【청구항 1】 1)형광 프로브 분자 및 생분자를 준비하는 공정, 2)라보온아칩(Lab-on-a-chip)의 마이크로 채널에 형광 프로브 분자 및 생분자를 주입하고 복합체를 형성하게 하는 공정, 3)상기 복합체에 편광을 조사하고 형광 편광을 측정하는 공정, 및 4)상기 형광 편광을 정량화하고 형광 편광 때를 결정하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다, 라보온아칩으로의 형광 편광 측정 방법.","ヤン  ユン  キョン, キム  ユン  ファン, キム  テ  ソン, ジュ  ビョン­クォン, カン  ジ  ヨン, シン  ヒュン  ジョン, チョ  ハン­サン","G01N-021/64,G01N-037/00","JP2007139744A","2007.06.07","2005-11-23 (KR 10-2005-0112165)","2026.05.12","【특허청구의 범위】 【청구항 1】 1)형광 프로브 분자 및 생분자를 준비하는 공정, 2)라보온아칩(Lab-on-a-chip)의 마이크로 채널에 형광 프로브 분자 및 생분자를 주입하고 복합체를 형성하게 하는 공정, 3)상기 복합체에 편광을 조사하고 형광 편광을 측정하는 공정, 및 4)상기 형광 편광을 정량화하고 형광 편광 때를 결정하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다, 라보온아칩으로의 형광 편광 측정 방법. 【청구항 2】 상기 라보온아칩이, 폭이 10∼100미크론 m 있는 마이크로 채널을 포함하고, 유리 재질을 사용하고 사진식각 방법으로 제조하게 되는 것을 특징으로 한다, 청구항 1에 기재의 라보온아칩으로의 형광 편광 측정 방법. 【청구항 3】 상기 공정 2)으로, 사키 노리오 분자 및 상기 형광 프로브 분자를 반응물성질의 저장 곳(것) 1,2에 연결하게 되는 진공 펌프 6을 사용한 압력차에 따라서 미세 유체 제어를 통하여 주채널으로 만나게 하는 것을 특징으로 한다, 청구항 1에 기재의 라보온아칩으로의 형광 편광 측정 방법. 【청구항 4】 상기 공정 3)으로, 편광기를 떼내는 상태로 상기마이크로 채널의 특정 형광 프로브에 대한 광원 및 측정기의 보정치로 어느 G 요소 값을 구한 뒤, 편광기를 부착하고 상기 라보온아칩의 마이크로 채널내의 형광 프로브 분자-생분자 복합체에 편광을 조사하고 여기하게 되는 형광을 수직, 수평 빛 배율기를 통과하게 하고 측정치를 얻고, 상기 공정 4)으로, 상기 G 요소 값과 상기 측정치로부터 형광 편광 때를 결정하는 것을 특징으로 한다, 청구항 1에 기재의 라보온아칩으로의 형광 편광 측정 방법. 【청구항 5】 신호 대잡음비를 개선하기 위한 광학 chopper을 사용하는 것을 특징으로 한다, 청구항 1에 기재의 라보온아칩으로의 형광 편광 측정 방법. 【청구항 6】 상기 라보온아칩으로의 형광 편광 측정 방법이, 생분자의 사이의 상호 작용의 정량적 측정에 이용하게 되는 것을 특징으로 한다, 청구항 1에 기재의 라보온아칩으로의 형광 편광 측정 방법. 【청구항 7】 1)형광 프로브 분자 및 생분자를 준비하는 공정, 2)라보온아칩의 마이크로 채널에 형광 프로브 분자 및 생분자를 주입하고 복합체를 형성하게 하는 공정, 3)상기 복합체와 시험 물질을 반응하게 하는 공정, 4)상기 시험 물질이라고 반응한 복합체에 편광을 조사하고 형광 편광을 측정하는 공정, 이르고 5)상기 형광 편광을 정량화하고 형광 편광 때를 결정하는 공정을 포함하는 라보온아칩으로의 형광 편광 측정 방법. 【청구항 8】 상기 라보온아칩이, 폭이 10∼100미크론 m 있는 마이크로 채널을 포함하고, 형광 프로브 분자의 공급 저장 곳(것) 1, 형광 프로브 분자라고 결합하는 생분자의 저장 곳(것) 2, 시험 물질을 포함하는 웰푸레토 3, 팁에의 시료 유입을 위한 모세관과 같은 공급 장치 4, 형광 편광 감지 점 5, 시료를 주채널으로 유입되게 하기 위한 진공 펌프 6을 포함하고, 유리 재질을 사용하고 사진식각 방법으로 제조하게 되는 것을 특징으로 한다, 청구항 7에 기재의 라보온아칩으로의 형광 편광 측정 방법. 【청구항 9】 상기 라보온아칩으로의 형광 편광 측정 방법에 있어서, 시험 물질에 검색 대상물성질을 사용하고, 생분자의 사이의 복합체 형성을 유도 또는 저해하는 물질의 검색에 사용하는 것을 특징으로 한다, 청구항 7에 기재의 라보온아칩으로의 형광 편광 측정 방법. 【청구항 10】 상기 라보온아칩으로의 형광 편광 측정 방법에 있어서, 시험 물질에 효소를 사용하고, 생분자에 효소에 대응하는 기질을 사용하고 효소의 활성 또는 농도 측정에 사용하는 것을 특징으로 한다, 청구항 7에 기재의 라보온아칩으로의 형광 편광 측정 방법. 【청구항 11】 상기 효소가 프로테아제로, 기질이 카세인 인 것을 특징으로 한다, 청구항 10에 기재의 라보온아칩으로의 형광 편광 측정 방법. 【청구항 12】 편광 발생부, 형광 편광 분리부 및 형광 편광 측정부를 포함하는 마이크로 채널을 위한 형광 편광 측정 장치. 【청구항 13】 상기 편광 발생부가, 레이저광원, 그 레이저광원부터 내보내고 나오게 되는 레이저광을 여과하는 제1 필터, 그 제 1 필터를 통과한 레이저광의 방향을 제어하는 제일 미러와 제2 미러, 그 제 2 미러로 반사한 레이저광을 편광 하게 하는 편광기, 해 편광기를 통과한 편광 되는 레이저광을 분리하는 광선 분리기, 및 분리한 편광을 평행 빛에 변환하고 마이크로 채널내의 시료에 끌어넣는 렌즈를 포함하는 것을 특징으로 한다, 청구항 12에 기재의 마이크로 채널을 위한 형광 편광 측정 장치. 【청구항 14】 상기 레이저광을 온/오프 하고 신호 대잡음비를 개선하기 위해(때문에) 상기 제일 필터와 상기 제일 미러의 사이에 광학 chopper이 개재하는 것을 특징으로 한다, 청구항 13에 기재의 마이크로 채널을 위한 형광 편광 측정 장치. 【청구항 15】 상기 형광 편광 분리부가, 상기 편광 발생부의 편광의 조사를 받고 여기한 형광 프로브 분자에 의하여 내보내고 나오게 되는 형광을 모으는 렌즈, 그 렌즈를 통과한 형광 방향을 제어하는 제산 밀러, 그 제 3 미러로 반사한 상기 형광을 여과하는 제2 필터, 및 그 제 2 필터를 통과한 상기 형광의 편광을 분리하는 편광 광선 분리기를 포함하는 것을 특징으로 한다, 청구항 12에 기재의 마이크로 채널을 위한 형광 편광 측정 장치. 【청구항 16】 상기 형광 편광 측정부가, 상기 편광 광선 분리기를 통과한 상기 형광의 정류를 위한 제3 필터, 그 제 3 필터를 통과한 상기 내보내고 나오게 되는 빛의 수직 또는 수평인 양 평면으로 형광 신호를 측정하는 수직 방향 빛 배율기(PMT1)과 편광기를 포함한 수평 방향 빛 배율기(PMT2), 및 상기 빛 배율기를 통과한 형광의 편광 때를 측정하는 오실로스코프를 포함하는 것을 특징으로 한다, 청구항 12에 기재의 마이크로 채널을 위한 형광 편광 측정 장치. 【청구항 17】 상기마이크로 채널이, 폭이 10∼100미크론 m 있는 것을 특징으로 한다, 청구항 12에 기재의 마이크로 채널을 위한 형광 편광 측정 장치. 【청구항 18】 상기마이크로 채널이, 라보온아칩에 포함되는 마이크로 채널으로, 상기 라보온아칩이, 형광 프로브 분자의 공급 저장 곳(것) 1, 형광 프로브 분자라고 결합하는 생분자의 저장 곳(것) 2, 시험 물질을 포함하는 웰푸레토 3, 팁에의 시료 유입을 위한 모세관과 같은 공급 장치 4, 형광 편광 감지 점 5, 시료를 팁의 주채널으로 유입되게 하기 위한 진공 펌프 6을 포함하는 것을 특징으로 한다, 청구항 17에 기재의 마이크로 채널을 위한 형광 편광 측정 장치. 【청구항 19】 청구항 12 또는 18의 어느 한쪽 1항 기재의 형광 편광 측정 장치를 이용한 생분자간의 복합체 형성을 유도 또는 저해하는 물질의 검색 방법. 【청구항 20】 청구항 12 또는 18의 어느 한쪽 1항 기재의 형광 편광 측정 장치를 이용한 효소의 활성 또는 농도의 측정 방법.","JP2007139744A, JP4527080B2, US2007117220A1, US7427509B2",null,1]
["K03217","인체통신","KR","광대역 펄스 신호를 이용한 인체통신 시스템 및 방법{SYSTEM AND METHOD FOR DATA COMMUNICATION IN HUMAN BODY USING ULTRA WIDE BAND SIGNAL}",null,"원문이미지","KR20040006753A","2004.02.02","KR0551200B1","2006.02.03","본 발명은 광대역 펄스 신호(Ultra Wide Band Signal)를 이용하여 인체내부장치에서 수집한 데이터를 인체외부장치로 전송하거나 인체외부장치의 신호를 인체내부장치로 전송하는 광대역 펄스 신호를 이용한 인체통신 시스템 및 방법에 관한 것이다.","1 인체 내부에 위치한 인체내부장치와 인체 외부에 위치한 인체외부장치 상호간의 데이터 송수신이 광대역 펄스 신호를 이용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 광대역 펄스 신호를 이용한 인체통신 시스템.","박종오, 김태송, 김병규, 박선라","H04B-007/24","KR20050078578A","2005.08.05",null,"2024.02.02","1 인체 내부에 위치한 인체내부장치와 인체 외부에 위치한 인체외부장치 상호간의 데이터 송수신이 광대역 펄스 신호를 이용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 광대역 펄스 신호를 이용한 인체통신 시스템. 2 제 1항에 있어서, 상기 인체내부장치은 상기 인체외부장치로부터 신호를 수신하거나 인체 내부에서 획득한 신호를 상기 인체외부장치로 송신하는 광대역 안테나부와, 상기 광대역 안테나부를 통해 광대역 펄스 신호를 송수신하는 광대역 송수신부와, 수신된 광대역 펄스 신호를 기저대역 데이터 신호로 복조하고 전송할 기저대역 데이터 신호를 광대역 펄스 신호로 변조하는 변/복조부와, 복조된 신호를 처리하고 후술하는 센싱부에서 획득한 데이터 신호를 처리하는 신호 처리부와, 상기 인체외부장치의 신호에 의해 동작이 제어되는 복수의 제어신호부와, 인체 내부의 정보를 수집하는 복수의 센싱부를 포함하는 것을 특징으로 하는 광대역 펄스 신호를 이용한 인체통신 시스템. 3 제 1항에 있어서, 상기 인체외부장치은 상기 인체내부장치로부터 신호를 수신하거나 상기 인체외부장치의 신호를 상기 인체내부장치로 송신하는 광대역 안테나부와, 상기 광대역 안테나부를 통해 광대역 펄스 신호를 송수신하는 광대역 송수신부와, 수신된 광대역 펄스 신호를 기저대역 데이터 신호로 복조하고 전송할 기저대역 데이터 신호를 광대역 펄스 신호로 변조하는 변/복조부와, 수신된 신호를 외부제어장치에 전송하거나 상기 외부제어장치의 신호를 상기 인체외부장치에 전송하기 위해 상기 외부제어장치와 연결되는 범용 인터페이스부를 포함하는 것을 특징으로 하는 광대역 펄스 신호를 이용한 인체통신 시스템. 4 제 3항에 있어서, 상기 외부제어장치는 컴퓨터 또는 휴대용 단말기인 것을 특징으로 하는 광대역 펄스 신호를 이용한 인체통신 시스템. 5 인체 내부에 위치한 인체내부장치에서 수집한 인체에 관한 데이터를 광대역 펄스 신호를 이용하여 인체 외부에 위치한 인체외부장치에 전송하고, 상기 인체외부장치에서는 상기 인체내부장치의 동작을 제어하는 신호를 상기 광대역 펄스 신호를 이용하여 상기 인체내부장치에 전송하는 것을 특징으로 하는 광대역 펄스 신호를 이용한 인체통신 방법.","KR100551200B1, KR20050078578A",null,1]
["K03443","광학","KR","광통신 시스템용 가변 분산 보상기{TUNABLE DISPERSION COMPENSATOR FOR OPTICAL TELECOMMUNICATION SYSTEM}",null,"원문이미지","KR20040112859A","2004.12.27","KR0670871B1","2007.01.11","본 발명은 광신호 펄스의 분산을 보상하기 위하여 첩 광섬유 격자에 유도되는 벤딩을 제어하는 가변 분산 보상기에 관한 것으로서, 첩 광섬유 격자를 포함하는 광섬유; 서로 대칭적으로 배치되며 단차부(stepped portion)를 갖는 제 1 및 제 2 프레임(frame); 상기 광섬유를 부착하기 위해서 소정의 길이를 갖는 제 1 금속판; 상기 제 1 및 제 2 프레임의 단차부에 안착(seated)되는 제 2 금속판; 및 상기 제 1 및 제 2 프레임 및 상기 제 2 금속판과 연결되어 상기 첩 광섬유 격자를 대칭적으로 벤딩(bending)하기 위한 벤딩 수단 을 포함하는 가변 분산 보상기를 제공한다.","1 가변 분산 보상기로서, 첩 광섬유 격자를 포함하는 광섬유; 서로 대칭적으로 배치되며 단차부(stepped portion)를 갖는 제 1 및 제 2 프레임(frame); 상기 광섬유를 부착하기 위해서 소정의 길이를 갖는 제 1 금속판; 상기 제 1 및 제 2 프레임의 단차부에 안착(seated)되는 제 2 금속판; 및 상기 제 1 및 제 2 프레임 및 상기 제 2 금속판과 연결되어 상기 첩 광섬유 격자를 대칭적으로 벤딩(bending)하기 위한 벤딩 수단을 포함하고, 상기 벤딩 수단은, 상기 제 2 금속판을 상기 제 1 및 제 2 프레임의 단차부 위에서 이동시키기 위한 이동 수단; 상기 제 2 금속판 위에 배치되며 상기 제 1 금속판의 제 2 면에 접촉하여 상기 광섬유의 중심이 벤딩되는 것을 방지하기 위한 지지 수단; 상기 지지 수단를 중심으로 하여 서로 대칭적으로 배치되어 상기 제 1 금속판의 양 쪽 끝단을 고정하기 위한 제 1 및 제 2 고정 수단; 및 상기 제 1 및 제 2 고정 수단을 상기 제 1 및 제 2 프레임과 연결하기 위한 제 1 및 제 2 힌지핀을 포함하되, 상기 제 1 및 제 2 고정 수단 각각은 상기 제 2 금속판의 이동에 의해 상기 제 1 및 제 2 힌지핀을 중심으로 서로 반대 방향으로 회전하는 가변 분산 보상기.","최선민, 배준기, 김준희, 한영근, 김상혁, 이상배","G02B-006/02","KR20050067099A","2005.06.30","2003-12-26 (KR 1020030097073)","2024.12.27","1 가변 분산 보상기로서, 첩 광섬유 격자를 포함하는 광섬유; 서로 대칭적으로 배치되며 단차부(stepped portion)를 갖는 제 1 및 제 2 프레임(frame); 상기 광섬유를 부착하기 위해서 소정의 길이를 갖는 제 1 금속판; 상기 제 1 및 제 2 프레임의 단차부에 안착(seated)되는 제 2 금속판; 및 상기 제 1 및 제 2 프레임 및 상기 제 2 금속판과 연결되어 상기 첩 광섬유 격자를 대칭적으로 벤딩(bending)하기 위한 벤딩 수단을 포함하고, 상기 벤딩 수단은, 상기 제 2 금속판을 상기 제 1 및 제 2 프레임의 단차부 위에서 이동시키기 위한 이동 수단; 상기 제 2 금속판 위에 배치되며 상기 제 1 금속판의 제 2 면에 접촉하여 상기 광섬유의 중심이 벤딩되는 것을 방지하기 위한 지지 수단; 상기 지지 수단를 중심으로 하여 서로 대칭적으로 배치되어 상기 제 1 금속판의 양 쪽 끝단을 고정하기 위한 제 1 및 제 2 고정 수단; 및 상기 제 1 및 제 2 고정 수단을 상기 제 1 및 제 2 프레임과 연결하기 위한 제 1 및 제 2 힌지핀을 포함하되, 상기 제 1 및 제 2 고정 수단 각각은 상기 제 2 금속판의 이동에 의해 상기 제 1 및 제 2 힌지핀을 중심으로 서로 반대 방향으로 회전하는 가변 분산 보상기. 2 제 1 항에 있어서, 상기 광섬유는 상기 금속판의 중심에 존재하는 사전설정된 크기의 슬릿(slit)을 통해 상기 금속판의 제 1 및 제 2 면에 부착되는 가변 분산 보상기. 3 제 2 항에 있어서, 상기 광섬유의 중심, 상기 제 1 금속판의 중심, 상기 제 2 금속판의 중심 및 상기 제 1 금속판의 제 2 면에 접촉하는 상기 지지 수단의 일 측면의 중심은 상기 모든 중심을 잇는 동일한 수직선 상에 존재하는 가변 분산 보상기. 4 제 3 항에 있어서, 상기 이동 수단은, 상기 제 2 금속판을 연결하기 위한 고정 부재; 상기 제 2 금속판의 이동 방향을 결정하기 위한 회전 바; 및 상기 회전 바의 회전 방향에 기초하여 상기 제 2 금속판을 상기 제 1 및 제 2 프레임의 단차부 위에서 이동시키기 위한 이동 축 을 포함하는 가변 분산 보상기. 5 제 3 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 고정 수단 각각은 제 1 및 제 2 슬롯을 포함하며, 상기 제 2 금속판은 사전설정된 다수의 핀홀을 포함하고, 상기 제 1 및 제 2 고정 수단은 상기 제 1 및 제 2 슬롯을 통하여 제 1 및 제 2 연결핀을 상기 다수의 핀홀 중 각각 하나에 삽입함으로써 상기 제 2 금속판에 연결되는 가변 분산 보상기. 6<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 7 제 5 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 고정 수단의 회전 범위는 상기 제 1 및 제 2 연결핀이 삽입되는 핀홀의 위치에 의해 결정되는 가변 분산 보상기. 8 제 7 항에 있어서, 상기 사전설정된 다수의 핀홀 각각은 동일한 지름을 가지며, 홀과 홀 사이의 간격은 동일한 가변 분산 보상기. 9 제 5 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 프레임의 단차부 위를 이동하는 제 2 금속판 및 서로 반대 방향으로 회전하는 상기 제 1 및 제 2 고정 수단에 의해 상기 제 1 금속판 및 상기 광섬유는 상기 지지 수단를 중심으로 대칭적으로 벤딩되는 가변 분산 보상기. 10 제 9 항에 있어서, 상기 광섬유에 포함된 첩 광섬유 격자의 중심 주기를 기준으로 하여 격자의 주기가 점점 더 짧아지는 부분에는 수축력이 유도되고, 격자의 주기가 점점 더 길어지는 부분에는 인장력이 유도됨으로써 상기 첩 광섬유 격자의 중심 주기는 변하지 않는 가변 분산 보상기.","JP2005196182A, JP4310268B2, KR100670871B1, KR20050067099A, US2005169578A1, US7003199B2","R",2]
["F01997","광학","JP","광통신 시스템용 가변 분산 보상기",null,"원문이미지","JP2004375614A","2004.12.27","JP4310268B9","2009.05.15","(57)【요약】 【과제】 분산 보상을 위한 제어 방식이 간단하다 뿐만 아니라, 벤딩 되는 처프 광파이버 격자의 중심 주기를 변화하게 하지 않은 가변 분산 보상기를 제공한다.【해결 수단】 처프 광파이버 격자를 가지는 광파이버와, 서로 대칭적이게 배치하게 되고 단차부를 가지는 제1 및 제2 프레임과, 상기 광파이버를 설치하기 위해(때문에) 소정의 길이를 가지는 제1 금속판과, 상기 제1 및 제2 프레임의 단차부에 감착하게 되는 제2 금속판과, 상기 제1 및 제2 프레임, 및 상기 제2 금속판이라고 연결하게 되고 상기 처프 광파이버 격자를 대칭적이게 벤딩 하기 위한 벤딩 수단과를 구비한다.【선택도】 그림 2","【청구항 1】 가변 분산 보상기 있고, 처프 광파이버 격자를 가지는 광파이버와, 서로 대칭적이게 배치하게 되는 단차부를 가지는 제1 및 제2 프레임과, 상기 광파이버를 설치하기 위해(때문에) 소정의 길이를 가지는 제1 금속판과, 상기 제1 및 제2 프레임의 단차부에 감착하게 되는 제2 금속판과, 상기 제1 및 제2 프레임 및 상기 제2 금속판이라고 연결하게 되고 상기 처프 광파이버 격자를 대칭적이게 벤딩 하기 위한 벤딩 수단과, 을 구비하는 가변 분산 보상기.","崔  善  ▲みん▼, 裴  峻  基, 金  俊  熙, 韓  英  根, 金  相  赫, 李  相  培","G02B-026/00","JP2005196182A","2005.07.21","2003-12-26 (KR 2003-097073)","2024.12.27","【특허청구의 범위】 【청구항 1】 가변 분산 보상기 있고, 처프 광파이버 격자를 가지는 광파이버와, 서로 대칭적이게 배치하게 되는 단차부를 가지는 제1 및 제2 프레임과, 상기 광파이버를 설치하기 위해(때문에) 소정의 길이를 가지는 제1 금속판과, 상기 제1 및 제2 프레임의 단차부에 감착하게 되는 제2 금속판과, 상기 제1 및 제2 프레임 및 상기 제2 금속판이라고 연결하게 되고 상기 처프 광파이버 격자를 대칭적이게 벤딩 하기 위한 벤딩 수단과, 을 구비하는 가변 분산 보상기. 【청구항 2】 상기 광파이버는, 상기 제1 금속판의 중심에 존재하는 여 눈 설정하게 되는 크기의 슬릿을 이용하고, 상기 금속판의 제1 및 제2면에 장착되는 청구항 1에 기재의 가변 분산 보상기. 【청구항 3】 전기록 벤딩 수단은, 상기 제2 금속판을 상기 제1 및 제2 프레임의 단차부상에서 이동하게 하기 위한 이동 수단과, 상기 제2 금속판상에 배치하게 되고, 상기 제1 금속판의 상기 제2면에 접촉하고 상기 광파이버의 중심이 벤딩 되는 것을 방지하기 위한 지지 수단과, 상기 지지 수단을 중심으로 하고 서로 대칭적이게 배치하게 되고, 상기 제1 금속판의 양 종단을 고정하기 위한 제1 및 제2 고정 수단과, 상기 제1 및 제2 고정 수단을 상기 제1 및 제2 프레임이라고 연결하기 위한 제1 및 제2 hinge 핀과,을 구비하고, 상기 광파이버의 중심, 상기 제1 금속판의 중심, 상기 제2 금속판의 중심 및 상기 제1 금속판의 제2면에 접촉하기 전기 지지 수단의 한 측면의 중심은, 상기 모든 중심을 잇는 동일한 수직선상에 존재하는 청구항 2에 기재의 가변 분산 보상기. 【청구항 4】 상기 이동 수단은, 상기 제2 금속판을 연결하기 위한 고정부재와, 상기 제2 금속판의 이동 방향을 결정하기 위한 회전 바와, 상기 회전 바의 회전 방향에 근거하고 상기 제2 금속판을 상기 제1 및 제2 프레임의 단차부상에서 이동하게 하기 위한 이동축다고, 을 구비하는 청구항 3에 기재의 가변 분산 보상기. 【청구항 5】 상기 제1 및 제2 고정 수단의 각각은 제1 및 제2 슬롯을 가지고, 상기 제2 금속판은 미리 설정하게 되는 다수의 핀홀을 가지고, 상기 제1 및 제2 고정 수단은, 상기 제1 및 제2 슬롯을 이용하고 제1 및 제2 연결핀을 상기 다수의 핀홀의 집의 각각 하나에 삽입한 것에 의해, 상기 제2 금속판에 연결하게 되는 청구항 3에 기재의 가변 분산 보상기. 【청구항 6】 상기 제1 및 제2 고정 수단의 각각은, 상기 제2 금속판의 이동에 의하여 상기 제1 및 제2 hinge 핀을 중심으로 서로 반대경향에 회전하는 청구항 5에 기재의 가변 분산 보상기. 【청구항 7】 상기 제1 및 제2 고정 수단의 회전 범위는, 상기 제1 및 제2 연결핀이 삽입하게 되는 핀홀의 위치에 의하여 결정되어 지는 청구항 6에 기재의 가변 분산 보상기. 【청구항 8】 상기 미리 설정하게 되는 다수의 핀홀의 각각은 동일한 직경을 가지고, 홀과 홀과의 사이의 간격은 동일하다 청구항 7에 기재의 가변 분산 보상기. 【청구항 9】 상기 제1 및 제2 프레임의 단차부상을 이동하는 제2 금속판 및 서로에게 반대경향에 회전하기 전기 제1 및 제2 고정 수단에 의하여, 상기 제1 금속판 및 상기 광파이버는 상기 지지 수단을 중심으로 대칭적이게 벤딩 되는 청구항 6에 기재의 가변 분산 보상기. 【청구항 10】 상기 광파이버에 포함되는 처프 광파이버 격자의 중심 주기를 기준으로서 격자의 주기가 점점 짧아지는 부분에는 수축력이 유도하게 되고, 격자의 주기가 점점 길어지는 부분에는 인장력이 유도하게 되는 것에 의해, 상기 처프 광파이버 격자의 중심 주기는 변하지 않은 청구항 9에 기재의 가변 분산 보상기.","JP2005196182A, JP4310268B2, KR100670871B1, KR20050067099A, US2005169578A1, US7003199B2","R",2]
["K03174","기계","KR","정지 비행이 가능한 날개짓 추진 기구{PROPULSION SYSTEM MIMICKING HOVERING FLAPPING WING}",null,"원문이미지","KR20030087242A","2003.12.03","KR0540180B1","2005.12.23","본 발명은 정지 비행이 가능한 날개짓 추진 기구에 관한 것으로, 전기 신호를 공급받아 기계적 왕복 운동을 발생시키는 압전 소자와; 상기 압전 소자의 왕복 운동과 연동하여 왕복 운동하고, 상기 압전 소자에 대하여 비틀림 운동이 가능하도록 상기 압전 소자와 결합 형성된 날개 골격과; 상기 날개 골격에 상방과 하방에 그 길이가 서로 다르게 결합된 날개를; 포함하여 구성되어 벌새의 비행 메커니즘을 모방한 비행을 구현함으로써, 벌새나 곤충 크기 정도의 초소형 비행체에도 적용 가능한 비행 메커니즘을 제공하고, 아울러 정지 비행이 가능한 날개짓 추진 기구 및 그 방법을 제공한다.","1 전기 신호를 공급받아 기계적 왕복 운동을 발생시키는 구동부와; 상기 구동부의 왕복 운동에 연동되는 왕복 운동을 하고, 상기 왕복 운동 중에 상기 구동부에 대하여 비틀림 운동이 가능하도록 길이 방향의 축을 중심으로 회동 가능하게 형성된 날개 골격과; 상기 날개 골격에 상방의 길이(l1)와 하방의 길이(l2)가 서로 다르게 결합된 날개를; 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 정지 비행이 가능한 날개짓 추진 기구.","김광호, 장영수","A63H-027/28","KR20050053982A","2005.06.10",null,"2023.12.03","1 전기 신호를 공급받아 기계적 왕복 운동을 발생시키는 구동부와; 상기 구동부의 왕복 운동에 연동되는 왕복 운동을 하고, 상기 왕복 운동 중에 상기 구동부에 대하여 비틀림 운동이 가능하도록 길이 방향의 축을 중심으로 회동 가능하게 형성된 날개 골격과; 상기 날개 골격에 상방의 길이(l1)와 하방의 길이(l2)가 서로 다르게 결합된 날개를; 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 정지 비행이 가능한 날개짓 추진 기구. 2 제 1항에 있어서, 상기 구동부는 압전 소자인 것을 특징으로 하는 정지 비행이 가능한 날개짓 추진 기구. 3 제 2항에 있어서, 상기 압전 소자와 상기 날개 골격 사이에 상기 압전 소자의 왕복 운동의 진폭을 증폭하는 운동 증폭부를 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 정지 비행이 가능한 날개짓 추진 기구. 4 제 3항에 있어서, 상기 운동 증폭부는, 지렛대 원리를 이용하여 상기 압전 소자의 왕복 운동을 증폭하도록 회전축을 중심으로 회동가능하게 형성된 증폭체와; 상기 압전 소자의 끝단의 왕복 운동에 따라 움직이도록 상기 증폭체의 일단에 형성된 압전 소자 결합부와; 상기 증폭체에 대하여 상기 날개 골격이 상기 날개 골격의 축을 중심으로 회동가능하도록 형성된 날개 골격 삽입부를; 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 정지 비행이 가능한 날개짓 추진 기구. 5 제 4항에 있어서, 상기 압전 소자 결합부는, 상기 압전 소자의 끝단에 압전 소자와 함께 왕복 운동되는 구동바와, 상기 증폭체의 일단에 상기 구동바를 수용하는 홈을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 정지 비행이 가능한 날개짓 추진 기구. 6 제 1항에 있어서, 상기 날개의 비틀림 각도를 제한하도록 형성된 스토퍼를 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 정지 비행이 가능한 날개짓 추진 기구. 7<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 8<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 9<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 10<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus>","KR100540180B1, KR20050053982A",null,1]
["K03172","연료전지","KR","이산화탄소와 탄화수소의 내부개질반응에 의해 전기와 합성가스를 동시에 생성하는 고체산화물 연료전지, 및 이를 이용한 전기화학적 전환반응시스템{Solid Oxide Fuel Cell(SOFC) for coproducing syngas and electricity by the internal reforming of carbon dioxide by hydrocarbons and Electrochemical membrane reactor system for application}",null,"원문이미지","KR20030074934A","2003.10.25","KR0569239B1","2006.04.03","본 발명은 탄화수소와 이산화탄소의 내부개질반응(Internal Reforming)용 고체산화물 연료전지에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 고체 산화물 전해질(YSZ)의 한쪽 면에 공기극(La0.8Sr0.2MnO3)이 부착되어 있고, 다른 한쪽 면에는 Ni-YSZ계 또는 페롭스카이트계 금속 산화물의 촉매전극(anode)이 부착되어 있는 고체산화물 연료전지로서, 전기화학적 전환반응시스템에 적용되어서는 상기 촉매전극(anode) 내부에서 탄화수소와 이산화탄소의 내부개질반응이 진행되고 동시에 전기화학적 전환반응에 의해 합성가스(syngas)와 전기에너지(electricity)를 동시에 생성시키게 되며, 특히, 탄소침적 현상이 억제되어 탄소침적에 의한 촉매의 비활성화 및 고에너지 소모의 문제점을 동시에 해결할 수 있는 장점을 가지고 있다.","1 전도성 고체산화물 전해질, 촉매전극(anode) 및 공기극(cathode)이 부착되어 구성되어진 고체산화물 연료전지(SOFC)에 있어서, 상기 촉매전극(anode)은 Ni-YSZ계 또는 페롭스카이트계 금속 산화물이 코팅되어 있고, 상기 촉매전극(anode)에서는 메탄과 이산화탄소의 내부개질반응과 전기화학반응에 의해 합성가스(syngas)와 전기(electricity)가 동시에 생성하는 것을 특징으로 하는 고체산화물 연료전지(SOFC).","문동주, 류종우, 김태윤, 박종민, 강동민, 이병권, 이상득","H01M-004/90","KR20050039465A","2005.04.29",null,"2023.10.25","1 전도성 고체산화물 전해질, 촉매전극(anode) 및 공기극(cathode)이 부착되어 구성되어진 고체산화물 연료전지(SOFC)에 있어서, 상기 촉매전극(anode)은 Ni-YSZ계 또는 페롭스카이트계 금속 산화물이 코팅되어 있고, 상기 촉매전극(anode)에서는 메탄과 이산화탄소의 내부개질반응과 전기화학반응에 의해 합성가스(syngas)와 전기(electricity)가 동시에 생성하는 것을 특징으로 하는 고체산화물 연료전지(SOFC). 2 제 1 항에 있어서, YSZ(Yttria Stabilized Zirconia) 고체 산화물 전해질의 한 쪽면에 LaSrMnO3 계 공기극(cathode)이 부착되어 있고, 다른 한쪽 면에는 Ni-YSZ계 또는 페롭스카이트계 금속 산화물의 촉매전극(anode)이 부착되어 있는 것을 특징으로 고체산화물 연료전지. 3 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 Ni-YSZ계 산화물은 Ni 40 ∼ 50 중량%, YSZ 40 ∼ 50 중량% 및 CeO2 또는 MgO 0 ∼ 10 중량%가 함유되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 고체산화물 연료전지. 4 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 페롭스카이트계 산화물은 La1-ySryNi1-xCrxO3(x=0∼1, y=0∼1)의 조성을 이루고 있는 것을 특징으로 하는 고체산화물 연료전지. 5 가스공급부(200), 상기 가스공급부와 연결되어 있으면서 전기화학연료전지가 장착된 가스반응부(100) 및 상기 가스반응부의 반응결과를 측정 및 제어하는 측정제어부(300)로 구성되는 전기화학적 전환반응시스템에 있어서, 상기 가스공급부(200)를 통하여 이산화탄소(CO2)와 메탄(CH4)이 포함된 혼합가스가 가스반응부(100)로 유입되고, 상기 가스반응부(100)에는 YSZ(Yttria Stabilized Zirconia) 고체 산화물 전해질의 한쪽 면에 LaSrMnO3 계 공기극(cathode)이 부착되어 있고, 다른 한쪽 면에는 Ni-YSZ계 또는 페롭스카이트계 금속 산화물의 촉매전극(anode)이 부착되어 있는 고체산화물 연료전지(SOFC)가 장착되어 있으며, 상기 촉매전극(anode) 내부에서는 이산화탄소(CO2)와 메탄(CH4)의 내부개질반응과 전기화학반응에 의해 합성가스(syngas)와 전기에너지가 동시에 생성되는 것을 특징으로 하는 전기화학적 전환반응시스템. 6 제 5 항에 있어서, 상기 혼합가스는 CH4 : CO2 : H2O : O2 : H2 : CO가 1 : 0.4∼0.6 : 0.4∼0.7 : 0.01∼0.2 : 0∼1 : 0∼1 부피비를 이루고 있는 것을 특징으로 하는 전기화학적 전환반응시스템. 7 제 5 항에 있어서, 상기 시스템을 온실가스, CO2와 CH4가 반응의 부산물로 생성되는 공정, 열원으로 수소, 천연가스 및 석유를 사용하는 공정, 석유화학공정, 시멘트공정, 쓰레기 매립가스 및 화력 발전소에서 배출되는 폐가스 처리 공정에 적용되는 것을 특징으로 하는 전기화학적 전환반응시스템. 8 1) La1-ySry Ni1-xCrxO3(x=0 ∼ 1, y=0 ∼ 1)의 조성 범위를 이루고 있는 금속 전구체 수용액을 제조하는 단계, 2) 상기 전구체 수용액에, 말릭산(malic acid)을 첨가하여 총 금속 이온에 대한 말릭산의 몰분율이 0.5 ∼ 2.0 범위가 되도록 조절하는 단계, 3) 상기 전구체 수용액의 pH가 1.5 ∼ 3.5 범위 되도록 pH 조절제를 첨가하는 단계, 4) 상기 전구체 수용액을 건조 및 열처리하여 분말을 얻는 단계, 5) 상기 분말을 공기 분위기 하에서 800 ∼ 1,000 ℃ 온도에서 1 ∼ 5 시간동안 소성하여, La1-ySry Ni1-xCrxO3(x=0∼1, y=0∼1)의 조성을 가지는 페롭스카이트계 촉매물질을 얻는 단계; 및 6) 펠렛형 고체산화물 전해질의 한 면에 상기에서 제조한 촉매전극 슬러리를 코팅하고, 전해질 펠렛의 다른 쪽면에는 공기극 전극물질(LSM)을 코팅한 후에, 건조 및 소성하여 디스크(disk)상의 전기화학 단위전지(electrochemical cell)를 제조하는 단계가 포함되는 것을 특징으로 하는 메탄과 이산화탄소의 내부개질반응용 전기화학 단위전지의 제조방법. 9 1) NiO 40 ∼ 50 중량%, YSZ 40 ∼ 50 중량% 및 MgO 또는 CeO2 0 ∼ 10 중량%를 함유하는 전구체 수용액을 제조하는 단계, 2) 상기 전구체 수용액내 고형분 함량 100 중량%를 기준으로, 바인더로서 메틸 셀룰로오스 0.3 ∼ 1.2 중량%, 카보닐메틸 셀룰로오스 0.8 ∼ 1.5 중량% 및 폴리에틸렌 옥사이드 1.3 ∼ 2 중량%와 분산제로서 이소프로필알콜(IPA) 1 ∼ 5 중량%를 첨가하고 혼합한 후, 볼 밀링하여 Ni-YSZ계 촉매전극 슬러리를 제조하는 단계; 3) 펠렛형 고체산화물 전해질의 한 면에 상기에서 제조한 촉매전극 슬러리를 코팅하고, 전해질 펠렛의 다른 쪽면에는 공기극 전극물질(LSM)을 코팅한 후에, 건조 및 소성하여 디스크(disk)상의 전기화학 단위전지(electrochemical cell)를 제조하는 단계가 포함되는 것을 특징으로 하는 탄화수소와 이산화탄소의 내부개질반응용 전기화학 단위전지의 제조방법.","KR100569239B1, KR20050039465A, US2005089740A1, US7410717B2, US2009061078A1",null,1]
["K03167","연료전지","KR","혼합 가스 연료 전지 방식에 의한 벌집형 고체산화물연료전지의 단전지, 이를 이용한 스택 구조 및 그 작동 방법{Unit cell of honeycomb-type solid oxide fuel cell by the method of Mixed Gas Fuel Cell, stack design using thereit, method to work the same}",null,"원문이미지","KR20040023640A","2004.04.07","KR0534022B1","2005.11.30","본 발명에서는, 벌집형 SOFC 단전지에 있어서, 탄화수소 부분산화[partial oxidation, 또는 산화개질 (oxyreforming)]용 촉매를 보유하고, 탄화수소 및 공기의 혼합 가스가 주입되는, 연료극 채널; 상기 연료극 채널과 독립적으로 설치되며, 탄화수소 비활성 촉매를 보유하고, 탄화수소 및 공기의 혼합 가스가 주입되는 공기극 채널; 및 상기 연료극 채널 및 상기 공기극 채널의 사이에 형성되는 이온 전도성 고체 전해질층;을 포함하는 것을 특징으로 하는 MGFC 방식에 의한 벌집형 SOFC의 단전지를 개시하고, 또한, 상기 단전지가 복수개 적층되고, 상기 단전지의 연료극 채널 및 공기극 채널의 구멍 크기와 같은 크기의 구멍 크기를 갖는 망형태의 집전체가 상기 연료극 채널 및 상기 공기극 채널의 상단부 또는 하단부에 설치되는 것을 특징으로 하는 MGFC 방식에 의한 벌집형 SOFC의 단전지를 이용한 스택 구조를 개시하며, 또한, 벌집형 SOFC의 작동 방법에 있어서, 벌집형 SOFC 스택 구조중 연료극 채널에 탄화수소 부분산화용 촉매 분말을 충진하거나 또는 코팅하는 단계(S1); 상기 벌집형 SOFC 스택구조중 공기극 채널에 탄화수소 비활성 촉매 분말을 충진하거나 또는 코팅하는 단계(S2); 및 상기 연료극 채널 및 상기 공기극 채널에 탄화수소 및 공기의 혼합가스를 동시에 주입하는 단계(S3);를 포함하는 것을 특징으로 하는 MGFC 방식에 의한 벌집형 SOFC의 작동 방법을 개시한다. 본 발명에 따른 혼합 가스 연료 전지 방식에 의한 벌집형 고체산화물 연료전지의 단전지, 이를 이용한 스택 구조 및 그 작동 방법에 따라, 벌집형 SOFC에 있어서, 탄화수소와 공기 혼합가스를 직접 공기극 및 연료극에 동시에 주입함으로써, 기체밀봉이 필요 없이 벌집형 SOFC 전지를 작동시킬 수 있으며, 열충격에 강하고, z축 방향으로 적층이 용이한 장점을 갖는다. 또한, 단위부피 당 연료전지 반응 면적을 최대로 하여 출력밀도를 높일 수 있고, 연료극 쪽에 충진된 탄화수소 부분산화용 촉매에 의해 탄화수소의 전환율을 높여 연료극 쪽의 탄소 침적 문제를 해결할 수 있다는 장점을 갖는다. 또한, 연료극 쪽 채널에 형성된 탄화수소 부분산화용 촉매에 의해 열사이클 시 저온까지 환원분위기를 유지할 수 있어 연료극의 산화-환원에 의한 전지 구조 변화를 최소화할 수 있다. 또한, 연료극 채널은 공기극 채널과 독립적으로 형성되어 있어 연료극 쪽에서 생성된 수소 및 일산화탄소와 같은 연료극 연료가 공기극 연료 즉, 산소와 섞이는 것을 방지할 수 있으므로 높은 개회로 전압 및 전지 성능을 달성할 수 있다. 또한, 종래의 MGFC 형의 SOFC 스택보다 연료극과 공기극 간의 크로스 오버 현상을 줄일 수 있다. 그리고, 전해질을 벌집형태로 제조함에 의해 기존의 압출 공정등을 이용할 수 있음에 따라 제조 단가를 낮출 수 있다.","1 벌집형 SOFC 단전지에 있어서, 탄화수소 부분산화용 촉매를 보유하고, 탄화수소 및 공기의 혼합 가스가 주입되는, 연료극 채널; 상기 연료극 채널과 독립적으로 설치되며, 탄화수소 비활성 촉매를 보유하고, 탄화수소 및 공기의 혼합 가스가 주입되는 공기극 채널; 및 상기 연료극 채널 및 상기 공기극 채널의 사이에 형성되는 이온 전도성 고체 전해질층;을 포함하는 것을 특징으로 하는 MGFC 방식에 의한 벌집형 SOFC의 단전지.","홍성안, 오인환, 임태훈, 남석우, 하흥용, 윤성필, 한종희, 조은애","H01M-008/02","KR20050098420A","2005.10.12",null,"2024.04.07","1 벌집형 SOFC 단전지에 있어서, 탄화수소 부분산화용 촉매를 보유하고, 탄화수소 및 공기의 혼합 가스가 주입되는, 연료극 채널; 상기 연료극 채널과 독립적으로 설치되며, 탄화수소 비활성 촉매를 보유하고, 탄화수소 및 공기의 혼합 가스가 주입되는 공기극 채널; 및 상기 연료극 채널 및 상기 공기극 채널의 사이에 형성되는 이온 전도성 고체 전해질층;을 포함하는 것을 특징으로 하는 MGFC 방식에 의한 벌집형 SOFC의 단전지. 2 제 1 항에 있어서, 상기 단전지는, 상기 연료극 채널과 상기 공기극 채널이, 이온 전도성 고체 전해질층을 사이에 두고, 상호 인접하면서 교대로 형성된 구조인 것을 특징으로 하는 MGFC 방식에 의한 벌집형 SOFC의 단전지. 3 제 1 항에 있어서, 상기 탄화수소 비활성 촉매는, 알루미나, 실리카 또는 지르코니아인 것을 특징으로 하는 MGFC 방식에 의한 벌집형 SOFC의 단전지. 4 제 1 항에 있어서, 상기 연료극 재료는, Pt; Ag; Au; Rh; Ir; Pd; Ru; Ni; 및 Cu;로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 적어도 어느 하나의 금속 및 이온 전도성 세라믹 물질의 서멧트로 이루어지는 것을 특징으로 하는 MGFC 방식에 의한 벌집형 SOFC의 단전지. 5 제 1 항에 있어서, 상기 공기극 재료는, Pt; Ag; Au; Rh; Ir; Pd; Ru; x가 0.5 이하인 (La1-XSrX)MnO3; x가 0.5 이하인 (La1-XCarX)MnO3; x가 0.6 이하인 (La1-XSrX)CoO 3; 및 x가 0.4 이하이고 y가 0.8 이하인 (La1-XSrX)(Co1-yFey)O3;로 구성된 그룹으로부터 선택되는 적어도 하나 이상의 금속 또는 산화물인 것을 특징으로 하는 MGFC 방식에 의한 벌집형 SOFC의 단전지. 6 제 1 항 내지 제 5 항중 어느 한 항에 의한 단전지가 복수개 적층되고, 상기 단전지의 연료극 채널 및 공기극 채널의 구멍 크기와 같은 크기의 구멍 크기를 갖는 망형태의 집전체가 상기 연료극 채널 및 상기 공기극 채널의 상단부 또는 하단부에 설치되는 것을 특징으로 하는 MGFC 방식에 의한 벌집형 SOFC의 단전지를 이용한 스택 구조. 7 제 6 항에 있어서, 상기 집전체는, Pt, Ag, Au, Ni, Cu 또는 이들의 합금 형태로 구성되는 것을 특징으로 하는 MGFC 방식에 의한 벌집형 SOFC의 단전지를 이용한 스택 구조. 8 벌집형 SOFC의 작동 방법에 있어서, 벌집형 SOFC 스택 구조중 연료극 채널에 탄화수소 부분산화용 촉매 분말을 충진하거나 또는 코팅하는 단계(S1); 상기 벌집형 SOFC 스택구조중 공기극 채널에 탄화수소 비활성 촉매 분말을 충진하거나 또는 코팅하는 단계(S2); 및 상기 연료극 채널 및 상기 공기극 채널에 탄화수소 및 공기의 혼합가스를 동시에 주입하는 단계(S3);를 포함하는 것을 특징으로 하는 MGFC 방식에 의한 벌집형 SOFC의 작동 방법. 9 제 8 항에 있어서, 상기 방법은, 상기 탄화수소가 메탄, 에탄, 프로판, 부탄, 경유 또는 휘발유인 것을 특징으로 하는 MGFC 방식에 의한 벌집형 SOFC의 작동 방법.","KR100534022B1, KR20050098420A",null,1]
["F01982","화학","JP","콜로이드 여과에 있어서 막의 농도 분극 오염을 예측하는 방법 및 이것을 행하는 프로그램을 기록한 매체",null,"원문이미지","JP2004100676A","2004.03.30","JP3850844B9","2006.09.08","(57)【요약】 【과제】본 발명은 다공성막을 이용한 입자 분산액의 한외 여과 수행의 때, 농도 분극층에 있어서의 입자의 농도 분포를 산출하고 입자들의 예산에 의한 농도 분극 오염을 예측하는 방법 및 이것을 행하는 프로그램을 저장한 기록 매체를 제공하는 것.【해결 수단】본 발명에 의하면, 여과 플럭스의 실험 데이터와, 여기에 수치 해법을 적용하고 계산한 농도 차이 확산 계수로부터 농도 분극층에 있어서, 입자의 농도 분포를 산출하는 것이 할 수 있다. 본 발명을 이용한 것에 의해, 입자 분산액의 막 여과 프로세스에 있어서의 필연적인 농도 분극 오염에 대한 정량적 예측이 가능하고, 오염 특성 제어 및 설계의 기본 자료를 확보하는 것이 할 수 있다.【선택도】 낳고","【청구항 1】 다공성막을 이용한 한외 여과 수행의 때, 여과 시간이 경과하면서, 상기막 표면상에 입자가 쌓이는 때, 농도 분극층으로 입자의 농도 분포를 산출하는 방법 이고, 여과 플럭스, 여과 체적 및 여과 플럭스의 미분 값으로부터 침투압 및 열역학 계수를 구하는 스텝(d)다고, 유체 역학 계수 및 상기 열역학 계수로부터 농도 차이 확산 계수를 구하는 스텝(e)다고, 상기 농도 차이 확산 계수와, 케이크 층 및 벌크로의 입자 농도 및 상기 여과 플럭스로부터 농도 분극층으로의 입자 농도 분포를 구하는 스텝(f)다고, 을 포함하는 것을 특징으로 하는 농도 분극층으로 입자의 농도 분포를 산출하는 방법.","チュン,  ミュン-スク, キム,  ホンゴン, ナン,  スク-ウ­","B01D-061/14","JP2005125303A","2005.05.19","2003-10-27 (KR 2003-075201)","2024.03.30","【특허청구의 범위】 【청구항 1】 다공성막을 이용한 한외 여과 수행의 때, 여과 시간이 경과하면서, 상기막 표면상에 입자가 쌓이는 때, 농도 분극층으로 입자의 농도 분포를 산출하는 방법 이고, 여과 플럭스, 여과 체적 및 여과 플럭스의 미분 값으로부터 침투압 및 열역학 계수를 구하는 스텝(d)다고, 유체 역학 계수 및 상기 열역학 계수로부터 농도 차이 확산 계수를 구하는 스텝(e)다고, 상기 농도 차이 확산 계수와, 케이크 층 및 벌크로의 입자 농도 및 상기 여과 플럭스로부터 농도 분극층으로의 입자 농도 분포를 구하는 스텝(f)다고, 을 포함하는 것을 특징으로 하는 농도 분극층으로 입자의 농도 분포를 산출하는 방법. 【청구항 2】 다공성막을 이용한 한외 여과 수행의 때, 여과시문이 경과하면서, 상기막 표면상에 입자가 쌓이는 때, 농도 분극층으로 입자의 농도 분포를 산출하는 방법 이고, 한외 여과 수행을 통하여 여과 시간에 의한 여과 플럭스(dV/dt)의 데일 타를 얻는 스텝(a)다고, 상기 여과 플럭스 데이터로부터 여과 시간에 의한 여과 체적(V)을 구하는 스텝(b) 다고, 상기 여과 플럭스 데이터로부터 여과 시간에 의한 여과 플럭스의 징후분 값(d2V/dt2)을 구하는 스텝(c)다고, 상기 여과 플럭스, 여과 체적 및 여과 플럭스의 미분 값으로부터 침투압 및 열역학 계수를 구하는 스텝(d)다고, 유체 역학 계수 및 상기 열역학 계수로부터 농도 차이 확산 계수를 구하는 스텝(e)다고, 상기 농도 차이 확산 계수와, 케이크 층 및 벌크로의 입자 농도 및 상기 여과 플럭스로부터 농도 분극층으로의 입자 농도 분포를 구하는 스텝(f)다고, 을 포함하는 것을 특징으로 하는 농도 분극층으로 입자의 농도 분포를 산출하는 방법. 【청구항 3】 상기 스텝(d)은, 임의의 시간에 있어서, 상기 여과 플럭스 값 및 하기 수식 1으로부터 상기 침투압을 구하는 스텝(d1)다고, 상기 시간에 있어서, 상기 여과 체적, 여과 후라츠쿠스 및 여과 후라츠쿠스의 미분 값을 하기 수식 2에 대입하고, 뉴톤?로손(Newton-Raphson)이 반복하고 수치 해법을 적용하고 입자 농도 C을 구하는 스텝(d2)다고, 다양한 시간에 대하여 상기 스텝(d1)및(d2)을 행하고 입자 농도 C과 상기 침투압의 관계를 구하는 스텝(d3)다고, 상기 입자 농도 C과 침투압의 관계로부터 하기 수식 3에 의하여 상기 열역학 계수 S(C)을 구하는 스텝(d4)다고, 을 포함하는 것을 특징으로 하는 청구항 2에 기재의 방법. 【청구항 4】 상기 스텝(e)에 있어서, 상기 농도 차이 확산 계수 D(C)은 하기 수식 4에 따라서 구하는 것을 특징으로 하는 청구항 2 또는 청구항 3에 기재의 방법. 상기식으로, D0 파 얇은 입자 농도에 있어서의 스토쿠스아인슈타인(Stokes-Einstein)식에 따라서 kT/6πη0a으로 정의하게 되는 계수 이다(여기에서, k,T 및 a은 청구항 3에 의한 수식 3으로 정의한 대로 이고,η0은 끈적거리다 도이다) . 유체 역학 계수 K(C)은 하기 수식 5으로 정의해(여기에서, C은 입자가 진하다 도이다), S(C)은 청구항 3에 의한 수식 3 대로 이다. 【청구항 5】 상기 스텝(f)에 있어서, 상기 입자의 농도 분포는 하기 수식 6에 의하여 구하는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 방법. 상기식으로, cb은 벌크로의 입자 농도로, Cc은 케이크 층에서의 입자 농도, A은 유효 표면적으로, y은 막 필터로부터의 수직 거리로, D은 농도 차이 확산 계수 이다. 【청구항 6】 다공성막을 이용한 한외 여과 수행의 때, 여과 시간이 경과하면서, 상기막 표면상에 입자가 쌓이는 때, 농도 분극층으로 입자의 농도 분포를 산출하기 위한 컴퓨터로 해독 가능한 기록 매체 이고, 한외 여과 수행을 통하여 여과 시간에 의한 여과 플럭스(dV/dt)의 데이터를 얻는 스텝(a)다고, 상기 여과 플럭스의 데이터를 수치적분 하고 여과 시간에 의한 여과 체적(V)을 구하는 스텝(b)다고, 상기 여과 플럭스 데이터를 수치 미분하고 여과 시간에 의한 여과 플럭스의 미분 값(d2V/dt2)을 구하는 스텝(c)다고, 상기 여과 체적 및 여과 플럭스의 미분 값으로부터 청구항 3에 의한 수식 1, 수식 2 및 수식 3을 이용하고 침투압 및 열역학 계수를 구하는 스텝(d)다고, 유체 역학 계수 및 상기 열역학 계수로부터 청구항 4에 의한 수식 4을 이용하고 농도 차이 확산 계수를 구하는 스텝(e)다고, 상기 농도 차이 확산 계수와, 케이크 층 및 벌크로의 입자 농도 및 상기 여과 플럭스로부터 청구항 5에 의한 수식 6을 이용하고 농도 분극층으로의 입자 농도 분포를 구하는 스텝(f)다고, 을 구현하는 프로그램을 저장한 기록 매체. 【청구항 7】 전기록 스텝(d)은, 임의의 시간에 있어서, 상기 여과 플럭스 값 및 상기 수식 1으로부터 상기 침투압을 구하는 스텝(d1)다고, 상기 시간에 있어서, 상기 여과 체적, 여과 플럭스 및 여과 플럭스의 미분 값을 상기 수식 2에 대입하고, 뉴톤?로손(Newton-Raphson)이 반복하고 수치 해법을 적용하고 입자 농도 C을 구하는 스텝(d2)다고, 다양한 시간에 대하여 상기 스텝(d1)및(d2)을 행하고 입자 농도 C과 상기 침투압의 관계를 구하는 스텝(d3)다고, 상기 입자 농도 C과 침투압의 관계로부터 상기 수식 3에 의하여 상기 열역학 계수 S(C)을 구하는 스텝(d4)다고, 을 포함하는 것을 특징으로 하는 청구항 6에 기재의 컴퓨터로 해독 가능한 기록 매체.","JP2005125303A, JP3850844B2, KR100568079B1, KR20050040061A",null,1]
["K03157","광학","KR","ＭＭＩ 구조를 이용한 집적 광 아이솔레이터{Integrated Optical Isolator using Multi-Mode Interference structure}",null,"원문이미지","KR20030071073A","2003.10.13","KR0524580B1","2005.10.21","본 발명은 다중모드 간섭형(Multi-Mode Interference : MMI) 구조 및 자기 광학 물질로 이루어진 클래딩층 이용하여 광 진행시 발생하는 불필요한 반사광들을 제거하고 단길이 집적화가 가능한 MMI 구조의 집적 광 아이솔레이터를 구현하는 것으로서, 광의 진행방향에 따라 광학적 성질들이 변화하는 비가역적 위상변위 효과를 이용한다. 광도파로 형태의 광 아이솔레이터를 구현하기 위해서는 입력되는 광을 동일한 파워를 가지는 두개의 광도파로로 나눠야 한다. 즉, 광 아이솔레이터 소자의 길이를 줄이기 위해서는 입력광을 두개의 도파로로 분리하는데 필요한 길이가 짧아져야 한다. MMI 구조의 광도파로는 입력광을 두개의 도파로로 나누는데 필요한 길이가 마하 젠더 형태의 광도파로보다 훨씬 짧기 때문에 광 아이솔레이터 소자의 길이를 줄일 수 있게 된다. 또한 MMI 구조는 제작상의 허용오차가 크므로 제작이 용이한 장점을 가진다.","1 기판과; 상기 기판상에 웨이퍼 직접 결합법에 의해 형성된 2개의 MMI 광분리기와; 상기 MMI 광분리기에서 분기된 2개의 아암상에 형성된 클래딩층과; 상기 클래딩층상에 형성되고, 서로 반대 방향의 자기장을 형성하는 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 집적 광 아이솔레이터.","김영일, 윤태훈, 이석, 우덕하, 김선호, 김희중, 이관수, 김성규, 박민철, 손창완","G02B-006/12","KR20050035412A","2005.04.18",null,"2023.10.13","1 기판과; 상기 기판상에 웨이퍼 직접 결합법에 의해 형성된 2개의 MMI 광분리기와; 상기 MMI 광분리기에서 분기된 2개의 아암상에 형성된 클래딩층과; 상기 클래딩층상에 형성되고, 서로 반대 방향의 자기장을 형성하는 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 집적 광 아이솔레이터. 2 청구항 1에 있어서, 상기 MMI 광분리기는 입력되는 광을 동일한 파워를 가지는 두개의 광으로 분리하는 것을 특징으로 하는 집적 광 아이솔레이터. 3 청구항 1에 있어서, 상기 클래딩층은 비가역적 위상변위를 제공하는 자기 광학 물질(Ce:YIG)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 집적 광 아이솔레이터.","JP2005122169A, KR100524580B1, KR20050035412A, US2005094923A1",null,1]
["K03114","반도체","KR","원자층 성장법을 이용한 반도체 양자점 성장 방법{METHOD FOR GROWING QUANTUM DOTS USING AN ATOMIC LAYER EPITAXY}",null,"원문이미지","KR20030074986A","2003.10.27","KR0508850B1","2005.08.09","본 발명은 ALE(Atomic Layer Epitaxy)를 사용하여 반도체 양자점들(semiconductor quantum dots)을 성장시키기 위한 방법에 관한 것이다. 이 방법은 a) 기판을 마련하는 단계와, b) 반도체 양자점을 성장시키기 위한 물질들을 적어도 하나의 시간 간격을 갖는 사전설정된 시퀀스(sequence)에 따라 상기 기판 상에 주입하는 단계와, c) 단계 b)를 사전설정된 횟수만큼 반복하여 반도체 양자점을 성장시키는 단계를 포함한다. 여기서, 단계 b)는 ALE(Atomin Layer Epitaxy) 법을 사용하여 수행되며, 주입 물질들은 금속 원자와 비금속 원자를 포함한다.","1 반도체 양자점을 성장시키기 위한 방법에 있어서, a) 기판을 마련하는 단계와, b) 반도체 양자점을 성장시키기 위한 물질들을 적어도 하나의 시간 간격을 갖는 사전설정된 시퀀스(sequence)에 따라 상기 기판 상에 주입하는 단계와, c) 상기 단계 b)를 사전설정된 횟수만큼 반복하여 상기 반도체 양자점을 성장시키는 단계 를 포함하되, 상기 단계 b)는 ALE(Atomic Layer Epitaxy) 법을 사용하여 수행되며, 상기 주입 물질들은 금속 원자와 비금속 원자를 포함하는 반도체 양자점 성장 방법.","송진동, 박용주, 최원준, 한일기, 이정일","H01L-029/06","KR20050039911A","2005.05.03",null,"2023.10.27","1 반도체 양자점을 성장시키기 위한 방법에 있어서, a) 기판을 마련하는 단계와, b) 반도체 양자점을 성장시키기 위한 물질들을 적어도 하나의 시간 간격을 갖는 사전설정된 시퀀스(sequence)에 따라 상기 기판 상에 주입하는 단계와, c) 상기 단계 b)를 사전설정된 횟수만큼 반복하여 상기 반도체 양자점을 성장시키는 단계 를 포함하되, 상기 단계 b)는 ALE(Atomic Layer Epitaxy) 법을 사용하여 수행되며, 상기 주입 물질들은 금속 원자와 비금속 원자를 포함하는 반도체 양자점 성장 방법. 2 제 1 항에 있어서, 상기 기판 상에 주입되는 상기 물질들의 두께는 1 내지 2 단일층두께를 갖는 반도체 양자점 성장 방법. 3 제 1 항에 있어서, 상기 물질들은 상기 기판과 격자부정합도가 높은 물질들인 반도체 양자점 성장 방법. 4 제 1 항에 있어서, 상기 주입 물질들 중 상기 금속 원자는 상기 시간 간격 동안 상호 뭉침 작용을 통해 반도체 양자점으로 성장하고, 상기 비금속 원자는 상기 성장된 반도체 양자점을 상기 기판 상에 고정시키는 반도체 양자점 성장 방법. 5 제 1 항에 있어서, 상기 시간 간격은 상기 주입 물질들의 종류에 근거하여 설정되는 반도체 양자점 성장 방법.","KR100508850B1, KR20050039911A",null,1]
["F01903","재료","US","Method of fabricating ultra-fine cermet alloys with homogeneous solid grain structure",null,"원문이미지","US10/681009","2003.10.08","US7217390","2007.05.15","The present invention relates to a method of fabricating ultra-fine grain cermet alloys with a homogenous solid solution grain structure. More particularly, the invention relates to a method of fabricating an ultra-fine TiC-base cermet alloy with a homogenous solid solution structure which does not comprise a core-rim structure in the carbide grain. The object of the present invention is to provide a method of fabricating a TiC-base cermet alloy without the core-rim structure. The above objects of the present invention could be achieved by employing a conventional sintering process (vacuum sintering) of (Ti,TM)C carbide obtained from a mechano-chemical synthesis (high energy ball-milling) from milling the powders of Ti, TM, Ni and Co metals.","1. A fabrication method of an ultra-fine TiC-base cermet alloy with a homogenous solid solution grain structure comprising the steps of: forming powder mixture of TiC 50-90 wt % (weight percentage), TMxCy (where x and y are integers) 5-30 wt % and Ni or Co or a mixture of Ni and Co 5-30 wt % from mixing titanium (Ti) powder, transition metal (TM) powder, carbon (C) powder and nickel (Ni) powder or cobalt (Co) powder or both Ni powder and Co powder; synthesizing a nano-composite powder of (Ti, TM)C-(Ni, Co) through a high energy ball-milling of previously said powder mixture by putting into a milling jar together with balls with a fixed diameter; and compacting and sintering said synthesized composite powder.","Shim; Jae Hyeok, Park; Jong Ku, Cho; Young Whan","B22F-001/00","US20050047950A1","2005.03.03","2003.08.26 (KR 10-2003-0058941)","2025.02.01","1. A fabrication method of an ultra-fine TiC-base cermet alloy with a homogenous solid solution grain structure comprising the steps of: forming powder mixture of TiC 50-90 wt % (weight percentage), TMxCy (where x and y are integers) 5-30 wt % and Ni or Co or a mixture of Ni and Co 5-30 wt % from mixing titanium (Ti) powder, transition metal (TM) powder, carbon (C) powder and nickel (Ni) powder or cobalt (Co) powder or both Ni powder and Co powder; synthesizing a nano-composite powder of (Ti, TM)C-(Ni, Co) through a high energy ball-milling of previously said powder mixture by putting into a milling jar together with balls with a fixed diameter; and compacting and sintering said synthesized composite powder. 2. The method as claimed in claim 1, wherein said Ti powder, transition metal powder, carbon powder, Ni powder and Co powder have a purity value above 95% and their diameter size is less than 1 mm. 3. The method as claimed in claim 1, wherein the basic material for said milling jar and the balls is at least one material selected from the group consisting of tool steel, stainless steel, WC-Co hard metal, silicon nitride, alumina, and Zirconia. 4. The method as claimed in claim 1, wherein said transition metal is at least one metal element selected from the group consisting of molybdenum (Mo), tungsten (W), niobium (Nb), vanadium (V) and chromium (Cr). 5. The method as claimed in claim 1, wherein the diameters of said balls are in a range between 5 and 30 mm and the weight ratio between the balls, which is put into the milling jar, and the powder mixture is in a range between 1:1 and 1:100. 6. The method as claimed in claim 1, further including a step of measuring the surface temperature of the milling jar using a non-contact type infrared thermometer during said high energy ball milling process. 7. The method as claimed in claim 1, further including a step of continuing said ball milling process for 1 to 20 hours if a sharp rise in temperature on the surface of the milling jar is detected. 8. The method as claimed in claim 1, wherein said high energy ball milling process is implemented using a shaker mill, vibration mill, planetary mill or attritor mill. 9. The method as claimed in claim 1, wherein said high energy ball-milling process is implemented after charging argon gas into the milling jar. 10. The method as claimed in claim 1, wherein said sintering is carried out under a 10?2 torr vacuum condition or under an argon environment in a temperature range between 1300 and 1500° C. for a duration of 1 to 4 hours. 11. The method as claimed in claim 6, wherein said high energy ball milling process is implemented using a shaker mill, vibration mill, planetary mill or attritor mill. 12. The method as claimed in claim 7, wherein said high energy ball milling process is implemented using a shaker mill, vibration mill, planetary mill or attritor mill. 13. The method as claimed in claim 6, wherein said high energy ball-milling process is implemented after charging argon gas into the milling jar. 14. The method as claimed in claim 7, wherein said high energy ball-milling process is implemented after charging argon gas into the milling jar.","JP2005068547A, KR100528046B1, KR20050021753A, US2005047950A1, US7217390B2",null,1]
["K03096","광학","KR","광통신 시스템용 가변 분산 보상기{TUNABLE DISPERSION COMPENSATOR FOR OPTICAL TELECOMMUNICATION SYSTEM}",null,"원문이미지","KR20030062517A","2003.09.08","KR0786649B1","2007.12.11","본 발명은 광통신 시스템에 사용하기 위한 첩 광섬유 격자를 기반으로 하는 가변 분산 보상기에 관한 것으로서, 링(ring) 형태의 회전하는 외부 원판, 외부 원판 안쪽의 공간상에 회전하지 않도록 설치한 내부 원판, 첩 광섬유 격자를 부착하기 위한 소정의 길이를 갖는 금속판 및 금속판을 고정시키기 위한 제 1 및 제 2 금속판 홀더를 포함하는 가변 분산 보상기를 제공한다.","1 가변 분산 보상기로서, 원판; 상기 원판과 독립적으로 움직이고 상기 원판을 둘러싸는 링; 그 일면에 적어도 하나의 광 섬유 격자가 부착되고, 상기 원판을 가로지르며, 상기 링의 회전에 따라 움직이는 각 단부를 갖는 벤딩 가능한 판; 및 상기 판을 상기 링에 고정시키기 위한 제1 홀더 및 제2 홀더 - 상기 제1 홀더 및 상기 제2 홀더 각각은 상기 링에 연결되는 회전축과 상기 원판에 연결되는 고정축을 포함함 - 를 포함하는 가변 분산 보상기.","배준기, 김준희, 한영근, 김상혁, 이상배","G02B-006/02","KR20050025709A","2005.03.14",null,"2023.09.08","1 가변 분산 보상기로서, 원판; 상기 원판과 독립적으로 움직이고 상기 원판을 둘러싸는 링; 그 일면에 적어도 하나의 광 섬유 격자가 부착되고, 상기 원판을 가로지르며, 상기 링의 회전에 따라 움직이는 각 단부를 갖는 벤딩 가능한 판; 및 상기 판을 상기 링에 고정시키기 위한 제1 홀더 및 제2 홀더 - 상기 제1 홀더 및 상기 제2 홀더 각각은 상기 링에 연결되는 회전축과 상기 원판에 연결되는 고정축을 포함함 - 를 포함하는 가변 분산 보상기. 2 제 1 항에 있어서, 상기 원판, 상기 링 및 상기 판의 중심은 동일한 지점에 위치하는 가변 분산 보상기. 3 제 2 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 홀더 각각의 회전축은 상기 링에 위치하고, 상기 링의 회전 방향을 따라 회전하며, 상기 제1 및 제2 홀더 각각의 고정축은 상기 원판에 위치하고, 상기 링이 회전될 때 고정되는 가변 분산 보상기. 4 제 3 항에 있어서, 상기 판의 2개의 부분은 상기 제1 홀더 및 상기 제2 홀더 각각의 회전축에 고정되어 상기 링의 회전에 따라 상기 판이 벤딩(bending)되는 가변 분산 보상기. 5 제 4 항에 있어서, 상기 링의 회전으로 인하여 상기 판은 그 중심에 대해 대칭적으로 벤딩되는 가변 분산 보상기. 6 제 5 항에 있어서, 상기 판은 금속으로 이루어지는 가변 분산 보상기.","JP2005084694A, JP4137033B2, KR100786649B1, KR20050025709A, US2005084209A1, US7171079B2","S",3]
["F01980","광학","JP","광통신 시스템용 가변 분산 보상기",null,"원문이미지","JP2004260676A","2004.09.08","JP4137033B9","2008.06.13","(57)【요약】 【과제】분산 보상을 위한 제어 방식을 간단함화하고, 처프 광파이버 격자의 선형적인 분산 경사 및 분산 경사의 제어 범위를 향상하게 하는 광통신 시스템용 가변 분산 보상기를 제공한다.【해결 수단】링(ring)형태의 회전하는 외부 원판 1, 외부 원판 내측의 공간상에 회전하지 않도록 설치한 내부 원판 2, 처프 파이바 격자 6a을 설치하기 위한 소정의 길이를 가지는 금속판 6b 및 금속판을 고정하게 하기 위한 제1 및 제2 금속판 홀더 5a,5b을 구비하고, 고정 수단의 각각은, 고정 수단의 일부분을 제1 원판이라고 연결하기 위한 제1축 3a,4a, 및 고정 수단의 다른 일부분을 제2 원판이라고 연결하기 위한 제2축 3b,4b을 구비한다.【선택도】 그림 3","【청구항 1】 원판과, 상기 원판을 둘러싸고 상기 원판과 독립적에 움직일 수 있는 링과, 그 온통 적어도 1개의 광파이버 격자가 장착되고, 상기 원판을 가로지르고 상기 링의 회전에 따라서 움직이는 각 단부를 가지는 휨 가능한 판과를 구비하는 가변 분산 보상기.","裴  峻  基, 金  俊  熙, 韓  英  根, 金  相  赫, 李  相  培","G02B-026/02,G02B-006/10","JP2005084694A","2005.03.31","2003-09-08 (KR 2003-062517)","2024.09.08","【특허청구의 범위】 【청구항 1】 원판과, 상기 원판을 둘러싸고 상기 원판과 독립적에 움직일 수 있는 링과, 그 온통 적어도 1개의 광파이버 격자가 장착되고, 상기 원판을 가로지르고 상기 링의 회전에 따라서 움직이는 각 단부를 가지는 휨 가능한 판과를 구비하는 가변 분산 보상기. 【청구항 2】 상기 원판, 상기 링 및 상기판의 중심은, 동일한 지점에 위치하는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 가변 분산 보상기. 【청구항 3】 상기판을 상기 링에 고정하게 하기 위한 제1 홀더 및 상기 제2 홀더를 더욱 구비하는 청구항 1에 기재의 가변 분산 보상기. 【청구항 4】 상기 제1 홀더 및 상기 제2 홀더는, 상기 링에 연결하게 되는 회전축 및 상기 원판에 연결하게 되는 고정축을 더욱 구비하는 청구항 3에 기재의 가변 분산 보상기. 【청구항 5】 상기 제1 홀더 및 상기 제2 홀더 각각의 회전축은 상기 링상에 위치하고, 상기 링의 회전 방향에 따라 회전하는 청구항 4에 기재의 가변 분산 보상기. 【청구항 6】 상기 제1 홀더 및 상기 제2 홀더 각각의 고정축은 상기 원판상에 위치하고, 상기 링이 회전한다고 입고 고정하게 되는 청구항 5에 기재의 가변 분산 보상기. 【청구항 7】 상기판의 2개의 부분은, 상기 제1 홀더 및 상기 제2 홀더 각각의 회전축에 고정하게 되고, 상기 링의 회전에 따라서 상기판이 구부러지는 청구항 5에 기재의 가변 분산 보상기. 【청구항 8】 상기 제1 홀더 및 상기 제2 홀더 각각의 회전축은, 상기 링에 대해 동일한 각도에 움직이는 청구항 5에 기재의 가변 분산 보상기. 【청구항 9】 상기판은, 상기 링의 회전에 의해서 그 중심에 대하여 대칭적이게 구부러지는 청구항 1에 기재의 가변 분산 보상기. 【청구항 10】 상기판은, 금속으로 되는 청구항 1에 기재의 가변 분산 보상기. 【청구항 11】 원판과, 상기 원판을 둘러싸고 상기 원판과 독립적에 회전하는 링과, 그 온통 적어도 1개의 광파이버 격자가 장착되고, 상기 원판을 가로지르고 상기 링의 회전에 따라서 움직이는 각 단부를 가지는 휨 가능한 금속판과, 상기 링에 상기 금속판을 고정하게 하는 제1 홀더 및 상기 제2 홀더와를 구비하는 가변 분산 보상기. 【청구항 12】 상기 제1 홀더 및 상기 제2 홀더는, 상기 링에 연결하게 되는 회전축 및 상기 원판에 연결하게 되는 고정축을 가지는 청구항 11에 기재의 가변 분산 보상기. 【청구항 13】 상기판의 2개의 부분은, 상기 제1 홀더 및 상기 제2 홀더 각각의 회전축에 고정하게 되고, 상기 링의 회전에 따라서 상기 금속판이 구부러지는 청구항 11에 기재의 가변 분산 보상기. 【청구항 14】 상기 제1 및 상기 제2 홀더 각각의 회전축은 상기 링상에 위치하고, 상기 링의 회전 방향에 따라 회전하는 청구항 12에 기재의 가변 분산 보상기. 【청구항 15】 상기 원판, 상기 링 및 상기 금속판의 중심은, 동일한 지점에 위치하는 것을 특징으로 하는 청구항 12에 기재의 가변 분산 보상기. 【청구항 16】 상기 제1 홀더 및 상기 제2 홀더 각각의 고정축은 상기 원판상에 위치하고, 상기 링이 회전한다고 입고 고정하게 되는 청구항 12에 기재의 가변 분산 보상기. 【청구항 17】 상기 제1 홀더 및 상기 제2 홀더 각각의 회전축은, 상기 링에 대해 동일한 각도에 움직이는 청구항 16에 기재의 가변 분산 보상기. 【청구항 18】 상기 금속판은, 상기 링의 회전에 의해서 그 중심에 대하여 대칭적이게 구부러지는 청구항 11에 기재의 가변 분산 보상기. 【청구항 19】 제1 판과, 상기 제1 판에 인접하고 상기 제1 판과 독립적에 움직이는 제2 판과, 그 온통 적어도 1개의 광파이버 격자가 장착되고, 상기 제1 판을 가로지르고 상기 제2 판의 회전에 따라서 움직이는 각 단부를 가지는 휨 가능한 제3 판과를 구비하는 가변 분산 보상기. 【청구항 20】 상기 제3 판을 상기 제2 판에 고정하기 위한 제1 홀더 및 상기 제2 홀더를 더욱 구비하고, 상기 제1 홀더 및 상기 제2 홀더는, 각각 상기 제2 판에 연결하게 되는 회전축 및 상기 제1 판에 연결하게 되는 고정축을 가지는 청구항 19에 기재의 가변 분산 보상기.","JP2005084694A, JP4137033B2, KR100786649B1, KR20050025709A, US2005084209A1, US7171079B2","S",3]
["F01979","광학","US","Tunable dispersion compensator for an optical transmission system",null,"원문이미지","US10/936109","2004.09.08","US7171079","2007.01.30","Provided is a tunable dispersion compensator based on an optical fiber grating for use in an optical transmission system. A tunable dispersion compensator comprises: a disk; a ring surrounding the disk, wherein the ring is rotatable independent of the disk; and a bendable plate crossing the disk and having end parts configured to move with the rotation of the ring, wherein at least one of the optical fiber grating is attached to the plate.","1. A tunable dispersion compensator comprising: a disk; a ring surrounding the disk, wherein the ring is rotatable independent of the disk; a bendable plate crossing the disk and having end parts configured to move with the rotation of the ring, wherein at least one optical fiber grating is attached to the plate; and a first holder and a second holder for fixing the plate to the ring, wherein each of the first and the second holders includes a rotation axis connected to the ring and a fixation axis connected to the disk.","Bae; Jun-Kye, Kim; Jun-Hee, Han; Young-Geun, Kim; Sang-Hyuck, Lee; Sang-Bae","G02B-006/34","US20050084209A1","2005.04.21","2003.09.08 (KR 10-2003-0062517)","2025.02.19","1. A tunable dispersion compensator comprising: a disk; a ring surrounding the disk, wherein the ring is rotatable independent of the disk; a bendable plate crossing the disk and having end parts configured to move with the rotation of the ring, wherein at least one optical fiber grating is attached to the plate; and a first holder and a second holder for fixing the plate to the ring, wherein each of the first and the second holders includes a rotation axis connected to the ring and a fixation axis connected to the disk. 2. The tunable dispersion compensator of claim 1, wherein centers of the disk, the ring and the plate are located at an identical position. 3. The tunable dispersion compensator of claim 1, wherein the rotation axis of each of the first and second holders is located on the ring and rotates according to the rotation direction of the ring. 4. The tunable dispersion compensator of claim 3, wherein the fixation axis of each of the first and second holders is located on the disk and is fixed when the ring rotates. 5. The tunable dispersion compensator of claim 3, wherein two points of the plate are fixed to the rotation axis of each of the first and second holders and the plate is bent according to the rotation of the ring. 6. The tunable dispersion compensator of claim 3, wherein the rotation axis of each of the first and second holders is moved with a same angle to the center of the ring. 7. The tunable dispersion compensator of claim 2, wherein the plate is bent to a symmetrical bending curve with respect to the center according to the rotation of the ring. 8. The tunable dispersion compensator of claim 1, wherein the plate is fabricated from metal. 9. A tunable dispersion compensator, comprising: a first plate; a second plate adjacent to the first plate, wherein the second plate is movable independent of the first plate; a bendable third plate crossing the first plate and having end parts configured to move with the movement of the second plate, wherein at least one optical fiber grating is attached to the third plate; and a first holder and a second holder for fixing the third plate to the second plate, wherein each of the first and second holders includes a rotation axis connected to the second plate and a fixation axis connected to the first plate.","JP2005084694A, JP4137033B2, KR100786649B1, KR20050025709A, US2005084209A1, US7171079B2","S",3]
["K03090","컴퓨터","KR","컴퓨터 시각 기반의 제스쳐 인식 시스템 및 방법{A COMPUTER VISION BASED GESTURE RECOGNITION SYSTEM AND METHOD THEREOF}",null,"원문이미지","KR20040002698A","2004.01.14","KR0559365B1","2006.03.03","본 발명은 적외선 반사체와, 영상 획득 장치와, 그리고 제스쳐 인식 알고리즘을 수행하는 컴퓨터 장치를 포함하여 구성되는 시각 인식 기반의 제스쳐 인식 시스템을 제공한다. 또한, 사용자의 적외선 반사체 골무가 적외선을 반사시키는 단계와, 상기 적외선 반사 단계에 의해 반사된 적외선이 영상 획득 장치에 의해 수신되어 검출되는 단계와, 상기 영상 검출 단계에 의해 검출된 상기 적외선 반사체의 영상이 상기 영상 획득 장치로부터 컴퓨터 장치로 입력되는 단계와, 그리고 상기 영상 입력 단계에 의해 입력된 상기 적외선 반사체 골무의 영상을 처리하여 사용자의 제스쳐를 인식하는 단계를 포함하는 시각 인식 기반에 의한 제스쳐 인식 방법을 제공한다.","1 자체에 조사되는 적외선을 반사시키는 적외선 반사체와; 상기 적외선 반사체에 의해 반사된 적외선을 수신하고 이를 검출하여 영상을 획득하는 영상 획득 장치와; 그리고 상기 영상 획득 장치로부터의 영상을 입력받아 상기 적외선 반사체의 제스쳐 모드를 인식하기 위한 제스쳐 인식 알고리즘을 수행하는 컴퓨터 장치를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 시각 인식 기반의 제스쳐 인식 시스템.","김익재, 안상철, 김형곤, 이태성","G06T-015/00","KR20050074800A","2005.07.19",null,"2024.01.14","1 자체에 조사되는 적외선을 반사시키는 적외선 반사체와; 상기 적외선 반사체에 의해 반사된 적외선을 수신하고 이를 검출하여 영상을 획득하는 영상 획득 장치와; 그리고 상기 영상 획득 장치로부터의 영상을 입력받아 상기 적외선 반사체의 제스쳐 모드를 인식하기 위한 제스쳐 인식 알고리즘을 수행하는 컴퓨터 장치를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 시각 인식 기반의 제스쳐 인식 시스템. 2 제 1항에 있어서, 상기 영상 획득 장치는 렌즈부에 적외선 필터가 장착된 것을 특징으로 하는 시각 인식 기반의 제스쳐 인식 시스템. 3 제 1항에 있어서, 적외선 조사영역이 상기 영상 획득 장치의 시야 범위와 일치되도록, 상기 적외선 반사체에 적외선을 조사하는 적외선 조사 장치가 상기 영상 획득 장치에 장착되는 것을 특징으로 하는 시각 인식 기반의 제스쳐 인식 시스템. 4 제 1항에 있어서, 상기 적외선 반사체는 적외선을 입사방향과 동일한 방향으로 반사시킬 수 있도록 재귀 반사 특성을 갖는 재료로 이루어지는 것을 특징으로 하는 시각 인식 기반의 제스쳐 인식 시스템. 5 제 1항에 있어서, 상기 적외선 반사체는 손가락에 착용할 수 있도록 골무 형태로 구성된 것을 특징으로 하는 시각 인식 기반의 제스쳐 인식 시스템. 6 제 1항에 있어서, 상기 컴퓨터 장치가 수행하는 제스쳐 인식 알고리즘은, 상기 영상 획득 장치로부터 입력된 상기 적외선 반사체의 영상 영역을 추출하는 문턱값 조정 단계와; 상기 문턱값 조정 단계에 의해 추출된 영역을 영상 레이블링하는 영역 레이블링 단계와; 상기 영역 레이블링 단계에 의해 레이블링된 영상을 통해 상기 적외선 반사체의 각도, 중심 위치, 높이 및 폭을 계산하는 영역 인식 단계와; 상기 영역 인식 단계에 의해 계산된 상기 결과들을 이용하여 소정의 조건들 중 부합하는 조건을 검사하는 각도 및 위치 계산 단계와; 그리고 상기 각도 및 위치 계산 단계에 의해 결정된 해당 조건을 토대로 상기 적외선 반사체의 제스쳐 모드를 결정하여 제스쳐를 인식하는 제스쳐 인식 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 시각 인식 기반의 제스쳐 인식 시스템. 7 제 6항에 있어서, 상기 영역 레이블링 단계는 이전 프레임에서 획득한 적외선 반사체 영역을 중심으로 소정의 경계 영역을 설정하여 그 다음 프레임에서는 상기 경계 영역 내에서만 레이블링하도록 하는 것을 특징으로 하는 시각 인식 기반의 제스쳐 인식 시스템. 8 제 7항에 있어서, 상기 경계 영역은 상기 이전 프레임에서 획득한 적외선 반사체 영역의 두 배 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 시각 인식 기반의 제스쳐 인식 시스템. 9 제 6항에 있어서, 상기 적외선 반사체는 크기가 서로 다른 적외선 반사체를 두개 포함하고; 상기 각도 및 위치 계산 단계의 소정의 조건은 아래의 조건과 같고; 그리고 조 건설 명Ⅰ제2반사체가 제1반사체보다 아래에 있음 Ⅱ제2반사체가 제1반사체보다 위에 있음 Ⅲ제2반사체가 제1반사체보다 오른쪽에 있음 Ⅳ제2반사체가 제1반사체보다 왼쪽에 있음 Ⅴ두개의 반사체가 수직으로 일정한 범위안에 존재함 상기 제스쳐 인식 단계의 제스쳐 모드의 결정은, 상기 조건들 중 적어도 하나 이상의 조합과 각 영역이 이루는 각도에 근거하여 또는 두 영역이 합쳐져 하나의 영역으로 인식되는지 여부에 근거하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 시각 인식 기반의 제스쳐 인식 시스템. 10 사용자의 적외선 반사체 골무가 적외선을 반사시키는 단계와; 상기 적외선 반사 단계에 의해 반사된 적외선이 영상 획득 장치에 의해 수신되어 검출되는 단계와; 상기 영상 검출 단계에 의해 검출된 상기 적외선 반사체의 영상이 상기 영상 획득 장치로부터 컴퓨터 장치로 입력되는 단계와; 상기 영상 입력 단계에 의해 입력된 상기 적외선 반사체 골무의 영상을 처리하여 사용자의 제스쳐를 인식하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 시각 인식 기반에 의한 제스쳐 인식 방법. 11 제 10항에 있어서, 상기 사용자의 제스쳐를 인식하는 단계는, 상기 영상 입력 단계에 의해 입력된 상기 적외선 반사체의 영상 영역을 추출하는 문턱값 조정 단계와; 상기 문턱값 조정 단계에 의해 추출된 영역을 영상 레이블링하는 영역 레이블링 단계와; 상기 영역 레이블링 단계에 의해 레이블링 된 영상을 통해 상기 적외선 반사체의 각도, 중심 위치, 높이 및 폭을 계산하는 영역 인식 단계와; 상기 영역 인식 단계에 의해 계산된 상기 결과들을 이용하여 소정의 조건들 중 부합하는 조건을 검사하는 각도 및 위치 계산 단계와; 그리고 상기 각도 및 위치 계산 단계에 의해 결정된 해당 조건을 토대로 상기 적외선 반사체의 제스쳐 모드를 결정하여 제스쳐를 인식하는 제스쳐 인식 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 시각 인식 기반에 의한 제스쳐 인식 방법. 12 제 11항에 있어서, 상기 영역 레이블링 단계는 이전 프레임에서 획득한 적외선 반사체 영역을 중심으로 소정의 경계 영역을 설정하여 그 다음 프레임에서는 상기 경계 영역 내에서만 레이블링하도록 하는 것을 특징으로 하는 시각 인식 기반에 의한 제스쳐 인식 방법. 13 제 12항에 있어서, 상기 경계 영역은 상기 이전 프레임에서 획득한 적외선 반사체 영역의 두 배 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 시각 인식 기반에 의한 제스쳐 인식 방법. 14 제 11항에 있어서, 상기 적외선 반사체는 크기가 서로 다른 적외선 반사체를 두개 포함하고; 상기 각도 및 위치 계산 단계의 소정의 조건은 아래의 조건과 같고; 그리고 조 건설 명Ⅰ제2반사체가 제1반사체보다 아래에 있음 Ⅱ제2반사체가 제1반사체보다 위에 있음 Ⅲ제2반사체가 제1반사체보다 오른쪽에 있음 Ⅳ제2반사체가 제1반사체보다 왼쪽에 있음 Ⅴ두개의 반사체가 수직으로 일정한 범위안에 존재함 상기 제스쳐 인식 단계의 제스쳐 모드의 결정은 상기 조건들 중 적어도 하나 이상의 조합과 각 영역이 이루는 각도에 근거하여 또는 두 영역이 합쳐져 하나의 영역으로 인식되는지 여부에 근거하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 시각 인식 기반에 의한 제스쳐 인식 방법. 15 입사광을 입사방향과 동일한 방향으로 반사시키는 재귀 반사 특성을 갖는 반사체로 이루어지고 시각 인식 기반의 제스쳐 인식 시스템에서 높은 정확도를 가지고서 인식될 수 있는 반사체 골무. 16 렌즈부에 적외선을 수신할 수 있는 적외선 필터가 장칙되어 시각 인식 기반의 제스쳐 인식 시스템에 적용되는 영상 획득 장치로서, 상기 렌즈부 둘레에 적외선 조사 장치를 구비하여 자신의 시야 범위와 상기 적외선 조사 장치의 적외선 조사 범위를 일치시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 영상 획득 장치. 17 입력된 영상의 영상 영역을 추출하는 문턱값 조정 단계와; 상기 문턱값 조정 단계에 의해 추출된 영역을 영상 레이블링하는 영역 레이블링 단계와; 상기 영역 레이블링 단계에 의해 레이블링 된 영상을 통해 영상의 각도, 중심 위치, 높이 및 폭을 계산하는 영역 인식 단계와; 상기 영역 인식 단계에 의해 계산된 상기 결과들을 이용하여 소정의 조건들 중 부합하는 조건을 검사하는 각도 및 위치 계산 단계와; 그리고 상기 각도 및 위치 계산 단계에 의해 결정된 해당 조건을 토대로 상기 입력된 영상의 제스쳐 모드를 결정하는 제스쳐 인식 단계를 포함하는 알고리즘을 수행하며, 상기 적외선 반사체는 크기가 서로 다른 적외선 반사체를 두개 포함하고; 상기 영역 레이블링 단계는 이전 프레임에서 획득한 적외선 반사체 영역을 중심으로 소정의 경계 영역을 설정하여 그 다음 프레임에서는 상기 경계 영역 내에서만 레이블링하고; 상기 각도 및 위치 계산 단계의 소정의 조건은 아래의 조건과 같고; 그리고 조 건설 명Ⅰ제2반사체가 제1반사체보다 아래에 있음 Ⅱ제2반사체가 제1반사체보다 위에 있음 Ⅲ제2반사체가 제1반사체보다 오른쪽에 있음 Ⅳ제2반사체가 제1반사체보다 왼쪽에 있음 Ⅴ두개의 반사체가 수직으로 일정한 범위안에 존재함 상기 제스쳐 인식 단계의 제스쳐 모드의 결정은 상기 조건들 중 적어도 하나 이상의 조합과 각 영역이 이루는 각도에 근거하여 또는 두 영역이 합쳐져 하나의 영역으로 인식되는지 여부에 근거하여 이루어지는 알고리즘을 수행하는 것을 특징으로 하는 컴퓨터 장치.","KR100559365B1, KR20050074800A",null,1]
["K03074","광전소자","KR","계내 전기화학적 중합법으로 제조된 전도성 고분자복합막을 포함하는 광전소자 및 이의 제조 방법{PHOTOVOLTAIC DEVICE COMPRISING AN IN-SITU ELECTROCHEMICALLY POLYMERIZED CONDUCTING POLYMER COMPOSITE AND METHOD FOR PREPARING THE SAME}",null,"원문이미지","KR20030050841A","2003.07.24","KR0540101B1","2005.12.23","본 발명은 전기전도성 단량체를 투명 전극 위에 코팅된 n형 고분자 내에서 직접적인 전기화학적 반응을 통하여 전기전도성 고분자를 제조하여 형성된 복합막으로 이루어진 광전소자 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명의 광전소자는 1) 투명 기판, 2) 투명 전극, 3) 상기 투명 전극 위에 코팅된 n형 고분자 내에서 전기전도성 단량체의 전기화학적 반응에 의해 형성된 전기전도성 고분자와 n형 고분자의 복합막 및 4) 금속 전극을 포함한다. 본 발명에 따르면, 기존의 고분자 블렌딩 기술과는 달리 최대의 광전효율을 얻을 수 있는 최적의 p형과 n형의 비율로 복합막을 직접성장시켜 고분자 복합막을 쉽게 얻을 수가 있다. 또한 소자제작 공정이 고온, 진공 등 특별한 과정을 요구하지 않아 차세대 대면적 평판형 유기 광전 소자 개발에 널리 활용될 수 있을 것이다.","1 1) 투명 기판, 2) 투명 전극, 3) 상기 투명 전극 위에 코팅된 n형 고분자 내에서 전기전도성 단량체의 전기화학적 중합 반응에 의해 형성된 전기전도성 고분자와 n형 고분자의 복합막 및 4) 금속 전극을 포함하는 광전소자.","유재웅, 김영철, 김재경, 오승원","H01L-031/04","KR20050011817A","2005.01.31",null,"2023.07.24","1 1) 투명 기판, 2) 투명 전극, 3) 상기 투명 전극 위에 코팅된 n형 고분자 내에서 전기전도성 단량체의 전기화학적 중합 반응에 의해 형성된 전기전도성 고분자와 n형 고분자의 복합막 및 4) 금속 전극을 포함하는 광전소자. 2 제1항에 있어서, 전기전도성 고분자가 폴리피롤, 폴리아닐린, 포리티오펜 및 이들의 유도체로 이루어진 군 중에서 선택되는 것인 광전소자. 3 제1항 또는 2항에 있어서, n형 고분자가 폴리퀴놀린, 폴리(파라-페닐렌 비닐렌), 폴리티오펜, 폴리(p-피리딜 페닐렌), 폴리플로렌, 폴리아세틸렌 및 이들의 유도체로 이루어진 군 중에서 선택되는 것인 광전소자. 4 제1항 또는 2항에 있어서, 상기 투명 기판이 유리, 석영, 투명 플라스틱인 폴리에틸렌 테레프탈레이트 또는 폴리에테르술폰이고, 상기 투명 전극이 인듐 산화주석, 폴리에틸렌 디옥시티오펜, 폴리아닐린 또는 폴리피롤인 광전소자. 5 제1항 또는 2항에 있어서, 상기 금속 전극이 알루미늄, 마그네슘, 리튬, 칼슘, 구리, 은, 금, 백금 및 이들의 합금으로 이루어지는 군 중에서 선택되는 것인 광전소자. 6 투명 기판 상의 투명 전극에 n형 고분자 박막을 형성시키는 단계, n형 고분자 박막이 형성된 기판을 전기전도성 p형 단량체 및 도판트 물질 함유 전해질 용액에 침지한 후, 전류를 공급하여 상기 전기전도성 고분자를 상기 n형 고분자 박막 내에서 전기화학적 중합법으로 직접 성장시켜 n형 고분자와 p형 고분자의 복합막을 형성시키는 단계 및 상기 기판 상에 형성된 복합막 상에 금속 전극을 증착하는 단계 를 포함하는 광전소자의 제조 방법. 7 제6항에 있어서, 전기전도성 고분자가 폴리피롤, 폴리아닐린, 포리티오펜 및 이들의 유도체로 이루어진 군 중에서 선택되는 것인 제조 방법. 8 제6항 또는 7항에 있어서, n형 고분자가 폴리퀴놀린, 폴리(파라-페닐렌 비닐렌), 폴리티오펜, 폴리(p-피리딜 페닐렌), 폴리플로렌, 폴리아세틸렌 및 이들의 유도체로 이루어진 군 중에서 선택되는 것인 제조 방법. 9 제6항 또는 7항에 있어서, 상기 투명 기판이 유리, 석영, 투명 플라스틱인 폴리에틸렌 테레프탈레이트 또는 폴리에테르술폰이고, 상기 투명 전극이 인듐 산화주석, 폴리에틸렌 디옥시티오펜, 폴리아닐린 또는 폴리피롤인 제조 방법. 10 제6항 또는 7항에 있어서, 상기 금속 전극이 알루미늄, 마그네슘, 리튬, 칼슘, 구리, 은, 금, 백금 및 이들의 합금으로 이루어지는 군 중에서 선택되는 것인 제조 방법.","KR100540101B1, KR20050011817A",null,1]
["K03054","화학","KR","흰민들레로부터 타락신산을 분리하는 방법 및 타락신산을유효성분으로 함유하는 항암제{Method for preparing taraxinic acid from Taraxacum coreanum Nakai and anticancer agent containing taraxinic acid as an effective ingradient}",null,"원문이미지","KR20030027791A","2003.04.30","KR0944486B1","2010.02.19","본 발명은 흰민들레로부터 하기 화학식 1로 표시되는 타락신산을 분리하는 방법 및 타락신산을 유효성분으로 함유하는 항암제에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 1) 흰민들레를 알콜로 추출하는 단계; 2) 단계 1의 추출물을 디클로로메탄으로 추출하는 단계; 3) 단계 2의 추출물을 에틸 아세테이트로 추출하는 단계; 4) 단계 3의 추출물을 컬럼에 적용하여 타락신산 베타-글루코피라노실 에스테르를 분리하는 단계; 및 5) 단계 4에서 분리된 타락신산 베타-글루코피라노실 에스테르를 가수분해하는 단계를 포함하는 화학식 1로 표시되는 타락신산을 분리하는 방법 및 타락신산을 유효성분으로 함유하는 항암제에 관한 것이다. 본 발명의 타락신산은 암 세포의 증식을 억제하고, 세포의 분화를 유도하기 때문에 암을 치료 또는 예방하는데 유용하게 사용할 수 있다.&amp;lt;화학식 1&amp;gt;","5 하기 화학식 1로 표시되는 타락신산을 유효성분으로 함유하는 항암제. &amp;lt;화학식 1&amp;gt;","이용섭, 이경태, 김형자","C07D-307/93","KR20040093917A","2004.11.09",null,"2023.04.30","1<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5 하기 화학식 1로 표시되는 타락신산을 유효성분으로 함유하는 항암제. &amp;lt;화학식 1&amp;gt; 6 제 5항에 있어서, 암은 백혈병, 대장암, 간암 및 임파종으로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 항암제. 7 제 6항에 있어서, 암은 백혈병인 것을 특징으로 하는 항암제. 8 제 5항에 있어서, 화학식 1로 표시되는 타락신산의 유효용량은 1 내지 50 ㎎/㎏인 것을 특징으로 하는 항암제. 9 제 8항에 있어서, 화학식 1로 표시되는 타락신산의 유효용량은 5 내지 20 ㎎/㎏인 것을 특징으로 하는 항암제.","KR100944486B1, KR20040093917A",null,1]
["K03041","기계","KR","병렬형 햅틱 조이스틱 시스템{PARALLEL HAPTIC JOYSTICK SYSTEM}",null,"원문이미지","KR20030032205A","2003.05.21","KR0507554B1","2005.08.02","본 발명은 컴퓨터에 연결되어 사용되는 햅틱 조이스틱 시스템에 관한 것이다. 본 발명에 따른 장치는, 병렬 기구를 사용하여 각각이 독립적인 3자유도를 구현할 수 있는 제1 링크 기구와 제2 링크 기구를 직렬로 연결하여 기구부를 구성하고, 상기 기구부에 구비되는 센서와 엑추에이터들을 기구부의 베이스 평면에 설치함으로써, 센서와 엑추에이터들의 관성의 영향을 피하면서, 6자유도를 모두 구현할 수 있는 병렬형 햅틱 조이스틱 시스템을 제공한다. 또한 본 발명에 따른 병렬형 햅틱 조이스틱 시스템은, 상기 제1 링크 기구 및 제2 링크 기구가 연결되어 구현하는 전체 6자유도 중 자주 사용되는 평면 3자유도를 제1 링크 기구가 구현하고 나머지 3자유도를 제2 링크 기구가 필요에 따라 보충하도록 함으로써, 에너지 효율과 제어의 용이성 면에서 한층 향상된 성능을 제공한다.","1 컴퓨터에 연결되어 사용되는 햅틱 조이스틱 시스템에 있어서, 소정의 자유도를 갖는 기구부와, 사용자가 상기 기구부를 조작함으로서 발생되는 위치, 방위에 관한 정보를 컴퓨터로 입력하는 기능과, 동시에 상기 컴퓨터로부터 소정의 힘, 토크의 연산 결과를 출력 받아 사용자가 감지할 수 있도록 상기 기구부를 조작하는 기능을 갖는 제어부로 구성되는 햅틱 시스템으로서, 상기 기구부는 제1 링크 기구와 제2 링크 기구가 직렬로 연결되어 구성되고, 상기 제1 링크 기구는, 기저면을 구성하는 베이스 프레임; 일단이 상기 베이스 프레임에 소정의 각도를 이루면서 핀 조인트로 연결되는 복수의 제1 프락시멀 링크; 일단이 각각의 상기 제1 프락시멀 링크의 타단에 핀 조인트로 연결되는 제1 디스털 링크; 및 상기 제1 디스털 링크들의 타단과 핀 조인트로 연결되는 제1 플랫폼으로 구성되어, 상기 제1 플랫폼이 x축과 y축 방향의 병진운동과, 상기 평면에 수직한 z축 중심으로의 회전운동의 3자유도의 운동이 가능하며, 상기 제2 링크 기구는, 일단이 상기 제1 링크 기구의 플랫폼에 핀 조인트로 연결되는 소정 개수의 제2 프락시멀 링크; 각각 상기 제2 프락시멀 링크의 타단에 핀 조인트로 연결되는 제2 디스털 링크; 및 상기 제2 디스털 링크들의 타단이 볼 조인트로 연결되는 제2 플랫폼으로 구성되어 상기 제2 플랫폼이 상기 제1 플랫폼에 대해 z축 방향의 병진운동, x축 및 y축 중심의 회전운동의 3자유도 운동이 가능함으로써, 전체적으로 상기 기구부가 6자유도 운동을 구현할 수 있는 것을 특징으로 하는 병렬형 햅틱 조이스틱 시스템.","김문상, 류동석, 조창현, 황창순","G06F-003/033","KR20040100011A","2004.12.02",null,"2023.05.21","1 컴퓨터에 연결되어 사용되는 햅틱 조이스틱 시스템에 있어서, 소정의 자유도를 갖는 기구부와, 사용자가 상기 기구부를 조작함으로서 발생되는 위치, 방위에 관한 정보를 컴퓨터로 입력하는 기능과, 동시에 상기 컴퓨터로부터 소정의 힘, 토크의 연산 결과를 출력 받아 사용자가 감지할 수 있도록 상기 기구부를 조작하는 기능을 갖는 제어부로 구성되는 햅틱 시스템으로서, 상기 기구부는 제1 링크 기구와 제2 링크 기구가 직렬로 연결되어 구성되고, 상기 제1 링크 기구는, 기저면을 구성하는 베이스 프레임; 일단이 상기 베이스 프레임에 소정의 각도를 이루면서 핀 조인트로 연결되는 복수의 제1 프락시멀 링크; 일단이 각각의 상기 제1 프락시멀 링크의 타단에 핀 조인트로 연결되는 제1 디스털 링크; 및 상기 제1 디스털 링크들의 타단과 핀 조인트로 연결되는 제1 플랫폼으로 구성되어, 상기 제1 플랫폼이 x축과 y축 방향의 병진운동과, 상기 평면에 수직한 z축 중심으로의 회전운동의 3자유도의 운동이 가능하며, 상기 제2 링크 기구는, 일단이 상기 제1 링크 기구의 플랫폼에 핀 조인트로 연결되는 소정 개수의 제2 프락시멀 링크; 각각 상기 제2 프락시멀 링크의 타단에 핀 조인트로 연결되는 제2 디스털 링크; 및 상기 제2 디스털 링크들의 타단이 볼 조인트로 연결되는 제2 플랫폼으로 구성되어 상기 제2 플랫폼이 상기 제1 플랫폼에 대해 z축 방향의 병진운동, x축 및 y축 중심의 회전운동의 3자유도 운동이 가능함으로써, 전체적으로 상기 기구부가 6자유도 운동을 구현할 수 있는 것을 특징으로 하는 병렬형 햅틱 조이스틱 시스템. 2 제1항에 있어서, 상기 제1 프락시멀 링크는 상기 베이스 프레임 상에서 소정의 각도를 이루면서 세 개가 배치되고, 상기 제2 프락시멀 링크는 상기 제1 플랫폼 상에서 소정의 각도를 이루면서 세 개가 배치되는 것을 특징으로 하는 병렬형 햅틱 조이스틱 시스템. 3 제1항 또는 제2항에 있어서, 각각의 상기 제1 프락시멀 링크가 상기 베이스 평면상에서의 z축 중심으로 회전운동할 수 있도록 하는 제1 엑추에이터와, 각각의 상기 제1 프락시멀 링크가 회전하는 각도를 측정할 수 있는 제1 센서가 상기 베이스 프레임에 각각 구비되는 것을 특징으로 하는 병렬형 햅틱 조이스틱 시스템. 4 제1항 또는 제2항에 있어서, 각각의 상기 제2 프락시멀 링크가 상기 제1 플랫폼 상에서의 x, y 평면에 평행한 축 중심으로 회전운동할 수 있도록 하는 제2 엑추에이터와, 각각의 상기 제2 프락시멀 링크가 회전하는 각도를 측정할 수 있는 제2 센서가 상기 베이스 프레임에 각각 구비되고, 상기 제2 엑추에이터의 동력이 상기 제2 프락시멀 링크에 전달될 수 있도록, 상기 제1 프락시멀 링크 및 상기 제1 디스털 링크의 핀 조인트부 하단에 상기 제1 프락시멀 링크 및 상기 제1 디스털 링크의 회전과 독립적으로 회전할 수 있는 회전 풀리가 구비되고, 상기 회전 풀리들은 케이블 기타 동력 전달 수단을 이용하여 서로 연결되며, 상기 제1 디스털 링크와 상기 제1 플랫폼이 연결되는 핀 조인트부에 동력전달축을 구비하고, 상기 동력전달축과 상기 제2 프락시멀 링크가 연결되는 것을 특징으로 하는 병렬형 햅틱 조이스틱 시스템. 5 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제어부는 상기 병렬형 햅틱 조이스틱 시스템이 연결되는 컴퓨터에 구비되는 것을 특징으로 하는 병렬형 햅틱 조이스틱 시스템.","AU2003265135A1, DE10392966B4, DE10392966T5, JP2005533326A, JP3888689B2, KR100507554B1, KR20040100011A, US2006066574A1, US7138981B2, WO2004104814A1","T",3]
["F01888","기계","DE","Parallel haptic joystick device",null,"원문이미지","DE20031092966","2003.10.02","DE10392966B4","2009.12.24","The present invention relates to a haptic joystick system that is used with a computer system. The system according to the present invention includes the mechanism comprising the first link work and the second link work that respectively conduct 3 degree-of-freedom independently and are serially connected to each other. Therefore the said mechanism conducts 6 degree-of-freedom. The said mechanism is provided at its base plane with sensors and actuators, whereby not being affected by the inertia of the sensors and the actuators. Also, in the system according to the present invention, the first link work conducts 3 degree-of-freedom among the overall 6 degree-of-freedom that are frequently used in its application, and the second link work conducts another 3 degree-of-freedom. Thereby, the system according to the present invention can achieve the enhanced performance related to the energy effectiveness and the controllability.",null,"KIM MUNSANG, RYU DONGSEOK, CHO CHANGHYUN, HWANG CHANGSOON","B25J-003/00,G06F-003/033,G05G-005/00,G05G-005/03,G05G-007/00,G05G-007/02,G05G-007/10,G05G-009/00,G05G-009/047,G06F-003/01,G06F-003/038",null,null,"2003.05.21 (KR 20030032205), 2003.10.02 (WO 2003KR02047)",null,null,"AU2003265135A1, DE10392966B4, DE10392966T5, JP2005533326A, JP3888689B2, KR100507554B1, KR20040100011A, US2006066574A1, US7138981B2, WO2004104814A1","T",3]
["F01887","기계","JP","병렬 형 하푸틱조이스틱시스템",null,"원문이미지","JP2004572153A","2003.10.02","JP3888689B9","2006.12.08","(57)【요약】 본 발명은 컴퓨터에 연결하게 되는 하푸틱조이스틱시스템에 관한다. 본 발명에 의한 하푸틱조이스틱시스템(100)은 제1 링크 기구(10)과 제2 링크 기구(20)으로 되는 기구부(50)을 포함하지만, 각 링크 기구는 독립적에 3 자유도를 구현하고 있고, 서로 직렬에 연결하게 되고 있다 . 따라서, 상기 기구부(50)은 6 자유도를 구현한 것이 된다. 상기 기구부(50)은 센서와 액추에이터와를 포함하는 베이스 표면으로 제공하게 되지만, 이러한 센서와 액추에이터는 관성의 영향을 받지 않다. 또, 본 발명에 의한 하푸틱조이스틱시스템에 있어서, 제1 링크 기구는 응용시에 자주 이용되는 전 6 자유도 가운데에서 3 자유도를 구현하고 있고, 제2 링크부와 다른 3 자유도를 구현하고 있다. 그것들에 의하여, 본 발명에 의한 하푸틱조이스틱시스템은 에너지 효율성과 조작성에 있어서 향상하게 되는 성능을 달성하는 것이 할 수 있다.","【청구항 1】 컴퓨터에 연결하게 되고 사용하게 되는 하푸틱조이스틱시스템에 있어서, 소정의 자유도를 가지는 기구부와, 사용자가 상기 기구부를 조작한 것에 따라 발생하게 되는 위치, 방위에 관하는 정보를 컴퓨터에 입력하는 기능, 및, 동시에 상기 컴퓨터로부터 소정의 힘 또는 토크의 연산 결과를 출력하게 되고 사용자를 감지할 수 있도록 상기 기구부를 조작하는 기능을 가지는 제어부로 되는 하푸틱시스템으로서, 상기 기구부는 제1 링크 기구와 제2 링크 기구와가 직렬에 연결하게 되고 구성하게 되고, 상기 제1 링크 기구가, 기저면을 구성하는 베이스 프레임과, 한 끝이 상기 베이스 프레임에 소정의 각도를 이루면서 핀 조인트로 연결하게 되는 복수의 제1 기부 링크와, 한 끝이 각각의 상기 제1 기부 링크의 다른 한단에 핀 조인트로 연결하게 되는 제1 단부 링크와, 상기 제1 단부 링크의 다른 한단과 핀 조인트로 연결하게 되는 제1 플랫폼으로 되고, 상기 제1 플랫폼이, x축과 y 축방향의 병진 운동과 상기 평면에 수직의 z축 중심에의 회전 운동이라는 3 자유도의 운동이 가능하고, 상기 제2 링크 기구가, 한 끝이 상기 제1 링크 기구의 플랫폼에 핀 조인트로 연결하게 되는 소정 개수의 제2 기부 링크와, 각각 상기 제2 기부 링크의 다른 한단에 핀 조인트로 연결하게 되는 제2 단부 링크와, 상기 제2 단부 링크의 다른 한단이 볼조인토로 연결하게 되는 제2 플랫폼으로 되고, 상기 제2 플랫폼이, 상기 제1 플랫폼에 대하여 z 축방향의 병진 운동과, x 축 및 y축 중심의 회전 운동이라는 3 자유도 운동이 가능한 것에 의해, 전체적으로 상기 기구부가 6 자유도 운동을 구현할 수 있는 것을 특징으로 하는 병렬 형 하푸틱조이스틱시스템.","キム,  ムンサン, リュ,  ドンスク, チョ,  チャンヒュン, ホワン,  チャン-ス­ン","G05G-009/047,B25J-003/00,G05G-005/03,G05G-007/10,G06F-003/033","JP2005533326T","2005.11.04","2003-05-21 (KR 10-2003-0032205)","2023.10.02","【특허청구의 범위】 【청구항 1】 컴퓨터에 연결하게 되고 사용하게 되는 하푸틱조이스틱시스템에 있어서, 소정의 자유도를 가지는 기구부와, 사용자가 상기 기구부를 조작한 것에 따라 발생하게 되는 위치, 방위에 관하는 정보를 컴퓨터에 입력하는 기능, 및, 동시에 상기 컴퓨터로부터 소정의 힘 또는 토크의 연산 결과를 출력하게 되고 사용자를 감지할 수 있도록 상기 기구부를 조작하는 기능을 가지는 제어부로 되는 하푸틱시스템으로서, 상기 기구부는 제1 링크 기구와 제2 링크 기구와가 직렬에 연결하게 되고 구성하게 되고, 상기 제1 링크 기구가, 기저면을 구성하는 베이스 프레임과, 한 끝이 상기 베이스 프레임에 소정의 각도를 이루면서 핀 조인트로 연결하게 되는 복수의 제1 기부 링크와, 한 끝이 각각의 상기 제1 기부 링크의 다른 한단에 핀 조인트로 연결하게 되는 제1 단부 링크와, 상기 제1 단부 링크의 다른 한단과 핀 조인트로 연결하게 되는 제1 플랫폼으로 되고, 상기 제1 플랫폼이, x축과 y 축방향의 병진 운동과 상기 평면에 수직의 z축 중심에의 회전 운동이라는 3 자유도의 운동이 가능하고, 상기 제2 링크 기구가, 한 끝이 상기 제1 링크 기구의 플랫폼에 핀 조인트로 연결하게 되는 소정 개수의 제2 기부 링크와, 각각 상기 제2 기부 링크의 다른 한단에 핀 조인트로 연결하게 되는 제2 단부 링크와, 상기 제2 단부 링크의 다른 한단이 볼조인토로 연결하게 되는 제2 플랫폼으로 되고, 상기 제2 플랫폼이, 상기 제1 플랫폼에 대하여 z 축방향의 병진 운동과, x 축 및 y축 중심의 회전 운동이라는 3 자유도 운동이 가능한 것에 의해, 전체적으로 상기 기구부가 6 자유도 운동을 구현할 수 있는 것을 특징으로 하는 병렬 형 하푸틱조이스틱시스템. 【청구항 2】 상기 제1 기부 링크는, 상기 베이스 프레임상에서 소정의 각도를 이루면서 세 개가 배치하게 되고, 상기 제2 기부 링크는, 상기 제1 플랫폼상에서 소정의 각도를 이루면서 세 개가 배치하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 1 기재의 병렬 형 하푸틱조이스틱시스템. 【청구항 3】 각각의 상기 제1 기부 링크가 상기 베이스 평면상으로의 z축 중심에 회전 운동할 수 있게 하는 제1 액추에이터와, 각각의 상기 제1 기부 링크가 회전하는 각도를 측정할 수 있는 제1 센서와가 상기 베이스 프레임에 각각 갖춰지는 것을 특징으로 하는 청구항 1 또는 청구항 2에 기재의 병렬 형 하푸틱조이스틱시스템. 【청구항 4】 각각의 상기 제2 기부 링크가 상기 제1 플랫폼상에서의 x,y 평면에 평행한 축을 중심으로 회전 운동을 할 수 있게 하는 제2 액추에이터와, 각각의 상기 제2 기부 링크가 회전하는 각도를 측정할 수 있는 제2 센서와가 상기 베이스 프레임에 각각 갖춰지고, 상기 제2 액추에이터의 동력을 상기 제2 기부 링크에 전달할 수 있도록, 상기 제1 기부 링크 및 상기 제1 단부 링크의 핀 조인트의 하단에 상기 제1 기부 링크 및 상기 제1 단부 링크의 회전과 독립적에 회전할 수 있는 회전 도르레가 갖춰지고, 그 회전 도르레는 케이블, 그 밖에 동력전들 수단을 이용하고 서로 연결하게 되고, 상기 제1 단부 링크와 상기 제1 플랫폼과가 연결하게 되는 핀 조인트에 동력 전달축을 구비하고, 상기 동력 전달축과 상기 제2 기부 링크와가 연결하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 1 또는 청구항 2에 기재의 병렬 형 하푸틱조이스틱시스템. 【청구항 5】 상기 제어부는, 상기 병렬 형 하푸틱조이스틱시스템이 연결하게 되는 컴퓨터에 갖춰지는 것을 특징으로 하는 청구항 1 또는 청구항 2에 기재의 병렬 형 하푸틱조이스틱시스템.","AU2003265135A1, DE10392966B4, DE10392966T5, JP2005533326A, JP3888689B2, KR100507554B1, KR20040100011A, US2006066574A1, US7138981B2, WO2004104814A1","T",3]
["K03032","기계","KR","마이크로 선형모터{Micro Linear Motor}",null,"원문이미지","KR20030058956A","2003.08.26","KR0508849B1","2005.08.09","본 발명은 베어링을 삭제하고 이동자의 측방향 및 요잉방향 변위에 대한 위치제어를 정밀하게 수행할 수 있도록 하는 마이크로 선형모터에 관한 것이다. 양측면에 다수의 치를 가지는 이동자와, 이동자의 좌우 양측에 이동자의 치와 대향하며 상전압이 입력되는 다수의 전극을 가지는 고정자를 포함하고, 이동자는 고정자에서 발생된 정전기력에 의해 전후직선이동한다. 고정자의 다수의 전극 중 이동자의 전반부에 위치한 하나의 치와 후반부에 위치한 하나의 치에 각각 대향하는 두 개의 전극이 하나의 그룹을 이루어 상전압을 입력받아 이동자의 전반부와 후반부에 개별적으로 정전기력을 인가한다. 이동자의 좌우 양측에는 이동자의 치와 대향하는 다수의 센서 전극이 구비된다. 고정자의 전극에 인가된 상전압에 의해 이동자의 전위가 소정값을 가질 때 이동자와의 사이에 흐르는 전류를 상호 대향하는 한 쌍의 센서 전극에서 각각 측정하고, 측정된 두 전류값의 차와 합의 비를 계산하여 이동자의 측방향 변위를 측정한다. 제어부는 이동자의 측방향 변위를 입력받아, 이동자와 좌우 양측의 고정자와의 간극이 상호 동일하게 되도록 제어전압을 산출하여 상전압에 감산 및 가산한 후 고정자의 전극에 인가한다.","1 길이방향으로 연장형성되고 양측면에 다수의 치를 가지는 이동자와, 상기 이동자의 좌우 양측에 상기 이동자의 치와 대향하여 위치하며 상전압이 입력되는 다수의 전극을 가지는 고정자를 포함하고, 상기 이동자는 상기 고정자에서 발생된 정전기력에 의해 전후직선이동하도록 구비된 마이크로 선형모터에 있어서, 상기 고정자의 다수의 전극 중 상기 이동자의 전반부에 위치한 하나의 치와 후반부에 위치한 하나의 치에 각각 대향하는 두 개의 전극이 하나의 그룹을 이루어 상전압을 입력받아 상기 이동자의 전반부와 후반부에 각각 정전기력을 인가하고, 상기 이동자의 전반부 및 후반부의 측방향 변위를 각각 측정하기 위한 수단과, 상기 수단에 의해 측정된 상기 이동자의 측방향 변위를 입력받아, 상기 이동자와 좌우 양측의 고정자와의 간극이 상호 동일하게 되도록 제어전압을 산출하여 상전압에 감산 및 가산한 후 상기 고정자의 전극에 인가하기 위한 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 선형모터.","김승종, 윤의성, 이종민, 김동연","H02N-001/06","KR20050021761A","2005.03.07",null,"2023.08.26","1 길이방향으로 연장형성되고 양측면에 다수의 치를 가지는 이동자와, 상기 이동자의 좌우 양측에 상기 이동자의 치와 대향하여 위치하며 상전압이 입력되는 다수의 전극을 가지는 고정자를 포함하고, 상기 이동자는 상기 고정자에서 발생된 정전기력에 의해 전후직선이동하도록 구비된 마이크로 선형모터에 있어서, 상기 고정자의 다수의 전극 중 상기 이동자의 전반부에 위치한 하나의 치와 후반부에 위치한 하나의 치에 각각 대향하는 두 개의 전극이 하나의 그룹을 이루어 상전압을 입력받아 상기 이동자의 전반부와 후반부에 각각 정전기력을 인가하고, 상기 이동자의 전반부 및 후반부의 측방향 변위를 각각 측정하기 위한 수단과, 상기 수단에 의해 측정된 상기 이동자의 측방향 변위를 입력받아, 상기 이동자와 좌우 양측의 고정자와의 간극이 상호 동일하게 되도록 제어전압을 산출하여 상전압에 감산 및 가산한 후 상기 고정자의 전극에 인가하기 위한 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 선형모터. 2 제 1항에 있어서, 상기 이동자의 다수의 치와 상기 고정자의 다수의 전극은 단층으로 배열되고, 상기 이동자의 측방향 변위를 측정하기 위한 수단은 상기 이동자의 좌우 양측에서 상기 이동자의 치와 대향하며 상기 고정자의 다수의 전극과 상하 일직선으로 평행하게 배열되도록 구비되는 다수의 센서 전극으로 이루어지며, 상기 고정자의 전극에 인가된 상전압에 의해 상기 이동자의 전위가 소정값을 가질 때 상기 이동자와의 사이에 흐르는 전류를 상호 대향하는 한 쌍의 센서 전극에서 각각 측정하고, 측정된 두 전류값의 차와 합의 비를 계산하여 상기 이동자의 측방향 변위를 측정하여 상기 제어부에 전달하는 것을 특징으로 하는 마이크로 선형모터. 3 제 1항에 있어서, 상기 이동자의 전반부와 후반부에 형성된 다수의 치는 상호 소정의 높이차를 가지고 배열되고, 상기 고정자의 다수의 전극은 상기 이동자의 전반부 및 후반부의 치와 각각 대향하도록 상호 소정의 높이차를 가지고 배열되며, 상기 이동자의 측방향 변위를 측정하기 위한 수단은 상기 이동자의 전반부 및 후반부의 치와 각각 대향하도록 상호 소정의 높이차를 가지고 배열된 상하 2층의 센서 전극으로 이루어지고, 상기 고정자의 전극에 인가된 상전압에 의해 상기 이동자의 전위가 소정값을 가질 때 상기 이동자와의 사이에 흐르는 전류를 상호 대향하는 한 쌍의 센서 전극에서 각각 측정하고, 측정된 두 전류값의 차와 합의 비를 계산하여 상기 이동자의 측방향 변위를 측정하여 상기 제어부에 전달하는 것을 특징으로 하는 마이크로 선형모터.","KR100508849B1, KR20050021761A",null,1]
["K02999","생화학","KR","저농도 생화학적 산소요구량 계측기용 미생물연료전지 및이를 이용한 저농도 생화학적 산소요구량 계측기{A microbial fuel cell for a sensor of low BOD and a sensor of low BOD using the same}",null,"원문이미지","KR20030024708A","2003.04.18","KR0509680B1","2005.08.16","본 발명에 의한 저농도 BOD 계측기용 미생물연료전지는, 호소 및 상수원의 저농도 BOD를 계측하기 위한 바이오센서로 이용되는 미생물연료전지로서, 양극, 음극, 이들 양극 및 음극의 전도매체 및 이들 두 극 사이의 이온 교환막을 포함하여 구성되며, 상기 양극은 산소에 대한 친화성이 높은 백금 또는 구리로 이루어진 전극이고, 상기 이온교환막의 막면적은, 음극부에서 양극부로 확산되는 수소이온이 제한인자로 작용하지 않도록, 최대 BOD 제거속도를 기준으로 하여 발생되는 시간당 수소이온의 양을 막을 통한 수소이온의 전달 속도로 나눈 값으로 하는 것을 특징으로 한다.본 발명에 의한 저농도 BOD 계측기는, 상기의 저농도 BOD 계측기용 미생물연료전지를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.","1 호소 및 상수원의 저농도 BOD를 계측하기 위한 바이오센서로 이용되는 미생물연료전지로서, 양극, 음극, 이들 양극 및 음극의 전도매체 및 이들 두 극 사이의 이온 교환막을 포함하여 구성되며, 상기 양극은 산소에 대한 친화성이 높은 백금 또는 구리로 이루어진 전극이고, 상기 이온교환막의 막면적은, 음극부에서 양극부로 확산되는 수소이온이 제한인자로 작용하지 않도록, 최대 BOD 제거속도를 기준으로 하여 발생되는 시간당 수소이온의 양을 막을 통한 수소이온의 전달 속도로 나눈 값으로 하는 것을 특징으로 하는 저농도 BOD 계측기용 미생물연료전지.","김병홍, 장인섭, 강귀현, 장재경, 팜테하이","H01M-008/16","KR20040090761A","2004.10.27",null,"2023.04.18","1 호소 및 상수원의 저농도 BOD를 계측하기 위한 바이오센서로 이용되는 미생물연료전지로서, 양극, 음극, 이들 양극 및 음극의 전도매체 및 이들 두 극 사이의 이온 교환막을 포함하여 구성되며, 상기 양극은 산소에 대한 친화성이 높은 백금 또는 구리로 이루어진 전극이고, 상기 이온교환막의 막면적은, 음극부에서 양극부로 확산되는 수소이온이 제한인자로 작용하지 않도록, 최대 BOD 제거속도를 기준으로 하여 발생되는 시간당 수소이온의 양을 막을 통한 수소이온의 전달 속도로 나눈 값으로 하는 것을 특징으로 하는 저농도 BOD 계측기용 미생물연료전지. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 5 제1항에 있어서, 음극부에는 혐기성 조건하에서 계측하고자 하는 하천원수와 동일한 시료를 연료로 첨가하여 하천원수와 하천침전물 중에 존재하는 전기화학적 활성 미생물을 농화배양하여 사용하는 것을 특징으로 하는 저농도 BOD 계측기용 미생물연료전지. 6 제1항 또는 제5항의 저농도 BOD 계측기용 미생물연료전지를 운전하는 방법으로서, 음극부의 연료 공급량에 따라 양극부의 산소포화농도에서 양전극의 임계산소농도를 뺀 값과 양극 전도매체 공급 속도를 곱한 값으로부터 유도되는 산소의 양을, 산소가 제한되지 않는 조건에서 양극반응이 이루어지는데 필요한 산소의 양으로 하고, 이를 공급할 수 있는 적정속도를 유지하여 운전하는 것을 특징으로 하는 저농도 BOD 계측기용 미생물연료전지의 운전 방법. 7 제1항 또는 제5항의 저농도 BOD 계측기용 미생물연료전지를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 저농도 BOD 계측기.","KR100509680B1, KR20040090761A",null,1]
["K02980","반도체","KR","산소 플라즈마 급속 열처리를 이용한 강유전체 게이트제조 방법{FABRICATION METHOD OF FERROELECTRIC GATE BY USING OXYGEN PLASMA RAPID THERMAL ANNEALING}",null,"원문이미지","KR20030030267A","2003.05.13","KR0524115B1","2005.10.19","본 발명은 산소 플라즈마 급속 열처리를 이용한 강유전체 게이트 제조방법에 관한 것으로, 강유전체 내의 산소결핍을 막고, 강유전체와 실리콘 기판사이에 원하지 않는 실리콘 산화막이 두껍게 성장하는 것을 방지 하는 방법을 제공함으로써 강유전체 게이트산화막을 사용한 트랜지스터의 전기적특성을 현저히 개선시키는 효과를 가져올 수 있다. 본 발명에 따른 산소 플라즈마 열처리에 의하여 강유전체박막 내의 산소 및 휘발성재료가 700 - 800℃의 고온에서 휘발하여 결핍되는 현상을 막을 뿐만 아니라, 플라즈마 상태로 반응성이 높은 활성화된 산소를 오히려 강유전체 박막 내에 주입 할 수 있으므로 원활한 산소의 공급이 이루어져 600 - 700℃ 정도의 보다 낮은 온도에서 강유전체를 특성을 발현할 수 있는 우수한 화학 양론적 조성과 c축방향으로 배향된 결정성을 얻을 수 있다.","1 강유전체 박막을 게이트 산화막으로 이용하는 불휘발성 소자를 제조하는 방법에 있어서, 강유전체 박막을 산소 플라즈마로 600 - 700℃의 온도 범위에서 5 - 10분간 열처리하여 상기 강유전체 박막의 산소 농도를 증가시켜 강유전체 게이트 특성을 향상시키는 것을 특징으로 하는 강유전체 게이트 제조방법.","김용태, 김성일, 김영환, 김춘근","H01L-027/105","KR20040098116A","2004.11.20",null,"2023.05.13","1 강유전체 박막을 게이트 산화막으로 이용하는 불휘발성 소자를 제조하는 방법에 있어서, 강유전체 박막을 산소 플라즈마로 600 - 700℃의 온도 범위에서 5 - 10분간 열처리하여 상기 강유전체 박막의 산소 농도를 증가시켜 강유전체 게이트 특성을 향상시키는 것을 특징으로 하는 강유전체 게이트 제조방법. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4 제1항에 있어서, 산소 플라즈마 발생시 인가되는 전력은 30 - 50 W 인 강유전체 게이트 제조방법. 5 제1항에 있어서, 열처리시 압력은 10-1 - 10-2 Torr 인 강유전체 게이트 제조방법. 6 제1항에 있어서, 산소 플라즈마 열처리에 의하여 상기 강유전체 내에 산소 농도를 증가시키는 것을 특징으로 하는 강유전체 게이트 제조방법. 7 제1항에 있어서, 산소 플라즈마 열처리에 의하여 강유전체 게이트의 잔류분극 값을 증가시키는 강유전체 게이트 제조방법. 8 제1항에 있어서, 산소 플라즈마 열처리에 의하여 상기 강유전체 게이트를 가진 트랜지스터의 메모리 윈도우를 증가시키는 강유전체 게이트 제조방법. 9 제1항에 있어서, 산소 플라즈마 열처리에 의하여 실리콘과 강유전체 사이에 원하지 않는 산화막의 성장을 억제시키는 강유전체 게이트 제조방법.","KR100524115B1, KR20040098116A",null,1]
["K02977","연료전지","KR","산소 흡착 조촉매를 함유하는 연료 전지용 촉매, 이를이용하여 제조된 연료 전지용 전극, 및 그 전극을포함하는 연료 전지{OXYGEN ADSORBING COCATALYST CONTAING CATALYST FOR FUEL CELL, ELECTRODE FOR FUEL CELL USING THE SAME, AND FUEL CELL CONTAINING THE ELECTRODE}",null,"원문이미지","KR20040014664A","2004.03.04","KR0561169B1","2006.03.08","본 발명에서는, 백금-은 또는 백금-금 주촉매에, 산소를 선택적으로 저장 및 방출하고, 산소 전도도를 가지며, 저온에서 일산화탄소의 산화 반응이 용이한 조촉매로, 로듐, 세리아 성분, 또는 루테늄, 또는 이러한 물질들의 복합체를 함유시켜, 산소환원 특성뿐만 아니라 메탄올 산화 특성과 일산화탄소에 대한 내피독성이 우수한 촉매를 제조할 수 있고, 특히 환원극에 공기를 사용하는 경우에도, 백금 촉매의 산소흡착 특성을 증가시켜 연료 전지용 전극 촉매의 성능을 향상시킬 수 있게 된다.","1 저온 연료 전지용 전극 촉매에 있어서, 주촉매인, 백금-은 촉매 또는 탄소에 담지된 백금-은 촉매, 또는 백금-금 촉매 또는 탄소에 담지된 백금-금 촉매에, 조촉매로서, 로듐(Rh), 세리아(CeO2) 성분, 루테늄(Ru)을 1개 이상 포함하되, 30∼99 wt.%의 백금, 0.1∼10 wt.%의 은 또는 금, 1∼70 wt.%의 루테늄 또는 로듐, 그리고 0.1∼10 wt.%의 세리아 성분을 포함하는 것을 특징으로 하는 산소 흡착 조촉매를 함유하는 저온 연료 전지용 촉매.","하흥용, 유환배, 박찬희, 이호인, 오인환, 홍성안, 임태훈, 남석우","H01M-004/92","KR20050089324A","2005.09.08",null,"2024.03.04","1 저온 연료 전지용 전극 촉매에 있어서, 주촉매인, 백금-은 촉매 또는 탄소에 담지된 백금-은 촉매, 또는 백금-금 촉매 또는 탄소에 담지된 백금-금 촉매에, 조촉매로서, 로듐(Rh), 세리아(CeO2) 성분, 루테늄(Ru)을 1개 이상 포함하되, 30∼99 wt.%의 백금, 0.1∼10 wt.%의 은 또는 금, 1∼70 wt.%의 루테늄 또는 로듐, 그리고 0.1∼10 wt.%의 세리아 성분을 포함하는 것을 특징으로 하는 산소 흡착 조촉매를 함유하는 저온 연료 전지용 촉매. 2 제 1 항에 있어서, 상기 세리아 성분은, 세리아에 가돌로늄(Gd), 지르코늄(Zr), 사마리움(Sm), 이트리움(Y), 스트론튬(Sr), 란타늄(La), 칼슘(Ca), 및 이들의 산화물 중 적어도 하나 이상이 30% 이하로 도핑되어 있는 것을 특징으로 하는 산소 흡착 조촉매를 함유하는 저온 연료 전지용 촉매. 3<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 4 제 1 항 또는 제 2 항에 의한 촉매를 포함하는 것을 특징으로 하는 산소 흡착 조촉매를 함유하는 저온 연료 전지 전극. 5 제 4 항에 의한 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 산소 흡착 조촉매를 함유하는 저온 연료 전지.","KR100561169B1, KR20050089324A",null,1]
["K02971","생화학","KR","내열 안정성 안티트롬빈 변이체{THERMOSTABLE ANTITHROMBIN MUTEINS}",null,"원문이미지","KR20030035550A","2003.06.03","KR0525348B1","2005.10.25","본 발명은 내열 안정성 안티트롬빈 변이체 및 그의 제조 방법에 관한 것으로, 본 발명의 내열 안전성 안티트롬빈 변이체들은 안티트롬빈의 77번, 96번 또는 419번 아미노산이 다른 아미노산으로 치환됨으로써 안티트롬빈의 활성은 유지되면서 내열 안정성이 크게 증가되어, 생체 내에서 안정한 단백질 치료제로서 유용하며 진단 시약 개발, 친화성 컬럼의 제조 등 다른 여러 가지 용도에도 응용될 수 있다.","1 서열번호: 2의 아미노산 서열을 갖는 안티트롬빈이 하기와 같이 치환된, 천연형 안티트롬빈에 비해 내열 안정성이 증가된 안티트롬빈 변이체: 77번 페닐알라닌 → 로이신 또는 발린, 96번 아스파라진 → 글리신, 또는 419번 트레오닌 → 알라닌.","유명희, 임하나, 서은주, 유명점","C12N-009/74","KR20040104770A","2004.12.13",null,"2023.06.03","1 서열번호: 2의 아미노산 서열을 갖는 안티트롬빈이 하기와 같이 치환된, 천연형 안티트롬빈에 비해 내열 안정성이 증가된 안티트롬빈 변이체: 77번 페닐알라닌 → 로이신 또는 발린, 96번 아스파라진 → 글리신, 또는 419번 트레오닌 → 알라닌. 2<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 3 제 1 항의 안티트롬빈 변이체를 코드하는 DNA. 4 제 3 항의 DNA를 포함하는 재조합 벡터. 5 제 4 항에 있어서, 대장균 발현용 재조합 벡터. 6 제 5 항에 있어서, 플라스미스 pFEATⅢ-F77L(KCTC 10154BP)인 재조합 벡터. 7 제 4 항에 있어서, 곤충세포 발현용 재조합 벡터. 8 제 4 항의 재조합 벡터로 형질전환된 미생물. 9 제 4 항의 재조합 벡터로 형질전환된 곤충세포. 10 제 9 항에 있어서, Sf9 세포인 곤충세포. 11 1) 제 1 항의 안티트롬빈 변이체를 코드하는 DNA를 포함하는 재조합 벡터를 제조하는 단계; 2) 상기 단계 1)에서 제조된 벡터로 미생물 또는 곤충세포를 형질전환시켜 배양하는 단계; 및 3) 상기 단계 2)에서 얻은 배양액으로부터 안티트롬빈 변이체를 분리하는 단계를 포함하는, 내열 안정성 안티트롬빈 변이체의 제조방법. 12<AmendStatus status=\"D\">삭제</AmendStatus> 13 제 11 항에 있어서, 곤충세포가 Sf9 세포인 제조방법.","KR100525348B1, KR20040104770A",null,1]
["K02931","생화학","KR","모세관 전기 영동장치를 이용하여 세포에서 방출되는아질산염을 분석하는 방법{Method For Analyzing Nitrite Released In Cell Using Capillary Electrophoresis}",null,"원문이미지","KR20030002928A","2003.01.16","KR0461921B1","2004.12.06","본 발명은 모세관 전기 영동장치를 이용하여 세포에서 방출되는 아질산염을 분석하는 방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 시토킨에 의해 활성화되는 아질산염을 측정하기 위한 모세관 전기 영동 장치의 조건을 확립하는 단계, 아질산염 측정을 위한 표준물질을 사용하여 상기 조건 하에서 모세관 전기 영동 장치로 아질산염을 검출하여 아질산염 검출 피크 대 표준물질의 농도 검정 곡선을 작성하는 단계, 세포를 시토킨을 함유하는 배지에서 배양하는 단계, 상기 세포 배양 상층액을 사용하여 상기 확립된 조건 하에서 모세관 전기 영동 장치를 상기 세포에서 방출되는 아질산염 피크를 검출하는 단계, 상기 검출된 아질산염 피크를 상기 작성한 농도 검정 곡선에 대입하여 대응하는 아질산염 농도를 결정하는 단계를 포함하는, 모세관 전기 영동장치를 이용하여 세포에서 방출되는 아질산염을 분석하는 방법을 제공한다.","1 시토킨에 의해 활성화되는 아질산염을 측정하기 위한 모세관 전기 영동 장치의 조건을 확립하는 단계, 아질산염 측정을 위한 표준물질을 사용하여 상기 조건 하에서 모세관 전기 영동 장치로 아질산염을 검출하여 아질산염 검출 피크 대 표준물질의 농도 검정 곡선을 작성하는 단계, 세포를 시토킨을 함유하는 배지에서 배양하는 단계, 상기 세포 배양 상층액을 사용하여 상기 확립된 조건 하에서 모세관 전기 영동 장치를 상기 세포에서 방출되는 아질산염 피크를 검출하는 단계, 상기 검출된 아질산염 피크를 상기 작성한 농도 검정 곡선에 대입하여 대응하는 아질산염 농도를 결정하는 단계 를 포함하는, 모세관 전기 영동장치를 이용하여 세포에서 방출되는 아질산염을 분석하는 방법.","유영숙, 이지연, 반은미, 이세윤","G01N-027/447","KR20040065766A","2004.07.23",null,"2023.01.16","1 시토킨에 의해 활성화되는 아질산염을 측정하기 위한 모세관 전기 영동 장치의 조건을 확립하는 단계, 아질산염 측정을 위한 표준물질을 사용하여 상기 조건 하에서 모세관 전기 영동 장치로 아질산염을 검출하여 아질산염 검출 피크 대 표준물질의 농도 검정 곡선을 작성하는 단계, 세포를 시토킨을 함유하는 배지에서 배양하는 단계, 상기 세포 배양 상층액을 사용하여 상기 확립된 조건 하에서 모세관 전기 영동 장치를 상기 세포에서 방출되는 아질산염 피크를 검출하는 단계, 상기 검출된 아질산염 피크를 상기 작성한 농도 검정 곡선에 대입하여 대응하는 아질산염 농도를 결정하는 단계 를 포함하는, 모세관 전기 영동장치를 이용하여 세포에서 방출되는 아질산염을 분석하는 방법. 2 제1항에 있어서, 상기 세포가 PC12 세포인 방법. 3 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 시토킨이 인터페론(IFN) 감마와 종양괴사 인자(TNF) 알파의 혼합물인 방법. 4 제1항에 있어서, 모세관 전기 영동 장치의 조건을 확립하는 단계가 모세관의 내경과 길이, 완충 용액의 조성 및 pH , 및 반응 온도를 설정하는 단계를 포함하는 것인 방법.","KR100461921B1, KR20040065766A",null,1]
["K02898","화학","KR","금속 위에 세라믹이 담지된 형태의 수성가스 전환 촉매 및그 제조 방법{Water Gas Shift Catalyst with Ceramic on Metal Morphology and Method for Manufacturing the Same}",null,"원문이미지","KR20020064912A","2002.10.23","KR0462286B1","2004.12.08","본 발명에 의한 금속 위에 세라믹이 담지된 형태의 수성가스 전환 촉매는, 수성가스 전환 반응에 사용되는 촉매로서, 금, 은, 구리, 니켈, 아연, 크롬, 또는 알루미늄으로부터 1 이상 선택되는 금속 위에 세리아 계열, 지르코니아 계열, 페롭스카이트 계열, 또는 비스무트 산화물 계열로부터 선택되는 세라믹이 담지된 형태의 구조를 가지는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 금속 위에 세라믹이 담지된 형태의 수성가스 전환 촉매에 있어서, 상기 금속은 분말, 다공성판, 그물망, 호일, 폼, 또는 다른 기재상에 코팅된 표면의 형태인 것을 특징으로 한다. 본 발명의 금속 위에 세라믹이 담지된 형태의 수성가스 전환 촉매에 있어서, 상기 세라믹은 입방상인 것을 특징으로 한다.","1 수성가스 전환 반응에 사용되는 촉매로서, 금, 은, 구리, 니켈, 아연, 크롬, 또는 알루미늄으로부터 1 이상 선택되는 금속 위에 세리아 계열, 지르코니아 계열, 페롭스카이트 계열, 또는 비스무트 산화물 계열로부터 선택되는 세라믹이 담지된 형태의 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 금속 위에 세라믹이 담지된 형태의 수성가스 전환 촉매.","홍성안, 오인환, 임태훈, 남석우, 하흥용, 윤성필, 한종희, 조은애","B01J-023/843","KR20040036106A","2004.04.30",null,"2022.10.23","1 수성가스 전환 반응에 사용되는 촉매로서, 금, 은, 구리, 니켈, 아연, 크롬, 또는 알루미늄으로부터 1 이상 선택되는 금속 위에 세리아 계열, 지르코니아 계열, 페롭스카이트 계열, 또는 비스무트 산화물 계열로부터 선택되는 세라믹이 담지된 형태의 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 금속 위에 세라믹이 담지된 형태의 수성가스 전환 촉매. 2 제1항에 있어서, 상기 금속은 분말, 다공성판, 그물망, 호일, 폼, 또는 다른 기재상에 코팅된 표면의 형태인 것을 특징으로 하는 금속 위에 세라믹이 담지된 형태의 수성가스 전환 촉매. 3 제1항에 있어서, 상기 세라믹은 입방상인 것을 특징으로 하는 금속 위에 세라믹이 담지된 형태의 수성가스 전환 촉매. 4 수성가스 전환 반응에 사용되는 촉매의 제조공정으로서, 금, 은, 구리, 니켈, 아연, 크롬, 또는 알루미늄으로부터 1 이상 선택되는 금속 위에 세리아 계열, 지르코니아 계열, 페롭스카이트 계열, 또는 비스무트 산화물 계열로부터 선택되는 세라믹을 담지시키는 단계(a); 상기 단계(a)의 금속 담지 세라믹을 상온, 공기 중에서 건조시키는 단계(b); 상기 단계(b)의 건조 후, 500~1000℃로 가열하여 산화시키는 단계(c); 및 상기 단계(c)의 산화 후, 수소 분위기, 300~450℃에서 환원처리 하는 단계(d)를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 금속 위에 세라믹이 담지된 형태의 수성가스 전환 촉매의 제조 방법. 5 제4항에 있어서, 상기 단계(a)의 세라믹 담지는, 전기도금법, 솔-젤법, 스퍼터링법, 또는 무전해도금법에 의하는 것을 특징으로 하는 금속 위에 세라믹이 담지된 형태의 수성가스 전환 촉매의 제조 방법.","KR100462286B1, KR20040036106A",null,1]
["K02838","연료전지","KR","초소형 전기화학 장치를 위한 다공성 전극 및 박막 전해질제조 방법{Method for manufacturing porous electrode and thin film electrolyte for micro electrochemical device}",null,"원문이미지","KR20020057542A","2002.09.23","KR0448519B1","2004.09.02","본 발명에 의한 초소형 전기화학 장치를 위한 다공성 전극 및 박막 전해질 제조 방법은, 고체 산화물 연료전지, 센서, 또는 고체상 장치의 소형화를 위한 전극 및 전해질막의 제조공정으로서, 전극 재료 및 기공형성제를 동시에 스퍼터링함으로써 치밀한 전극을 제조하는 단계(a); 상기 단계(a)의 전극 위에 이온 전도성 세라믹 전해질을 스퍼터링하여 박막을 형성시키는 단계(b); 상기 단계(b)의 전해질 위에 다시 전극 재료 및 기공형성제를 동시에 스퍼터링하여 상대 전극을 형성하는 단계(c); 및 상기 단계(c) 후 열처리, 산처리, 또는 염기처리로 기공형성제를 선택적으로 제거하여 다공성 전극을 제조하는 단계(d)를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의한 초소형 전기화학 장치를 위한 다공성 전극 및 박막 전해질 제조 방법에 있어서, 상기 단계(a)의 전극 재료는 백금, 은, 금, 로듐, 이리듐, 팔라듐, 또는 루테늄으로부터 선택하여 사용하고, 기공형성제는 구리, 코발트, 또는 니켈로부터 하나 이상 선택하여 사용하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의한 초소형 전기화학 장치를 위한 다공성 전극 및 박막 전해질 제조 방법에 있어서, 상기 단계(a)의 기공형성제는 전극 재료에 대하여 8:2 내지 5:5 정도의 비율로 사용하는 것을 특징으로 한다.","1 고체 산화물 연료전지, 센서, 또는 고체상 장치의 소형화를 위한 전극 및 전해질막의 제조공정으로서, 전극 재료 및 기공형성제를 동시에 스퍼터링함으로써 치밀한 전극을 제조하는 단계(a); 상기 단계(a)의 전극 위에 이온 전도성 세라믹 전해질을 스퍼터링하여 박막을 형성시키는 단계(b); 상기 단계(b)의 전해질 위에 다시 전극 재료 및 기공형성제를 동시에 스퍼터링하여 상대 전극을 형성하는 단계(c); 및 상기 단계(c) 후 열처리, 산처리, 또는 염기처리로 기공형성제를 선택적으로 제거하여 다공성 전극을 제조하는 단계(d)를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 초소형 전기화학 장치를 위한 다공성 전극 및 박막 전해질 제조 방법.","홍성안, 오인환, 임태훈, 남석우, 하흥용, 윤성필, 한종희, 조은애","H01M-004/88","KR20040026180A","2004.03.30",null,"2022.09.23","1 고체 산화물 연료전지, 센서, 또는 고체상 장치의 소형화를 위한 전극 및 전해질막의 제조공정으로서, 전극 재료 및 기공형성제를 동시에 스퍼터링함으로써 치밀한 전극을 제조하는 단계(a); 상기 단계(a)의 전극 위에 이온 전도성 세라믹 전해질을 스퍼터링하여 박막을 형성시키는 단계(b); 상기 단계(b)의 전해질 위에 다시 전극 재료 및 기공형성제를 동시에 스퍼터링하여 상대 전극을 형성하는 단계(c); 및 상기 단계(c) 후 열처리, 산처리, 또는 염기처리로 기공형성제를 선택적으로 제거하여 다공성 전극을 제조하는 단계(d)를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 초소형 전기화학 장치를 위한 다공성 전극 및 박막 전해질 제조 방법. 2 제1항에 있어서, 상기 단계(a)의 전극 재료는 백금, 은, 금, 로듐, 이리듐, 팔라듐, 또는 루테늄으로부터 선택하여 사용하는 것을 특징으로 하는 초소형 전기화학 장치를 위한 다공성 전극 및 박막 전해질 제조 방법. 3 제1항에 있어서, 상기 단계(a)의 기공형성제는 구리, 코발트, 또는 니켈로부터 하나 이상 선택하여 사용하는 것을 특징으로 하는 초소형 전기화학 장치를 위한 다공성 전극 및 박막 전해질 제조 방법. 4 제1항에 있어서, 상기 단계(a)의 기공형성제는 전극 재료에 대하여 8:2 내지 5:5 정도의 비율로 사용하는 것을 특징으로 하는 초소형 전기화학 장치를 위한 다공성 전극 및 박막 전해질 제조 방법. 5 제1항에 있어서, 상기 단계(b)의 이온 전도성 세라믹 전해질은, 30% 이하의 Gd가 도핑된 CeO 2 , 30% 이하의 Sm가 도핑된 CeO 2 , 30% 이하의 Y가 도핑된 CeO 2 , 30% 이하의 Sr가 도핑된 CeO 2 , 30% 이하의 La가 도핑된 CeO 2 , 및 30% 이하의 Ca가 도핑된 CeO 2 로 구성되는 군에서 1 이상 선택하여 사용하는 것을 특징으로 하는 초소형 전기화학 장치를 위한 다공성 전극 및 박막 전해질 제조 방법. 6 제1항에 있어서, 상기 단계(d)의 기공형성제를 선택적으로 제거하기 위한 산처리는 염산, 질산, 또는 황산 용액을 사용하는 것을 특징으로 하는 초소형 전기화학 장치를 위한 다공성 전극 및 박막 전해질 제조 방법.","KR100448519B1, KR20040026180A",null,1]
["K02745","연료전지","KR","단일가스경로 구조를 가지는 원반형 분리판 및 이를이용한 용융탄산염 연료전지 스택{Disk type separator having one-loop gas passage structure and Molten Carbonate Fuel Cell Stack comprising the said separator}",null,"원문이미지","KR20020038838A","2002.07.05","KR0466096B1","2005.01.04","본 발명에 따른 단일가스경로 구조를 가지는 원반형 분리판은, 연료를 공급하기 위하여 분리판 외측에 설치되는 연료공급관의 연결부, 연료가스가 분리판의 중앙부로부터 원주방향으로 흐르도록 분리판의 중앙부까지 연결되어 설치되는 연료공급관, 연료극을 지난 연료극 배기 가스를 배출시키기 위하여 분리판 테두리에 설치되는 연료극 가스 배출구, 상기의 배출된 연료극 배기가스와 스택 외부로 공급되는 공기극 가스의 반응으로 연소된 가스를 공기극으로 유입시키기 위하여 분리판 테두리에 설치되는 공기극 가스 유입구, 및 공기극으로 유입된 가스를 원주방향으로 배출시키기 위하여 분리판 중앙부에 설치되는 공기극 가스의 배출 통로를 포함하여 구성되는 용융탄산염 연료전지용 분리판으로서, 연료극의 배출가스를 스택 외부에서 연소시킨 후 공기극으로 공급되도록 하는 단일의 가스경로 구조를 가지는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의한 단일가스경로 구조를 가지는 원반형 분리판을 이용한 용융탄산염 연료전지 스택은, 두 개 이상의 연료극, 공기극 및 분리판으로 구성되는 단위전지로 이루어지는 용융탄산염 연료전지 스택으로서, 분리판으로 상기 제1항의 단일가스경로 구조를 가지는 원반형 분리판을 사용하고, 전극의 테두리 부분에 연료극에서 배출되는 미반응 수소가 전극 테두리에서 바로 산화되는 것을 방지하기 위한 금속링이 설치되며, 연료극 중앙부에 공기극 가스의 배출구와 연료극 가스가 혼합되지 않도록 밀폐시키기 위한 금속링이 설치되고, 연료는 상기 원반형 분리판에 연결된 연료공급관을 통하여 공급되며, 산화제는 스택 외부로 공급되어지는 구조를 가지는 것을 특징으로 한다.","1 연료를 공급하기 위하여 분리판 외측에 설치되는 연료공급관의 연결부, 연료가스가 분리판의 중앙부로부터 원주방향으로 흐르도록 분리판의 중앙부까지 연결되어 설치되는 연료공급관, 연료극을 지난 연료극 배기 가스를 배출시키기 위하여 분리판 테두리에 설치되는 연료극 가스 배출구, 상기의 배출된 연료극 배기가스와 스택 외부로 공급되는 공기극 가스의 반응으로 연소된 가스를 공기극으로 유입시키기 위하여 분리판 테두리에 설치되는 상기 연소된 가스 유입구, 및 상기 유입구로부터 유입된 가스를 원주방향으로 배출시키기 위하여 분리판 중앙부에 설치되는 연소된 가스의 배출 통로를 포함하여 구성되는 용융탄산염 연료전지용 분리판으로서, 연료극의 배출가스를 스택 외부에서 연소시킨 후 공기극으로 공급되도록 하는 단일의 가스경로 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 단일가스경로 구조를 가지는 원반형 분리판.","홍성안, 오인환, 임태훈, 남석우, 하흥용, 윤성필, 한종희, 조은애","H01M-008/02","KR20040004802A","2004.01.16",null,"2022.07.05","1 연료를 공급하기 위하여 분리판 외측에 설치되는 연료공급관의 연결부, 연료가스가 분리판의 중앙부로부터 원주방향으로 흐르도록 분리판의 중앙부까지 연결되어 설치되는 연료공급관, 연료극을 지난 연료극 배기 가스를 배출시키기 위하여 분리판 테두리에 설치되는 연료극 가스 배출구, 상기의 배출된 연료극 배기가스와 스택 외부로 공급되는 공기극 가스의 반응으로 연소된 가스를 공기극으로 유입시키기 위하여 분리판 테두리에 설치되는 상기 연소된 가스 유입구, 및 상기 유입구로부터 유입된 가스를 원주방향으로 배출시키기 위하여 분리판 중앙부에 설치되는 연소된 가스의 배출 통로를 포함하여 구성되는 용융탄산염 연료전지용 분리판으로서, 연료극의 배출가스를 스택 외부에서 연소시킨 후 공기극으로 공급되도록 하는 단일의 가스경로 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 단일가스경로 구조를 가지는 원반형 분리판. 2 제1항에 있어서, 상기 원반형 분리판은 스텐레스스틸을 모재로 하는 것을 특징으로 하는 단일가스경로 구조를 가지는 원반형 분리판. 3 두 개 이상의 연료극, 공기극 및 분리판으로 구성되는 단위전지로 이루어지는 용융탄산염 연료전지 스택으로서, 분리판으로 상기 제1항의 단일가스경로 구조를 가지는 원반형 분리판을 사용하고, 전극의 테두리 부분에 연료극에서 배출되는 미반응 수소가 전극 테두리에서 바로 산화되는 것을 방지하기 위한 금속링이 설치되며, 연료극 중앙부에 연소된 가스의 배출구와 연료극 가스가 혼합되지 않도록 밀폐시키기 위한 금속링이 설치되고, 연료는 상기 원반형 분리판에 연결된 연료공급관을 통하여 공급되며, 산화제는 스택 외부로 공급되어지는 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 단일가스경로 구조를 가지는 원반형 분리판을 이용한 용융탄산염 연료전지 스택.","KR100466096B1, KR20040004802A",null,1]
["K02740","연료전지","KR","연료전지 자동차용 가솔린 개질촉매 및 이의 제조방법{POX reforming catalysts of gasoline for fuel-cell powered vehicles applications and methods for preparing catalysts}",null,"원문이미지","KR20020021236A","2002.04.18","KR0448683B1","2004.09.03","본 발명은 연료전지 자동차용 가솔린 개질촉매와 이의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 γ-알루미나 또는 실리카-알루미나(Si-Al)의 다공성 담체에 탄소의 침적을 억제시키는 기본성분으로 Mg와 활성성분으로Ni, Co, Fe, Mo, Cr, Ti 및 Zr으로 이루어진 전이금속군으로부터 선택된 2종 이상의 전이금속을 일정량 담지시켜 연료전지 자동차용 가솔린 개질촉매를 제조함으로써, 부분산화개질(autothermal reforming, ATR) 반응에 높은 촉매활성, 높은 수소의 선택도 및 낮은 CO 선택도, 탄소침적이나 황에 대한 내구성을 가질 뿐만 아니라 촉매물질로서 종래 귀금속을 사용하는 대신 전이금속을 사용하는 경제적인 연료전지 자동차용 가솔린 개질촉매와 이의 제조방법에 관한 것이다.","1 γ-알루미나 또는 실리카-알루미나(Si-Al)의 다공성 담체에, Mg, Ni, Ti 및 Zr로 구성된 기본촉매성분과, Co, Fe, Mo 및 Cr로부터 선택된 1종 또는 2종 이상의 활성촉매성분이 담지된 것을 특징으로 하는 연료전지 자동차용 가솔린 개질촉매.","문동주, 류종우, 이상득, 이병권, 안병성","C10G-011/02","KR20030082762A","2003.10.23",null,"2022.04.18","1 γ-알루미나 또는 실리카-알루미나(Si-Al)의 다공성 담체에, Mg, Ni, Ti 및 Zr로 구성된 기본촉매성분과, Co, Fe, Mo 및 Cr로부터 선택된 1종 또는 2종 이상의 활성촉매성분이 담지된 것을 특징으로 하는 연료전지 자동차용 가솔린 개질촉매. 2 제 1 항에 있어서, 상기 Mg가 5 ∼ 15 중량% 함유된 것임을 특징으로 하는 연료전지 자동차용 가솔린 개질촉매. 3 제 1 항에 있어서, 상기 Ni가 2 ∼ 15 중량% 함유된 것임을 특징으로 하는 연료전지 자동차용 가솔린 개질촉매. 4 제 1 항에 있어서, 상기 Co가 0.1 ∼ 15 중량% 함유된 것임을 특징으로 하는 연료전지 자동차용 가솔린 개질촉매. 5 제 1 항에 있어서, 상기 Fe가 2 ∼ 15 중량% 함유된 것임을 특징으로 하는 연료전지 자동차용 가솔린 개질촉매. 6 제 1 항에 있어서, 상기 Mo가 2 ∼ 15 중량% 함유된 것임을 특징으로 하는 연료전지 자동차용 가솔린 개질촉매. 7 제 1 항에 있어서, 상기 Cr이 0.1 ∼ 1.0 중량% 함유된 것임을 특징으로 하는 연료전지 자동차용 가솔린 개질촉매. 8 제 1 항에 있어서, 상기 Ti이 0.001 ∼ 0.005 중량% 함유된 것임을 특징으로 하는 연료전지 자동차용 가솔린 개질촉매. 9 제 1 항에 있어서, 상기 Zr이 0.001 ∼ 0.005 중량% 함유된 것임을 특징으로 하는 연료전지 자동차용 가솔린 개질촉매. 10 제 1 항에 있어서, 상기 다공성 담체는 금속기준으로 21 ∼ 42 중량% 함유된 것임을 특징으로 하는 연료전지 자동차용 가솔린 개질촉매. 11 1) Mg, Ni, Ti 및 Zr로 구성된 기본촉매성분과, Co, Fe, Mo 및 Cr로부터 선택된 1종 또는 2종 이상의 활성촉매성분을 초순수에 용해시켜 금속염 수용액을 만드는 단계; 2) γ-알루미나 또는 실리카-알루미나(Si-Al)의 다공성 담체를 350 ∼ 450 ℃에서 2 ∼ 12시간 동안 공기중에 전처리한 후 슬러리 형태로 제조하는 단계; 3) 상기 1 단계의 금속염 수용액을 50 ∼ 70 ℃의 상기 2 단계의 슬러리 형태 담체에 교반시키며 적가한 후, 70 ∼ 90 ℃에서 3 ∼ 6시간 동안 교반하여 담체에 전이금속을 함침시키는 단계; 4) 상기 3 단계의 함침된 촉매전구체를 건조오븐에서 6 ∼ 12시간 동안 완전히 건조시켜 촉매전구제를 얻는 단계; 5) 상기 4 단계의 촉매전구체를 상온에서 650 ℃까지 0.1 ∼ 10 ℃/min으로 공기분위기하에서 승온시킨후 650 ℃에서 2 ∼ 12시간 동안 소성시키는 단계 로 이루어진 것을 특징으로 하는 연료전지 자동차용 가솔린 개질촉매의 제조방법. 12 청구항 1에 따른 촉매상에서 반응온도 600 ∼ 1,000 ℃, 공간속도 1,000 ∼ 50,000 hr -1 , 반응물의 몰비 H 2 O/C=0.1 ∼ 5 및 O/C=0.1 ∼ 3로 하여 가솔린을 연료전지 자동차용 수소가스로 개질시키는 것을 특징으로 하는 가솔린의 개질공정. 13 청구항 1에 따른 촉매상에서 메탄올, 가솔린 또는 탄화수소의 스팀개질반응, 부분산화반응 또는 부분산화 개질반응에 의해 수소 풍부가스를 제조하고, 제조된 수소를 연료전지 자동차용 수소공급원으로 사용하는 연료개질공정. 14 청구항 1에 따른 촉매를 구비하는 가솔린 개질공정에서 제조된 수소가스를 고분자 전해질 연료전지(PEM)에 적용하는 공정.","KR100448683B1, KR20030082762A",null,1]
["F02099","재료","JP","반응 결합 탄화 규소의 제조 방법",null,"원문이미지","JP2004501336A","2003.04.28","JP4192145B9","2008.09.26","(57)【요약】 규소 분말과 결합제와를 포함하는 규소 공급체를 준비하고, 탄화 규소/탄소 예비 성형체를 준비하고, 예비 성형체와 규소 공급체와를 접촉하게 하고, 진공 또는 불활성 분위기하에서 규소의 용융 온도 보다(에서) 고온으로 가열 처리를 행하고, 규소 공급 체내의 용융 규소를 예비 성형체의 내부에 침투하게 하게 한 반응 결합 탄화 규소의 제조 방법을 개시한다.","【청구항 1】 규소 분말과, 결합제로서 페놀 수지, 퍼프릴 알코올 수지 및 에폭시 수지로부터 선택하게 되는 어느 한쪽인가 1개의 열강화성 수지와를 포함하는 곳(것) 정형장의 규소 공급체를 준비하는 스텝과, 탄화 규소/탄소 예비 성형체를 준비하는 스텝과, 반응 소결 로내에서 상기 예비 성형체의 온통 전기록 규소 공급체를 접촉하게 하는 스텝과, 상기 규소 공급 체내의 용융 규소를 상기 예비 성형체의 내부에 침투하게 하기 위해(때문에), 진공 또는 불활성 분위기하에서 규소의 용융 온도 보다(에서) 고온으로 가열 처리하는 스텝과, 을 포함하로 되는 반응 결합 탄화 규소의 제조 방법.","リ­,ハエ-ウェオン, キム,ジョ­-スン, リ­,ジョン-ホ, ソン,ヒュエ-スップ, シン,ヒュン-イック","C04B-035/573","JP2005523872T","2005.08.11","2002-04-30 (KR 10-2002-0023774)","2023.04.28","【특허청구의 범위】 【청구항 1】 규소 분말과, 결합제로서 페놀 수지, 퍼프릴 알코올 수지 및 에폭시 수지로부터 선택하게 되는 어느 한쪽인가 1개의 열강화성 수지와를 포함하는 곳(것) 정형장의 규소 공급체를 준비하는 스텝과, 탄화 규소/탄소 예비 성형체를 준비하는 스텝과, 반응 소결 로내에서 상기 예비 성형체의 온통 전기록 규소 공급체를 접촉하게 하는 스텝과, 상기 규소 공급 체내의 용융 규소를 상기 예비 성형체의 내부에 침투하게 하기 위해(때문에), 진공 또는 불활성 분위기하에서 규소의 용융 온도 보다(에서) 고온으로 가열 처리하는 스텝과, 을 포함하로 되는 반응 결합 탄화 규소의 제조 방법. 【청구항 2】 상기 규소 공급체는, 규소 분말 70∼99 중량%와 결합제로서 열강화성 수지 1∼10 중량%와를 용매에 혼합하고 슬러리를 준비하고, 그 슬러리를 건조하게 하고 과립을 얻고, 해 과립을 소정의 형상에 성형하고 제조하게 되는 청구항 1에 기재의 반응 결합 탄화 규소의 제조 방법. 【청구항 3】 상기 규소 분말의 크기는, 10∼5000미크론 m 있는 청구항 2에 기재의 반응 결합 탄화 규소의 제조 방법. 【청구항 4】 성형 온도는, 상온∼120℃의 범위 인 청구항 2에 기재의 반응 결합 탄화 규소의 제조 방법. 【청구항 5】 상기 결합제는, 포리비닐부치랄, 폴리비닐 알코올, 폴리 초산 비닐 및 포리메칠메타쿠리레토로부터 선택하게 되는 어느 한쪽인가 1개의 열가소성 수지 1∼10 중량%를 포함하는 청구항 2에 기재의 반응 결합 탄화 규소의 제조 방법. 【청구항 6】 상기 결합제는, 프탈산 디부틸, 프탈산 부칠벤질, 폴리에스틸렌 글리콜, 프탈산 디메틸, 프탈산 디옥틸 및 글리세롤으로부터 선택하게 되는 어느 한쪽인가 1개의 가소제 1∼10 중량%를 포함하는 청구항 2에 기재의 반응 결합 탄화 규소의 제조 방법. 【청구항 7】 성형 온도는, 60∼120℃의 범위 인 청구항 5 또는 6에 기재의 반응 결합 탄화 규소의 제조 방법. 【청구항 8】 가 열처리에 의하여, 상기 규소 공급 체내부로 규소 입자와 결합제와가 반응하고 탄화 규소 코 구조가 형성하게 되는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 반응 결합 탄화 규소의 제조 방법. 【청구항 9】 상기 가열 처리 온도는, 1410∼1550℃의 범위 인 청구항 1에 기재의 반응 결합 탄화 규소의 제조 방법. 【청구항 10】 상기 규소 분말과 탄화 규소 분말이라는 사이즈의 비율은, 5:1∼25:1의 범위 인 청구항 1에 기재의 반응 결합 탄화 규소의 제조 방법.","DE10392574B4, DE10392574T5, JP2005523872A, JP4192145B2, KR100471652B1, KR20030085371A, WO03093194A1",null,1]
["F01696","재료","US","Preparation of powder granules by liquid condensation process and manufacture of powder compacts thereof",null,"원문이미지","US10/383649","2003.03.10","US7169336","2007.01.30","A method for preparing powder granules by a liquid condensation process comprising preparing a slurry by mixing powders, a binding agent and a binding agent soluble solvent, dropping the slurry to a binding agent insoluble solvent to fix the binding agent so that the binding agent can not be released to a surface of a droplet of the slurry, coagulating the droplet by solvent exchange between the soluble solvent inside the droplet and the insoluble solvent at the surface of the droplets, and separating the coagulated droplet from the insoluble solvent, drying it and completely removing a residual solvent.","1. A method for preparing powder granules by a liquid condensation process, comprising: preparing a slurry by mixing powders, a binding agent and a soluble solvent with solubility of the binding agent; dropping the slurry to an insoluble solvent with substantially no solubility of the binding agent to fix the binding agent so that the binding agent does not substantially migrate to a surface of a droplet of the slurry, coagulating the droplet by solvent exchange between the soluble solvent inside the droplet and the insoluble solvent at the surface of the droplets; and separating the coagulated droplet from the insoluble solvent, drying it and removing a residual solvent, wherein the content of powders of the slurry is 1-5 vol. % of the slurry.","Lee; Hae-Weon, Kim; Joo-Sun, Lee; Jong-Ho, Song; Hue-Sup, You; Jang-Yong, Lee; Dong-Seuk, Heo; Jang-Won, Shin; Hyun-Ick","B29B-009/10","US20030168755A1","2003.09.11","2002.03.11 (KR 10-2002-0013003)","2023.12.30","1. A method for preparing powder granules by a liquid condensation process, comprising: preparing a slurry by mixing powders, a binding agent and a soluble solvent with solubility of the binding agent; dropping the slurry to an insoluble solvent with substantially no solubility of the binding agent to fix the binding agent so that the binding agent does not substantially migrate to a surface of a droplet of the slurry, coagulating the droplet by solvent exchange between the soluble solvent inside the droplet and the insoluble solvent at the surface of the droplets; and separating the coagulated droplet from the insoluble solvent, drying it and removing a residual solvent, wherein the content of powders of the slurry is 1-5 vol. % of the slurry. 2. The method of claim 1 further comprising the step of agitating, milling or making an ultrasonic treatment of the slurry for a uniform mixture of the slurry. 3. The method of claim 1, wherein the slurry contains a dispersion agent or a plasticizer. 4. The method of claim 1, wherein the binding agent is a thermosetting resin, a thermoplastic resin or their mixture. 5. A method for shapining powder granules by a liquid condensation process comprising the steps of: preparing a slurry by mixing powders to be shaped, a binding agent and a soluble solvent with solubility of the binding agent; dropping the slurry to an insoluble solvent with substantially no solubility of the binding agent so that the binding agent does not substantially migrate to a surface of a droplet of the slurry, coagulating the droplet by solvent exchange between the soluble solvent inside the droplet and the insoluble solvent at the surface of the droplets of the dropped slurry; separating the coagulated droplet from the insoluble solvent, drying it and completely removing a residual solvent; pressurizing the dried granules in a metal mold to fabricate a shaped body; and removing the binding agent by heating the shaped body, wherein the binding agent includes a thermosetting resin and a thermoplastic resin. 6. The method of claim 5 wherein the thermoplastic resin is removed first by heating the shaped body, and then, the thermosetting resin is thermally decomposed and removed. 7. A method for preparing powder granules by a liquid condensation process, comprising: preparing a slurry by mixing powders, a binding agent and a soluble solvent with solubility of the binding agent; dropping the slurry to an insoluble solvent with substantially no solubility of the binding agent to fix the binding agent so that the binding agent does not substantially migrate to a surface of a droplet of the slurry, coagulating the droplet by solvent exchange between the soluble solvent inside the droplet and the insoluble solvent at the surface of the droplets; and separating the coagulated droplet from the insoluble solvent, drying it and removing a residual solvent, wherein the powders contains fibrous or platy geometric anisotropic particles, and the volume fraction of the powders in the slurry is 0.5-4%.","DE10310343A1, JP2004122103A, JP4080920B2, KR100439738B1, KR20030073445A, US2003168755A1, US7169336B2",null,1]
["K02695","생화학","KR","효소에 의한 단백질 인산화 분석 방법{Determination Method of Protein Phosphorylation Reaction by Enzyme Activity}",null,"원문이미지","KR20020006554A","2002.02.05","KR0451594B1","2004.09.23","본 발명은 모세관 전기 영동 장치 및 매트릭스 보조된 레이저 탈착/이온화 질량분석기를 이용한 효소에 의한 단백질 인산화 분석 방법을 제공한다. 본 발명의 효소에 의한 단백질 인산화 분석 방법은 ERK에 의한 MBP 펩티드의 인산화 반응을 측정하기 위한 모세관 전기 영동 장치의 조건을 설정하는 단계, ERK에 의한 인산화 반응이 효과적으로 수행되는 MBP 펩티드를 결정하는 단계 및 설정된 모세관 전기 영동 장치와 메트릭스 보조된 레이저 탈착/이온화 질량분석기를 이용하여 ERK의 MBP 펩티드의 인산화 반응을 검출하는 단계를 포함한다. 본 발명의 모세관 전기 영동 장치나 매트릭스 보조된 레이저 탈착/이온화 질량분석장치를 사용한 세포내 반응 분석법은 체내 신호 전달 체계 연구를 위한 비용, 시간, 노력의 절감을 가져와 경제적 비용을 줄이는데 매우 커다란 도움을 줄 것이라 여겨진다.","1 세포외 신호 조절된 인산화 효소(ERK)에 의한 미엘린 염기성 단백질(MBP) 펩티드의 인산화 반응을 측정하기 위한 완충 용액의 최적 pH 및 농도를 결정하는 단계, 모세관 내벽에 펩티드의 흡착을 방지하고 검출 감도를 증가시키는 화합물의 최적 농도를 결정하여 상기 완충 용액에 첨가하는 단계, MBP 펩티드의 ERK에 의한 활성 부위인 -PRTP-를 중심으로, 동일 조건 하에서 ERK에 의한 인산화 반응이 효과적으로 수행되는 MBP 펩티드를 결정하는 단계, 상기 완충 용액을 이용하는 모세관 전기 영동 장치를 사용하여 ERK에 의한 상기 MBP 펩티드의 인산화를 검출하는 단계 및 메트릭스 보조된 레이저 탈착/이온화 질량분석기를 이용하여 상기 단계에서 검출된 인산화를 추가로 확인하는 단계 를 포함하는, 효소 ERK에 의한 단백질 MBP의 트레오닌 잔기의 인산화 반응 분석 방법.","유영숙, 남희선, 반은미, 유은아, 이세윤","C12Q-001/48","KR20030066217A","2003.08.09",null,"2022.02.05","1 세포외 신호 조절된 인산화 효소(ERK)에 의한 미엘린 염기성 단백질(MBP) 펩티드의 인산화 반응을 측정하기 위한 완충 용액의 최적 pH 및 농도를 결정하는 단계, 모세관 내벽에 펩티드의 흡착을 방지하고 검출 감도를 증가시키는 화합물의 최적 농도를 결정하여 상기 완충 용액에 첨가하는 단계, MBP 펩티드의 ERK에 의한 활성 부위인 -PRTP-를 중심으로, 동일 조건 하에서 ERK에 의한 인산화 반응이 효과적으로 수행되는 MBP 펩티드를 결정하는 단계, 상기 완충 용액을 이용하는 모세관 전기 영동 장치를 사용하여 ERK에 의한 상기 MBP 펩티드의 인산화를 검출하는 단계 및 메트릭스 보조된 레이저 탈착/이온화 질량분석기를 이용하여 상기 단계에서 검출된 인산화를 추가로 확인하는 단계 를 포함하는, 효소 ERK에 의한 단백질 MBP의 트레오닌 잔기의 인산화 반응 분석 방법. 2 제1항에 있어서, 상기 ERK에 의한 MBP 펩티드의 인산화를 검출하는 단계가 모세관 전기 영동 장치에 설치된 UV 검출기를 사용하여 수행되는 것인 방법.","KR100451594B1, KR20030066217A",null,1]
["K02524","기계","KR","로렌쯔 힘을 이용한 수동/능동 겸용 자기 베어링{Passive and active magnetic bearing by using the Lorentz force}",null,"원문이미지","KR20010059366A","2001.09.25","KR0460130B1","2004.11.25","본 발명은 로렌쯔 힘을 이용하는 수동/능동 겸용 자기 베어링에 관한 것이다. 보다 상세하게는 공극 내에서의 위치에 따라 자속밀도가 달라지도록 공극 설계를 하여, 로렌쯔 원리에 의해 DC 전류가 흐르는 코일이 미리 설정된 위치에서 벗어나지 않도록 설계된 수동/능동 겸용 자기 베어링을 제안한다. 본 발명에 따르면, 로터의 중앙부에 영구 자석이 위치하고, 로터의 외곽부엔 공극이 있어서 영구 자석의 N극에서 나온 자속이 바깥쪽 공극을 지나 S극으로 돌아가는 구조의 자속 경로가 형성된다. 공극은 중앙부에서는 좁고, 바깥쪽으로 갈수록 넓어지도록 설계되어 반경 방향 위치에 따라 영구 자석에 의한 자속 밀도가 다르다. 한 편, 공극 사이에 위치한 코일들은 스테이터(stator)에 굳게 고정되어 있는데, 코일에 일정한 전류가 흐르고 있는 경우 로터가 미리 설정된 위치를 벗어나면 마주 보는 코일에 작용하는 자속 밀도가 달라지므로 로렌쯔 힘의 평형이 깨어지고 코일에 복원력이 발생하여 그 반작용으로 로터가 안정되게 부상하게 된다. 이와 같은 수동 자기 베어링의 기능에 더하여, 로터의 위치를 측정하여 코일의 전류를 제어하면 기존의 능동 자기 베어링의 역할도 수행할 수 있다. 따라서, 본 발명에 의한 수동/능동 겸용 자기 베어링은, 제어기가 없어도 부상의 안정성이 확보될 수 있을뿐더러, 정밀 위치 제어, 고속 회전, 가변 동특성 등 기존 능동 자기 베어링의 장점은 물론, 로렌쯔 힘을 이용하므로 재질의 히스테리시스 손실 및 와전류 손실로부터도 자유로운, 안정성과 효율이 높은 자기 베어링 시 스템이다.","1 공극 내에서 위치에 따라 영구 자석에 의한 자속 밀도가 달라지도록 공극의 단면을 설계하고, 공극 사이에 적어도 3개 이상의 임의의 수(數)로 구성된 코일을 배치한 자기베어링 구조에 있어서, 상기 코일들에 일정한 DC 전류를 인가함으로써 로터가 미리 설정된 위치를 벗어나면 로렌쯔 힘의 변화에 의해 로터를 원래의 위치로 복원시킬 수 있어 수동 자기베어링 기능을 수행하며, 상기 로터의 변위를 측정하여 코일의 전류를 제어함으로써 능동 자기베어링 기능을 수행하는 것을 특징으로 하는 수동/능동 겸용 자기베어링.","김승종, 황요하, 이종민","F16C-032/04","KR20030028673A","2003.04.10",null,"2021.09.25","1 공극 내에서 위치에 따라 영구 자석에 의한 자속 밀도가 달라지도록 공극의 단면을 설계하고, 공극 사이에 적어도 3개 이상의 임의의 수(數)로 구성된 코일을 배치한 자기베어링 구조에 있어서, 상기 코일들에 일정한 DC 전류를 인가함으로써 로터가 미리 설정된 위치를 벗어나면 로렌쯔 힘의 변화에 의해 로터를 원래의 위치로 복원시킬 수 있어 수동 자기베어링 기능을 수행하며, 상기 로터의 변위를 측정하여 코일의 전류를 제어함으로써 능동 자기베어링 기능을 수행하는 것을 특징으로 하는 수동/능동 겸용 자기베어링. 2 삭제 3 청구항 1에 있어서, 상기 로터의 변위 신호 대신에 속도 신호만을 측정하거나 추정하여 제어 입력으로 사용하는 것을 특징으로 하는 수동/능동 겸용 자기베어링.","KR100460130B1, KR20030028673A, WO03027520A1, WO03027520A8",null,1]
["F01573","화학","US","Organotitanium precursors for chemical vapor deposition and manufacturing method thereof",null,"원문이미지","US10/052130","2002.01.16","US6603033","2003.08.05","The invention comprises an organotitanium precursor formed from a ⌐¼-ketoester and a titanium glycolate, and dimer precursors formed from a reaction of the above organotitanium precursor with alcohol, which are used as sources of titanium dioxide for metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD).","1. A di-nuclear organotitanium precursor of Formula 2 ##STR15## wherein R.sub.1 and R.sub.2 are each selected from the group consisting of a straight- or branched chain alkyl group each having 1-8 carbon atoms, a cycloalkyl group, a phenyl group and a benzyl group; and R.sub.3 is a straight- or branched chain alkylene group having 2-13 carbon atoms, and R.sub.4 is a straight chain alkyl group having 1-8 carbon atoms.","Woo; Kyoungja","C07F-007/28,C23C-016/00","US20030040638A1","2003.02.27","2001.01.19 (KR 2001-3137)","2022.01.16","What is claimed is: 1. A di-nuclear organotitanium precursor of Formula 2 ##STR15## wherein R.sub.1 and R.sub.2 are each selected from the group consisting of a straight- or branched chain alkyl group each having 1-8 carbon atoms, a cycloalkyl group, a phenyl group and a benzyl group; and R.sub.3 is a straight- or branched chain alkylene group having 2-13 carbon atoms, and R.sub.4 is a straight chain alkyl group having 1-8 carbon atoms. 2. The organotitanium precursor of claim 1, wherein R.sub.1 and R.sub.2 are each selected from the group consisting of a straight- or branched chain alkyl group each having 1-5 carbon atoms, a cycloalkyl group, a phenyl group and a benzyl group. 3. The organotitanium precursor of claim 1, wherein R.sub.3 is a straight- or branched chain alkylene group having 2-10 carbon atoms. 4. The organotitanium precursor of claim 1, wherein R.sub.4 is straight chain alkyl group having 1-6 carbon atoms. 5. A method for manufacturing the organotitanium precursor of Formula 1, comprising the steps of: (1) reacting a titanium tetraalkoxide, Ti(OR).sub.4, wherein R is a straight- or branched chain alkyl group having 1-4 carbon atoms, with diol of Formula 3; (2) adding a .beta.-ketoester of Formula 4 to the reaction intermediate resulting in step (1), to form a reaction product; and (3) removing unnecessary by-product ROH and any solvent if used in step 1 from the reaction product and distilling under reduced pressure; ##STR16## wherein R.sub.1 and R.sub.2, are each selected from the group consisting of a straight- or branched chain alkyl group each having 1-8 carbon atoms, a cycloalkyl group, a phenyl group and a benzyl group; and R.sub.3 is a straight- or branched chain alkylene group having 2-13 carbon atoms; HO--R.sub.3 --OH Formula 3 wherein R.sub.3 is a straight- or branched chain alkylene group having 2-13 carbon atoms; ##STR17## wherein R.sub.1 and R.sub.2 are each selected from the group consisting of a straight- or branched chain alkyl group each having 1-8 carbon atoms, a cycloalkyl group, a phenyl group and a benzyl group. 6. A method for manufacturing the dimer organotitanium precursor of Formula 2 according to claim 1, comprising the steps of: (1) reacting a titanium tetraalkoxide, Ti(OR).sub.4, wherein R is a straight- or branched chain alkyl group having 1-4 carbon atoms, with diol of Formula 3; (2) adding a .beta.-ketoester of Formula 4 to the reaction intermediate resulting in step (1), to form a mono-nuclear reaction product; (3) removing unnecessary by-product ROH and any solvent if used in step (1) from the reaction product; and (4) distilling under reduced pressure, with the proviso that a step of adding an alcohol, R.sub.4 OH, where R.sub.4 is a straight chain alkyl group having 1-8 carbon atoms, is performed before or after this distilling step to thereby form a di-nuclear reaction product; HO--R.sub.3 --OH Formula 3 wherein R.sub.3 is a straight- or branched chain alkylene group having 2-13 carbon atoms; ##STR18## wherein R.sub.1 and R.sub.2 are each selected from the group consisting of a straight- or branched chain alkyl group each having 1-8 carbon atoms, a cycloalkyl group, a phenyl and a benzyl group.","JP2003104992A, JP3902957B2, KR100435816B1, KR20020062174A, US2002143201A1, US2003040638A1, US6603033B2",null,1]
["K02684","반도체","KR","반도체 기판과 백금 전극간의 접착력 향상 방법 및반도체용 백금 전극 구조{PLATINUM ELECTRODE STRUCTURE FOR SEMICONDUCTOR AND METHOD FOR ENHANCING ADHESION BETWEEN SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND PLATINUM ELECTRODE}",null,"원문이미지","KR20027001202A","2002.01.28","KR0451415B1","2004.09.22","본 발명은 반도체 기판과, 상기 기판의 상면에 형성된 TiN/Ti 경사층 및 상기 경사층의 상면에 형성된 Pt 박막으로 이루어지는 반도체용 Pt 전극 구조를 제공한다. 또한, 본 발명은 반도체 기판 위에 Ti 배양층을 증착시키고, 상기 Ti 배양층 표면에 질소이온빔을 조사하고 반응성 가스를 불어넣어 TiN/Ti 경사층을 형성시키고, 상기 TiN/Ti 경사층 위에 Pt 박막을 증착하는 것으로 이루어지는 반도체 기판과 백금 전극간의 접착력 향상 방법을 제공한다.","5 반도체 기판 위에 Ti 배양층를 증착시키고, 상기 Ti 배양층 표면에 질소이온빔을 조사하고 반응성 가스를 불어넣어 TiN/Ti 경사층을 형성시키고, 상기 TiN/Ti 경사층 위에 Pt 박막을 증착하는 것으로 이루어지며, 상기 이온빔의 주입량은 1X10 15 ∼ 1X10 17 ions/cm 2 인 것을 특징으로 하는 반도체 기판과 백금 전극간의 접착력 향상 방법.","고석근, 조정","H01L-021/28","KR20020026555A","2002.04.10",null,"2020.06.01","1 삭제 2 삭제 3 삭제 4 삭제 5 반도체 기판 위에 Ti 배양층를 증착시키고, 상기 Ti 배양층 표면에 질소이온빔을 조사하고 반응성 가스를 불어넣어 TiN/Ti 경사층을 형성시키고, 상기 TiN/Ti 경사층 위에 Pt 박막을 증착하는 것으로 이루어지며, 상기 이온빔의 주입량은 1X10 15 ∼ 1X10 17 ions/cm 2 인 것을 특징으로 하는 반도체 기판과 백금 전극간의 접착력 향상 방법. 6 삭제 7 제 5 항에 있어서, 상기 이온빔의 가속 가압은 1keV인 것을 특징으로 하는 반도체 기판과 백금 전극간의 접착력 향상 방법. 8 제 5 항에 있어서, 상기 반응성 가스는 질소인 것을 특징으로 하는 반도체 기판과 백금 전극간의 접착력 향상 방법. 9 제 5 항에 있어서, 상기 반응성 가스의 주입량은 0.1 ∼ 6 ml/min인 것을 특징으로 하는 반도체 기판과 백금 전극간의 접착력 향상 방법. 10 제 5 항에 있어서, 1.5X10 -4 torr의 진공도를 유지하는 것을 특징으로 하는 반도체 기판과 백금 전극간의 접착력 향상 방법.","KR100451415B1, KR20020026555A, WO0193320A1",null,1]
["K01718","재료","KR","다공성 세라믹 확산장벽 조성물을 이용한 히터일체형 산소센서및 이의 제조방법{HEATER INTEGRATED OXYGEN SENSOR USING POROUS CERAMIC DIFFUSION BARRIER COMPOSITION AND PREPARATION METHOD THEREOF}",null,"원문이미지","KR19980010179A","1998.03.24","KR0234021B1","1999.09.15","본 발명은 코디어라이트(2Al2O3-2MgO-5SiO2) 분말을 9wt% 이하로 함유하며, 안정화 또는 부분안정화 지르코니아로 이루어지는 다공성 세라믹스 확산장벽용 조성물로 된 확산장벽층을 가지는 내열특성이 개선되고 센싱 전류 범위가 넓은 산소센서 및 그것의 제조방법에 관한 것이다.본 발명의 방법으로 제작된 다공성 세라믹스 확산장벽용 조성물을 이용하여 제조한 산소센서는 공해방지기기, 자동차나 보일러 등의 연료절감 및 열효율 향상 시스템 및 휴대용 산소분석기 등의 다양한 분야에 응용할 수 있다.","1 안정화 또는 부분안정화 지르코니아로된 펌핑셀, 상기 펌핑셀 양쪽에 형성된 전극, 상기 펌핑셀에서 음극이 형성된 측에 형성된, 코디어라이트(2Al2O3-2MgO-5SiO2) 분말을 9wt% 이하로 함유하는 안정화 또는 부분안정화 지르코니아로 이루어지는 확산장벽층 및 상기 확산장벽층을 둘러싸도록 형성된, 펌칭셀과 동일한 지르코니아층 및 상기 확산장벽층 위에 형성된 히터로 이루어지는 산소센서.","오영제, 정형진, 심인보","G01N-027/12","KR19970042414A","1997.07.24","1991.05.28 (US 705, 917)","2015.12.22","1 안정화 또는 부분안정화 지르코니아로된 펌핑셀, 상기 펌핑셀 양쪽에 형성된 전극, 상기 펌핑셀에서 음극이 형성된 측에 형성된, 코디어라이트(2Al2O3-2MgO-5SiO2) 분말을 9wt% 이하로 함유하는 안정화 또는 부분안정화 지르코니아로 이루어지는 확산장벽층 및 상기 확산장벽층을 둘러싸도록 형성된, 펌칭셀과 동일한 지르코니아층 및 상기 확산장벽층 위에 형성된 히터로 이루어지는 산소센서. 2 제 1 항에 있어서, 상기 확산장벽층이 코디어라이트(2Al2O3-2MgO-5SiO2) 분말을 9wt% 이하로 함유하며 상기 펌핑셀에 사용된 지르코니아와 동일한 지르코니아로 이루어지는 산소센서. 3 제 2 항에 있어서, 상기 히터가 상기 장벽층의 윗부분에만 형성된 산소센서. 4 안정화 또는 부분 안정화 지르코니아 고체전해질 그린-쉬트의 양면에 전극을 형성하고, 상기 고체전해질 그린-쉬트에서 음극이 형성된 측에, 코디어라이트(2Al2O3-2MgO-5SiO2) 분말을 9wt% 이하로 함유하는 안정화 또는 부분안정화 지르코니아 분말로 이루어지며 윗면에 히터를 형성시킨 확산 장벽층 그린-쉬트를 적층하고, 압착시키고, 소성하는 것으로 이루어지는 히터일체형 산소 센서 제조방법. 5 제 4 항에 있어서, 상기 확산 장벽층 그린-쉬트가 상기 음극 윗면에만 적층되고 그 외의 부분에는 고체전해질 그린-쉬트가 적층되는 제조방법.","JP3101649B2, JPH09175861A, KR0148713B1, KR100234021B1",null,1]
["K01355","수처리","KR","전기 화학 응집법에 의한 인 및 유기물 제거장치{METHOD AND APPARATUS FOR ELIMINATING SOLUBLE PHOSPHOROUS AND ORGANICS FROM WASTEWATER USING ELECTROLYSIS}",null,"원문이미지","KR19960043496A","1996.10.01","KR0170360B1","1998.10.14","본 발명은 전기화학적 응집법을 사용하여 생물학적 처리가 어려운 용존 상태의 저농도 인과 미량의 부유 물질을 제거하기 위한 장치 및 이 장치를 사용한 인 및 부유 물질 등을 함유하는 폐수를 처리하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 장치는 원수 유입구, 전극, 회전형 여과체, 케이스, 케이스에 부착되어 전극 표면의 스케일을 제거할 수 있는 나이프, 슬러지 유출구, 청정수 유출구 및 전압 조정 장치로 이루어지고, 상기 회전형 여과체는 망상형 철전극판, 부직 여과포, 다공성 지지체 및 회전축으로 구성되고, 구동 장치에 의해 원하는 속도로 구동이 가능하다. 특히, 본 발명의 장치에서는 양극에 철을, 음극에 알루미늄을 조합하여 사용하고 용출량이 많은 철로 인을 제거하고 알루미늄을 용출하여 잉여의 철 이온을 제거하기 때문에 변색이 없고, 운영비가 저렴하면서도 인과 부유 물질의 제거 효능이 뛰어나다.","1 원수 유입구 (1), 전극 (2), 회전형 여과체 (4), 케이스 (5), 케이스에 부착되어 전극 표면의 스케일을 제거할 수 있는 나이프 (6), 슬러지 유출구 (8), 청정수 유출구 (9) 및 전압 조정 창치로 이루어지고, 상기 회전형 여과체 (4)는 망상형 철전극판 (41), 부직 여과포 (42), 다공성 지지체 (43) 및 회전축 (7)로 구성되고 구동 장치에 의해 원하는 속도로 구동이 가능하고, 상기 전극(2)는 양극을 철망형 전극으로 하고 음극을 알루미늄으로 하여 전극의 변환이 가능한 것임을 특징으로 하는 전기 화학 응집법에 의한 인과 미량의 부유 물질을 제거하기 위한 장치.","최용수, 전양근","C02F-001/46","KR19980025459A","1998.07.15",null,"2016.10.01","1 원수 유입구 (1), 전극 (2), 회전형 여과체 (4), 케이스 (5), 케이스에 부착되어 전극 표면의 스케일을 제거할 수 있는 나이프 (6), 슬러지 유출구 (8), 청정수 유출구 (9) 및 전압 조정 창치로 이루어지고, 상기 회전형 여과체 (4)는 망상형 철전극판 (41), 부직 여과포 (42), 다공성 지지체 (43) 및 회전축 (7)로 구성되고 구동 장치에 의해 원하는 속도로 구동이 가능하고, 상기 전극(2)는 양극을 철망형 전극으로 하고 음극을 알루미늄으로 하여 전극의 변환이 가능한 것임을 특징으로 하는 전기 화학 응집법에 의한 인과 미량의 부유 물질을 제거하기 위한 장치. 2 제1항에 있어서, 나이프가 약간의 경도가 있는 고무판인 것인 장치. 3 제1항에 있어서, 회전체의 속도를 0.5 ∼ 1 rpm으로 유지하고, 전압을 유입수 중의 인의 농도에 따라서 조절하는 것이 가능한 것인 장치. 4 제1항에 있어서, 양극을 철망형 전극과 알루미늄 전극으로 교환하는 시간 비율을 4 :1로 하고, 이 전극 변환 시간을 유입수의 성상에 따라서 변경하는 것이 가능한 것인 장치. 5 제1항에 따른 장치를 사용하여 회전체의 속도를 0.5 내지 1 rpm을 하고, 양극에 사용되는 철망형 전극과 알루미늄 전극을 교환하는 시간 비율을 4:1로 하는 것을 특징으로 하는 폐수 처리 방법.","KR100170360B1",null,1]
["K01635","화학","KR","셀레늄 촉매계를 이용한 카바메이트의 제조방법{METHOD FOR PRODUCING CARBAMATE USING SELENIUM CATALYST SYSTEM}",null,"원문이미지","KR19980011861A","1998.04.03","KR0277207B1","2000.10.07","M2SeO3, M2Se2O5 및 (CH3O)SE(O)(OM)[M = Li, Na, K, Rb, 또는 Cs 중에서 선택된 알칼리 금속] 중에서 선택된 1종 이상의 셀레늄 촉매계의 존재하에서 아민을 알코올 및 CO/O2 혼합가스와 반응시켜 카바메이트를 제조하는 방법.","1 M2SeO5, M2Se2O5 및 (CH3O)Se(O)(OM)(식 중, M은 Li, Na, K, Rb, 또는 Cs 중에서 선택된 알칼리 금속을 나타냄)중에서 선택된 1종 이상의 셀레늄 화합물 촉매의 존재 하에서 아민을 알코올 및 CO/O2 혼합가스와 반응시키는 것으로 되는 다음 화학식 1을 갖는 카바메이트류의 제조방법. [화학식 1] R-(NHCO2R')n (식 중, R은 탄소수 1 ∼ 18개의 알킬기, 시클로헥실기, 페닐기 또는 벤질기를 나타내고; R'은 탄소수 1 ∼ 3개의 알킬기, 시클로헥실기, 페닐기 또는 벤질기를 나타내며; n은 1 또는 2임)","이현주, 김훈식, 이상득, 박건유, 정문조","C07C-271/26,C07C-271/24","KR19990079326A","1999.11.05",null,"2018.04.03","1 M2SeO5, M2Se2O5 및 (CH3O)Se(O)(OM)(식 중, M은 Li, Na, K, Rb, 또는 Cs 중에서 선택된 알칼리 금속을 나타냄)중에서 선택된 1종 이상의 셀레늄 화합물 촉매의 존재 하에서 아민을 알코올 및 CO/O2 혼합가스와 반응시키는 것으로 되는 다음 화학식 1을 갖는 카바메이트류의 제조방법. [화학식 1] R-(NHCO2R')n (식 중, R은 탄소수 1 ∼ 18개의 알킬기, 시클로헥실기, 페닐기 또는 벤질기를 나타내고; R'은 탄소수 1 ∼ 3개의 알킬기, 시클로헥실기, 페닐기 또는 벤질기를 나타내며; n은 1 또는 2임) 2 제 1 항에 있어서, 촉매로 사용되는 셀레늄 화합물의 양을 원료 아민에 대해 0.05 - 50 몰%의 양으로 사용하는 방법. 3 제 2 항에 있어서, 촉매로 사용되는 셀레늄 화합물의 양을 원료 아민에 대해 0.5 - 10 몰%의 양으로 사용하는 방법. 4 제 1 항 내지 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 원료로 사용되는 아민류를 메틸아민, 에틸아민, 이소프로필아민, 부틸아민, 이소부틸아민, 헥실아민, 도데실아민, 헥사데실아민, 옥타데실아민, 벤질아민, 페닐아민, 시클로부틸아민, 시클로헥실아민, 1,4-시클로헥산디아민 및 시클로알킬디아민 중에서 선택하는 방법. 5 제 1 항 내지 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 탄소수 1 - 3개의 알코올을 원료 알코올로 사용하는 방법. 6 제 5 항에 있어서, 알코올이 메탄올 또는 에탄올인 방법. 7 제 1 항 내지 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 반응온도 및 압력이 각각 80 - 250 ℃, 30 - 200 기압인 방법. 8 제 1 항 내지 3항 중 어느 한 항에 있어서, CO와 O2의 몰비가 95 : 5 - 55 : 45인 방법.",null,null,1]
["K01747","화학","KR","셀레늄-탄산 알칼리 촉매계를 이용한 N,N'-치환 우레아의 제조방법{PREPARATION METHOD OF N,N'-SUBSTITUTED UREA USING SELENIUM-ALKALI CARBONATE CATALYST}",null,"원문이미지","KR19980038729A","1998.09.18","KR0275793B1","2000.09.23","본 발명은 SeO2, (CH3)Se(O)(OH), (CH3CH2O)Se(O)(OH)중에서 선택된 1 종 이상의 셀레늄계 촉매 및 M2CO3 (M= 알칼리 금속) 조촉매의 존재하에서 아민과 CO/O2 혼합가스를 반응시켜 N,N'-치환 우레아를 제조하는 방법을 제공하는 것이다. 본 발명에 따른 N,N'-치환 우레아의 제조방법은 셀레늄 촉매계의 높은 촉매 활성으로 인해, 지방족 아민 뿐만 아니라 반응성이 낮은 방향족 아민도 쉽게 N,N'-치환 우레아로 전환할 수 있고 고가의 귀금속 촉매의 사용을 피할 수 있어 경제적이다.","1 SeO2, (CH3O)Se(O)(OH) 및 (CH3CH2O)Se(O)(OH)중에서 선택된 1종 이상의 셀레늄 화합물을 주촉매로 하고 탄산알칼리를 조촉매로 하는 촉매계 및 용매의 존재하에서 아민을 CO/O2 혼합가스와 반응시키는 것을 특징으로 하는, 다음의 화학식 1을 갖는 치환된 우레아를 제조하는 방법: [화학식 1] RNH-C(=O)-NHR 상기식에서, R은 탄소수 1 내지 18개의 알킬기, 시클로헥실기, 페닐기 또는 벤질기임.","김훈식, 김용진, 이현주, 정문조, 이상득","C07C-273/04","KR20000020218A","2000.04.15",null,"2018.09.18","1 SeO2, (CH3O)Se(O)(OH) 및 (CH3CH2O)Se(O)(OH)중에서 선택된 1종 이상의 셀레늄 화합물을 주촉매로 하고 탄산알칼리를 조촉매로 하는 촉매계 및 용매의 존재하에서 아민을 CO/O2 혼합가스와 반응시키는 것을 특징으로 하는, 다음의 화학식 1을 갖는 치환된 우레아를 제조하는 방법: [화학식 1] RNH-C(=O)-NHR 상기식에서, R은 탄소수 1 내지 18개의 알킬기, 시클로헥실기, 페닐기 또는 벤질기임. 2 제 1 항에 있어서, 상기 탄산 알칼리가 Li2CO3, Na2CO3, K2CO3, Rb2CO3, Cs2CO3, 인 것을 특징으로 하는 방법. 3 제 1 항에 있어서, 주촉매인 셀레늄 화합물의 사용량은 원료 아민몰수에 대한 셀레늄 화합물의 몰수비가 1/12800 내지 1/200인 것을 특징으로 하는 방법. 4 제 3 항에 있어서, 주촉매인 셀레늄 화합물의 사용량은 원료 아민몰수에 대한 셀레늄 화합물의 몰수비가 1/3200 내지 1/400인 것을 특징으로 하는 방법. 5 제 1 항에 있어서, 조촉매인 탄산 알칼리의 사용량은 주촉매의 몰수에 대한 탄산알칼리의 몰수비가 0.1 내지 10인 것을 특징으로 하는 방법. 6 제 5항에 있어서, 조촉매인 탄산 알칼리의 사용량은 주촉매의 몰수에 대한 탄산 알칼리의 몰수비가 0.5 내지 5인 것을 특징으로 하는 방법. 7 제 1항에 있어서, 상기 아민은 메틸아민, 에틸아민, 이소프로필아민, 부틸아민, 이소부틸아민, 헥실아민, 도데실아민, 헥사데실아민, 옥타데실아민, 벤질아민, 페닐아민, 시클로부틸아민 및 시클로헥실아민로 구성된 그룹에서 선택하는 것을 특징으로 하는 방법. 8 제 1항에 있어서, 상기 용매가 메탄올, 에탄올, n-프로판올 또는 이소-프로판올로 구성된 그룹에서 선택된 하나인 것을 특징으로 하는 방법. 9 제 1 항에 있어서, 반응온도가 80 내지 250℃이고, 반응 압력이 30 - 200기압인 것을 특징으로 하는 방법. 10 제 9 항에 있어서, 반응온도가 100 내지 140℃이고, 반응 압력이 50 - 100기압인 것을 특징으로 하는 방법. 11 제 1 항에 있어서, CO와 O2의 몰비가 95 : 5 내지 55 : 45인 것을 특징으로 하는 방법.","KR100275793B1, KR20000020218A, US6127575A",null,1]
["K01790","기계","KR","대면적 산화물 박막 형성장비의 샤워헤드{SHOWER HEAD FOR LARGE AREA OXIDE THIN FILM PROCESSING APPARATUS}",null,"원문이미지","KR19990002743A","1999.01.28","KR0348587B1","2002.07.30","본 발명은 대면적 산화물 박막 형성장비의 샤워헤드에 관한 것으로, 다수개의 가스분배기(21)를 피라미드 형상으로 다단구성하여, 대면적의 기판(12)에 산화막을 형성시 가스주입관(23)으로 주입된 가스가 기판(12)의 상측에 분사될때는 기판(12)의 전면에 균일하게 분사되도록 함으로서, 형성되는 산화막의 두께 균일도를 향상시키는 효과가 있다.","1 공정 챔버의 내측에 히팅 척이 설치되어 있고, 그 히팅 척의 상부에 샤워헤드가 설치되어 있는 산화물 박막 형성장비에 있어서, 상기 샤워헤드는 제1단 가스분배기의 하부에 복수개를 분배통을 다단으로 배치하고, 하단으로 가면서 분사영역이 확장되도록 분배통 수를 증가시켜 배치하며, 각단의 분배기가 피라미드형태로 조립되어 구성된 것을 특징으로 하는 대면적 산화물 박막 형성장비의 샤워헤드.","이전국","H01L-021/316","KR20000051987A","2000.08.16",null,"2019.01.28","1 공정 챔버의 내측에 히팅 척이 설치되어 있고, 그 히팅 척의 상부에 샤워헤드가 설치되어 있는 산화물 박막 형성장비에 있어서, 상기 샤워헤드는 제1단 가스분배기의 하부에 복수개를 분배통을 다단으로 배치하고, 하단으로 가면서 분사영역이 확장되도록 분배통 수를 증가시켜 배치하며, 각단의 분배기가 피라미드형태로 조립되어 구성된 것을 특징으로 하는 대면적 산화물 박막 형성장비의 샤워헤드. 2 삭제 3 삭제","KR20000051987A",null,1]
["K01936","기계","KR","통신망 기반 개방형 모터 제어기{OPENED MOTOR CONTROLLER BASED ON COMMUNICATION NETWORK}",null,"원문이미지","KR19990065492A","1999.12.30","KR0317220B1","2001.11.29","본 발명은 모터 제어기 및 모터 제어 시스템에 관한 것으로, 특히 분산 제어 방식의 제어 시스템을 구축할 때 사용할 수 있는 통신망 기반 개방형 모터 제어기에 관한 것이다. 본 발명에 따른 통신망 기반 개방형 모터 제어기는, 중앙 CPU 및 메모리 모듈, 모터 제어를 위한 PWM(Pulse Width Modulation) 발생 모듈, 모터의 위치 피드백을 위한 인코더 인터페이스 모듈 및 아날로그 신호 입력 모듈, 서보 모터 구동을 위한 모터 드라이브 모듈, 리미트(Limit) 스위치 등의 외부 입력 신호 인터페이스를 위한 디지털 입력 모듈, 외부 접점 제어를 위한 디지털 출력 모듈 및 표준화된 멀티 드롭(Multi-drop) 방식의 실시간 통신망 제어 및 인터페이스 모듈 등을 포함한다. 본원 발명에 따르면, 중앙 제어기의 성능을 기존의 시스템에 비해 낮은 시스템을 사용할 수 있어 전체 제어기의 가격을 낮출 수 있고, 제어에 필요한 신호선을 중앙 제어기까지 끌고 갈 필요가 없기 때문에 배선 작업의 부담을 대폭 줄일 수 있으며, 제어기 고장시 국부적인 고장을 유발한 노드만을 교체하면 되므로 시스템 유지 보수가 용이하고, 표준화된 통신망을 사용하는 경우 기존의 분산 제어 시스템과도 연결하여 사용할 수 있어 타 시스템과의 통합 운영이 용이하다.","1 분산 제어 방식의 제어 시스템에 이용되는 통신망 기반 개방형 모터 제어기에 있어서, 프로그램 또는 데이터를 저장하기 위한 메모리 모듈과, 모터 구동을 위한 PWM 신호 발생 모듈과, 모터에 흐르는 전류를 감지하기 위한 전류 센싱 모듈과, SIO 제어 모듈과, 통신 프로토콜을 1하드웨어적으로 제공하는 통신망 제어 모듈을 내장하고 있는 모터 제어용 중앙 처리 수단과; 상기 PWM 신호 발생 모듈로부터 출력되는 PWM 신호, 방향 신호 및 브레이크 온/오프 신호를 입력받아 서보 모터를 구동하는 모터 구동 수단과; 상기 모터 구동 수단으로부터의 노이즈가 상기 중앙 처리 수단으로 전파되지 않도록 상기 모터 구동 수단과 상기 모터 제어용 중앙 처리 수단 사이에 설치된 아이솔레이트 수단과; 모터 위치 피드백을 위한 구성으로서 증분형 인코더 인터페이스와 가변 저항 인터페이스로 이루어지며, 모터로부터 감지된 신호 입력을 받아 데이타 버스를 통해 상기 모터 제어용 중앙 처리 수단으로 전송하는 모터 위치 피드백 인터페이스 수단과; 리미트 스위치 등의 기구적인 외부 입력 신호를 받아 상기 모터 제어용 중앙 처리 수단으로 전송하는 디지탈 입력 인터페이스 수단과; 상기 모터 제어용 중앙 처리 수단의 명령에 따라 외부 접점 제어를 행하는 디지탈 출력 인터페이스 수단과; 아날로그 외부 입력을 받아 그 값을 상기 모터 제어용 중앙 처리 수단으로 전송하는 아날로그 입력 인터페이스 수단과; 상기 모터 제어용 중앙 처리 수단 내의 상기 통신망 제어 모듈과 연결되며, 중앙 제어기 및 다수의 통신 노드를 접속하기 위한 통신망 구동 수단 을 포함하는 것을 특징으로 하는 통신망 기반 개방형 모터 제어기.","유범재, 오상록, 조영조, 황보명, 최익","H02P-007/00","KR20010065578A","2001.07.11",null,"2019.12.30","1 분산 제어 방식의 제어 시스템에 이용되는 통신망 기반 개방형 모터 제어기에 있어서, 프로그램 또는 데이터를 저장하기 위한 메모리 모듈과, 모터 구동을 위한 PWM 신호 발생 모듈과, 모터에 흐르는 전류를 감지하기 위한 전류 센싱 모듈과, SIO 제어 모듈과, 통신 프로토콜을 1하드웨어적으로 제공하는 통신망 제어 모듈을 내장하고 있는 모터 제어용 중앙 처리 수단과; 상기 PWM 신호 발생 모듈로부터 출력되는 PWM 신호, 방향 신호 및 브레이크 온/오프 신호를 입력받아 서보 모터를 구동하는 모터 구동 수단과; 상기 모터 구동 수단으로부터의 노이즈가 상기 중앙 처리 수단으로 전파되지 않도록 상기 모터 구동 수단과 상기 모터 제어용 중앙 처리 수단 사이에 설치된 아이솔레이트 수단과; 모터 위치 피드백을 위한 구성으로서 증분형 인코더 인터페이스와 가변 저항 인터페이스로 이루어지며, 모터로부터 감지된 신호 입력을 받아 데이타 버스를 통해 상기 모터 제어용 중앙 처리 수단으로 전송하는 모터 위치 피드백 인터페이스 수단과; 리미트 스위치 등의 기구적인 외부 입력 신호를 받아 상기 모터 제어용 중앙 처리 수단으로 전송하는 디지탈 입력 인터페이스 수단과; 상기 모터 제어용 중앙 처리 수단의 명령에 따라 외부 접점 제어를 행하는 디지탈 출력 인터페이스 수단과; 아날로그 외부 입력을 받아 그 값을 상기 모터 제어용 중앙 처리 수단으로 전송하는 아날로그 입력 인터페이스 수단과; 상기 모터 제어용 중앙 처리 수단 내의 상기 통신망 제어 모듈과 연결되며, 중앙 제어기 및 다수의 통신 노드를 접속하기 위한 통신망 구동 수단 을 포함하는 것을 특징으로 하는 통신망 기반 개방형 모터 제어기. 2 분산 제어 방식의 제어 시스템에 이용되는 통신망 기반 개방형 모터 제어기에 있어서, 프로그램 또는 데이터를 저장하기 위한 메모리 모듈과, 모터 구동을 위한 PWM 신호 발생 모듈과, 모터에 흐르는 전류를 감지하기 위한 전류 센싱 모듈과, SIO 제어 모듈을 포함하는 모터 제어용 중앙 처리 수단과; 표준화된 통신 규약을 제공하는 통신망 제어 수단과; 상기 PWM 신호 발생 모듈로부터 출력되는 PWM 신호, 방향 신호 및 브레이크 온/오프 신호를 입력받아 서보 모터를 구동하는 모터 구동 수단과; 상기 모터 구동 수단으로부터의 노이즈가 상기 모터 제어용 중앙 처리 수단으로 전파되지 않도록 상기 모터 구동 수단과 상기 모터 제어용 중앙 처리 수단 사이에 설치된 아이솔레이트 수단과; 모터 위치 피드백을 위한 구성으로서 증분형 인코더 인터페이스와 가변 저항 인터페이스로 이루어지며, 모터로부터 감지된 신호 입력을 받아 데이타 버스를 통 해 상기 모터 제어용 중앙 처리 수단으로 전송하는 모터 위치 피드백 인터페이스 수단과; 리미트 스위치 등의 기구적인 외부 입력 신호를 받아 상기 모터 제어용 중앙 처리 수단으로 전송하는 디지탈 입력 인터페이스 수단과; 상기 모터 제어용 중앙 처리 수단의 명령에 따라 외부 접점 제어를 행하는 디지탈 출력 인터페이스 수단과; 아날로그 외부 입력을 받아 그 값을 상기 모터 제어용 중앙 처리 수단으로 전송하는 아날로그 입력 인터페이스 수단과; 상기 통신망 제어 수단과 연결되며, 중앙 제어기 및 다수의 통신 노드를 접속하기 위한 통신망 구동 수단 을 포함하는 것을 특징으로 하는 통신망 기반 개방형 모터 제어기. 3 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 메모리 모듈은 정전시의 데이타 손실을 방지하기 위해 비휘발성 SRAM 또는 EEPROM을 사용한 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는 통신망 기반 개방형 모터 제어기. 4 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 PWM 신호 발생 모듈은 모터를 작동하여 도달하고자 하는 목표 지점과 현재 위치 사이의 오차가 크면 듀티비가 큰 펄스를 출력하고, 상기 오차가 작으면 듀티비가 작은 펄스를 출력하는 것을 특징으로 하는 통신망 기반 개방형 모터 제어기. 5 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 아이솔레이트 수단은 포토 커플러를 사용한 것을 특징으로 하는 통신망 기반 개방형 모터 제어기. 6 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 모터 위치 피드백 인터페이스 수단에 있어서의, 상기 증분형 인코더 인터페이스는 입력되는 인코더 펄스로부터 방향 신호를 추출하고 펄스 수를 계수하기 위한 24비트 카운터와, 상기 입력되는 인코더 펄스의 수를 2배 또는 4배로 체배하기 위한 체배 회로와, 모터로부터 인코더 신호에 유기되는 노이즈를 제거하기 위한 그라운드 아이솔레이션 모듈 및 저역 필터로 이루어지며, 상기 가변 저항 인터페이스는 가변 저항, 저역 필터, 아날로그 입력 모듈로 이루어지는 것을 특징으로 하는 통신망 기반 개방형 모터 제어기. 7 제1항에 있어서, 상기 통신 제어 모듈의 전원 및 접지와 상기 통신망 구동기의 전원 및 접지가 포토 커플러를 사용하여 분리되어 있는 것을 특징으로 하는 통신망 기반 개방형 모터 제어기. 8 제2항에 있어서, 상기 통신망 제어 수단의 전원 및 접지와 상기 통신망 구동 수단의 전원 및 접지가 포토 커플러를 사용하여 분리되어 있는 것을 특징으로 하는 통신망 기반 개방형 모터 제어기. 9 제1항의 통신망 기반 개방형 모터 제어기를 사용하여 구축된 분산 처리형 모터 제어 시스템에 있어서, 중앙 제어기와 상기 통신망 기반 개방형 모터 제어기의 각각은 전원선 2라인과 통신선 2라인만을 사용하여 다수의 통신 노드를 통해 서로 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 분산 처리형 모터 제어 시스템. 10 제2항의 통신망 기반 개방형 모터 제어기를 사용하여 구축된 분산 처리형 모터 제어 시스템에 있어서, 중앙 제어기와 상기 통신망 기반 개방형 모터 제어기의 각각은 전원선 2라인과 통신선 2라인만을 사용하여 다수의 통신 노드를 통해 서로 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 분산 처리형 모터 제어 시스템.","KR20010065578A",null,1]
["K02088","기계","KR","연속 전단변형장치{CONTINUOUS SHEAR DEFORMATION DEVICE}",null,"원문이미지","KR20000004291A","2000.01.28","KR0345290B1","2002.07.08","본 발명은 연속 전단변형장치에 관한 것으로서, 특히, 절곡전단변형 금형에 소재, 특히, 박판재로부터 후육재까지의 다양한 두께의 소재를 연속적으로 공급함으로써 전단변형된 소재를 대량생산할 수 있는 연속 전단변형장치에 관한 것이다. 본 발명은 절곡전단변형 금형과; 상기 금형 입구에 설치되고, 소재와의 마찰접촉 운동에 의하여 소재를 상기 금형 내부로 안내공급하는, 회전식 안내공급장치를 포함하여 이루어지는 연속 전단변형장치를 제공한다. 또한, 본 발명은 절곡전단변형된 소재를 안내이송하기 위한 회전식 안내이송장치를 추가적으로 구비할 수 있다.","1 절곡전단변형 금형과; 상기 금형 입구에 설치되고, 소재와의 마찰접촉 운동에 의하여 소재를 상기 금형 내부로 안내공급하는, 회전식 안내공급장치를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 연속 전단변형장치.","정영훈, 박종우, 문인기, 신명철","B21D-043/02","KR20010076874A","2001.08.17",null,"2020.01.28","1 절곡전단변형 금형과; 상기 금형 입구에 설치되고, 소재와의 마찰접촉 운동에 의하여 소재를 상기 금형 내부로 안내공급하는, 회전식 안내공급장치를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 연속 전단변형장치. 2 제 1항에 있어서, 상기 안내공급장치는 회전롤인 것을 특징으로 하는 연속 전단변형장치. 3 제 1항에 있어서, 상기 안내공급장치로는 벨트전동장치를 이용하는 것을 특징으로 하는 연속 전단변형장치. 4 제 3항에 있어서, 상기 벨트는 다수의 다면체블록이 순차적으로 연결된 루프인 것을 특징으로 하는 연속 전단변형장치. 5 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서, 절곡전단변형된 소재를 안내이송하기 위한 회전식 안내이송장치를 추가적으로 구비하는 것을 특징으로 하는 연속 전단변형장치. 6 제 5항에 있어서, 상기 안내이송장치로는 벨트전동장치를 이용하고, 상기 벨트전동장치는 그 벨트와 절곡전단변형된 소재의 마찰접촉에 의하여 절곡전단변형 직후의 소재를 금형 출구 밖까지 안내이송시키는 것을 특징으로 하는 연속 전단변형장치. 7 제 6항에 있어서, 상기 금형은, 상기 안내공급장치와 소재의 접촉량을 높이기 위하여 경사 유입구를 구비하는 것을 특징으로 하는 연속 전단변형장치. 8 제 6항에 있어서, 상기 안내공급장치에 의하여 형성되는 공급로의 틈새 간격은 그 안내공급장치에 유입되는 소재의 두께에 비하여 그 이하인 것을 특징으로 하는 연속 전단변형장치. 9 제 6항에 있어서, 상기 안내공급장치의 소재와의 마찰접촉부는 소재의 단면 형상과 일치하는 홈을 구비하는 것을 특징으로 하는 연속 전단변형장치. 10 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 금형은, 상기 안내공급장치와 소재의 접촉량을 높이기 위하여 경사 유입구를 구비하는 것을 특징으로 하는 연속 전단변형장치. 11 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안내공급장치에 의하여 형성되는 공급로의 틈새 간격은 그 안내공급장치에 유입되는 소재의 두께에 비하여 그 이하인 것을 특징으로 하는 연속 전단변형장치. 12 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안내공급장치의 소재와의 마찰접촉부는 소재의 단면 형상과 일치하는 홈을 구비하는 것을 특징으로 하는 연속 전단변형장치.","JP2001205309A, JP3515510B2, KR100345290B1, KR20010076874A, US6571593B1","U",3]
["F01163","기계","JP","연속 전단 변형 가공 장치",null,"원문이미지","JP2000325598A","2000.10.25","JP3515510B9","2004.01.23","(57)【요약】 【과제】다투지 않다 결단 변형하게 되는 소재를 대량 생산할 수 있는 연속 전단 변형 가공 장치를 제공한다. 【해결 수단】소재를, 굴곡한 소재 통로에 수나 찌를 수 있다 장치하게 되고, 소재 3이라는 마찰 접촉 운동에 따라서 해 소재 3을 상기 금형 1의 전기 소재 통로 8 내부에 안내 공급하는 소재 안내 공급 장치 2다고,을 구비하고 연속 전단 변형 장치를 구성한다.","【청구항 1】소재를, 굴곡한 소재 통로에 통과하게 하다 <B< 것에 따라 전단 변형하게 하는 금형과, 해 금형의 입구에 장치하게 되고, 상기 소재라는 마찰 접촉 운동에 따라서 상기 소재를 상기 금형의 상기 소재 통로내부에 안내 공급하는 소재 안내 공급 장치와,을 포함하고 구성하게 되는 것을 특징으로 하는 연속 전단 변형 가공 장치.","ヤング-ホ­ン  チュン, ジョン-ウ­  パ­ク, イン-ゲ  ム­ン, ミュン-チュル  シン","B21B-023/00,B21C-023/04,B21C-025/00,B21C-037/00","JP2001205309A","2001.07.31","2000.01.28 (KR 4291/2000)","2020.10.25","【특허청구의 범위】 【청구항 1】소재를, 굴곡한 소재 통로에 통과하게 하다 <B< 것에 따라 전단 변형하게 하는 금형과, 해 금형의 입구에 장치하게 되고, 상기 소재라는 마찰 접촉 운동에 따라서 상기 소재를 상기 금형의 상기 소재 통로내부에 안내 공급하는 소재 안내 공급 장치와,을 포함하고 구성하게 되는 것을 특징으로 하는 연속 전단 변형 가공 장치. 【청구항 2】상기 소재 안내 공급 장치는, 회전 롤 인 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 연속 전단 변형 가공 장치. 【청구항 3】상기 소재 안내 공급 장치는, 벨트식 전동기 구 있는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 연속 전단 변형 가공 장치. 【청구항 4】상기 벨트식 전동기구는, 복수의 다면체 블록이 순차적으로 루프상에 연결하게 되는 구성 인 것을 특징으로 하는 청구항 3 기재의 연속 전단 변형 가공 장치. 【청구항 5】다투지 않다 단 변형 가공제의 소재를 안내 이송하다 <BR기 위한 벨트식 안내 이송 장치를 가지는 것을 특징으로 하는 청구항 1∼4의 어느 쪽인가 1개에 기재의 연속 전단 변형 가공 장치. 【청구항 6】상기 벨트식 안내 이송 장치는, 벨트식 전동기구 있고, 그 벨트식 전동기구는, 다투지 않다 결단 변형하게 되는 직후의 소재를 벨트와 상기 소재라는 마찰 접촉에 따라서 상기 소재 통로의 출구부로부터 그 바깥쪽까지 안내 이송하는 구성 인 것을 특징으로 하는 청구항 5 기재의 연속 전단 변형 가공 장치. 【청구항 7】상기 소재 통로는, 기울어지는 도입구부를 가지는 것을 특징으로 하는 청구항 1∼6의 어느 쪽인가 1개에 기재 의 연속 전단 변형 가공 장치. 【청구항 8】상기 소재 안내 공급 장치에 의하여 형성하게 되는 소재 통로의 폭은, 해 소재 안내 공급 장치에 도입하게 되는 소재의 두께보다도 작은 것을 특징으로 하는 청구항 1∼6 의 어느 쪽인가 1개에 기재의 연속 전단 변형 가공 장치. 【청구항 9】상기 소재라고 접하는 상기 소재 안내 공급 장치의 접촉면에, 상기 소재의 단면 형상과 거의 같은 꼴인 단면 형상의 주 홈을 형성하는 것을 특징으로 하는 청구항 1∼6의 어느 쪽인가 1 개에 기재의 연속 전단 변형 가공 장치.","JP2001205309A, JP3515510B2, KR100345290B1, KR20010076874A, US6571593B1","U",3]
["F01162","기계","US","Continuous shear deformation device",null,"원문이미지","US09/653142","2000.08.31","US6571593","2003.06.03","The present invention relates to a continuous shear deformation device, in particular, which is capable of mass-producing shear deformed materials by continuously supplying a sharply bent channel type mold with materials, particularly, which have a variety of thickness from thin sheet to thick plate. The continuous shear deformation device in accordance with the present invention includes a sharply bent channel type mold and a rotary guide apparatus installed at the inlet of the mold for guiding materials into the mold by frictional contact with the materials. In addition, the present invention can additionally include a rotary guide for exiting the shear-deformed material.","1. A continuous shear deformation device, comprising: a mold formed with a curved molding path having an equal channel for obtaining shear deformation of material passing through the molding path; and a rotary guide apparatus installed at the inlet of the molding path for continuously supplying and guiding material into the molding path by frictional contact with the material.","Chung; Young-Hoon, Park; Jong-Woo, Moon; In-Ge, Shin; Myung-Chul","B21C-023/00",null,null,"2000.01.28 (KR 00-4291)","2021.02.13","What is claimed is: 1. A continuous shear deformation device, comprising: a mold formed with a curved molding path having an equal channel for obtaining shear deformation of material passing through the molding path; and a rotary guide apparatus installed at the inlet of the molding path for continuously supplying and guiding material into the molding path by frictional contact with the material. 2. The device of claim 1, wherein the mold comprises a curved and inclined inlet in order to increase the amount of contact between the guide apparatus and the material. 3. The device of claim 1, wherein the clearance space of a supply path formed by the guide apparatus is less than the thickness of materials introduced into the guide apparatus. 4. The device of claim 1, wherein a frictional contact with materials in the guide apparatus comprises a groove corresponding to the cross-sectional shape of the material. 5. The device of claim 1, wherein the guide apparatus is a rotary roll. 6. The device of claim 5, wherein the mold comprises a curved and inclined inlet in order to increase the amount of contact between the guide apparatus and the material. 7. The device of claim 5, wherein the clearance space of a supply path formed by the guide apparatus is less than the thickness of materials introduced into the guide apparatus. 8. The device of claim 5, wherein a frictional contact with material in the guide apparatus comprises a groove corresponding to the cross-sectional shape of the material. 9. The device of claim 1, wherein a belt transmission is used as the guide apparatus. 10. The device of claim 9, wherein the mold comprises a curved and inclined inlet in order to increase the amount of contact between the guide apparatus and the material. 11. The device of claim 9, wherein the clearance space of a supply path formed by the guide apparatus is less than the thickness of material introduced into the guide apparatus. 12. The device of claim 9, wherein the belt is a loop in which a plurality of polyhedral blocks are sequentially connected. 13. The device of claim 12, wherein the mold comprises a curved and inclined inlet in order to increase the amount of contact between the guide apparatus and the material. 14. The device of claim 12, wherein a frictional contact with materials in the guide apparatus comprises a groove corresponding to the cross-sectional shape of the material. 15. The device of claim 1, wherein the device additionally comprises a rotary guide for exiting shear-deformed materials. 16. The device of claim 15, wherein a frictional contact with materials in the guide apparatus comprises a groove corresponding to the cross-sectional shape of the materials. 17. The device of claim 15, wherein a belt transmission is used as the guide, and the belt transmission transfers the material immediately after shear deformation to the outside of the outlet of the mold by frictional contact between the belt and the shear-deformed materials.","JP2001205309A, JP3515510B2, KR100345290B1, KR20010076874A, US6571593B1","U",3]